JP2000279331A - 除菌性を有する洗面装置 - Google Patents
除菌性を有する洗面装置Info
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- JP2000279331A JP2000279331A JP11090080A JP9008099A JP2000279331A JP 2000279331 A JP2000279331 A JP 2000279331A JP 11090080 A JP11090080 A JP 11090080A JP 9008099 A JP9008099 A JP 9008099A JP 2000279331 A JP2000279331 A JP 2000279331A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 除菌性に優れた洗面装置を提供すること。
【解決手段】 水栓器具と、洗面器２と、送風装置５を
備え、前記洗面器のボール面２ａには撥水性被膜が形成
されており、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０
ｍＶ以上−１０ｍＶ以下であり、前記送風装置は前記洗
面器のボール面２ａ上に気体を噴出可能であることを特
徴とする除菌性を有する洗面装置１。
備え、前記洗面器のボール面２ａには撥水性被膜が形成
されており、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０
ｍＶ以上−１０ｍＶ以下であり、前記送風装置は前記洗
面器のボール面２ａ上に気体を噴出可能であることを特
徴とする除菌性を有する洗面装置１。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、除菌性を有する洗
面装置に関する。
面装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】洗面器表面を清浄に保つことは、洗面装
置が一般的に生活用品として広く使用されていることか
ら必要とされる特性である。古くより一般家庭におい
て、洗面器表面を衛生的に清浄に保ち、除菌する方法と
して、界面活性剤、酸、アルカリ等の洗剤により洗浄す
る方法が採られてきた。
置が一般的に生活用品として広く使用されていることか
ら必要とされる特性である。古くより一般家庭におい
て、洗面器表面を衛生的に清浄に保ち、除菌する方法と
して、界面活性剤、酸、アルカリ等の洗剤により洗浄す
る方法が採られてきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法によれば、一般的には、汚れの付着が目立ってきたと
きに初めて洗浄・除菌することになり、目で確認できな
い菌において適切なタイミングで除菌がなされていると
は言い難かった。
法によれば、一般的には、汚れの付着が目立ってきたと
きに初めて洗浄・除菌することになり、目で確認できな
い菌において適切なタイミングで除菌がなされていると
は言い難かった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、洗面器を除
菌する方法の１つに、洗面器の除菌したい部位の表面を
撥水性にする方法があるのを見出した。この方法は、要
するに、洗面器の除菌したい部位の表面を撥水性にする
ことにより、菌の繁殖に必要な水分及び栄養分の表面へ
の付着を抑制することにより常時除菌効果を達成するも
のである。
菌する方法の１つに、洗面器の除菌したい部位の表面を
撥水性にする方法があるのを見出した。この方法は、要
するに、洗面器の除菌したい部位の表面を撥水性にする
ことにより、菌の繁殖に必要な水分及び栄養分の表面へ
の付着を抑制することにより常時除菌効果を達成するも
のである。
【０００５】しかし、撥水処理を施した流水面上の水滴
は、流水面のうち排水勾配の大きな部分では、その自重
で容易に流れ落ちるが、排水勾配の小さな部分では、排
水口に向かって流れ落ちずに留まることがある。また、
小さな水滴の場合には、排水勾配の大きな部分でも留ま
ることがある。水滴が表面に留まれば、菌の繁殖に必要
な水分がその部分には存在することになるので、菌の繁
殖を充分に防止することができない。
は、流水面のうち排水勾配の大きな部分では、その自重
で容易に流れ落ちるが、排水勾配の小さな部分では、排
水口に向かって流れ落ちずに留まることがある。また、
小さな水滴の場合には、排水勾配の大きな部分でも留ま
ることがある。水滴が表面に留まれば、菌の繁殖に必要
な水分がその部分には存在することになるので、菌の繁
殖を充分に防止することができない。
【０００６】そこで、本発明者は、水栓器具と、洗面器
と、乾燥装置を備え、前記洗面器のボール面には撥水性
被膜が形成されており、前記撥水性被膜表面のゼータ電
位は−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下であり、前記乾燥装
置は前記洗面器のボール面上を乾燥可能であることを特
