JP2000293986A - 半導体メモリ装置 - Google Patents
半導体メモリ装置Info
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Abstract
ンスアンプの増幅、及びビット線、センスアンプ部のプ
リチャージ動作を高速化できる半導体メモリ装置の提
供。 【解決手段】 ビット線プリチャージ回路(P11)の
トランジスタ(Q13)と、センスアンプ駆動線プリチ
ャージ回路(P14)のトランジスタ(Q14)と、セ
ンスアンプ駆動線(SAN)を駆動するトランジスタ
(Q12)とを通常より低閾値のトランジスタで構成
し、センスアンプ活性化時は、回路P11、回路P1
4、センスアンプ駆動線(SAP)を駆動するトランジ
スタ(Q11)に負電圧、SANを駆動するトランジス
タ(Q12)に内部電源電圧を入力し、センスアンプ増
幅を高速化する。センスアンプ非活性化時は、回路P1
1、回路P14、SAPを駆動するQ11に内部電源電
圧、SANを駆動するQ12に負電圧を入力する。
Description
に関し、特に半導体メモリ装置のセンスアンプ回路に関
するものである。
電圧化が進められており、特に、半導体メモリ装置の中
で記憶保持動作の必要なダイナミックランダムアクセス
メモリ(以下、DRAMと略す)では、16MDRAM
では5V(もしくは、3.3V)、64ないし256M
DRAMでは3.3V、1GDRAMクラスでは2.5
Vの電源電圧となっている。このようなDRAMにおけ
る、メモリセルに書き込まれた情報を読み出すためのセ
ンスアンプ部の回路の一例を図3に示す。このセンスア
ンプ部回路は、メモリセルMCELLに接続されている
ビット線BLT,BLNに接続されたビット線プリチャ
ージ回路P1と、ビット線信号を増幅するセンスアンプ
・フリップフロップ回路P2と、前記センスアンプ・フ
リップフロップ回路P2とビット線BLT,BLNを接
続するビット線−センスアンプ接続回路P3から構成さ
れている。そして、入力信号PDLBはビット線プリチ
ャージ活性回路P5を構成するインバータI1を通して
ビット線プリチャージ回路駆動信号PDLとして前記ビ
ット線プリチャージ回路P1に入力される。また、入力
信号SE1B,SE2はそれぞれセンスアンプ駆動線S
AP,SANを活性化する回路P6,P7を構成してい
るセンスアンプドライバトランジスタQ1,Q2に入力
され、前記センスアンプ・フリップフロップ回路P2の
センスアンプ駆動線SAP,SANはそれぞれセンスア
ンプ駆動線プリチャージ回路P4によりプリチャージさ
れる。
グチャートを示す。まず、センスアンプ活性化信号SE
1Bがハイレベル、SE2がロウレベルとなり、センス
アンプ・フリップフロップ回路P2を非活性化する。そ
して、ビット線プリチャージ駆動信号PDLBがロウレ
ベルとなり、ビット線プリチャージ回路P1、センスア
ンプ駆動線プリチャージ回路P4が導通し、ビット線B
LT,BLN、センスアンプ駆動線SAP,SANは1
/2・VINTにプリチャージされる。また、ビット線
−センスアンプ接続回路P3は導通していてビット線B
LT,BLNとセンスアンプ・フリップフロップ回路P
2を接続している。また、メモリセルのデータの読み出
し時に、センスアンプ・フリップフロップ回路P2を活
性化する場合、入力信号PDLBがハイレベルとなり、
ビット線プリチャージ回路P1、センスアンプ駆動線プ
リチャージ回路P4が非導通となる。そして、メモリセ
ルからの信号がビット線BLT,BLN上に現れると、
センスアンプ活性化信号SE1Bがロウレベル、SE2
がハイレベルとなり、センスアンプ・フリップフロップ
回路P2が活性化し、ビット線BLT,BLN上のデー
タを増幅する。
スアンプ部回路では次のような問題がある。回路を構成
するトランジスタの駆動能力を I=β/2・(Vgs
−Vt)2 とすると、センスアンプドライバトランジ
スタQ1,Q2の駆動電圧は、それぞれ、 Q1:Vgs−Vtp=−VINT−Vtp Q2:Vgs−Vtn=VINT−Vtn (内部電源電圧VINT>0、pチャネルトランジスタ
のしきい値電圧Vtp<0、nチャネルトランジスタの
しきい値電圧Vtn>0)となる。ここで、電源の低電
圧化が進むと、内部電源電圧VINTも低電圧となるた
め、センスアンプドライバトランジスタQ1,Q2の駆
動能力が低下してしまい、センス動作が遅くなることが
問題になる。
トランジスタQ3、およびセンスアンプ駆動線プリチャ
ージ回路P4内のトランジスタQ4の駆動電圧は、それ
ぞれ、 Q3=Q4:Vgs−Vtn=1/2VINT−Vtn となり、前記と同様にプリチャージトランジスタの駆動
能力が低下してしまい、プリチャージ動作が遅くなるこ
とが問題になる。
圧化が進んでも、センスアンプドライバートランジス
タ、プリチャージトランジスタの駆動能力を高くするこ
とができる半導体メモリ装置を提供することである。
置は、メモリセルの情報を伝達するビット線と、前記メ
モリセルの情報を増幅するセンスアンプと、前記ビット
線をプリチャージする第1のプリチャージ回路と、前記
センスアンプを駆動する一対のセンスアンプ駆動線をプ
リチャージする第2のプリチャージ回路と、前記センス
アンプ駆動線の内、片方をハイレベルに駆動する第1の
トランジスタと、前記センスアンプ駆動線の内、もう片
方をロウレベルに駆動する第2のトランジスタとを有す
