JP2000292719A - マルチビーム光走査装置 - Google Patents
マルチビーム光走査装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ピッチムラが生じない常に良好なる画像が得ら
れるマルチビーム光走査装置を得ること。 【解決手段】複数の発光部を副走査方向に配列して成る
光源手段１から画像情報に応じて変調し出射された複数
の光束を偏向手段５に導光し、該偏向手段で偏向された
複数の光束を副走査方向に等速回転する記録媒体８に対
し副走査方向において斜方向から入射させ、該記録媒体
面上を該複数の光束で光走査するマルチビーム光走査装
置において、該記録媒体面上における副走査方向の走査
線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したこと。
れるマルチビーム光走査装置を得ること。 【解決手段】複数の発光部を副走査方向に配列して成る
光源手段１から画像情報に応じて変調し出射された複数
の光束を偏向手段５に導光し、該偏向手段で偏向された
複数の光束を副走査方向に等速回転する記録媒体８に対
し副走査方向において斜方向から入射させ、該記録媒体
面上を該複数の光束で光走査するマルチビーム光走査装
置において、該記録媒体面上における副走査方向の走査
線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマルチビーム光走査
装置に関し、特に光源手段から出射した複数の光束を光
偏向器としてのポリゴンミラーにより反射偏向させｆθ
特性を有する結像光学系を介して被走査面としての感光
ドラム面上を光走査して画像情報を記録するようにし
た、特に走査線のピッチ間隔（ラインピッチ間隔）が一
定となり良好なる画像が常に得られる、例えば電子写真
プロセスを有するレーザービームプリンター（ＬＢＰ）
やデジタル複写機等の装置に好適なマルチビーム光走査
装置に関するものである。
装置に関し、特に光源手段から出射した複数の光束を光
偏向器としてのポリゴンミラーにより反射偏向させｆθ
特性を有する結像光学系を介して被走査面としての感光
ドラム面上を光走査して画像情報を記録するようにし
た、特に走査線のピッチ間隔（ラインピッチ間隔）が一
定となり良好なる画像が常に得られる、例えば電子写真
プロセスを有するレーザービームプリンター（ＬＢＰ）
やデジタル複写機等の装置に好適なマルチビーム光走査
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンターやデ
ジタル複写機等の画像形成装置に用いられる光走査装置
においては単一の発光部（発光点）を有する光源手段か
ら画像信号に基づいて光変調され出射した光束をコリメ
ーターレンズにより略平行光束に変換し、開口絞りによ
り該光束を制限して副走査方向にのみ所定の屈折力を有
するシリンドリカルレンズに入射する。シリンドリカル
レンズに入射した略平行光束のうち主走査面内において
はそのまま略平行光束の状態で出射する。副走査面内に
おいては収束してポリゴンミラー（回転多面鏡）から成
る光偏向器の偏向面（反射面）にほぼ線像として結像し
ている。そしてポリゴンミラーの偏向面で反射偏向され
た光束をｆθ特性を有する結像光学系（ｆθレンズ）を
介して被走査面としての感光ドラム面上に導光し、該ポ
リゴンミラーを回転させることによって該感光ドラム面
上を光走査して画像情報の記録を行っている。
ジタル複写機等の画像形成装置に用いられる光走査装置
においては単一の発光部（発光点）を有する光源手段か
ら画像信号に基づいて光変調され出射した光束をコリメ
ーターレンズにより略平行光束に変換し、開口絞りによ
り該光束を制限して副走査方向にのみ所定の屈折力を有
するシリンドリカルレンズに入射する。シリンドリカル
レンズに入射した略平行光束のうち主走査面内において
はそのまま略平行光束の状態で出射する。副走査面内に
おいては収束してポリゴンミラー（回転多面鏡）から成
る光偏向器の偏向面（反射面）にほぼ線像として結像し
ている。そしてポリゴンミラーの偏向面で反射偏向され
た光束をｆθ特性を有する結像光学系（ｆθレンズ）を
介して被走査面としての感光ドラム面上に導光し、該ポ
リゴンミラーを回転させることによって該感光ドラム面
上を光走査して画像情報の記録を行っている。
【０００３】また近年、電子写真プロセスを有する画像
形成装置の高速化及び高精細化の要求に応える為、光源
手段を複数の発光部から構成し、各発光部から独立に光
変調された複数の光束を感光ドラム面上に導光し、該複
数の光束で複数ライン同時に光走査するマルチビーム光
走査装置が種々と提案されている。
形成装置の高速化及び高精細化の要求に応える為、光源
手段を複数の発光部から構成し、各発光部から独立に光
変調された複数の光束を感光ドラム面上に導光し、該複
数の光束で複数ライン同時に光走査するマルチビーム光
走査装置が種々と提案されている。
【０００４】ところで記録媒体としての感光ドラムの表
面には数％の反射率があり、光走査を行う際には戻り光
の影響を避けるために、ポリゴンミラーから反射偏向さ
れた光束を該感光ドラム面の面法線に対し数度副走査方
向に傾けて該感光ドラム面へ入射させている。
面には数％の反射率があり、光走査を行う際には戻り光
の影響を避けるために、ポリゴンミラーから反射偏向さ
れた光束を該感光ドラム面の面法線に対し数度副走査方
向に傾けて該感光ドラム面へ入射させている。
【０００５】このことはマルチビーム光走査装置におい
ても同様であり、ポリゴンミラーで反射偏向された複数
の光束を感光ドラムの面法線に対し数度副走査方向に傾
けて該感光ドラム面へ入射させている。しかしながらマ
ルチビーム光走査装置においては感光ドラム面に入射す
る光束の副走査方向の入射角によって走査線のピッチ間
隔（ラインピッチ間隔）が変化してしまい、画像上にお
けるピッチムラの要因となることが問題点となってい
た。
ても同様であり、ポリゴンミラーで反射偏向された複数
の光束を感光ドラムの面法線に対し数度副走査方向に傾
けて該感光ドラム面へ入射させている。しかしながらマ
ルチビーム光走査装置においては感光ドラム面に入射す
る光束の副走査方向の入射角によって走査線のピッチ間
隔（ラインピッチ間隔）が変化してしまい、画像上にお
けるピッチムラの要因となることが問題点となってい
た。
【０００６】特開平10-243186 号公報には感光ドラム面
に入射する光束の副走査方向の入射角による走査線のピ
ッチ間隔が変化すること利用して副走査方向の画素密度
の切り換えを行うようにしたマルチビーム光走査装置が
開示されている。同公報では結像光学系に含まれる光学
素子の位置、感光ドラムの受光位置、感光ドラムでの受
光位置での形状のうち、少なくとも１つを変化させて光
束と感光ドラムとで形成される角度を変更させるもので
ある。
に入射する光束の副走査方向の入射角による走査線のピ
ッチ間隔が変化すること利用して副走査方向の画素密度
の切り換えを行うようにしたマルチビーム光走査装置が
開示されている。同公報では結像光学系に含まれる光学
素子の位置、感光ドラムの受光位置、感光ドラムでの受
光位置での形状のうち、少なくとも１つを変化させて光
束と感光ドラムとで形成される角度を変更させるもので
ある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら結像光学
系に含まれる光学素子の位置、感光ドラムの受光位置、
感光ドラムでの受光位置での形状等の光学部品の配置を
調整することは高精度な調整が必要となり、また精度的
にも不利になるという問題点がある。
系に含まれる光学素子の位置、感光ドラムの受光位置、
感光ドラムでの受光位置での形状等の光学部品の配置を
調整することは高精度な調整が必要となり、また精度的
にも不利になるという問題点がある。
【０００８】本発明は光源手段を構成する複数の発光部
の副走査方向の間隔を適切に設定することにより、感光
ドラムに入射する光束の副走査方向の入射角による走査
線のピッチ間隔ズレを高精度に補正し、ピッチムラがな
く常に良質なる画像を形成することができるマルチビー
ム光走査装置の提供を目的とする。
の副走査方向の間隔を適切に設定することにより、感光
ドラムに入射する光束の副走査方向の入射角による走査
線のピッチ間隔ズレを高精度に補正し、ピッチムラがな
く常に良質なる画像を形成することができるマルチビー
ム光走査装置の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明のマルチ
ビーム光走査装置は、複数の発光部を副走査方向に配列
して成る光源手段から画像情報に応じて変調し出射され
た複数の光束を偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向さ
れた複数の光束を副走査方向に等速回転する記録媒体に
対し副走査方向において斜方向から入射させ、該記録媒
体面上を該複数の光束で光走査するマルチビーム光走査
装置において、該記録媒体面上における副走査方向の走
査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したことを
特徴としている。
ビーム光走査装置は、複数の発光部を副走査方向に配列
して成る光源手段から画像情報に応じて変調し出射され
た複数の光束を偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向さ
れた複数の光束を副走査方向に等速回転する記録媒体に
対し副走査方向において斜方向から入射させ、該記録媒
体面上を該複数の光束で光走査するマルチビーム光走査
装置において、該記録媒体面上における副走査方向の走
査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したことを
特徴としている。
【００１０】請求項２の発明は請求項１の発明におい
て、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整するこ
とにより、前記記録媒体面上における副走査方向の走査
線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したことを特
徴としている。
て、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整するこ
とにより、前記記録媒体面上における副走査方向の走査
線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したことを特
徴としている。
【００１１】請求項３の発明のマルチビーム光走査装置
は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手段
から画像情報に応じて変調し出射された複数の光束を偏
向手段に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光束を
副走査方向に等速回転する感光ドラムの面法線に対し角
度θだけ副走査方向に傾けて該感光ドラム面に入射さ
せ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の間隔で光
走査するマルチビーム光走査装置において、該感光ドラ
ム面近傍における複数の光束のうち、ある１つの光束と
隣り合う光束との光束間隔が、該角度θに基づいて該所
定の間隔よりも狭くなるように設定したことを特徴とし
ている。
は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手段
から画像情報に応じて変調し出射された複数の光束を偏
向手段に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光束を
副走査方向に等速回転する感光ドラムの面法線に対し角
度θだけ副走査方向に傾けて該感光ドラム面に入射さ
せ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の間隔で光
走査するマルチビーム光走査装置において、該感光ドラ
ム面近傍における複数の光束のうち、ある１つの光束と
隣り合う光束との光束間隔が、該角度θに基づいて該所
定の間隔よりも狭くなるように設定したことを特徴とし
ている。
【００１２】請求項４の発明は請求項３の発明におい
て、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整するこ
とにより、前記感光ドラム面近傍における前記光束間隔
を前記所定の間隔よりも狭くなるように設定したことを
特徴としている。
て、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整するこ
とにより、前記感光ドラム面近傍における前記光束間隔
を前記所定の間隔よりも狭くなるように設定したことを
特徴としている。
【００１３】請求項５の発明は請求項３又は４の発明に
おいて、前記所定の間隔は画素密度に対応する副走査方
向の間隔であることを特徴としている。
おいて、前記所定の間隔は画素密度に対応する副走査方
向の間隔であることを特徴としている。
【００１４】請求項６の発明は請求項３、４又は５の発
明において、前記光源手段から前記感光ドラムまでの全
光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対値を
βｓ（倍）、前記光源手段から出射された複数の光束の
うち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する位置
