JP2000294155A - 表示装置 - Google Patents

表示装置

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JP2000294155A
JP2000294155A JP9980199A JP9980199A JP2000294155A JP 2000294155 A JP2000294155 A JP 2000294155A JP 9980199 A JP9980199 A JP 9980199A JP 9980199 A JP9980199 A JP 9980199A JP 2000294155 A JP2000294155 A JP 2000294155A
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JP
Japan
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glass
display device
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electrode
discharge
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JP9980199A
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Atsushi Seki
敦司 関
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電着膜からなる電極を形成したガラス基板を
フリットシールして得られたプラズマセルの異常放電を
除去する。 【解決手段】 導電性粒子とバインダーガラスを含む電
着膜15で導体配線を被覆した後、バインダーガラスの
軟化点以上で熱処理を行ない電着膜15を配線に固着し
て放電電極9とする。配線及び電着膜15を形成した片
方の基板8にフリットシール材11を介して他方の基板
3を重ね、バインダーガラスの軟化点以下の温度でフリ
ットシール材11を熱処理して一対の基板3、8を互い
に接合し、プラズマセル2を形成する。フリットシール
材11の熱処理は鉛ガラスを主成分とするバインダーガ
ラスの軟化点以下で行なわれる。換言すると、バインダ
ーガラスはフリットシール材11の熱処理温度よりも高
い軟化点を有する。従って、フリットシール時にはバイ
ンダーガラスは軟化しない。この為、鉛ガラスを主成分
とするバインダーガラスに含まれる酸化鉛成分は還元さ
れることがない。従って、放電電極9の表面に鉛の粒子
が析出せず、アーク状の異常放電が起こらない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマ放電を利用
したフラットパネル型の表示装置及びその製造方法に関
する。より詳しくは、電着法を利用した放電電極の構造
並びに製法に関する。
【0002】
【従来の技術】プラズマ放電を利用したフラットパネル
構造の表示装置はプラズマセルを備えている。プラズマ
セルは、フリットシール材を介して互いに接合し密閉さ
れた空間を形成する一対の基板と、この空間に満たされ
たイオン化可能な気体と、少なくとも片方の基板に形成
され該気体をイオン化して放電を発生する電極とからな
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】プラズマセルに放電電
極を形成する手段として電着法が知られている。金属あ
いは半導体(例えばホウ化ランタン)の粉体(以下、導
電性粒子という)と、軟化点が400℃前後のガラスの
粉体とを導体配線上に電着法で被着する。導体配線は例
えばアルミニウムの単層もしくはクロム/銅/クロムの
多層を用いる。この後、400℃乃至500℃に加熱し
た後冷却して放電電極とする。金属あるいは半導体の粉
体(導電性粒子)が放電電極材料となる。ガラス粉末は
上述した加熱処理時に軟化し、冷却時に再び固化して導
電性粒子を導体配線上に固着する。即ちガラス粉末はバ
インダーとしての役割を果たす。以下では、このガラス
粉末をバインダーガラスと呼ぶ。
【0004】電着法以外の放電電極形成法としては印刷
法が知られている。一般に印刷法では導電性ペーストを
基板にスクリーン印刷した後、大気雰囲気中で550℃
乃至600℃の熱処理温度で焼成する。この焼成により
放電電極材料が酸化され易い。酸化の程度が激しいと放
電電極の表面に絶縁性の酸化被膜が形成され放電が妨げ
られる。従って、酸化が問題となる放電電極では、印刷
法よりも熱処理温度が低い電着法の方が原理的に適して
