JP2000291091A - 除菌性を有する洗面装置 - Google Patents
除菌性を有する洗面装置Info
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- JP2000291091A JP2000291091A JP11097005A JP9700599A JP2000291091A JP 2000291091 A JP2000291091 A JP 2000291091A JP 11097005 A JP11097005 A JP 11097005A JP 9700599 A JP9700599 A JP 9700599A JP 2000291091 A JP2000291091 A JP 2000291091A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 除菌性に優れた洗面装置を提供すること。
【解決手段】 水栓器具と、洗面器と、乾燥装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未満
であり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記乾
燥装置は前記洗面器のボール面上を乾燥可能であること
を特徴とする除菌性を有する洗面装置。
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未満
であり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記乾
燥装置は前記洗面器のボール面上を乾燥可能であること
を特徴とする除菌性を有する洗面装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、除菌性を有する洗
面装置に関する。
面装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】洗面器表面を清浄に保つことは、洗面装
置が一般的に生活用品として広く使用されていることか
ら必要とされる特性である。古くより一般家庭におい
て、洗面器表面を衛生的に清浄に保ち、除菌する方法と
して、界面活性剤、酸、アルカリ等の洗剤により洗浄す
る方法が採られてきた。
置が一般的に生活用品として広く使用されていることか
ら必要とされる特性である。古くより一般家庭におい
て、洗面器表面を衛生的に清浄に保ち、除菌する方法と
して、界面活性剤、酸、アルカリ等の洗剤により洗浄す
る方法が採られてきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法によれば、一般的には、汚れの付着が目立ってきたと
きに初めて洗浄・除菌することになり、目で確認できな
い菌において適切なタイミングで除菌がなされていると
は言い難かった。
法によれば、一般的には、汚れの付着が目立ってきたと
きに初めて洗浄・除菌することになり、目で確認できな
い菌において適切なタイミングで除菌がなされていると
は言い難かった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明では、水栓器具
と、洗面器と、乾燥装置を備え、前記洗面器のボール面
の水との接触角は２０°未満、好ましくは１０°未満、
より好ましくは５°未満であり、前記ボール面のゼータ
電位は負であり、前記乾燥装置は前記洗面器のボール面
上を乾燥可能であることを特徴とする除菌性を有する洗
面装置を提供する。ボール面表面のゼータ電位を負にす
ることにより、便器で認められる大腸菌等の菌類は水中
において負のゼータ電位を有するので、一定時間水分が
付着しても菌の表面への付着が防止される。また、乾燥
装置を備えることにより、水分が付着しても乾燥し、菌
の繁殖に必要な水分が長時間留まらない。従って、除菌
性がより向上する。さらに、ボール面の水との接触角が
２０°未満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５
°未満にすることにより、水が一様に広がるので、水分
の蒸発がより速やかになされるようになる。従って、除
菌性がさらに向上する。ここで、乾燥装置には、手洗後
に使用する手乾燥器、暖房装置等も利用できる。
と、洗面器と、乾燥装置を備え、前記洗面器のボール面
の水との接触角は２０°未満、好ましくは１０°未満、
より好ましくは５°未満であり、前記ボール面のゼータ
電位は負であり、前記乾燥装置は前記洗面器のボール面
上を乾燥可能であることを特徴とする除菌性を有する洗
面装置を提供する。ボール面表面のゼータ電位を負にす
ることにより、便器で認められる大腸菌等の菌類は水中
において負のゼータ電位を有するので、一定時間水分が
付着しても菌の表面への付着が防止される。また、乾燥
装置を備えることにより、水分が付着しても乾燥し、菌
の繁殖に必要な水分が長時間留まらない。従って、除菌
性がより向上する。さらに、ボール面の水との接触角が
２０°未満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５