での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画素
密度をＡ(dpi) 、前記複数の発光部の副走査方向の間隔
をＬｏ(mm)としたとき、
明において、前記光源手段から前記感光ドラムまでの全
光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対値を
βｓ（倍）、前記光源手段から出射された複数の光束の
うち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する位置
での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画素
密度をＡ(dpi) 、前記複数の発光部の副走査方向の間隔
をＬｏ(mm)としたとき、
【００１５】
【数１４】
【００１６】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００１７】請求項７の発明は請求項３、４、５又は６
の発明において、前記感光ドラム面近傍における前記光
束間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複数の
光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射す
る位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) としたとき、
の発明において、前記感光ドラム面近傍における前記光
束間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複数の
光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射す
る位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) としたとき、
【００１８】
【数１５】
【００１９】なる関係が成り立つことを特徴としてい
る。
る。
【００２０】請求項８の発明は請求項３、４、５又は６
の発明において、前記感光ドラム面近傍における前記光
束間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複数の
光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射す
る位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) 、副走査断面内における前記感光
ドラムの半径をｒ(mm)としたとき、
の発明において、前記感光ドラム面近傍における前記光
束間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複数の
光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射す
る位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) 、副走査断面内における前記感光
ドラムの半径をｒ(mm)としたとき、
【００２１】
【数１６】
【００２２】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００２３】請求項９の発明のマルチビーム光走査装置
は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手段
から出射された複数の光束を偏向手段に導光し、該偏向
手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速回転す
る感光ドラムの面法線に対し角度θだけ副走査方向に傾
けて該感光ドラム面に入射させ、該感光ドラム面上を該
複数の光束が所定の間隔で光走査するマルチビーム光走
査装置において、該光源手段から出射された複数の光束
のうち、ある１つの光束が該感光ドラム面へ入射する位
置での副走査方向の入射角と、隣り合う光束が該感光ド
ラム面へ入射する位置での副走査方向の入射角との入射
角度差が一定と成るように設定したことを特徴としてい
る。
は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手段
から出射された複数の光束を偏向手段に導光し、該偏向
手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速回転す
る感光ドラムの面法線に対し角度θだけ副走査方向に傾
けて該感光ドラム面に入射させ、該感光ドラム面上を該
複数の光束が所定の間隔で光走査するマルチビーム光走
査装置において、該光源手段から出射された複数の光束
のうち、ある１つの光束が該感光ドラム面へ入射する位
置での副走査方向の入射角と、隣り合う光束が該感光ド
ラム面へ入射する位置での副走査方向の入射角との入射
角度差が一定と成るように設定したことを特徴としてい
る。
【００２４】請求項１０の発明は請求項９の発明におい
て、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整するこ
とにより、前記入射角度差が一定と成るように設定した
ことを特徴としている。
て、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整するこ
とにより、前記入射角度差が一定と成るように設定した
ことを特徴としている。
【００２５】請求項１１の発明は請求項９の発明におい
て、前記所定の間隔は画素密度に対応する副走査方向の
間隔であることを特徴としている。
て、前記所定の間隔は画素密度に対応する副走査方向の
間隔であることを特徴としている。
【００２６】請求項１２の発明は請求項９又は１０の発
明において、前記光源手段から出射された複数の光束の
うち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する位置
での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記入射角度差を
Δθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dpi) 、副走査
断面内における前記感光ドラムの半径をｒ(mm)としたと
き、
明において、前記光源手段から出射された複数の光束の
うち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する位置
での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記入射角度差を
Δθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dpi) 、副走査
断面内における前記感光ドラムの半径をｒ(mm)としたと
き、
【００２７】
【数１７】
【００２８】なる関係が成り立つことを特徴としてい
る。
る。
【００２９】請求項１３の発明は請求項９、１０又は１
２の発明において、前記光源手段から出射された複数の
光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射す
る位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記感光ド
ラムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムま
での全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶
対値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の
間隔をＬｏ(mm)としたとき、
２の発明において、前記光源手段から出射された複数の
光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射す
る位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記感光ド
ラムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムま
での全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶
対値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の
間隔をＬｏ(mm)としたとき、
【００３０】
【数１８】
【００３１】なる関係が成り立つことを特徴としてい
る。
る。
【００３２】請求項１４の発明は請求項９又は１０の発
明において、前記入射角度差をΔθ(rad) 、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラムの副走査断面内
における半径をｒ(mm)としたとき、
明において、前記入射角度差をΔθ(rad) 、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラムの副走査断面内
における半径をｒ(mm)としたとき、
【００３３】
【数１９】
【００３４】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００３５】請求項１５の発明は請求項９、１０又は１
４の発明において、前記感光ドラム面近傍における、あ
る１つの光束と隣り合う光束との光束間隔をＬｉ(mm)、
前記光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１
つの光束が前記感光ドラムヘ入射する位置での副走査方
向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dp
i) 、前記感光ドラムの副走査断面内における半径をｒ
(mm)としたとき、
４の発明において、前記感光ドラム面近傍における、あ
る１つの光束と隣り合う光束との光束間隔をＬｉ(mm)、
前記光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１
つの光束が前記感光ドラムヘ入射する位置での副走査方
向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dp
i) 、前記感光ドラムの副走査断面内における半径をｒ
(mm)としたとき、
【００３６】
【数２０】
【００３７】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００３８】請求項１６の発明は請求項９、１０、１４
又は１５の発明において、前記光源手段から出射された
複数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ
入射する位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記
感光ドラムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走
査方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ド
ラムまでの全光学系における副走査方向のトータル横倍
率の絶対値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査
方向の間隔をＬｏ(mm)としたとき、
又は１５の発明において、前記光源手段から出射された
複数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ
入射する位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記
感光ドラムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走
査方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ド
ラムまでの全光学系における副走査方向のトータル横倍
率の絶対値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査
方向の間隔をＬｏ(mm)としたとき、
【００３９】
【数２１】
【００４０】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００４１】請求項１７の発明は請求項１２又は１３の
発明において、前記光束間隔は不等間隔に設定されてい
ることを特徴としている。
発明において、前記光束間隔は不等間隔に設定されてい
ることを特徴としている。
【００４２】請求項１８の発明は請求項１２又は１３の
発明において、前記光源手段の発光部は副走査方向にお
いて不等間隔に配置されていることを特徴としている。
発明において、前記光源手段の発光部は副走査方向にお
いて不等間隔に配置されていることを特徴としている。
【００４３】請求項１９の発明のマルチビーム光走査装
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速
回転する記録媒体に対し副走査方向において斜方向から
入射させ、該記録媒体面上を該複数の光束で飛び越し走
査するマルチビーム光走査装置において、該記録媒体面
上における副走査方向の走査線のピッチ間隔が等間隔と
なるように設定したことを特徴としている。