いる。しかしながら実際には、電着法で形成された放電
電極を有するプラズマセルの放電状態は必ずしも安定し
ておらず、アーク状の放電が発生して不良となるものが
多発する為、解決すべき課題となっている。
【0005】
【課題を解決する為の手段】上述した従来の技術の課題
を解決するために、以下の手段を講じた。即ち、本発明
は、フリットシール材を介して互いに接合し密閉された
空間を形成する一対の基板と、該空間に満たされたイオ
ン化可能な気体と、少なくとも片方の基板に形成され該
気体をイオン化して該空間に放電を発生する電極とから
なるプラズマセルを備えた表示装置において、前記一対
の基板は少なくとも片方に電極を形成した後、該フリッ
トシール材を所定の熱処理温度で加熱して互いに接合し
たものであり、前記電極の少なくとも一部は導電性粒子
とバインダーガラスを混合した電着膜からなり、前記バ
インダーガラスは該フリットシール材の熱処理温度より
も高い軟化点を有することを特徴とする。好ましくは、
前記バインダーガラスは鉛ガラスを主成分とする。又好
ましくは、前記導電性粒子はホウ化物である。
【0006】本発明は又、フリットシール材を介して互
いに接合し密閉された空間を形成する一対の基板と、該
空間に満たされたイオン化可能な気体と、少なくとも片
方の基板に形成され該気体をイオン化して該空間に放電
を発生する電極とを備えた表示装置の製造方法におい
て、片方の基板に予め電極のパタンと対応した配線を形
成する配線工程と、導電性粒子とバインダーガラスを含
む電着膜で該配線を被覆して電極とする電着工程と、該
バインダーガラスの軟化点以上で熱処理を行い該電着膜
を該配線に固着する固着工程と、片方の基板にフリット
シール材を介して他方の基板を重ね、該バインダーガラ
スの軟化点以下の温度で該フリットシール材を熱処理し
て一対の基板を互いに接合する接合工程と、該一対の基
板で密閉された空間にイオン化可能な気体を封入する封
入工程とを行なうことを特徴とする。好ましくは、前記
電着工程はホウ化物からなる導電性粒子とバインダーガ
ラスを含む電着膜で該配線を被覆する。又好ましくは、
所定の間隙を介して該他方の基板に別の基板を貼着し該
間隙に液晶を充填する充填工程を含む。
【0007】本発明によれば、導電性粒子とバインダー
ガラスを含む電着膜で導体配線を被覆した後、バインダ
ーガラスの軟化点以上で熱処理を行ない電着膜を配線に
固着する。配線及び電着膜を形成した片方の基板にフリ
ットシール材を介して他方の基板を重ね、バインダーガ
ラスの軟化点以下の温度でフリットシール材を熱処理し
て一対の基板を互いに接合し、プラズマセルを形成す
る。フリットシール材の熱処理は鉛ガラスを主成分とす
るバインダーガラスの軟化点以下で行なわれる。換言す
ると、バインダーガラスはフリットシール材の熱処理温
度よりも高い軟化点を有する。従って、フリットシール
時にはバインダーガラスは軟化しない。この為、鉛ガラ
スを主成分とするバインダーガラスに含まれる酸化鉛は
還元されることがない。従って、放電電極の表面に鉛の
粒子が析出せず、アーク状の異常放電が起こらない。
【0008】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明に係る
表示装置及びその製造方法の実施の形態を詳細に説明す
る。図1は本発明に係る表示装置の実施形態を示す模式
的な断面図である。本実施形態は、特にプラズマセル2
を液晶セルで代表される表示セル1のアドレシングに利
用するプラズマアドレス表示装置である。但し、本発明
はこれに限られるものではなくフラットパネル構造のプ
ラズマセルを単独で用いたプラズマ表示装置にも適用可
能であることは言うまでもない。図示する様に、プラズ
マアドレス表示装置は表示セル1とプラズマセル2と両
者の間に介在する共通の中間基板3とからなるフラット
パネル構造を有している。プラズマセル2は中間基板3
に接合した下側基板8から構成されており、両者の間隙
にイオン化可能な気体が封入されている。気体種として
は例えばクリプトンやキセノンなどの不活性ガスが用い
られる。下側基板8の内表面にはストライプ状の放電電
極9が形成されている。放電電極9はアルミニウムなど
の導体配線上に電着膜15を被覆した構成となってい
る。ここで、複数の放電電極9は二本毎に隔壁10で隔
てられている。隔壁10はイオン化可能な気体が封入さ
れた空間を分割して放電チャネル12を構成する。この
隔壁10はスクリーン印刷法などにより印刷焼成でき、
その頂部が中間基板3の下面側に当接している。互いに
隣り合う隔壁10によって囲まれた一対の放電電極9は