る半導体メモリ装置において、前記第1のプリチャージ
回路と、前記第2のプリチャージ回路と、前記第2のト
ランジスタとが通常より低いしきい値のトランジスタで
構成されていることを特徴とする。ここで、前記第1の
プリチャージ回路と、前記第2のプリチャージ回路と、
前記第1のトランジスタと、前記第2のトランジスタを
駆動する各々の信号線のロウレベルが負電圧であること
を特徴とする。
をプリチャージする第1のプリチャージ回路は、低しき
い値トランジスタで構成されており、センスアンプ活性
化時は、活性化信号が負電圧になることにより低しきい
値トランジスタのサブスレッショルドリークを低減し、
センスアンプ非活性化時は、活性化信号がVINTレベ
ルになり、トランジスタの駆動電圧は従来例より高くな
り、ビット線は従来例よりも高速にバランスされる。ま
た、センスアンプ駆動線をプリチャージする第2のプリ
チャージ回路は、低しきい値トランジスタで構成されて
おり、センスアンプ活性化時は、活性化信号が負電圧に
なることにより低しきい値トランジスタのサブスレッシ
ョルドリークを低減し、センスアンプ非活性化時は、活
性化信号がVINTレベルになり、トランジスタの駆動
電圧は従来例より高くなり、センスアンプ駆動線は従来
例よりも高速にバランスされる。
ベルとする第2のトランジスタは低しきい値トランジス
タとなっており、センスアンプ非活性化時ゲート電圧に
入力信号のロウレベルをGNDからレベル変換された負
電圧が印可されるので、非導通となりサブスレッショル
ドリークも低減されている。一方、センスアンプ活性化
時ゲート電圧に入力信号のハイレベルであるVINT電
圧が印可されるので、導通し、そのときのトランジスタ
の駆動電圧は、従来例より高くなる。これにより、セン
スアンプ活性化時のセンスアンプ駆動線の電流供給能力
は従来例よりも大きくなるので、センスアンプ増幅時間
が速くなり、結果として、半導体メモリ装置の低電圧化
が進んでも、センスアンプドライバートランジスタ、プ
リチャージトランジスタの駆動能力を高くすることがで
き、センスアンプの増幅、及びビット線、センスアンプ
部のプリチャージ動作を高速化することができる。
て図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の半導
体メモリ装置のセンスアンプ回路の回路図である。メモ
リセルMCELLに接続されているビット線BLT,B
LNに接続されたビット線プリチャージ回路P11と、
ビット線信号を増幅するセンスアンプ・フリップフロッ
プ回路P12と、前記センスアンプ・フリップフロップ
回路P12とビット線BLT,BLNを接続するビット
線−センスアンプ接続回路P13から構成されている。
ここで、前記ビット線プリチャージ回路P11を構成す
るnチャネルトランジスタQ13は低VT(しきい値)
のトランジスタで構成されている。前記センスアンプ・
フリップフロップ回路P12のセンスアンプ駆動線SA
P,SANはそれぞれセンスアンプ駆動線SAP活性化
回路P16とセンスアンプ駆動線SAN活性化回路P1
7により駆動され、かつセンスアンプ駆動線プリチャー
ジ回路P14によりプリチャージされる。ここで、セン
スアンプ駆動線プリチャージ回路P14も同様に、低V
TのnチャネルトランジスタQ14で構成されている。
化信号)PDLBはビット線プリチャージ活性化回路P
15に入力される。前記ビット線プリチャージ活性化回
路P15はレベル変換回路LCN1とインバータI11
を通してビット線プリチャージ回路駆動信号PDLとし
て前記ビット線プリチャージ回路P11に入力される。
ここで、ビット線プリチャージ活性化回路P15は、前
記レベル変換回路により、入力信号PDLBのロウレベ
ルをGNDから負電圧VNBにレベル変換して、ビット
線プリチャージ回路駆動信号PDLを駆動している。ま
た、入力信号(センスアンプ駆動線SAP活性化信号)
SE1B,(センスアンプ駆動線SAN活性化信号)S
E2はそれぞれセンスアンプ駆動線SAP活性化回路P
16、センスアンプ駆動線SAN活性化回路P17に入
力される。センスアンプ駆動線SAP活性化回路P16
はレベル変換回路LCN2とセンスアンプドライバトラ
ンジスタQ11で構成され、センスアンプ駆動線SAN
活性化回路P17はレベル変換回路LCN3とセンスア
ンプドライバトランジスタQ12で構成される。ここ
で、センスアンプ駆動線SAN活性化回路P17のセン
スアンプドライバトランジスタQ12は、低VTのnチ
ャネルトランジスタで構成されている。センスアンプ駆
動線SAP活性化回路P16とセンスアンプ駆動線SA
N活性化回路P17は、それぞれ前記レベル変換回路L
CN2,LCN3により、入力信号SE1B,SE2の
ロウレベルをGNDから負電圧VNBにレベル変換し
て、センスアンプ駆動線SAP,SANを駆動してい
る。
グ図である。ビット線プリチャージ回路P11は、低V
TトランジスタQ13で構成されており、センスアンプ
活性化時は、PDL信号が負電圧になることによりトラ
ンジスタQ13のサブスレッショルドリークを低減して
いる。また、センスアンプ非活性化時は、PDL信号が
VINTレベルになり、トランジスタQ13の駆動電圧
は、 Q13:Vgs−Vtnl=1/2VINT−Vtnl
>1/2VINT−Vtn (nチャネルトランジスタのしきい値電圧Vtnl>
0、Vtnl<Vtn)となり、従来例より高くなる。