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速
回転する記録媒体に対し副走査方向において斜方向から
入射させ、該記録媒体面上を該複数の光束で飛び越し走
査するマルチビーム光走査装置において、該記録媒体面
上における副走査方向の走査線のピッチ間隔が等間隔と
なるように設定したことを特徴としている。
【００４４】請求項２０の発明は請求項１９の発明にお
いて、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整する
ことにより、前記記録媒体面上における副走査方向の走
査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したことを
特徴としている。
いて、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整する
ことにより、前記記録媒体面上における副走査方向の走
査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定したことを
特徴としている。
【００４５】請求項２１の発明のマルチビーム光走査装
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速
回転する感光ドラムの面法線に対し角度θだけ副走査方
向に傾けて該感光ドラム面に入射させ、該感光ドラム面
上を該複数の光束が所定の間隔で飛び越し走査するマル
チビーム光走査装置において、該感光ドラム面近傍にお
ける複数の光束のうち、ある１つの光束と隣り合う光束
との光束間隔が、該角度θに基づいて該所定の間隔より
も狭くなるように設定したことを特徴としている。
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速
回転する感光ドラムの面法線に対し角度θだけ副走査方
向に傾けて該感光ドラム面に入射させ、該感光ドラム面
上を該複数の光束が所定の間隔で飛び越し走査するマル
チビーム光走査装置において、該感光ドラム面近傍にお
ける複数の光束のうち、ある１つの光束と隣り合う光束
との光束間隔が、該角度θに基づいて該所定の間隔より
も狭くなるように設定したことを特徴としている。
【００４６】請求項２２の発明は請求項２１の発明にお
いて、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整する
ことにより、該感光ドラム面近傍における前記光束間隔
を前記所定の間隔よりも狭くなるように設定したことを
特徴としている。
いて、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整する
ことにより、該感光ドラム面近傍における前記光束間隔
を前記所定の間隔よりも狭くなるように設定したことを
特徴としている。
【００４７】請求項２３の発明は請求項２１又は２２の
発明において、前記所定の間隔は画素密度に対応する副
走査方向の間隔であることを特徴としている。
発明において、前記所定の間隔は画素密度に対応する副
走査方向の間隔であることを特徴としている。
【００４８】請求項２４の発明は請求項２１、２２又は
２３の発明において、前記感光ドラム面近傍における前
記光束間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複
数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入
射する位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査
方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラムの副走査断
面内における半径をｒ(mm)、前記飛び越した発光部の本
数をＮ（本）としたとき、
２３の発明において、前記感光ドラム面近傍における前
記光束間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複
数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入
射する位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査
方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラムの副走査断
面内における半径をｒ(mm)、前記飛び越した発光部の本
数をＮ（本）としたとき、
【００４９】
【数２２】
【００５０】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００５１】請求項２５の発明は請求項２１、２２、２
３又は２４の発明において、前記光源手段から出射され
た複数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラム
面へ入射する位置での入射角をθ(rad) 、前記感光ドラ
ムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまで
の全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対
値をβｓ（倍）、前記複数の発光部の副走査方向の間隔
をＬｏ(mm)としたとき、
３又は２４の発明において、前記光源手段から出射され
た複数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラム
面へ入射する位置での入射角をθ(rad) 、前記感光ドラ
ムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまで
の全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対
値をβｓ（倍）、前記複数の発光部の副走査方向の間隔
をＬｏ(mm)としたとき、
【００５２】
【数２３】
【００５３】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００５４】請求項２６の発明のマルチビーム光走査装
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速
回転する感光ドラムの面法線に対し角度θだけ副走査方
向に傾けて該感光ドラム面に入射させ、該感光ドラム面
上を該複数の光束が所定の間隔で飛び越し走査するマル
チビーム光走査装置において、該光源手段から出射され
た複数の光束のうち、ある１つの光束が該感光ドラム面
へ入射する位置での副走査方向の入射角と、隣り合う光
束が該感光ドラム面へ入射する位置での副走査方向の入
射角との入射角度差が一定と成るように設定したことを
特徴としている。
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査方向に等速
回転する感光ドラムの面法線に対し角度θだけ副走査方
向に傾けて該感光ドラム面に入射させ、該感光ドラム面
上を該複数の光束が所定の間隔で飛び越し走査するマル
チビーム光走査装置において、該光源手段から出射され
た複数の光束のうち、ある１つの光束が該感光ドラム面
へ入射する位置での副走査方向の入射角と、隣り合う光
束が該感光ドラム面へ入射する位置での副走査方向の入
射角との入射角度差が一定と成るように設定したことを
特徴としている。
【００５５】請求項２７の発明は請求項２６の発明にお
いて、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整する
ことにより、前記入射角度差が一定と成るように設定し
たことを特徴としている。
いて、前記複数の発光部の副走査方向の間隔を調整する
ことにより、前記入射角度差が一定と成るように設定し
たことを特徴としている。
【００５６】請求項２８の発明は請求項２６の発明にお
いて、前記所定の間隔は画素密度に対応する副走査方向
の間隔であることを特徴としている。
いて、前記所定の間隔は画素密度に対応する副走査方向
の間隔であることを特徴としている。
【００５７】請求項２９の発明は請求項２６又は２７の
発明において、前記入射角度差をΔθ(rad) 、副走査方
向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラム副走査断面の
半径をｒ(mm)、飛び越した発光部の本数をＮ（本）とし
たとき、
発明において、前記入射角度差をΔθ(rad) 、副走査方
向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラム副走査断面の
半径をｒ(mm)、飛び越した発光部の本数をＮ（本）とし
たとき、
【００５８】
【数２４】
【００５９】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００６０】請求項３０の発明は請求項２６、２７又は
２９の発明において、前記感光ドラム面近傍におけるあ
る１つの光束と隣り合う光束との光束間隔をＬｉ(mm)、
前記光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１
つの光束が前記感光ドラム面へ入射する位置での入射角
をθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感
光ドラムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、飛び越
した発光部の本数をＮ（本）としたとき、
２９の発明において、前記感光ドラム面近傍におけるあ
る１つの光束と隣り合う光束との光束間隔をＬｉ(mm)、
前記光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１
つの光束が前記感光ドラム面へ入射する位置での入射角
をθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感
光ドラムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、飛び越
した発光部の本数をＮ（本）としたとき、
【００６１】
【数２５】
【００６２】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００６３】請求項３１の発明は請求項２６、２７、２
９又は３０の発明において、前記光源手段から出射され
た複数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラム
面へ入射する位置での入射角をθ(rad) 、前記感光ドラ
ムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまで
の全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対
値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の間
隔をＬｏ(mm)としたとき、
９又は３０の発明において、前記光源手段から出射され
た複数の光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラム
面へ入射する位置での入射角をθ(rad) 、前記感光ドラ
ムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまで
の全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対
値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の間
隔をＬｏ(mm)としたとき、
【００６４】
【数２６】
【００６５】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００６６】請求項３２の発明のマルチビーム光走査装
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から出射された複数の光束を偏向手段に導光し、該偏
向手段で偏向された複数の光束を感光ドラムの面法線に
対し角度θだけ、副走査方向に傾けて該感光ドラム面に
入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の間
隔で光走査するマルチビーム光走査装置において、該感
光ドラム面と光学的に等価な位置に該光源手段から出射
される複数の光束の結像位置を検出するための検出素子
を設け、かつ該検出素子を該角度θと等しい角度だけ該
感光ドラムの面法線に対して副走査方向に傾けて、該複
数の光束の結像位置を検出し、該検出された情報に基づ
いて、該感光ドラム面に入射する光束の副走査方向の入
射角によって生じる走査線のピッチ間隔ズレを、該複数
の発光部の副走査方向の間隔を調整することにより、補
正したことを特徴としている。
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から出射された複数の光束を偏向手段に導光し、該偏
向手段で偏向された複数の光束を感光ドラムの面法線に
対し角度θだけ、副走査方向に傾けて該感光ドラム面に
入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の間
隔で光走査するマルチビーム光走査装置において、該感
光ドラム面と光学的に等価な位置に該光源手段から出射
される複数の光束の結像位置を検出するための検出素子