アノードA及びカソードKとして機能し、両者の間にプ
ラズマ放電を発生させる。尚、電着膜15は少なくとも
カソードKとして機能する側の放電電極9に形成されて
いる。プラズマ放電により放電電極9はスパッタを受け
て摩耗するが、劣化の程度はアノードAに比べカソード
Kが大きい為、保護用の電着膜15が少なくともカソー
ドKに形成される。又、中間基板3と下側基板8はガラ
スフリットなどのフリットシール材11により互いに接
合している。所定の熱処理温度で加熱することによりフ
リットシール材が溶融し、中間基板3と下側基板8が互
いに接合される。
【0009】一方、表示セル1は透明な上側基板4を用
いて構成されている。この上側基板4は中間基板3に所
定の間隙を介して接着剤6などにより貼着されており、
間隙には液晶などの電気光学物質7が充填されている。
上側基板4の内表面には信号電極5が形成されている。
この信号電極5はストライプ状の放電電極9と直交して
いる。信号電極5と放電チャネル12の交差部分にマト
リクス状の画素が規定される。
【0010】係る構成を有するプラズマアドレス表示装
置では、プラズマ放電が行われる行状の放電チャネル1
2を線順次で切り換え走査するとともに、この走査に同
期して表示セル1側の列状信号電極5に画像信号を印加
することにより表示駆動が行われる。放電チャネル12
内にプラズマ放電が発生すると内部はほぼ一様にアノー
ド電位になり一行毎の画素選択が行われる。即ち放電チ
ャネル12はサンプリングスイッチとして機能する。プ
ラズマサンプリングスイッチが導通した状態で各画素に
画像信号が印加されると、サンプリングが行われ画素の
点灯もしくは消灯が制御できる。プラズマサンプリング
スイッチが非導通状態になった後にも画像信号はそのま
ま画素内に保持される。尚、この実施形態は一本の放電
チャネル12に割り当てられた一対の放電チャネル9の
一方をアノードAとし他方をカソードKとしたDC駆動
型であるが、本発明はこれに限られるものではなくAC
駆動方式にも適用可能である。
【0011】図1に示した実施形態では、下側基板8に
開口した排気管25及びこれと連通するガラスチップ管
26を介して内部の空間を排気した後イオン化可能な気
体を充填し、ガラスチップ管26を封じ切る。ガラスチ
ップ管26の内部にはゲッタ27が留置されており、こ
れを加熱することでイオン化可能な気体以外の不要なア
ウトガスなどを吸収している。場合によっては、ガラス
チップ管26の内部にゲッタ27に加え微量の水銀を留
置し、これを加熱処理することで水銀蒸気がプラズマセ
ル2の内部空間に満たされる。一般に、水銀蒸気は放電
電極9のスパッタリングによる劣化を防ぐ為に導入され
ている。本実施例の場合、放電電極9は耐スパッタ性に
優れた電着膜15で被覆されている為、水銀蒸気の導入
は必要でない場合が多い。
【0012】引き続き図1を参照して本発明の特徴事項
を説明する。前述した様に、下側基板8に放電電極9及
び隔壁10を形成した後、フリットシール材11を印刷
し中間基板3を重ね合わせる。所定の熱処理温度で加熱
することによりフリットシール材11が溶融し、下側基
板8と中間基板3が互いに接合されてプラズマセル2を
形成する。接合工程の前に形成される放電電極9の少な
くとも一部は導電性粒子とバインダーガラスを混合した
電着膜15からなる。このバインダーガラスはフリット
シール材11の熱処理温度よりも高い軟化点を有するこ
とが本発明の特徴である。尚、バインダーガラスは鉛ガ
ラスを主成分とする。又、導電性粒子は例えば耐スパッ
タ性に優れたホウ化物である。
【0013】従来の電着法によって形成した放電電極は
アーク状の放電が多発し、安定な表示動作が行えなかっ
た。放電電極を分析した結果、アーク状放電の原因は、
電着膜の表面に存在する多数の鉛の粒子にあった。この
鉛の粒子は放電電極が形成された基板をセルに組み立て
る為の工程の一つである、フリットシール工程で発生す
ることが判明した。電着法によって形成された放電電極
を有する基板は、フリットシールによって薄板ガラスな
どからなる中間基板に貼り合わされる。この工程におい
ては、ガラスフリットなどからなるフリットシール材を
軟化させる為に、400℃乃至500℃の熱処理温度で
加熱する。この熱処理は放電電極表面の酸化が進行する
のを抑制する為に窒素雰囲気中で行なう。仮に、酸化が
進行すると正常な放電が妨げられる。ところがこの時、
放電電極を構成する電着膜に含まれるバインダーガラス
が軟化し、バインダーガラスの成分である酸化鉛が還元
され、鉛粒子として析出してしまう。放電電極の表面に
鉛の粒子が存在すると、その部分だけ局所的に導通がよ