°未満にすることにより、水が一様に広がるので、水分
の蒸発がより速やかになされるようになる。従って、除
菌性がさらに向上する。ここで、乾燥装置には、手洗後
に使用する手乾燥器、暖房装置等も利用できる。
【０００５】本発明の除菌性を有する洗面器の好ましい
態様においては、水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未
満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５°未満で
あり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記送風
装置は前記洗面器のボール面上に気体を噴出可能である
ことを特徴とする除菌性を有する洗面装置を提供する。
また、送風装置を備え、洗面器本体の除菌したい部位の
１つであるボール面上に気体を噴出可能することによ
り、水分が付着しても速やかに蒸発し、菌の繁殖に必要
な水分が長時間留まらない。従って、除菌性がより向上
する。
態様においては、水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未
満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５°未満で
あり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記送風
装置は前記洗面器のボール面上に気体を噴出可能である
ことを特徴とする除菌性を有する洗面装置を提供する。
また、送風装置を備え、洗面器本体の除菌したい部位の
１つであるボール面上に気体を噴出可能することによ
り、水分が付着しても速やかに蒸発し、菌の繁殖に必要
な水分が長時間留まらない。従って、除菌性がより向上
する。
【０００６】本発明の除菌性を有する洗面器の好ましい
態様においては、水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未
満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５°未満で
あり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記水栓
器具の使用後に前記送風装置を駆動させて前記洗面器の
ボール面に気体を送風させることが可能であるようにす
る。洗面器洗浄終了後は、洗面器ボール面に最も水分が
付着している状態であり、このタイミングでボール面が
乾燥状態になることにより、除菌性がより向上する。
態様においては、水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未
満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５°未満で
あり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記水栓
器具の使用後に前記送風装置を駆動させて前記洗面器の
ボール面に気体を送風させることが可能であるようにす
る。洗面器洗浄終了後は、洗面器ボール面に最も水分が
付着している状態であり、このタイミングでボール面が
乾燥状態になることにより、除菌性がより向上する。
【０００７】本発明の除菌性を有する洗面器の好ましい
態様においては、前記ボール面には、抗菌剤が含有され
ているようにする。このようにすることで、菌が付着し
た場合においても、抗菌金属の殺菌作用により付着生菌
数が低減され、除菌性が向上する。ここで、抗菌剤とし
ては、銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物微粒
子またはシリカゲルやゼオライトなどの担体へ担持物、
第四級アンモニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾール
誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、イソチアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアジン誘導体、スルホ
ン誘導体、フェノール誘導体、フェノールエーテル誘導
体、ピロール誘導体等が好適に利用できる。
態様においては、前記ボール面には、抗菌剤が含有され
ているようにする。このようにすることで、菌が付着し
た場合においても、抗菌金属の殺菌作用により付着生菌
数が低減され、除菌性が向上する。ここで、抗菌剤とし
ては、銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物微粒
子またはシリカゲルやゼオライトなどの担体へ担持物、
第四級アンモニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾール
誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、イソチアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアジン誘導体、スルホ