を設け、かつ該検出素子を該角度θと等しい角度だけ該
感光ドラムの面法線に対して副走査方向に傾けて、該複
数の光束の結像位置を検出し、該検出された情報に基づ
いて、該感光ドラム面に入射する光束の副走査方向の入
射角によって生じる走査線のピッチ間隔ズレを、該複数
の発光部の副走査方向の間隔を調整することにより、補
正したことを特徴としている。
【００６７】請求項３３の発明のマルチビーム光走査装
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を感光ドラムの面法
線に対し角度θだけ副走査方向に傾けて該感光ドラム面
に入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の
間隔で飛び越し走査するマルチビーム光走査装置におい
て、該感光ドラム面と光学的に等価な位置に該光源手段
から出射される複数の光束の結像位置を検出するための
検出素子を設け、かつ該検出素子を該角度θと等しい角
度だけ該感光ドラムの面法線に対して副走査方向に傾け
て、該複数の光束の結像位置を検出し、該検出された情
報に基づいて、該感光ドラム面に入射する光束の副走査
方向の入射角によって生じる走査線のピッチ間隔ズレ
を、該複数の発光部の副走査方向の間隔を調整すること
により、補正したことを特徴としている。
置は、複数の発光部を副走査方向に配列して成る光源手
段から画像情報に応じて該複数の発光部のうち何本かの
発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部を選択して
発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段に導光し、
該偏向手段で偏向された複数の光束を感光ドラムの面法
線に対し角度θだけ副走査方向に傾けて該感光ドラム面
に入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の
間隔で飛び越し走査するマルチビーム光走査装置におい
て、該感光ドラム面と光学的に等価な位置に該光源手段
から出射される複数の光束の結像位置を検出するための
検出素子を設け、かつ該検出素子を該角度θと等しい角
度だけ該感光ドラムの面法線に対して副走査方向に傾け
て、該複数の光束の結像位置を検出し、該検出された情
報に基づいて、該感光ドラム面に入射する光束の副走査
方向の入射角によって生じる走査線のピッチ間隔ズレ
を、該複数の発光部の副走査方向の間隔を調整すること
により、補正したことを特徴としている。
【００６８】
【発明の実施の形態】［実施形態１］図１（Ａ）は本発
明のマルチビーム走査光学装置をレーザービームプリン
タやデジタル複写機等の画像形成装置に適用したときの
実施形態１の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の副走査方向の要部断面
図（副走査断面図）である。
明のマルチビーム走査光学装置をレーザービームプリン
タやデジタル複写機等の画像形成装置に適用したときの
実施形態１の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の副走査方向の要部断面
図（副走査断面図）である。
【００６９】同図において１は光源手段であり、複数の
発光部（発光点）を副走査方向に配列した半導体レーザ
ーアレイより成り、各々独立に光変調された複数の光束
を出射している。
発光部（発光点）を副走査方向に配列した半導体レーザ
ーアレイより成り、各々独立に光変調された複数の光束
を出射している。
【００７０】２はコリメーターレンズであり、光源手段
１から出射された複数の光束を略平行光束に変換してい
る。３は開口絞りであり、通過光束（光量）を制限して
いる。４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向に
のみ所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過した
複数の光束を副走査断面内で後述する光偏向器５の偏向
面（反射面）にほぼ線像として結像させている。
１から出射された複数の光束を略平行光束に変換してい
る。３は開口絞りであり、通過光束（光量）を制限して
いる。４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向に
のみ所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過した
複数の光束を副走査断面内で後述する光偏向器５の偏向
面（反射面）にほぼ線像として結像させている。
【００７１】尚、コリメーターレンズ２、開口絞り３、
シリンドリカルレンズ４等の各要素は入射光学系の一要
素を構成している。
シリンドリカルレンズ４等の各要素は入射光学系の一要
素を構成している。
【００７２】５は偏向手段としての、例えばポリゴンミ
ラー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モーター
等の駆動手段（不図示）により図中矢印５ａ１方向に等
速（一定速度）で回転している。
ラー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モーター
等の駆動手段（不図示）により図中矢印５ａ１方向に等
速（一定速度）で回転している。
【００７３】６はｆθ特性を有する結像光学系（結像手
段）であり、主走査方向と副走査方向とで互いに異なる
パワーを有する単一の走査レンズより成っている。
段）であり、主走査方向と副走査方向とで互いに異なる
パワーを有する単一の走査レンズより成っている。
【００７４】７は折り返しミラーであり、走査レンズ６
を通過した複数の光束の光路を折り曲げている。８は記
録媒体としての感光ドラムであり、副走査方向に等速
（一定速度）で回転している。
を通過した複数の光束の光路を折り曲げている。８は記
録媒体としての感光ドラムであり、副走査方向に等速
（一定速度）で回転している。
【００７５】本実施形態において画像情報に応じて光源
手段１から独立に光変調され出射した複数（本実施形態
では２本）の発散光束はコリメーターレンズ２によって
略平行光束に変換され、開口絞り３によって該光束（光
量）を制限してシリンドリカルレンズ４に入射する。シ
リンドリカルレンズ４に入射した複数の略平行光束のう
ち主走査断面内においてはそのままの状態で射出する。
また副走査断面内においては収束して光偏向器（ポリゴ
ンミラー）５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向に長
手の線像）として結像している。そして光偏向器５の偏
向面５ａで偏向された複数の光束（図１（Ｂ）において
実線と破線）を走査レンズ６により折り返しミラー７を
介して感光ドラム８の面法線に対し角度θだけ、副走査
方向に傾けて該感光ドラム８面上に入射させ、該光偏向
器５を矢印５ａ１方向に回転させることによって、該感
光ドラム８面上を矢印８ａ１方向（主走査方向）に等速
度で光走査している。これにより記録媒体である感光ド
ラム８面上に所望の画素密度で画像記録を行なってい
る。
手段１から独立に光変調され出射した複数（本実施形態
では２本）の発散光束はコリメーターレンズ２によって
略平行光束に変換され、開口絞り３によって該光束（光
量）を制限してシリンドリカルレンズ４に入射する。シ
リンドリカルレンズ４に入射した複数の略平行光束のう
ち主走査断面内においてはそのままの状態で射出する。
また副走査断面内においては収束して光偏向器（ポリゴ
ンミラー）５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向に長
手の線像）として結像している。そして光偏向器５の偏
向面５ａで偏向された複数の光束（図１（Ｂ）において
実線と破線）を走査レンズ６により折り返しミラー７を
介して感光ドラム８の面法線に対し角度θだけ、副走査
方向に傾けて該感光ドラム８面上に入射させ、該光偏向
器５を矢印５ａ１方向に回転させることによって、該感
光ドラム８面上を矢印８ａ１方向（主走査方向）に等速
度で光走査している。これにより記録媒体である感光ド
ラム８面上に所望の画素密度で画像記録を行なってい
る。
【００７６】光源手段１から出射した２本の光束が感光
ドラム８面上に到達したときの副走査方向の間隔Ｌｉθ
(mm)は副走査方向の画素密度Ａ(dpi) によって、通常以
下の式(1) で決まる。
ドラム８面上に到達したときの副走査方向の間隔Ｌｉθ
(mm)は副走査方向の画素密度Ａ(dpi) によって、通常以
下の式(1) で決まる。
【００７７】
【数２７】
【００７８】また光源手段１を構成する２つの発光部の
副走査方向の間隔Ｌｏ(mm)は２本の光束の感光ドラム８
面上の副走査方向の間隔Ｌｉθ(mm)と、光源手段１から
感光ドラム８面までの全光学系（入射光学系と結像光学
系）における副走査方向のトータル横倍率の絶対値（以
下「副走査方向のトータル横倍率」と称す。）βｓ
（倍）とから次式(2) で決まる。
副走査方向の間隔Ｌｏ(mm)は２本の光束の感光ドラム８
面上の副走査方向の間隔Ｌｉθ(mm)と、光源手段１から
感光ドラム８面までの全光学系（入射光学系と結像光学
系）における副走査方向のトータル横倍率の絶対値（以
下「副走査方向のトータル横倍率」と称す。）βｓ
（倍）とから次式(2) で決まる。
【００７９】
【数２８】
【００８０】図２は本実施形態において複数の光束が感
光ドラム８面に入射する様子を示した副走査方向の要部
断面図（副走査断面図）である。
光ドラム８面に入射する様子を示した副走査方向の要部
断面図（副走査断面図）である。
【００８１】本実施形態におけるマルチビーム光走査装
置では同図に示すように光走査の際に感光ドラム８面か
らの戻り光を防止する為、光源手段（不図示）から出射
した２本の光束１０ａ，１０ｂを該感光ドラム８面の面
法線に対して各々角度（入射角）θだけ、副走査方向に
傾けて感光ドラム８面へ入射させている。ここで入射角
θはθ≦２(deg) であれば戻り光の問題はほぼ抑えられ
るが、入射角θが大きい方が効果が大きい。
置では同図に示すように光走査の際に感光ドラム８面か
らの戻り光を防止する為、光源手段（不図示）から出射
した２本の光束１０ａ，１０ｂを該感光ドラム８面の面
法線に対して各々角度（入射角）θだけ、副走査方向に
傾けて感光ドラム８面へ入射させている。ここで入射角
θはθ≦２(deg) であれば戻り光の問題はほぼ抑えられ
るが、入射角θが大きい方が効果が大きい。
【００８２】本実施形態では光束数ｎ＝２本、副走査方
向の画素密度Ａ＝１２００(dpi) 、副走査断面内におけ
る感光ドラム８の半径ｒ＝１２(mm)であり、２本の光束
１０ａ，１０ｂは副走査断面内において感光ドラム８の
円周上のごく僅かな範囲を光走査するので、感光ドラム
８面は直線近似された線状とみなされるものとして考え
る。このとき２本の光束１０ａ，１０ｂが感光ドラム８
面上に到達する副走査方向の間隔Ｌｉθ(mm)は次式(3)
で表わされ、初期に設定された光束間隔（２本の光束１
０ａ，１０ｂの間隔）Ｌｉ（Ｌｉ０）(mm)よりも広くな
る。
向の画素密度Ａ＝１２００(dpi) 、副走査断面内におけ
る感光ドラム８の半径ｒ＝１２(mm)であり、２本の光束
１０ａ，１０ｂは副走査断面内において感光ドラム８の
円周上のごく僅かな範囲を光走査するので、感光ドラム
８面は直線近似された線状とみなされるものとして考え
る。このとき２本の光束１０ａ，１０ｂが感光ドラム８
面上に到達する副走査方向の間隔Ｌｉθ(mm)は次式(3)
で表わされ、初期に設定された光束間隔（２本の光束１
０ａ，１０ｂの間隔）Ｌｉ（Ｌｉ０）(mm)よりも広くな
る。
【００８３】
【数２９】
【００８４】これは１回の光走査で描かれる複数の走査
線（ライン）の間隔が広がり、次の光走査で描かれる走
査線との間隔が狭くなることを意味しており、画像上で
はピッチムラが問題となる。
線（ライン）の間隔が広がり、次の光走査で描かれる走
査線との間隔が狭くなることを意味しており、画像上で
はピッチムラが問題となる。
【００８５】そこで本実施形態では感光ドラム８面近傍
における複数の光束のうち、ある１つの光束１０ｂと隣
り合う光束１０ａとの光束間隔Ｌｉ(mm)が、角度θに基
づいて所定の間隔Ｌｉθ(mm)よりも狭くなるように設定
している。
における複数の光束のうち、ある１つの光束１０ｂと隣
り合う光束１０ａとの光束間隔Ｌｉ(mm)が、角度θに基
づいて所定の間隔Ｌｉθ(mm)よりも狭くなるように設定
している。
【００８６】即ち、本実施形態では光源手段１から感光
ドラム８までの全光学系（入射光学系及び結像光学系）
における副走査方向のトータル横倍率の絶対値をβｓ
（倍）、光源手段１から出射された複数の光束のうち、
ある１つの光束が感光ドラム８面へ入射する位置での副
走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画素密度を
Ａ(dpi) 、複数の発光部の副走査方向の間隔をＬｏ(mm)
としたとき、次式(4) を満たすように、該複数の発光部
の副走査方向の間隔Ｌｏ(mm)を設定し、これにより該感
光ドラム８面近傍における光束間隔Ｌｉ(mm)を副走査方
向の画素密度から決められている所定の間隔Ｌｉθ(mm)
よりも狭くして、感光ドラム８に入射する光束の副走査
方向の入射角による走査線のピッチ間隔ズレを高精度に
補正している。即ち、感光ドラム８面上における副走査