徴とする除菌性を有する洗面装置を提供する。撥水性被
膜表面のゼータ電位を−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下に
することにより、一定時間水分が付着しても菌の表面へ
の付着が防止される。この現象は以下のように説明され
る。通常使用環境下での洗面器には種々の菌類が存在す
るが、その中で最も代表的な大腸菌を例にとると、、そ
の使用環境下であるｐＨ５〜９の水中において−４０ｍ
Ｖ以上−１０ｍＶ程度のゼータ電位を有する。また、水
中では粒子（大腸菌）や基板（洗面器）の表面は容易に
帯電し、電気二重層を形成する。電気二重層が形成され
た液中の粒子と基板が接近すると、その間に静電的相互
作用が生じるが、この相互作用の力は、理論上、互いの
ゼータ電位が同じ符号かつ同じ絶対値を有するときは常
に斥力として働くことが知られている。従って、撥水性
被膜表面のゼータ電位を−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下
にすることにより、一定時間水分が付着しても菌の表面
への付着が防止されるのである。また、乾燥装置を備
え、洗面器本体の除菌したい部位の１つであるボール面
上を乾燥可能としたことにより、水分が付着しても速や
かに蒸発し、菌の繁殖に必要な水分が長時間留まらな
い。従って、除菌性がより向上する。ここで、乾燥装置
としては、手洗後に使用する手乾燥装置や暖房装置等も
利用可能である。
と、乾燥装置を備え、前記洗面器のボール面には撥水性
被膜が形成されており、前記撥水性被膜表面のゼータ電
位は−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下であり、前記乾燥装
置は前記洗面器のボール面上を乾燥可能であることを特
徴とする除菌性を有する洗面装置を提供する。撥水性被
膜表面のゼータ電位を−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下に
することにより、一定時間水分が付着しても菌の表面へ
の付着が防止される。この現象は以下のように説明され
る。通常使用環境下での洗面器には種々の菌類が存在す
るが、その中で最も代表的な大腸菌を例にとると、、そ
の使用環境下であるｐＨ５〜９の水中において−４０ｍ
Ｖ以上−１０ｍＶ程度のゼータ電位を有する。また、水
中では粒子（大腸菌）や基板（洗面器）の表面は容易に
帯電し、電気二重層を形成する。電気二重層が形成され
た液中の粒子と基板が接近すると、その間に静電的相互
作用が生じるが、この相互作用の力は、理論上、互いの
ゼータ電位が同じ符号かつ同じ絶対値を有するときは常
に斥力として働くことが知られている。従って、撥水性
被膜表面のゼータ電位を−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下
にすることにより、一定時間水分が付着しても菌の表面
への付着が防止されるのである。また、乾燥装置を備
え、洗面器本体の除菌したい部位の１つであるボール面
上を乾燥可能としたことにより、水分が付着しても速や
かに蒸発し、菌の繁殖に必要な水分が長時間留まらな
い。従って、除菌性がより向上する。ここで、乾燥装置
としては、手洗後に使用する手乾燥装置や暖房装置等も
利用可能である。
【０００７】水栓器具と、洗面器と、送風装置を備え、
前記洗面器のボール面には撥水性被膜が形成されてお
り、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０ｍＶ以上
−１０ｍＶ以下であり、前記送風装置は前記洗面器のボ
ール面上に気体を噴出可能であることを特徴とする除菌
性を有する洗面装置を提供する。送風装置を備え、洗面
器本体の除菌したい部位の１つであるボール面上に気体
を噴出可能としたことにより、水分が付着しても速やか
に蒸発し、菌の繁殖に必要な水分が長時間留まらない。
従って、除菌性がより向上する。
前記洗面器のボール面には撥水性被膜が形成されてお
り、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０ｍＶ以上
−１０ｍＶ以下であり、前記送風装置は前記洗面器のボ
ール面上に気体を噴出可能であることを特徴とする除菌
性を有する洗面装置を提供する。送風装置を備え、洗面
器本体の除菌したい部位の１つであるボール面上に気体
を噴出可能としたことにより、水分が付着しても速やか
に蒸発し、菌の繁殖に必要な水分が長時間留まらない。
従って、除菌性がより向上する。
【０００８】本発明の除菌性を有する洗面器の好ましい
態様においては、水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面には撥水性被膜が形成されて
おり、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０ｍＶ以
上−１０ｍＶ以下であり、前記水栓器具の使用後に前記
送風装置を駆動させて前記洗面器のボール面に気体を送