ン誘導体、フェノール誘導体、フェノールエーテル誘導
体、ピロール誘導体等が好適に利用できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る洗面装置の一
実施形態を図１に基づいて説明する。本実施の形態は、
キャビネット３のカウンター３ａに取り付けた洗面器２
を備えた洗面装置１である。洗面器２は、内側のボール
面２ａ表面には釉薬層が形成されており、釉薬層表面の
水との接触角は２０°未満、好ましくは１０°未満、よ
り好ましくは５°未満であり、前記ボール面のゼータ電
位は負になっている。また、洗面装置１は送風装置４を
備えている。
実施形態を図１に基づいて説明する。本実施の形態は、
キャビネット３のカウンター３ａに取り付けた洗面器２
を備えた洗面装置１である。洗面器２は、内側のボール
面２ａ表面には釉薬層が形成されており、釉薬層表面の
水との接触角は２０°未満、好ましくは１０°未満、よ
り好ましくは５°未満であり、前記ボール面のゼータ電
位は負になっている。また、洗面装置１は送風装置４を
備えている。
【０００９】ここで、釉薬層表面は、水との接触角が２
０°未満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５°
未満であり、かつゼータ電位は負である層により被覆さ
れている。ここで、水との接触角が２０°未満、好まし
くは１０°未満、より好ましくは５°未満であり、前記
ボール面のゼータ電位は負である層を形成するには、基
本的に主成分が無機酸化物からなる層を形成することに
よる。ここで、無機酸化物としては、例えば、シリカ
（好ましくはアモルファス）、アルミナ（好ましくはγ
ーアルミナ、ベーマイト）、ケイ酸金属塩、ホウ酸金属
塩、リン酸金属塩、ホウケイ酸金属塩、アルミノケイ酸
金属塩等が利用できる。
０°未満、好ましくは１０°未満、より好ましくは５°
未満であり、かつゼータ電位は負である層により被覆さ
れている。ここで、水との接触角が２０°未満、好まし
くは１０°未満、より好ましくは５°未満であり、前記
ボール面のゼータ電位は負である層を形成するには、基
本的に主成分が無機酸化物からなる層を形成することに
よる。ここで、無機酸化物としては、例えば、シリカ
（好ましくはアモルファス）、アルミナ（好ましくはγ
ーアルミナ、ベーマイト）、ケイ酸金属塩、ホウ酸金属
塩、リン酸金属塩、ホウケイ酸金属塩、アルミノケイ酸
金属塩等が利用できる。
【００１０】送風装置４は、洗面器２のボール面２ａの
上端周縁部に設けた気体噴出口２ｂと、気体噴出口２ｂ
へ気体を送風する送風機５と、気体噴出口２ｂと送風機
５とを連通する送風ダクト６とを備えている。該気体噴
出口２ｂは、下方に向かって空気等の気体を噴出するよ
うにしてあり、噴出した気体が、洗面器２のボール面２
ａの起立面域２ａ−２に沿って流れて底面域２ａ−１を
通過し、排水口２ｃの上方へ方向変換して流れ出るよう
にしてある。気体噴出口２ｂは、上端周縁部の全周又は
適所に設けられ、連続したスリット状、断続的な長孔又
は丸孔等で形成されている。気体噴出口２ｂが断続的な
長孔又は丸孔等で形成された場合には、噴出した気体
は、ボール面２ａの起立面域２ａ−２に沿って流れると
きに周方向へ拡散し、底面域２ａ−１の全域を通過する
ことになる。上記送風機５は、水栓７からの吐水が終了
した後、タイマー等で設定した適宜時間（例えば、５
秒）だけ運転させる制御回路（図示略）で、自動的に起
動停止させるようになっている。
上端周縁部に設けた気体噴出口２ｂと、気体噴出口２ｂ
へ気体を送風する送風機５と、気体噴出口２ｂと送風機
５とを連通する送風ダクト６とを備えている。該気体噴
出口２ｂは、下方に向かって空気等の気体を噴出するよ
うにしてあり、噴出した気体が、洗面器２のボール面２
ａの起立面域２ａ−２に沿って流れて底面域２ａ−１を
通過し、排水口２ｃの上方へ方向変換して流れ出るよう
にしてある。気体噴出口２ｂは、上端周縁部の全周又は
適所に設けられ、連続したスリット状、断続的な長孔又
は丸孔等で形成されている。気体噴出口２ｂが断続的な
長孔又は丸孔等で形成された場合には、噴出した気体
は、ボール面２ａの起立面域２ａ−２に沿って流れると
きに周方向へ拡散し、底面域２ａ−１の全域を通過する
ことになる。上記送風機５は、水栓７からの吐水が終了
した後、タイマー等で設定した適宜時間（例えば、５
秒）だけ運転させる制御回路（図示略）で、自動的に起
動停止させるようになっている。
【００１１】この送風装置４を備えた洗面装置１は、水
栓７からの吐水が終了すると、送風機５が適宜時間だけ
運転して気体噴出口２ｂから気体を噴出させ、洗面器２
のボール面２ａを乾燥させる。
栓７からの吐水が終了すると、送風機５が適宜時間だけ
運転して気体噴出口２ｂから気体を噴出させ、洗面器２
のボール面２ａを乾燥させる。
【００１２】
【実施例】（比較例）ケイ砂、長石、粘土等を原料とし
て調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍ
ｍの板状の鋳込み成形体を作製し、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3
−Ｎａ2Ｏを主成分とする釉薬をスプレーコーティング
法により塗布し、１１００〜１２００℃で焼成すること
により試料を得た。得られた板状試料について、水との
接触角測定及びゼータ電位測定を行った。水との接触角
は、接触角測定器（協和界面科学製、ＣＡ−Ｘ１５０）
を用い、マイクロシリンジから試料表面に水滴を滴下し
た後３０秒後に測定した。その結果、釉薬層表面の水と
の接触角は３０°であった。ゼータ電位測定は、レーザ
ーゼータ電位計（大塚電子製、ＥＬＳ−６０００）を用
い、ｐＨ〜７．０、濃度１０ｍＭのＮaＣl水溶液を電解
質とし、ポリスチレンラテックスを光散乱のモニター粒
子として、レーザーの散乱光の様子から電気泳動時にお
ける電気浸透流の分布を測定し、、これを森・岡本の式
で解析することにより行った。その結果、釉薬層表面の
ゼータ電位は、−５７．２ｍＶであった。
て調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×１５０ｍ
ｍの板状の鋳込み成形体を作製し、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3
−Ｎａ2Ｏを主成分とする釉薬をスプレーコーティング
法により塗布し、１１００〜１２００℃で焼成すること
により試料を得た。得られた板状試料について、水との
接触角測定及びゼータ電位測定を行った。水との接触角
は、接触角測定器（協和界面科学製、ＣＡ−Ｘ１５０）
を用い、マイクロシリンジから試料表面に水滴を滴下し
た後３０秒後に測定した。その結果、釉薬層表面の水と
の接触角は３０°であった。ゼータ電位測定は、レーザ
ーゼータ電位計（大塚電子製、ＥＬＳ−６０００）を用
い、ｐＨ〜７．０、濃度１０ｍＭのＮaＣl水溶液を電解
質とし、ポリスチレンラテックスを光散乱のモニター粒
子として、レーザーの散乱光の様子から電気泳動時にお
ける電気浸透流の分布を測定し、、これを森・岡本の式
で解析することにより行った。その結果、釉薬層表面の
ゼータ電位は、−５７．２ｍＶであった。
【００１３】（実施例）比較例と同一の板状試料を用意
した。この試料の釉薬層表面全体に、アナターゼ型酸化
チタン粒子０．２％とケイ酸カリウム０．４％を含む分
散液を２５ｇ／ｍ２スプレーコーティングし、室温で３
０分間乾燥させた後、電気炉を用いて３５０℃で３０分
間かけて焼成することにより試料を得た。得られた試料
について、比較例と同様に測定を行ったところ、上記試
料の表面と水との接触角は８．８°であった。また、上
記試料の表面のゼータ電位測定結果は、−５０．３ｍＶ
であった。
した。この試料の釉薬層表面全体に、アナターゼ型酸化
チタン粒子０．２％とケイ酸カリウム０．４％を含む分
散液を２５ｇ／ｍ２スプレーコーティングし、室温で３
０分間乾燥させた後、電気炉を用いて３５０℃で３０分
間かけて焼成することにより試料を得た。得られた試料
について、比較例と同様に測定を行ったところ、上記試
料の表面と水との接触角は８．８°であった。また、上
記試料の表面のゼータ電位測定結果は、−５０．３ｍＶ
であった。
【００１４】（参考例）大腸菌のゼータ電位 あらかじめ培養しておいた大腸菌（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｉ
ａ ｃｏｌｉ，ＩＦＯ３９７２）菌液から、遠心分離器
により大腸菌のみを取り出し、１０ｍＭのリン酸緩衝溶
液で希釈してｐＨ〜７．０に調整した。上記大腸菌（粒
子）が含まれた溶液を、レーザーゼータ電位計（大塚電
子製、ＥＬＳ−６０００）を用い、レーザーの散乱光の
様子から電気泳動時における電気浸透流の分布を測定
し、これを森・岡本の式で解析することによりゼータ電
位を求めた。その結果、大腸菌表面のゼータ電位は、−
１９．１ｍＶであった。
ａ ｃｏｌｉ，ＩＦＯ３９７２）菌液から、遠心分離器
により大腸菌のみを取り出し、１０ｍＭのリン酸緩衝溶
液で希釈してｐＨ〜７．０に調整した。上記大腸菌（粒
子）が含まれた溶液を、レーザーゼータ電位計（大塚電
子製、ＥＬＳ−６０００）を用い、レーザーの散乱光の
様子から電気泳動時における電気浸透流の分布を測定
し、これを森・岡本の式で解析することによりゼータ電
位を求めた。その結果、大腸菌表面のゼータ電位は、−
１９．１ｍＶであった。
【００１５】このように本発明の実施例においては、水
との接触角が低い親水性表面となっていて水が一様に広
がり、水分の蒸発がより速やかになされるようになるた
め、乾燥した表面が得られやすい。また、水の存在下で
は、大腸菌表面のゼータ電位と同符号であるとともに大
きな絶対値を持っていることから、電気的反発により接
触が妨げられ、除菌効果が得られるものと推定される。
との接触角が低い親水性表面となっていて水が一様に広
がり、水分の蒸発がより速やかになされるようになるた
め、乾燥した表面が得られやすい。また、水の存在下で