くなる為、放電電流が集中する。この様にしてアーク状
の異常放電が発生したと考えられる。こうした鉛粒子の
析出を防ぐ為、本発明では、フリットシール工程におけ
る熱処理温度よりも高い軟化点を有する鉛ガラスの粉末
をバインダーガラスとして用いる。例えば、フリットシ
ールを450℃で行なう場合には、軟化点が470℃程
度のガラス粉末をバインダーとして用いればよい。フリ
ットシール工程で窒素雰囲気中450℃の加熱処理を行
なっても、バインダーガラス材が軟化しないので、酸化
鉛成分は還元されることがない。従って放電電極の表面
に鉛の粒子は析出せず、アーク状の異常放電は起こらな
い。尚、バインダーガラス材として用いる鉛ガラスは酸
化鉛PbOを主成分としこれにSiO2 を必須の成分と
して含有する。更に、Al23 、ZnO、B23
適宜添加される。PbOの含有率が小さい程バインダー
ガラスの軟化点は高くなる。
【0014】図2は本発明に係る表示装置の製造方法を
示す工程図である。まず(A)に示す様に、洗浄した下
側基板8の上にアノードA及びカソードKとなる放電電
極9を形成する。例えば、金属アルミニウムを真空蒸着
又はスパッタリングで成膜した後、ストライプ状にパタ
ニングして導体配線を形成する。この導体配線が放電電
極9の基本構造となる。この後スクリーン印刷法でガラ
スペーストを印刷し、焼成して隔壁10を形成する。更
に印刷法で接続用の端子電極(図示せず)を形成する。
【0015】続いて(B)に示す様に、放電電極9の保
護層となる電着膜15を少なくともカソードKを完全に
被覆する様に形成する。材質としてはホウ化物、炭化
物、酸化物、窒化物から選ばれる。ホウ化物としては例
えばホウ化ランタン、ホウ化イットリウム、ホウ化ジル
コン、ホウ化チタンなどが選択される。電着で使用する
電着液は一般に溶媒として水やイソプロピルアルコール
などを用い、その中に被覆したい材料粉末やバインダー
ガラスになる低融点ガラス粒子を加え、これらの粉末に
電荷を付与する為のイオンを混入したコロイド溶液にな
っている。被覆された電着膜15は乾燥後、バインダー
ガラスの軟化点を超える温度で不活性雰囲気下加熱処理
され、基板8上に固定される。
【0016】続いて(C)に示す様に、薄板ガラスなど
からなる中間基板3をフリットシール材11により下側
基板8に接合する。この時、電着膜15に含まれるバイ
ンダーガラスの軟化点以下の温度でフリットシール材1
1を熱処理して下側基板8と中間基板3を互いに接合す
る。この様にするとバインダーガラスが軟化しないの
で、酸化鉛成分は還元されることがない。従って放電電
極9の表面に鉛の粒子は析出せず、アーク状の異常放電
は起こらない。互いに接合された下側基板8と中間基板
3に挟まれた空間は隔壁10によって区画され、放電チ
ャネル12を構成する。この放電チャネル12にはイオ
ン化可能な気体が封入される。以上により、プラズマセ
ル2が完成する。
【0017】最後に(D)に示す様に、プラズマセル2
の上に表示セル1を組み立ててプラズマアドレス表示装
置を完成する。表示セル1は上側基板4を用いて組み立
てられており、その内表面には信号電極5が形成されて
いる。上側基板4は接着剤6により中間基板3に接合し
ている。上側基板4と中間基板3の間には電気光学物質
7として例えば液晶が封入充填される。
【0018】図3は、電着膜の形成に用いる電着槽を示
す模式的な断面図である。図示する様に、電着槽100
には電着液101が満たされており、処理対象となる電
極基板8と対向電極102が浸漬されている。両者の間
には電源103が接続されており、電極基板8は負極側
となり、対向電極102が正極側となる。電極基板8側
ではカソードKとなる導体配線が共通接続され、電源1
03の負極に導かれる。電源103は例えば30V程度
の出力電圧を有し、電極基板8と対向電極102の間隔
は例えば10mm程度に保たれている。対向電極102
は例えばステンレスを用いることができる。この様な電
着槽100の構成で、電着を例えば1乃至10分行なう
ことにより、放電電極の上に数μm乃至数十μmの電着
膜を堆積することができる。電着液101は溶媒と導電
性粒子とバインダーガラス用の低融点ガラスとこれらの
粉末に電荷を与える為のイオンを混合したコロイド溶液
である。例えば、溶媒としてイソプロピルアルコールを
用い、導電性粒子としてホウ化ランタン(LaB6 )を
用い、バインダーガラスとして鉛ガラスを用い、電荷を
付与する為のイオンとしてMgイオンを用いる。係る組
成を有する電着液101に電極基板8を浸漬し電源10
3の負極に接続する一方、ステンレスなどで作られた対