方向の走査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定し
ている。
ドラム８までの全光学系（入射光学系及び結像光学系）
における副走査方向のトータル横倍率の絶対値をβｓ
（倍）、光源手段１から出射された複数の光束のうち、
ある１つの光束が感光ドラム８面へ入射する位置での副
走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画素密度を
Ａ(dpi) 、複数の発光部の副走査方向の間隔をＬｏ(mm)
としたとき、次式(4) を満たすように、該複数の発光部
の副走査方向の間隔Ｌｏ(mm)を設定し、これにより該感
光ドラム８面近傍における光束間隔Ｌｉ(mm)を副走査方
向の画素密度から決められている所定の間隔Ｌｉθ(mm)
よりも狭くして、感光ドラム８に入射する光束の副走査
方向の入射角による走査線のピッチ間隔ズレを高精度に
補正している。即ち、感光ドラム８面上における副走査
方向の走査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定し
ている。
【００８７】尚、上記の所定の間隔とは画素密度に対応
する副走査方向の間隔である。
する副走査方向の間隔である。
【００８８】
【数３０】
【００８９】走査線のピッチ間隔誤差は副走査方向の画
素密度で決まる走査線のピッチ間隔の±１０％以内であ
れば画像上ではピッチムラとして目立たないことが実験
的に判っており、上記式(4) の範囲規定は画像上、問題
が無い範囲内で設定上の配置の自由度を持たせている。
素密度で決まる走査線のピッチ間隔の±１０％以内であ
れば画像上ではピッチムラとして目立たないことが実験
的に判っており、上記式(4) の範囲規定は画像上、問題
が無い範囲内で設定上の配置の自由度を持たせている。
【００９０】尚、このとき感光ドラム８面近傍における
光束間隔Ｌｉ(mm ）は、
光束間隔Ｌｉ(mm ）は、
【００９１】
【数３１】
【００９２】となる。
【００９３】もしくは副走査断面内における感光ドラム
８の半径をｒ(mm)としたとき、
８の半径をｒ(mm)としたとき、
【００９４】
【数３２】
【００９５】なる条件を満足している。
【００９６】尚、本実施形態では感光ドラム８面と光学
的に等価な位置に光源手段１から出射される複数の光束
の結像位置を検出するためのＣＣＤ等の検出素子（撮像
素子）を設け、該検出素子を角度θと等しい角度だけ該
感光ドラム８の面法線に対して副走査方向に傾けて該複
数の光束の結像位置を検出し、該検出された情報（例え
ば複数の光束の結像位置間隔等）に基づいて、該感光ド
ラム８面に入射する光束の副走査方向の入射角によって
生じる走査線のピッチ間隔ズレを、上述の如く光源手段
１を構成する複数の発光部の副走査方向の間隔Ｌｏ(mm)
を調整することにより補正している。
的に等価な位置に光源手段１から出射される複数の光束
の結像位置を検出するためのＣＣＤ等の検出素子（撮像
素子）を設け、該検出素子を角度θと等しい角度だけ該
感光ドラム８の面法線に対して副走査方向に傾けて該複
数の光束の結像位置を検出し、該検出された情報（例え
ば複数の光束の結像位置間隔等）に基づいて、該感光ド
ラム８面に入射する光束の副走査方向の入射角によって
生じる走査線のピッチ間隔ズレを、上述の如く光源手段
１を構成する複数の発光部の副走査方向の間隔Ｌｏ(mm)
を調整することにより補正している。
【００９７】表−１に本実施形態における数値例を示
す。
す。
【００９８】
【表１】
【００９９】上記表−１に示した数値例より本実施形態
では感光ドラム８面上における２本の光束１０ａ，１０
ｂの副走査方向の間隔Ｌｉθが所望の値となり、また光
束１０ｂと次の光走査で到達する光束１１ａとの間隔Ｌ
ｉθも所望の値となる。即ち、隣り合う走査線のピッチ
間隔は実用上、問題無いレベルで一定（副走査方向の画
素密度に相当した間隔）となり、これにより本実施形態
ではピッチムラがない常に良好なる画質が得られるマル
チビーム走査装置を得ている。
では感光ドラム８面上における２本の光束１０ａ，１０
ｂの副走査方向の間隔Ｌｉθが所望の値となり、また光
束１０ｂと次の光走査で到達する光束１１ａとの間隔Ｌ
ｉθも所望の値となる。即ち、隣り合う走査線のピッチ
間隔は実用上、問題無いレベルで一定（副走査方向の画
素密度に相当した間隔）となり、これにより本実施形態
ではピッチムラがない常に良好なる画質が得られるマル
チビーム走査装置を得ている。
【０１００】尚、本実施形態では２本の光束を用いて感
光ドラム８面上を同時に光走査したが、それに限らず、
例えばそれ以上の本数の光束を用いて該感光ドラム８面
上を同時に光走査しても良い。即ち、本実施形態では感
光ドラム８面に入射する複数の光束の副走査方向の入射
角に応じて光源手段１を構成する複数の発光部の副走査
方向の間隔を適切に調整することにより、該感光ドラム
８面上の走査線のピッチ間隔ムラを良好に補正すること
ができる。また光源手段も半導体レーザアレイに限ら
ず、例えばシングル半導体レーザを複数個並べて使用し
てもよい。
光ドラム８面上を同時に光走査したが、それに限らず、
例えばそれ以上の本数の光束を用いて該感光ドラム８面
上を同時に光走査しても良い。即ち、本実施形態では感
光ドラム８面に入射する複数の光束の副走査方向の入射
角に応じて光源手段１を構成する複数の発光部の副走査
方向の間隔を適切に調整することにより、該感光ドラム
８面上の走査線のピッチ間隔ムラを良好に補正すること
ができる。また光源手段も半導体レーザアレイに限ら
ず、例えばシングル半導体レーザを複数個並べて使用し
てもよい。
【０１０１】尚、複数の発光部の副走査方向の間隔の調
整方法としては、例えば回転調整方法や副走査方向へ平
行移動させる方法等が考えられるが、これに限定される
ことはなく、該複数の発光部の副走査方向の間隔が調整
できるなら他の方法を利用しても良い。このとき前述の
如く検出素子からの情報に基づいて複数の発光部の副走
査方向の間隔を調整すれば良い。
整方法としては、例えば回転調整方法や副走査方向へ平
行移動させる方法等が考えられるが、これに限定される
ことはなく、該複数の発光部の副走査方向の間隔が調整
できるなら他の方法を利用しても良い。このとき前述の
如く検出素子からの情報に基づいて複数の発光部の副走
査方向の間隔を調整すれば良い。
【０１０２】［実施形態２］図３は本発明の実施形態２
の感光ドラム面の一部分の要部断面図（副走査断面図）
であり、複数の光束が感光ドラム面に入射する様子を示
している。
の感光ドラム面の一部分の要部断面図（副走査断面図）
であり、複数の光束が感光ドラム面に入射する様子を示
している。
【０１０３】本実施形態では光束数ｎ＝５本、副走査方
向の画素密度Ａ＝６００(dpi) 、副走査断面内における
感光ドラム８の半径ｒ＝５(mm)としてマルチビーム走査
装置の更なるマルチ化を行い、それを使用した画像形成
装置の更なる高速化を図ると同時に感光ドラム８の小型
化を図った例を示してある。
向の画素密度Ａ＝６００(dpi) 、副走査断面内における
感光ドラム８の半径ｒ＝５(mm)としてマルチビーム走査
装置の更なるマルチ化を行い、それを使用した画像形成
装置の更なる高速化を図ると同時に感光ドラム８の小型
化を図った例を示してある。
【０１０４】本実施形態においては画像情報に応じて光
源手段（不図示）から独立に光変調され出射した５本の
発散光束を光偏向器（不図示）で反射偏向させた後、結
像光学系（不図示）により折り返しミラー（不図示）を
介して感光ドラム８面の面法線に対し角度θだけ副走査
方向に傾けて感光ドラム８面上に入射させ、該感光ドラ
ム８面上を５本の光束で同時に光走査している。
源手段（不図示）から独立に光変調され出射した５本の
発散光束を光偏向器（不図示）で反射偏向させた後、結
像光学系（不図示）により折り返しミラー（不図示）を
介して感光ドラム８面の面法線に対し角度θだけ副走査
方向に傾けて感光ドラム８面上に入射させ、該感光ドラ
ム８面上を５本の光束で同時に光走査している。
【０１０５】このとき同時に光走査される光束数が多
く、また感光ドラム８が小型化されているので感光ドラ
ム８面の副走査断面は、もはや直線とは近似し難く円弧
と見なすのが妥当である。
く、また感光ドラム８が小型化されているので感光ドラ
ム８面の副走査断面は、もはや直線とは近似し難く円弧
と見なすのが妥当である。
【０１０６】本実施形態においては感光ドラム８面付近
で各光束と隣り合う光束との光束間隔Ｌｉ（Ｌｉ０）は
一定であり、その光束間隔Ｌｉは前述の実施形態１と同
様に副走査方向の画素密度から決まる。しかしながら各
光束が感光ドラム８面へ到達したときの円周上の間隔は
入射角の増加に従い広くなる。即ち、図３中の光束１０
ａ〜光束１０ｅは互いに略平行で、かつ光束間隔は略等
間隔Ｌｉ０であるが、光束１０ａが感光ドラム８面へ入
射する角度（面法線に対して副走査方向の角度）θａは
θａ＝３０．０(deg) 、‥‥‥‥‥、光線１０ｄが感光
ドラム８面へ入射する角度θｄはθｄ＝３１．７(deg)
で異なり、感光ドラム８面上の副走査方向の間隔も光束
１０ａ〜光束１０ｂ（Ｌｉθａｂ）よりも光束１０ｄ〜
光束１０ｅ（Ｌｉθｄｅ）の方が広くなる。
で各光束と隣り合う光束との光束間隔Ｌｉ（Ｌｉ０）は
一定であり、その光束間隔Ｌｉは前述の実施形態１と同
様に副走査方向の画素密度から決まる。しかしながら各
光束が感光ドラム８面へ到達したときの円周上の間隔は
入射角の増加に従い広くなる。即ち、図３中の光束１０
ａ〜光束１０ｅは互いに略平行で、かつ光束間隔は略等
間隔Ｌｉ０であるが、光束１０ａが感光ドラム８面へ入
射する角度（面法線に対して副走査方向の角度）θａは
θａ＝３０．０(deg) 、‥‥‥‥‥、光線１０ｄが感光
ドラム８面へ入射する角度θｄはθｄ＝３１．７(deg)
で異なり、感光ドラム８面上の副走査方向の間隔も光束
１０ａ〜光束１０ｂ（Ｌｉθａｂ）よりも光束１０ｄ〜
光束１０ｅ（Ｌｉθｄｅ）の方が広くなる。
【０１０７】図４は５本の光束が感光ドラム面に入射す
る様子を示した副走査方向の要部断面図（副走査断面
図）である。
る様子を示した副走査方向の要部断面図（副走査断面
図）である。
【０１０８】同図において光束１０ａが感光ドラム８面
へ到達する位置をａ、光束１０ｂが感光ドラム８面へ到
達する位置をｂ、‥‥‥‥、光束１０ｅが感光ドラム８
面へ到達する位置をｅ、副走査断面内における感光ドラ
ム８の曲率中心をｏ、感光ドラム８面に入射する光束１
０ａの副走査方向の入射角をθａ(rad) 、同じく感光ド
ラム８面に入射する光束１０ｂの副走査方向の入射角を
θｂ(rad) としたとき、直線ａｏ、ｂｏとで成す角∠ａ
ｏｂは ∠aob ＝θb −θa ＝Δθab …(5) となる。
へ到達する位置をａ、光束１０ｂが感光ドラム８面へ到
達する位置をｂ、‥‥‥‥、光束１０ｅが感光ドラム８
面へ到達する位置をｅ、副走査断面内における感光ドラ
ム８の曲率中心をｏ、感光ドラム８面に入射する光束１
０ａの副走査方向の入射角をθａ(rad) 、同じく感光ド
ラム８面に入射する光束１０ｂの副走査方向の入射角を
θｂ(rad) としたとき、直線ａｏ、ｂｏとで成す角∠ａ
ｏｂは ∠aob ＝θb −θa ＝Δθab …(5) となる。
【０１０９】また半径ｒ(mm)の感光ドラム８面上の円弧
ａ，ｂの間隔Ｌｉθａｂは Liθab＝Δθab×r …(6) となる。
ａ，ｂの間隔Ｌｉθａｂは Liθab＝Δθab×r …(6) となる。
【０１１０】よって、ある光束と隣り合う光束との入射
角度差Δθが等しければ、感光ドラム８面上の走査ライ
ンのピッチ間隔も一定となることが判る。
角度差Δθが等しければ、感光ドラム８面上の走査ライ
ンのピッチ間隔も一定となることが判る。
【０１１１】そこで本実施形態では光源手段から出射さ
れた複数の光束のうち、ある１つの光束が感光ドラム８
面へ入射する位置での副走査方向の入射角と、隣り合う
光束が該感光ドラム８面へ入射する位置での副走査方向
の入射角との入射角度差Δθが一定と成るように設定し
ている。
れた複数の光束のうち、ある１つの光束が感光ドラム８
面へ入射する位置での副走査方向の入射角と、隣り合う
光束が該感光ドラム８面へ入射する位置での副走査方向
の入射角との入射角度差Δθが一定と成るように設定し
ている。
【０１１２】本実施形態において感光ドラム８面上のピ
ッチ間隔を副走査方向の画素密度Ａ(dpi) から決まる所
定間隔Ｌｉθ(mm)にするための入射角度差Δθ(rad)
は、ある１つの光束が感光ドラム８面に入射角θ(rad)
で入射したとき
ッチ間隔を副走査方向の画素密度Ａ(dpi) から決まる所
定間隔Ｌｉθ(mm)にするための入射角度差Δθ(rad)
は、ある１つの光束が感光ドラム８面に入射角θ(rad)
で入射したとき
【０１１３】
【数３３】
【０１１４】となる。
【０１１５】そこで、ある光束と隣り合う光束とにおけ
る入射角度差Δθを上記式(7) を満たすように光源手段
を構成する複数の発光部の副走査方向の間隔を設定すれ
ば、走査線のピッチ間隔は所定の間隔（副走査方向の画
素密度から決まる間隔）に補正することができる。
る入射角度差Δθを上記式(7) を満たすように光源手段
を構成する複数の発光部の副走査方向の間隔を設定すれ
ば、走査線のピッチ間隔は所定の間隔（副走査方向の画
素密度から決まる間隔）に補正することができる。
【０１１６】即ち、光源手段から出射された複数の光束
のうち、ある１つの光束が感光ドラム８ヘ入射する位置
での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査断面内にお
ける感光ドラム８の半径をｒ(mm)、副走査方向の画素密