よって、ビット線BLT、BLNは従来例よりも高速に
バランスされる。
4も同様に、低VTトランジスタQ14で構成されてお
り、センスアンプ活性化時は、PDL信号が負電圧にな
ることによりトランジスタQ14のサブスレッショルド
リークを低減している。また、センスアンプ非活性化時
は、PDL信号がVINTレベルになり、トランジスタ
Q14の駆動電圧は、 Q14:Vgs−Vtnl=1/2VINT−Vtnl
>VINT−Vtn (nチャネルトランジスタのしきい値電圧Vtnl>
0、Vtnl<Vtn)となり、従来例より高くなる。
よって、センスアンプ駆動線SAP,SANは従来例よ
りも高速にバランスされる。
6内のpチャネルトランジスタQ11は、センスアンプ
非活性化時ゲート電圧にハイレベルであるVINT電圧
が印可されるので、非導通となっている。一方、センス
アンプ活性化時ゲート電圧に入力信号SE1Bのロウレ
ベルをGNDからレベル変換された負電圧VNBが印可
されるので、トランジスタQ11が導通する。ここで、
センスアンプ活性化時にトランジスタQ11の駆動電圧
は、 Q11:Vgs−|Vtp|=VINT−Vnb−|V
tp|>VINT−|Vtp| (pチャネルトランジスタのしきい値電圧Vtp<0)
となり、従来例より高くなる。
路P17内のnチャネルトランジスタQ12は低VTト
ランジスタとなっており、センスアンプ非活性化時ゲー
ト電圧に入力信号SE2のロウレベルをGNDからレベ
ル変換された負電圧VNBが印可されるので、非導通と
なりサブスレッショルドリークも低減されている。一
方、センスアンプ活性化時ゲート電圧に入力信号SE2
のハイレベルであるVINT電圧が印可されるので、導
通する。ここで、センスアンプ活性化時にトランジスタ
Q12の駆動電圧は、 Q12:Vgs−Vtnl=VINT−Vtnl>VI
NT−Vtn (nチャネルトランジスタのしきい値電圧Vtnl>
0、Vtnl<Vtn)となり、従来例より高くなる。
ンスアンプ駆動線SAP,SANの電流供給能力は従来
例よりも大きくなるので、センスアンプ増幅時間が速く
なる。図2において、ビット線BLN,BLTのレベル
変化をみると、実線の本実施形態は、破線の従来例より
も増幅時間が速くなっていることが判る。
ば、半導体メモリ装置の低電圧化が進んでも、センスア
ンプドライバートランジスタ、センスアンプ部プリチャ
ージトランジスタに低しきい値トランジスタを用い、そ
れらを負電圧で駆動することにより、各トランジスタの
駆動能力を高くして、センスアンプの増幅、及びビット
線、センスアンプ部のプリチャージ動作を高速化すると
ともに、非活性化時のサブスレッショルドリークを低減
することができる半導体メモリ装置を得ることができる
という効果がある。
回路図である。
トである。
る。
トである。
スタ LCN1〜LCN3 レベル変換器 VINT 内部電源電圧 VNB 負電圧 GND 接地電圧 PDL ビット線プリチャージ回路駆動線 SAP,SAN センスアンプ駆動線 PDLB ビット線プリチャージ回路活性化信号 SE1B センスアンプ駆動線SAP活性化信号 SE2 センスアンプ駆動線SAN活性化信号
Claims (5)
- 【請求項1】 メモリセルの情報を伝達するビット線
と、前記メモリセルの情報を増幅するセンスアンプと、
前記ビット線をプリチャージする第1のプリチャージ回
路と、前記センスアンプを駆動する一対のセンスアンプ
駆動線をプリチャージする第2のプリチャージ回路と、
前記センスアンプ駆動線の内、片方をハイレベルに駆動
する第1のトランジスタと、前記センスアンプ駆動線の
内、もう片方をロウレベルに駆動する第2のトランジス
タとを有する半導体メモリ装置において、前記第1のプ
リチャージ回路と、前記第2のプリチャージ回路と、前
記第2のトランジスタとが通常より低いしきい値のトラ
ンジスタで構成されていることを特徴とする半導体メモ
リ装置。 - 【請求項2】 前記第1のプリチャージ回路を構成する
トランジスタと、前記第2のプリチャージ回路を構成す
るトランジスタと、前記第2のトランジスタがそれぞれ
低しきい値のnチャネルトランジスタで構成されている
請求項1に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項3】 前記第1のプリチャージ回路と、前記第
2のプリチャージ回路と、前記第1のトランジスタと、
前記第2のトランジスタを駆動する各々の信号線のロウ
レベルが負電圧であることを特徴とする請求項1または
2に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 前記第1のプリチャージ回路と、前記第
2のプリチャージ回路と、前記第1のトランジスタと、
前記第2のトランジスタにそれぞれ入力される信号線
に、入力信号のロウレベルを負電圧に変換するレベル変
換回路が設けられる請求項3に記載の半導体メモリ装
置。 - 【請求項5】 前記センスアンプは、前記メモリセルの
情報を伝達する一対のビット線間の電圧を増幅するフリ
ップフロップ回路として構成され、前記フリップフロッ
プ回路にハイレベルを供給する駆動線に前記第1のトラ
ンジスタが、ロウレベルを供給する駆動線に前記第2の
トランジスタがそれぞれ接続されており、かつ前記両駆
動線に前記第2のプリチャージ回路が接続されている請