向電極102を電源103の正極につなぎ、両者の間に
電圧を印加する。電界により電着液101中の陽イオン
を付与された材料粉末が導体配線上に降り積もっていく
ことになる。
【0019】
【実施例】以下本発明に係るプラズマセルの実施例を詳
細に説明する。図4は実施例の作成に用いたガラス基板
(電極基板)8の構成を模式的に表わしている。ガラス
基板8の上で隔壁10は1.1mm間隔で配列されてい
る。各隔壁10の高さ寸法は0.2mmであり、幅寸法
は0.1mmである。一対の隔壁10の間には一対の放
電電極9が形成されている。電着工程の前の段階では、
一対の導体配線が形成されており、この上に電着膜が堆
積され、放電電極9となる。一対の放電電極9の一方は
カソードKとなり、他方がアノードAとなる。ストライ
プ状の導体配線はアルミニウムからなり、その幅寸法は
0.1mmである。又一対の導体配線の間隔は0.3m
mである。尚、これらの寸法は例として挙げられたもの
であり、本発明を限定するものではない。
【0020】第一実施例では、放電電極材料となる導電
性粒子としてホウ化ランタン(Cerac製)を用い、
これにバインダーガラスとして軟化点が約470℃の鉛
ガラス(旭硝子製ASF1390)を添加した。これら
の材料を電着法でアルミニウム配線上に被着し、放電電
極とした。具体的には、まずホウ化ランタン粉末と鉛ガ
ラス粉末とを重量比で3:1に混合し、溶媒中に分散す
る。溶媒は電解質として硝酸マグネシウムを溶解したイ
ソプロピルアルコールが99%を占め、これに純水が1
%添加されている。次にアルミニウム配線を形成した基
板をステンレスからなる対向電極と向かい合わせて上述
の分散媒中に浸漬する。尚、アルミニウム配線を形成し
た基板面が対向電極側を向く様にする。続いてアルミニ
ウム配線が負極となる様にステンレス対向電極との間に
電圧をかけ、ホウ化ランタンと鉛ガラスの粉末をアルミ
ニウム配線上に電着する。ここでは、電着膜の厚さが1
0乃至20μmとなる様に電着時間を制御した。電着処
理後の基板を大気雰囲気中において500℃に加熱し、
鉛ガラス粉末を軟化させてから冷却し、ホウ化ランタン
粉末をアルミニウム配線上に固着する。この様にして放
電電極を形成した基板を薄板ガラスとフリットシール材
によって貼り合わせ、図2に示したと同様のプロセスで
プラズマセルにした。この際、フリットシール材として
日本電気硝子製LS−1301を用い、460℃に加熱
して基板と薄板ガラスを互いに封着した。この様に、フ
リットシールの熱処理温度460℃よりもバインダーガ
ラスの軟化点(470℃)の方が高い。尚、プラズマセ
ルに封入される放電ガスとしてはキセノンを用いた。圧
力は30Torrである。この様にして作成されたプラ
ズマセルを用いて放電実験を行なった。アノードを接地
する一方カソードに350Vのパルス電圧を繰り返し印
加した。パルス幅は5μsで周期は32μsである。初
期放電状態は良好でありアーク状の異常放電は発生しな
かった。
【0021】第二実施例では、バインダーガラスとし
て、第一実施例で用いた材料の代わりに、軟化点が49
0℃の鉛ガラス(日本電気硝子製GA−0951)を用
いてプラズマセルを作成した。ホウ化ランタン粉末をア
ルミニウム配線上に固着する為加熱温度は520℃とし
た。第二実施例で用いた鉛ガラスの軟化点は490℃で
あり、第一実施例で用いた鉛ガラスの軟化点470℃よ
りも高い為、加熱温度は第一実施例の500℃に比べ5
20℃と高く設定した。一方、フリットシール材料は第
一実施例と同様に日本電気硝子製LS−1301を用
い、第一実施例と同様に460℃に加熱してフリットシ
ール(封着)を行なった。本実施例でもフリットシール
の温度よりバインダーガラスの軟化点の方が高い。この
様にして作成されたプラズマセルを用いて同様な放電実
験を行なったところ、アーク状の異常放電は発生しなか
った。
【0022】次に比較例として、軟化点が約390℃の
鉛ガラス(Ferro社製CF8463)を用いてプラ
ズマセルを作成した。ホウ化ランタン粉末をアルミニウ
ム配線上に固着する為、この比較例においてはバインダ
ーガラスの軟化点390℃よりも上の420℃で加熱処
理を行なった。一方、フリットシール材料は第一実施例
及び第二実施例と同様に日本電気硝子製LS−1301
を用い、460℃に加熱してフリットシール処理を行な
った。この比較例ではバインダーガラスの軟化点390
℃がフリットシール温度460℃よりも低い為、酸化鉛
の還元が生じ鉛粒子が析出したので、アーク状の異常放
電が発生した。この結果、放電電極が部分的に破損し