は、大腸菌表面のゼータ電位と同符号であるとともに大
きな絶対値を持っていることから、電気的反発により接
触が妨げられ、除菌効果が得られるものと推定される。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、除菌性に優れた洗面装
置を提供することが可能となる。
置を提供することが可能となる。
【図１】 本発明に係る洗面装置の一実施形態を示す断
面図。
面図。
１…洗面装置、２…洗面器、２ａ…洗面器のボール面、
２ａ−１…底面域、２ａ−２…起立面域、２ｂ…気体噴
出口、２ｃ…排水口、５…送風機、６…送風ダクト、７
…水栓
２ａ−１…底面域、２ａ−２…起立面域、２ｂ…気体噴
出口、２ｃ…排水口、５…送風機、６…送風ダクト、７
…水栓
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 正昭 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 安藤 正美 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 林 浩一 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 早川 信 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 Ｆターム(参考） 2D061 BA01 BC01 BC18 BC19
Claims (4)
- 【請求項１】 水栓器具と、洗面器と、乾燥装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未満
であり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記乾
燥装置は前記洗面器のボール面上を乾燥可能であること
を特徴とする除菌性を有する洗面装置。 - 【請求項２】 水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未満
であり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記送
風装置は前記洗面器のボール面上に気体を噴出可能であ
ることを特徴とする除菌性を有する洗面装置。 - 【請求項３】 水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面の水との接触角は２０°未満
であり、前記ボール面のゼータ電位は負であり、前記水
栓器具の使用後に前記送風装置を駆動させて前記洗面器
のボール面に気体を送風させることが可能であることを
特徴とする除菌性を有する洗面装置。 - 【請求項４】 前記ボール面には、さらに抗菌剤が固定
されていることを特徴とする請求項１〜３に記載の除菌
性を有する洗面装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11097005A JP2000291091A (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | 除菌性を有する洗面装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11097005A JP2000291091A (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | 除菌性を有する洗面装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000291091A true JP2000291091A (ja) | 2000-10-17 |
Family
ID=14180141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11097005A Pending JP2000291091A (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | 除菌性を有する洗面装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000291091A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104153430A (zh) * | 2014-07-29 | 2014-11-19 | 芜湖炬胜机电设备厂 | 一种节能洗脸盆及其控制方法 |
-
1999
- 1999-04-02 JP JP11097005A patent/JP2000291091A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104153430A (zh) * | 2014-07-29 | 2014-11-19 | 芜湖炬胜机电设备厂 | 一种节能洗脸盆及其控制方法 |
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