風させることが可能であるようにする。洗面器洗浄終了
後は、洗面器ボール面に最も水分が付着している状態で
あり、このタイミングでボール面が乾燥状態になること
により、除菌性がより向上する。
態様においては、水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面には撥水性被膜が形成されて
おり、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０ｍＶ以
上−１０ｍＶ以下であり、前記水栓器具の使用後に前記
送風装置を駆動させて前記洗面器のボール面に気体を送
風させることが可能であるようにする。洗面器洗浄終了
後は、洗面器ボール面に最も水分が付着している状態で
あり、このタイミングでボール面が乾燥状態になること
により、除菌性がより向上する。
【０００９】本発明の除菌性を有する洗面器の好ましい
態様においては、前記撥水性被膜には、抗菌剤が含有さ
れているようにする。このようにすることで、菌が付着
した場合においても、抗菌金属の殺菌作用により付着生
菌数が低減され、除菌性が向上する。ここで、抗菌剤と
しては、銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物微
粒子またはシリカゲルやゼオライトなどの担体へ担持
物、第四級アンモニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾ
ール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、イソチアゾール
誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアジン誘導体、ス
ルホン誘導体、フェノール誘導体、フェノールエーテル
誘導体、ピロール誘導体等が好適に利用できる。
態様においては、前記撥水性被膜には、抗菌剤が含有さ
れているようにする。このようにすることで、菌が付着
した場合においても、抗菌金属の殺菌作用により付着生
菌数が低減され、除菌性が向上する。ここで、抗菌剤と
しては、銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物微
粒子またはシリカゲルやゼオライトなどの担体へ担持
物、第四級アンモニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾ
ール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、イソチアゾール
誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアジン誘導体、ス
ルホン誘導体、フェノール誘導体、フェノールエーテル
誘導体、ピロール誘導体等が好適に利用できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る洗面装置の一
実施形態を図１に基づいて説明する。本実施の形態は、
キャビネット３のカウンター３ａに取り付けた洗面器２
を備えた洗面装置１である。洗面器２は、内側の流水面
２ａ表面に、ゼータ電位が−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以
上の撥水性被膜を形成してある。また、洗面装置１は送
風装置４を備えている。
実施形態を図１に基づいて説明する。本実施の形態は、
キャビネット３のカウンター３ａに取り付けた洗面器２
を備えた洗面装置１である。洗面器２は、内側の流水面
２ａ表面に、ゼータ電位が−４０ｍＶ以上−１０ｍＶ以
上の撥水性被膜を形成してある。また、洗面装置１は送
風装置４を備えている。
【００１１】ここで、撥水性被膜としては、シリコーン
被膜、フッ素樹脂被膜、フッ素化合物被膜等が好適に利
用できる。とりわけ、シロキサン架橋とシロキサン以外
の架橋により重合されたシリコーンの被膜が施尿環境等
のアルカリ環境で使用される場合にも使用条件下で充分
な耐久性を有するので好ましい。ここで、シロキサン架
橋とシロキサン以外の架橋により重合されたシリコーン
とは、図２に示すように、Ｓｉ系モノマー単位がシロキ
サン結合１１及び／又はシロキサン以外の結合１２（図
では、メタクリル基の縮合架橋を例示）を介して他のＳ
ｉ系モノマー単位に結合しているシリコーン樹脂であ
る。ここにおいて、シロキサン以外の結合としては、上
記メタクリル基の縮合架橋の他、ビニル基、エポキシ
基、アミド基、フルオロ基等が好適に利用できる。撥水
性被膜における撥水性の度合いは、接触角測定器による
水との接触角が９０度以上がよく、好ましくは１１０度
以上であり、より好ましくは１４０度以上である。撥水
性被膜の形成は、ボール面３１ａ及びリム部下面３に、
撥水性被膜を形成可能な前駆体を含むコーティング剤
を、塗布後、硬化させることによりなされる。シリコー
ンとしては、シリコーン中のケイ素原子に１つ以上の有
機基が結合されているシリコーン、すなわち、平均組成