た。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電着法によって放電電極を形成する表示装置において、
電着膜に含まれるバインダーガラス材料としてプラズマ
セルのフリットシール温度よりも高い軟化点を有するガ
ラス材料を用いている。これにより異常放電を抑制する
ことが可能となり、プラズマセルを備えた表示装置の歩
留り及び信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る表示装置を示す模式的な断面図で
ある。
【図2】本発明に係る表示装置の製造方法を示す工程図
である。
【図3】本発明に係る表示装置の製造方法に用いられる
電着槽を示す模式図である。
【図4】本発明に係る表示装置の実施例の作成に用いる
基板を示す模式的な断面図である。
【符号の説明】
1・・・表示セル、2・・・プラズマセル、3・・・中
間基板、4・・・上側基板、5・・・信号電極、7・・
・電気光学物質、8・・・下側基板、9・・・放電電
極、10・・・隔壁、11・・・フリットシール材、1
5・・・電着膜、100・・・電着槽、101・・・電
着液、102・・・対向電極、103・・・電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5C027 AA01 AA03 5C040 FA02 FA09 GB03 GB08 GC03 GC18 GC19 HA01 JA07 JA08 JA14 JA22 KA02 KA09 KB04 KB17 KB22 LA17 MA10 MA20 MA23 5C094 AA21 BA43 DA07 FB02 GA10 GB01

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フリットシール材を介して互いに接合し
    密閉された空間を形成する一対の基板と、該空間に満た
    されたイオン化可能な気体と、少なくとも片方の基板に
    形成され該気体をイオン化して該空間に放電を発生する
    電極とからなるプラズマセルを備えた表示装置におい
    て、 前記一対の基板は少なくとも片方に電極を形成した後、
    該フリットシール材を所定の熱処理温度で加熱して互い
    に接合したものであり、 前記電極の少なくとも一部は導電性粒子とバインダーガ
    ラスを混合した電着膜からなり、 前記バインダーガラスは該フリットシール材の熱処理温
    度よりも高い軟化点を有することを特徴とする表示装
    置。
  2. 【請求項2】 前記バインダーガラスは鉛ガラスを主成
    分とすることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  3. 【請求項3】 前記導電性粒子はホウ化物であることを
    特徴とする請求項1記載の表示装置。
  4. 【請求項4】 該プラズマセルによって走査される液晶
    セルを該プラズマセルに重ねた積層構造を有することを
    特徴とする請求項1記載の表示装置。
  5. 【請求項5】 フリットシール材を介して互いに接合し
    密閉された空間を形成する一対の基板と、該空間に満た
    されたイオン化可能な気体と、少なくとも片方の基板に
    形成され該気体をイオン化して該空間に放電を発生する
    電極とを備えた表示装置の製造方法において、 片方の基板に予め電極のパタンと対応した配線を形成す
    る配線工程と、 導電性粒子とバインダーガラスを含んだ電着膜で該配線
    を被覆して電極とする電着工程と、 該バインダーガラスの軟化点以上で熱処理を行い該電着
    膜を該配線に固着する固着工程と、 片方の基板にフリットシール材を介して他方の基板を重
    ね、該バインダーガラスの軟化点以下の温度で該フリッ
    トシール材を熱処理して一対の基板を互いに接合する接
    合工程と、 該一対の基板で密閉された空間にイオン化可能な気体を
    封入する封入工程とを行なうことを特徴とする表示装置
    の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記電着工程はホウ化物からなる導電性
    粒子とバインダーガラスを含んだ電着膜で該配線を被覆
    することを特徴とする請求項5記載の表示装置の製造方
    法。
  7. 【請求項7】 所定の間隙を介して該他方の基板に別の
    基板を貼着し該間隙に液晶を充填する充填工程を含む請
    求項5記載の表示装置の製造方法。
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