度をＡ(dpi) 、該光源手段から感光ドラム８までの全光
学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対値をβ
ｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の間隔をＬ
ｏ(mm)としたとき、次式(8) を満足すれば良い。
のうち、ある１つの光束が感光ドラム８ヘ入射する位置
での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査断面内にお
ける感光ドラム８の半径をｒ(mm)、副走査方向の画素密
度をＡ(dpi) 、該光源手段から感光ドラム８までの全光
学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対値をβ
ｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の間隔をＬ
ｏ(mm)としたとき、次式(8) を満足すれば良い。
【０１１７】
【数３４】
【０１１８】本実施形態では式(8) を満足するように複
数の発光部の副走査方向の間隔を適切に設定している。
数の発光部の副走査方向の間隔を適切に設定している。
【０１１９】ところで光源手段から出射された各光束１
０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅが感光ドラム８
面へ入射する角度を各々順にθａ，θｂ，θｃ，θｄ，
θｅ、複数の発光部の副走査方向の間隔を各々順にＬｏ
θａｂ，Ｌｏθｂｃ，Ｌｏθｃｄ，Ｌｏθｄｅとしたと
き、 θａ＜θｂ＜θｃ＜θｄ＜θｅ より Ｌｏθａｂ≠Ｌｏθｂｃ≠Ｌｏθｃｄ≠Ｌｏθｄｅ となることが判る。
０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅが感光ドラム８
面へ入射する角度を各々順にθａ，θｂ，θｃ，θｄ，
θｅ、複数の発光部の副走査方向の間隔を各々順にＬｏ
θａｂ，Ｌｏθｂｃ，Ｌｏθｃｄ，Ｌｏθｄｅとしたと
き、 θａ＜θｂ＜θｃ＜θｄ＜θｅ より Ｌｏθａｂ≠Ｌｏθｂｃ≠Ｌｏθｃｄ≠Ｌｏθｄｅ となることが判る。
【０１２０】そこで本実施形態では上記式(8) を満足す
るように光源手段の発光部の副走査方向の間隔を不等間
隔に設定することにより、隣り合う光束との入射角度差
Δθを一定とすることができ、これにより感光ドラム８
面上の走査線のピッチ間隔を副走査方向の画素密度に応
じた等間隔に補正することができる。尚、複数の発光部
を出射した後の複数の光束の光束間隔は不等間隔に設定
されている。
るように光源手段の発光部の副走査方向の間隔を不等間
隔に設定することにより、隣り合う光束との入射角度差
Δθを一定とすることができ、これにより感光ドラム８
面上の走査線のピッチ間隔を副走査方向の画素密度に応
じた等間隔に補正することができる。尚、複数の発光部
を出射した後の複数の光束の光束間隔は不等間隔に設定
されている。
【０１２１】表−２に本実施形態における数値例を示
す。
す。
【０１２２】
【表２】
【０１２３】このように本実施形態では表−２に示す如
く感光ドラム８面に入射する角度が各光束毎に異なる
が、複数の発光部の副走査方向の間隔を適切に調整する
ことにより、ある光束と隣り合う光束との入射角度差Δ
θを一定に補正することができる。
く感光ドラム８面に入射する角度が各光束毎に異なる
が、複数の発光部の副走査方向の間隔を適切に調整する
ことにより、ある光束と隣り合う光束との入射角度差Δ
θを一定に補正することができる。
【０１２４】ここで前記式(2) で表わされる補正前と式
(8) で表わされる補正後での感光ドラム８面上の走査線
のピッチ間隔を比較すると、表−３に示した通りとな
る。
(8) で表わされる補正後での感光ドラム８面上の走査線
のピッチ間隔を比較すると、表−３に示した通りとな
る。
【０１２５】
【表３】
【０１２６】表−３に示すように補正前では感光ドラム
８面に入射する光束の入射角及びある光束と隣り合う光
束との入射角度差Δθによって走査線のピッチ間隔は所
望の間隔から大きくズレてしまうが、本実施形態のよう
に複数の発光部の副走査方向の間隔を適切に設定するこ
とにより、感光ドラム８面に入射する光束の入射角及び
感光ドラム８面上を同時に光走査する光束数によらず、
常に所望の走査線のピッチ間隔に補正することができ
る。これにより本実施形態では感光ドラム８や折り返し
ミラー等の本体配置の制約を受けることがなく、常にピ
ッチムラが無く良好なる画質が得られるマルチビーム光
走査装置を得ることができる。
８面に入射する光束の入射角及びある光束と隣り合う光
束との入射角度差Δθによって走査線のピッチ間隔は所
望の間隔から大きくズレてしまうが、本実施形態のよう
に複数の発光部の副走査方向の間隔を適切に設定するこ
とにより、感光ドラム８面に入射する光束の入射角及び
感光ドラム８面上を同時に光走査する光束数によらず、
常に所望の走査線のピッチ間隔に補正することができ
る。これにより本実施形態では感光ドラム８や折り返し
ミラー等の本体配置の制約を受けることがなく、常にピ
ッチムラが無く良好なる画質が得られるマルチビーム光
走査装置を得ることができる。
【０１２７】［実施形態３］図５は本発明の実施形態３
の複数の発光部を有する光源手段の要部断面図（光軸と
直交する断面図）である。
の複数の発光部を有する光源手段の要部断面図（光軸と
直交する断面図）である。
【０１２８】本実施形態において前述の実施形態２と異
なる点は光源手段を光軸と平行な軸の周りを回転させる
ことにより、５つの発光部の副走査方向の間隔が所望の
値（等間隔）になるように設定したことである。
なる点は光源手段を光軸と平行な軸の周りを回転させる
ことにより、５つの発光部の副走査方向の間隔が所望の
値（等間隔）になるように設定したことである。
【０１２９】即ち、同図においてＹは主走査方向、Ｚは
副走査方向、５０は光源手段であり、５つの発光部５１
ａ〜５１ｅが直線上に配列されたモノリシックな半導体
レーザアレイより成っている。
副走査方向、５０は光源手段であり、５つの発光部５１
ａ〜５１ｅが直線上に配列されたモノリシックな半導体
レーザアレイより成っている。
【０１３０】前記図３に示された感光ドラム８面上の走
査線のピッチ間隔は副走査方向の画素密度で決まるピッ
チ間隔の±１０％以内であれば画像上ではピッチムラと
して目立たないことが実験的に判っており、従って５つ
の発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方向の間隔に下記の許
容範囲を持たせることができる。
査線のピッチ間隔は副走査方向の画素密度で決まるピッ
チ間隔の±１０％以内であれば画像上ではピッチムラと
して目立たないことが実験的に判っており、従って５つ
の発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方向の間隔に下記の許
容範囲を持たせることができる。
【０１３１】走査線のピッチ間隔は前記式(6) に示した
ように感光ドラム面上への入射角度差Δθによって決ま
るので、入射角度差Δθが±５％以内となるように５つ
の発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方向の間隔を決めれば
よい。
ように感光ドラム面上への入射角度差Δθによって決ま
るので、入射角度差Δθが±５％以内となるように５つ
の発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方向の間隔を決めれば
よい。
【０１３２】ある１つの光束が半径ｒ(mm)の感光ドラム
ヘ入射角θ(rad) 、隣り合う光束との光束間隔Ｌｉ(mm)
で入射する場合の感光ドラム面上への入射角度差Δθ(r
ad)は以下の式(9) で表わされる。
ヘ入射角θ(rad) 、隣り合う光束との光束間隔Ｌｉ(mm)
で入射する場合の感光ドラム面上への入射角度差Δθ(r
ad)は以下の式(9) で表わされる。
【０１３３】
【数３５】
【０１３４】前記式(6) より感光ドラム面上での走査線
のピッチ間隔Ｌｉθ(mm)は以下の式(10)で表わされる。
のピッチ間隔Ｌｉθ(mm)は以下の式(10)で表わされる。
【０１３５】
【数３６】
【０１３６】そこで以下の式(11)で示すように感光ドラ
ム面上での走査線のピッチ間隔Ｌｉθ(mm)を副走査方向
の画素密度Ａ(dpi) から決まる所定の値に設定すればピ
ッチムラを補正することができる。
ム面上での走査線のピッチ間隔Ｌｉθ(mm)を副走査方向
の画素密度Ａ(dpi) から決まる所定の値に設定すればピ
ッチムラを補正することができる。
【０１３７】
【数３７】
【０１３８】ここで走査線のピッチ間隔を±１０％以内
に抑えるためには入射角度差Δθ(rad) は以下の式(12)
を満足すればよい。
に抑えるためには入射角度差Δθ(rad) は以下の式(12)
を満足すればよい。
【０１３９】
【数３８】
【０１４０】即ち、ある１つの光束と隣り合う光束との
光束間隔Ｌｉ(mm)が以下の式(13)を満足すればよい。
光束間隔Ｌｉ(mm)が以下の式(13)を満足すればよい。
【０１４１】
【数３９】
【０１４２】ここである１つの光束と隣り合う光束との
光束間隔Ｌｉ(mm)と副走査方向のトータル副走査倍率β
ｓ（倍）とから５つの発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方
向の間隔Ｌｏ(mm)は次式(14)で表わされる。
光束間隔Ｌｉ(mm)と副走査方向のトータル副走査倍率β
ｓ（倍）とから５つの発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方
向の間隔Ｌｏ(mm)は次式(14)で表わされる。
【０１４３】
【数４０】
【０１４４】即ち、５つの発光部５１ａ〜５１ｅの副走
査方向の間隔Ｌｏ(mm)は次式(15)を満足すればよい。
査方向の間隔Ｌｏ(mm)は次式(15)を満足すればよい。
【０１４５】
【数４１】
【０１４６】そこで本実施形態では式(15)の許容範囲内
に収まるように光源手段５０を光軸と平行な回転軸の周
りを回転させて５つの発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方
向の間隔を調整することにより走査線のピッチ間隔ズレ
を補正している。
に収まるように光源手段５０を光軸と平行な回転軸の周
りを回転させて５つの発光部５１ａ〜５１ｅの副走査方
向の間隔を調整することにより走査線のピッチ間隔ズレ
を補正している。
【０１４７】本実施形態では５つの発光部５１ａ〜５１
ｅの間隔が９０．０００μｍであり、主走査方向と平行
に配列されている。光源手段５０を光軸と平行な回転軸
の周りを２．５６８(deg) 回転させることによって、副
走査方向の間隔ＬｏをＬｏ＝４．０３３μｍに調整して
いる。
ｅの間隔が９０．０００μｍであり、主走査方向と平行
に配列されている。光源手段５０を光軸と平行な回転軸
の周りを２．５６８(deg) 回転させることによって、副
走査方向の間隔ＬｏをＬｏ＝４．０３３μｍに調整して
いる。
【０１４８】表−４に本実施形態の数値例を示す。
【０１４９】
【表４】
【０１５０】但し、ΔＬｉθ＝Ｌｉθ’−Ｌｉθ ＲＬｉθ＝ΔＬθ×Ａ／２５．４×１００ これにより本実施形態ではモノリシックな半導体レーザ
アレイを使用した場合に複数の発光部の副走査方向の間
隔を不等間隔にしなくとも画像上のピッチムラを目立た
なくすることができ、且つモノリシックな半導体レーザ
アレイを回転調整可能にした、製造及び調整が容易なマ
ルチビーム光走査装置を得ている。
アレイを使用した場合に複数の発光部の副走査方向の間
隔を不等間隔にしなくとも画像上のピッチムラを目立た
なくすることができ、且つモノリシックな半導体レーザ
アレイを回転調整可能にした、製造及び調整が容易なマ
ルチビーム光走査装置を得ている。
【０１５１】［実施形態４］図６は本発明の実施形態４
の飛び越し走査を行なうマルチビーム光走査装置の感光
ドラム面の一部分の要部断面図（副走査断面図）であ
り、複数の光束が感光ドラム面に入射する様子を示して
いる。同図において図３と示した要素と同一要素には同
符番を付している。
の飛び越し走査を行なうマルチビーム光走査装置の感光
ドラム面の一部分の要部断面図（副走査断面図）であ
り、複数の光束が感光ドラム面に入射する様子を示して
いる。同図において図３と示した要素と同一要素には同
符番を付している。
【０１５２】本実施形態において前述の実施形態１、
２、３と異なる点は走査方式を飛び越し走査としたこと
である。その他の構成及び光学的作用は前述の各実施形
態と略同様である。尚、副走査方向の走査線のピッチ間
隔を補正する手段は前述の各実施形態と略同様な手段を
用いている。
２、３と異なる点は走査方式を飛び越し走査としたこと
である。その他の構成及び光学的作用は前述の各実施形
態と略同様である。尚、副走査方向の走査線のピッチ間
隔を補正する手段は前述の各実施形態と略同様な手段を
用いている。
【０１５３】即ち、本実施形態では複数の発光部を副走
査方向に配列して成る光源手段から画像情報に応じて該
複数の発光部のうち何本かの発光部を周期的に飛び越し
て何本かの発光部を選択して発光させ、該発光した複数
の光束を偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向された複
数の光束を副走査方向に等速回転する感光ドラムの面法
線に対し角度θだけ副走査方向に傾けて該感光ドラム面