求項1ないし4のいずれかに記載の半導体メモリ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10101199A JP3319427B2 (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 半導体メモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10101199A JP3319427B2 (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 半導体メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000293986A true JP2000293986A (ja) | 2000-10-20 |
JP3319427B2 JP3319427B2 (ja) | 2002-09-03 |
Family
ID=14289300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10101199A Expired - Fee Related JP3319427B2 (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 半導体メモリ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3319427B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7110282B2 (en) | 2003-09-26 | 2006-09-19 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor memory device allowing accurate burn-in test |
US7248522B2 (en) | 2003-09-04 | 2007-07-24 | United Memories, Inc. | Sense amplifier power-gating technique for integrated circuit memory devices and those devices incorporating embedded dynamic random access memory (DRAM) |
US7372765B2 (en) | 2003-09-04 | 2008-05-13 | United Memories, Inc. | Power-gating system and method for integrated circuit devices |
JP2009009665A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Elpida Memory Inc | 半導体記憶装置 |
US7864610B2 (en) | 2007-10-29 | 2011-01-04 | Elpida Memory, Inc. | Sense amplifier controlling circuit and controlling method |
-
1999
- 1999-04-08 JP JP10101199A patent/JP3319427B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7248522B2 (en) | 2003-09-04 | 2007-07-24 | United Memories, Inc. | Sense amplifier power-gating technique for integrated circuit memory devices and those devices incorporating embedded dynamic random access memory (DRAM) |
US7372765B2 (en) | 2003-09-04 | 2008-05-13 | United Memories, Inc. | Power-gating system and method for integrated circuit devices |
US7110282B2 (en) | 2003-09-26 | 2006-09-19 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor memory device allowing accurate burn-in test |
JP2009009665A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Elpida Memory Inc | 半導体記憶装置 |
US7864610B2 (en) | 2007-10-29 | 2011-01-04 | Elpida Memory, Inc. | Sense amplifier controlling circuit and controlling method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3319427B2 (ja) | 2002-09-03 |
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