に入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の
間隔で飛び越し走査して、記録媒体としての感光ドラム
面上に画像情報の記録を行なっている。
査方向に配列して成る光源手段から画像情報に応じて該
複数の発光部のうち何本かの発光部を周期的に飛び越し
て何本かの発光部を選択して発光させ、該発光した複数
の光束を偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向された複
数の光束を副走査方向に等速回転する感光ドラムの面法
線に対し角度θだけ副走査方向に傾けて該感光ドラム面
に入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の
間隔で飛び越し走査して、記録媒体としての感光ドラム
面上に画像情報の記録を行なっている。
【０１５４】図６においては光源手段から出射した２本
の光束が同時に感光ドラム面上に導光されるが、実線で
示される光束１０ａと光束１０ｂは破線で示される２ラ
インを飛び越して光走査している。即ち、光源手段は２
本の発光部（ライン）を飛び越して発光していることに
なる。このような走査方式は一般に飛び越し走査と称
し、飛び越すライン本数が多いほど走査線のピッチ間隔
誤差が大きくなることが問題となる。
の光束が同時に感光ドラム面上に導光されるが、実線で
示される光束１０ａと光束１０ｂは破線で示される２ラ
インを飛び越して光走査している。即ち、光源手段は２
本の発光部（ライン）を飛び越して発光していることに
なる。このような走査方式は一般に飛び越し走査と称
し、飛び越すライン本数が多いほど走査線のピッチ間隔
誤差が大きくなることが問題となる。
【０１５５】そこで本実施形態では、例えば前述の実施
形態３と同様に複数の発光部の副走査方向の間隔を適切
に調整することにより、感光ドラム面上における副走査
方向の走査線のピッチ間隔が等間隔となるように、即ち
感光ドラム面上の走査線のピッチ間隔を所望の値になる
ように補正している。
形態３と同様に複数の発光部の副走査方向の間隔を適切
に調整することにより、感光ドラム面上における副走査
方向の走査線のピッチ間隔が等間隔となるように、即ち
感光ドラム面上の走査線のピッチ間隔を所望の値になる
ように補正している。
【０１５６】本実施形態において飛び越す発光部（ライ
ン）の本数をＮ（本）としたとき、ある１つの光束と隣
り合う光束との感光ドラム面上に到達する位置の間隔の
目標値Ｌｉθ(mm)は副走査方向の画素密度Ａ（dpi ）か
ら次式(16)で与えられる。
ン）の本数をＮ（本）としたとき、ある１つの光束と隣
り合う光束との感光ドラム面上に到達する位置の間隔の
目標値Ｌｉθ(mm)は副走査方向の画素密度Ａ（dpi ）か
ら次式(16)で与えられる。
【０１５７】
【数４２】
【０１５８】よって感光ドラム面上では１／（Ｎ＋１）
の副走査方向の画素密度に相当する間隔を与えれること
に等しい。
の副走査方向の画素密度に相当する間隔を与えれること
に等しい。
【０１５９】ここで走査線のピッチ間隔を±１０％以内
に抑えるためには入射角度差Δθ(rad) は以下の式(c)
を満足すればよい。
に抑えるためには入射角度差Δθ(rad) は以下の式(c)
を満足すればよい。
【０１６０】
【数４３】
【０１６１】即ち、前記式(13)と同様にある１つの光束
と隣り合う光束との光束間隔Ｌｉ(mm)が次式(17)を満足
するように設定すればよい。
と隣り合う光束との光束間隔Ｌｉ(mm)が次式(17)を満足
するように設定すればよい。
【０１６２】
【数４４】
【０１６３】また前記(14)式より複数の発光部の副走査
方向の間隔Ｌｏ(mm)が次式(18)を満足するように設定す
ればよい。
方向の間隔Ｌｏ(mm)が次式(18)を満足するように設定す
ればよい。
【０１６４】
【数４５】
【０１６５】表−５に本実施形態の数値例を示す。
【０１６６】
【表５】
【０１６７】画素密度６００(dpi) で走査線を２本飛び
越した光束との間隔は副走査方向の画素密度２００(dp
i) 時の間隔に相当する１２７μｍとなり、実施形態３
と同様に光源手段を光軸と平行な回転軸の周りを回転さ
せることによって複数の発光部の副走査方向の間隔Ｌｏ
(mm)を調整している。
越した光束との間隔は副走査方向の画素密度２００(dp
i) 時の間隔に相当する１２７μｍとなり、実施形態３
と同様に光源手段を光軸と平行な回転軸の周りを回転さ
せることによって複数の発光部の副走査方向の間隔Ｌｏ
(mm)を調整している。
【０１６８】これにより複数の光束が飛び越し走査等で
感光ドラム面上の大きく離れた位置を光走査する場合に
おいてもピッチムラが無く常に良好なる画像が得られる
マルチビーム光走査装置を得ている。
感光ドラム面上の大きく離れた位置を光走査する場合に
おいてもピッチムラが無く常に良好なる画像が得られる
マルチビーム光走査装置を得ている。
【０１６９】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く光源手段を構
成する複数の発光部の副走査方向の間隔を適切に設定す
ることにより、感光ドラム面ヘの入射角による走査線の
ピッチ間隔誤差を補正し、また感光ドラムの半径が小さ
かったり、同時に光走査する光束数が多かったり、飛び
越し走査したりする際に感光ドラムの円周上における走
査線のピッチ間隔誤差を補正し、これによりピッチムラ
が生じない常に良好なる画像が得られるマルチビーム光
走査装置を達成することができる。
成する複数の発光部の副走査方向の間隔を適切に設定す
ることにより、感光ドラム面ヘの入射角による走査線の
ピッチ間隔誤差を補正し、また感光ドラムの半径が小さ
かったり、同時に光走査する光束数が多かったり、飛び
越し走査したりする際に感光ドラムの円周上における走
査線のピッチ間隔誤差を補正し、これによりピッチムラ
が生じない常に良好なる画像が得られるマルチビーム光
走査装置を達成することができる。
【図１】 本発明の実施形態１の主走査方向及び副走査
方向の要部断面図
方向の要部断面図
【図２】 本発明の実施形態１の複数の光束が感光ドラ
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
【図３】 本発明の実施形態２の複数の光束が感光ドラ
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
【図４】 本発明の実施形態２の複数の光束が感光ドラ
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
【図５】 本発明の実施形態３の光源手段の副走査方向
の要部断面図
の要部断面図
【図６】 本発明の実施形態４の複数の光束が感光ドラ
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
ム面に入射する様子を示した副走査方向の要部断面図
１，５０ 光源手段（半導体レーザアレイ） ２ コリメーターレンズ ３ 開口絞り ４ シリンドリカルレンズ ５ 偏向手段（ポリゴンミラー） ６ 結像光学系（ｆθレンズ） ７ 折り返しミラー ８ 記録媒体（感光ドラム） ９ 光軸 １０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ，１１ａ 光
束 ５１ 発光手段
束 ５１ 発光手段
Claims (33)
- 【請求項１】 複数の発光部を副走査方向に配列して成
る光源手段から画像情報に応じて変調し出射された複数
の光束を偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向された複
数の光束を副走査方向に等速回転する記録媒体に対し副
走査方向において斜方向から入射させ、該記録媒体面上
を該複数の光束で光走査するマルチビーム光走査装置に
おいて、 該記録媒体面上における副走査方向の走査線のピッチ間
隔が等間隔となるように設定したことを特徴とするマル
チビーム光走査装置。 - 【請求項２】 前記複数の発光部の副走査方向の間隔を
調整することにより、前記記録媒体面上における副走査
方向の走査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定し
たことを特徴とする請求項１記載のマルチビーム光走査
装置。 - 【請求項３】 複数の発光部を副走査方向に配列して成
る光源手段から画像情報に応じて変調し出射された複数
の光束を偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向された複
数の光束を副走査方向に等速回転する感光ドラムの面法
線に対し角度θだけ副走査方向に傾けて該感光ドラム面
に入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束が所定の
間隔で光走査するマルチビーム光走査装置において、 該感光ドラム面近傍における複数の光束のうち、ある１
つの光束と隣り合う光束との光束間隔が、該角度θに基
づいて該所定の間隔よりも狭くなるように設定したこと
を特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 【請求項４】 前記複数の発光部の副走査方向の間隔を
調整することにより、前記感光ドラム面近傍における前
記光束間隔を前記所定の間隔よりも狭くなるように設定
したことを特徴とする請求項３記載のマルチビーム光走
査装置。 - 【請求項５】 前記所定の間隔は画素密度に対応する副
走査方向の間隔であることを特徴とする請求項３又は４
記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項６】 前記光源手段から前記感光ドラムまでの
全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対値
をβｓ（倍）、前記光源手段から出射された複数の光束
のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する位
置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画
素密度をＡ(dpi) 、前記複数の発光部の副走査方向の間
隔をＬｏ(mm)としたとき、 【数１】 なる条件を満足することを特徴とする請求項３、４又は
５記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項７】 前記感光ドラム面近傍における前記光束
間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複数の光
束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する
位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) としたとき、 【数２】 なる関係が成り立つことを特徴とする請求項３、４、５
又は６記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項８】 前記感光ドラム面近傍における前記光束
間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複数の光
束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する
位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) 、副走査断面内における前記感光ド
ラムの半径をｒ(mm)としたとき、 【数３】 なる条件を満足することを特徴とする請求項３、４、５
又は６記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項９】 複数の発光部を副走査方向に配列して成
る光源手段から出射された複数の光束を偏向手段に導光
し、該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査方向に
等速回転する感光ドラムの面法線に対し角度θだけ副走
査方向に傾けて該感光ドラム面に入射させ、該感光ドラ
ム面上を該複数の光束が所定の間隔で光走査するマルチ
ビーム光走査装置において、 該光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１つ
の光束が該感光ドラム面へ入射する位置での副走査方向
の入射角と、隣り合う光束が該感光ドラム面へ入射する
位置での副走査方向の入射角との入射角度差が一定と成
るように設定したことを特徴とするマルチビーム光走査
装置。 - 【請求項１０】 前記複数の発光部の副走査方向の間隔
を調整することにより、前記入射角度差が一定と成るよ
うに設定したことを特徴とする請求項９記載のマルチビ
ーム光走査装置。 - 【請求項１１】 前記所定の間隔は画素密度に対応する
副走査方向の間隔であることを特徴とする請求項９記載
のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項１２】 前記光源手段から出射された複数の光
束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する
位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記入射角度
差をΔθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dpi) 、副
走査断面内における前記感光ドラムの半径をｒ(mm)とし
たとき、 【数４】 なる関係が成り立つことを特徴とする請求項９又は１０
記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項１３】 前記光源手段から出射された複数の光
束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する
位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記感光ドラ
ムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまで
の全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対
値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の間
隔をＬｏ(mm)としたとき、 【数５】 なる関係が成り立つことを特徴とする請求項９、１０又
は１２記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項１４】 前記入射角度差をΔθ(rad) 、副走査
方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラムの副走査断
面内における半径をｒ(mm)としたとき、 【数６】 なる条件を満足することを特徴とする請求項９又は１０
記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項１５】 前記感光ドラム面近傍における、ある
１つの光束と隣り合う光束との光束間隔をＬｉ(mm)、前
記光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１つ
の光束が前記感光ドラムヘ入射する位置での副走査方向
の入射角をθ(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dpi)
、前記感光ドラムの副走査断面内における半径をｒ(m
m)としたとき、 【数７】 なる条件を満足することを特徴とする請求項９、１０又
は１４記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項１６】 前記光源手段から出射された複数の光
束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射する
位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、前記感光ドラ
ムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の
画素密度をＡ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまで
の全光学系における副走査方向のトータル横倍率の絶対
値をβｓ（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の間
隔をＬｏ(mm)としたとき、 【数８】 なる条件を満足することを特徴とする請求項９、１０、
１４又は１５記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項１７】 前記光束間隔は不等間隔に設定されて
いることを特徴とする請求項１２又は１３記載のマルチ
ビーム光走査装置。 - 【請求項１８】 前記光源手段の発光部は副走査方向に
おいて不等間隔に配置されていることを特徴とする請求
項１２又は１３記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項１９】 複数の発光部を副走査方向に配列して
成る光源手段から画像情報に応じて該複数の発光部のう
ち何本かの発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部
を選択して発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段
に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査
方向に等速回転する記録媒体に対し副走査方向において
斜方向から入射させ、該記録媒体面上を該複数の光束で
飛び越し走査するマルチビーム光走査装置において、 該記録媒体面上における副走査方向の走査線のピッチ間
隔が等間隔となるように設定したことを特徴とするマル
チビーム光走査装置。 - 【請求項２０】 前記複数の発光部の副走査方向の間隔
を調整することにより、前記記録媒体面上における副走
査方向の走査線のピッチ間隔が等間隔となるように設定
したことを特徴とする請求項１９記載のマルチビーム光
走査装置。 - 【請求項２１】 複数の発光部を副走査方向に配列して
成る光源手段から画像情報に応じて該複数の発光部のう
ち何本かの発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部
を選択して発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段
に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査
方向に等速回転する感光ドラムの面法線に対し角度θだ
け副走査方向に傾けて該感光ドラム面に入射させ、該感
光ドラム面上を該複数の光束が所定の間隔で飛び越し走
査するマルチビーム光走査装置において、 該感光ドラム面近傍における複数の光束のうち、ある１
つの光束と隣り合う光束との光束間隔が、該角度θに基
づいて該所定の間隔よりも狭くなるように設定したこと
を特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 【請求項２２】 前記複数の発光部の副走査方向の間隔
を調整することにより、該感光ドラム面近傍における前
記光束間隔を前記所定の間隔よりも狭くなるように設定
したことを特徴とする請求項２１記載のマルチビーム光
走査装置。 - 【請求項２３】 前記所定の間隔は画素密度に対応する
副走査方向の間隔であることを特徴とする請求項２１又
は２２記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項２４】 前記感光ドラム面近傍における前記光
束間隔をＬｉ(mm)、前記光源手段から出射された複数の
光束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラムヘ入射す
る位置での副走査方向の入射角をθ(rad) 、副走査方向
の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラムの副走査断面内
における半径をｒ(mm)、前記飛び越した発光部の本数を
Ｎ（本）としたとき、 【数９】 なる条件を満足することを特徴とする請求項２１、２２
又は２３記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項２５】 前記光源手段から出射された複数の光
束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラム面へ入射す
る位置での入射角をθ(rad) 、前記感光ドラムの副走査
断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の画素密度を
Ａ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまでの全光学系
における副走査方向のトータル横倍率の絶対値をβｓ
（倍）、前記複数の発光部の副走査方向の間隔をＬｏ(m
m)としたとき、 【数１０】 なる条件を満足することを特徴とする請求項２１、２
２、２３又は２４記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項２６】 複数の発光部を副走査方向に配列して
成る光源手段から画像情報に応じて該複数の発光部のう
ち何本かの発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部
を選択して発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段
に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光束を副走査
方向に等速回転する感光ドラムの面法線に対し角度θだ
け副走査方向に傾けて該感光ドラム面に入射させ、該感
光ドラム面上を該複数の光束が所定の間隔で飛び越し走
査するマルチビーム光走査装置において、 該光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１つ
の光束が該感光ドラム面へ入射する位置での副走査方向
の入射角と、隣り合う光束が該感光ドラム面へ入射する
位置での副走査方向の入射角との入射角度差が一定と成
るように設定したことを特徴とするマルチビーム光走査
装置。 - 【請求項２７】 前記複数の発光部の副走査方向の間隔
を調整することにより、前記入射角度差が一定と成るよ
うに設定したことを特徴とする請求項２６記載のマルチ
ビーム光走査装置。 - 【請求項２８】 前記所定の間隔は画素密度に対応する
副走査方向の間隔であることを特徴とする請求項２６記
載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項２９】 前記入射角度差をΔθ(rad) 、副走査
方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ドラム副走査断面
の半径をｒ(mm)、飛び越した発光部の本数をＮ（本）と
したとき、 【数１１】 なる条件を満足することを特徴とする請求項２６又は２
７記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項３０】 前記感光ドラム面近傍におけるある１
つの光束と隣り合う光束との光束間隔をＬｉ(mm)、前記
光源手段から出射された複数の光束のうち、ある１つの
光束が前記感光ドラム面へ入射する位置での入射角をθ
(rad) 、副走査方向の画素密度をＡ(dpi) 、前記感光ド
ラムの副走査断面内における半径をｒ(mm)、飛び越した
発光部の本数をＮ（本）としたとき、 【数１２】 なる条件を満足することを特徴とする請求項２６、２７
又は２９記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項３１】 前記光源手段から出射された複数の光
束のうち、ある１つの光束が前記感光ドラム面へ入射す
る位置での入射角をθ(rad) 、前記感光ドラムの副走査
断面内における半径をｒ(mm)、副走査方向の画素密度を
Ａ(dpi) 、前記光源手段から感光ドラムまでの全光学系
における副走査方向のトータル横倍率の絶対値をβｓ
（倍）、該光源手段の発光部の副走査方向の間隔をＬｏ
(mm)としたとき、 【数１３】 なる条件を満足することを特徴とする請求項２６、２
７、２９又は３０記載のマルチビーム光走査装置。 - 【請求項３２】 複数の発光部を副走査方向に配列して
成る光源手段から出射された複数の光束を偏向手段に導
光し、該偏向手段で偏向された複数の光束を感光ドラム
の面法線に対し角度θだけ、副走査方向に傾けて該感光
ドラム面に入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光束
が所定の間隔で光走査するマルチビーム光走査装置にお
いて、 該感光ドラム面と光学的に等価な位置に該光源手段から
出射される複数の光束の結像位置を検出するための検出
素子を設け、かつ該検出素子を該角度θと等しい角度だ
け該感光ドラムの面法線に対して副走査方向に傾けて、
該複数の光束の結像位置を検出し、該検出された情報に
基づいて、該感光ドラム面に入射する光束の副走査方向
の入射角によって生じる走査線のピッチ間隔ズレを、該
複数の発光部の副走査方向の間隔を調整することによ
り、補正したことを特徴とするマルチビーム光走査装
置。 - 【請求項３３】 複数の発光部を副走査方向に配列して
成る光源手段から画像情報に応じて該複数の発光部のう
ち何本かの発光部を周期的に飛び越して何本かの発光部
を選択して発光させ、該発光した複数の光束を偏向手段
に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光束を感光ド
ラムの面法線に対し角度θだけ副走査方向に傾けて該感
光ドラム面に入射させ、該感光ドラム面上を該複数の光
束が所定の間隔で飛び越し走査するマルチビーム光走査
装置において、 該感光ドラム面と光学的に等価な位置に該光源手段から
出射される複数の光束の結像位置を検出するための検出
素子を設け、かつ該検出素子を該角度θと等しい角度だ
け該感光ドラムの面法線に対して副走査方向に傾けて、
該複数の光束の結像位置を検出し、該検出された情報に
基づいて、該感光ドラム面に入射する光束の副走査方向
の入射角によって生じる走査線のピッチ間隔ズレを、該
複数の発光部の副走査方向の間隔を調整することによ
り、補正したことを特徴とするマルチビーム光走査装
置。
Priority Applications (2)
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