式ＲｐＳｉＸｑＯ（４−ｐ−ｑ）／２（式中、Ｒは、炭
素数１〜１８の一価の有機基、Ｘは炭素数１〜４のアル
コキシ基であり、ｐ及びｑは、０＜ｐ＜２、０＜ｑ＜
４、０＜ｐ＋ｑ＜４を満足する数である）で表されるシ
リコーンが好適に利用可能であり、フッ素樹脂として
は、例えば、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリ塩化三フッ化エチレン、ポリ四フッ化エチレ
ン、ポリ四フッ化エチレンー六フッ化プロピレンコポリ
マー、エチレンーポリ四フッ化エチレンコポリマー、エ
チレンーポリ塩化三フッ化エチレンコポリマー、四フッ
化エチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテルコポ
リマー、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル
ーフルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステルーフ
ルオロオレフィンコポリマー等が好適に利用できる。ま
た、フッ素化合物としては、例えば、フッ化リチウム、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ストロ
ンチウム、フッ化バリウム、フッ化スカンジウム、フッ
化イットリウム、フッ化ジルコニウム、フッ化ハフニウ
ム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コバルト、フッ
化ニッケル、フッ化銅、フッ化アルミニウム、フッ化ガ
リウム、フッ化インジウム、フッ化ビスマス、フッ化ラ
ンタン、フッ化セリウム、フッ化プラセオジウム、フッ
化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化ユーロピウ
ム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウム、フッ化
ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化ツリウム、フッ
化イッテルビウム、フッ化ルテチウム等が好適に利用で
きる。
被膜、フッ素樹脂被膜、フッ素化合物被膜等が好適に利
用できる。とりわけ、シロキサン架橋とシロキサン以外
の架橋により重合されたシリコーンの被膜が施尿環境等
のアルカリ環境で使用される場合にも使用条件下で充分
な耐久性を有するので好ましい。ここで、シロキサン架
橋とシロキサン以外の架橋により重合されたシリコーン
とは、図２に示すように、Ｓｉ系モノマー単位がシロキ
サン結合１１及び／又はシロキサン以外の結合１２（図
では、メタクリル基の縮合架橋を例示）を介して他のＳ
ｉ系モノマー単位に結合しているシリコーン樹脂であ
る。ここにおいて、シロキサン以外の結合としては、上
記メタクリル基の縮合架橋の他、ビニル基、エポキシ
基、アミド基、フルオロ基等が好適に利用できる。撥水
性被膜における撥水性の度合いは、接触角測定器による
水との接触角が９０度以上がよく、好ましくは１１０度
以上であり、より好ましくは１４０度以上である。撥水
性被膜の形成は、ボール面３１ａ及びリム部下面３に、
撥水性被膜を形成可能な前駆体を含むコーティング剤
を、塗布後、硬化させることによりなされる。シリコー
ンとしては、シリコーン中のケイ素原子に１つ以上の有
機基が結合されているシリコーン、すなわち、平均組成
式ＲｐＳｉＸｑＯ（４−ｐ−ｑ）／２（式中、Ｒは、炭
素数１〜１８の一価の有機基、Ｘは炭素数１〜４のアル
コキシ基であり、ｐ及びｑは、０＜ｐ＜２、０＜ｑ＜
４、０＜ｐ＋ｑ＜４を満足する数である）で表されるシ
リコーンが好適に利用可能であり、フッ素樹脂として
は、例えば、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリ塩化三フッ化エチレン、ポリ四フッ化エチレ
ン、ポリ四フッ化エチレンー六フッ化プロピレンコポリ
マー、エチレンーポリ四フッ化エチレンコポリマー、エ
チレンーポリ塩化三フッ化エチレンコポリマー、四フッ
化エチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテルコポ
リマー、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル
ーフルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステルーフ
ルオロオレフィンコポリマー等が好適に利用できる。ま
た、フッ素化合物としては、例えば、フッ化リチウム、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ストロ
ンチウム、フッ化バリウム、フッ化スカンジウム、フッ
化イットリウム、フッ化ジルコニウム、フッ化ハフニウ
ム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コバルト、フッ
化ニッケル、フッ化銅、フッ化アルミニウム、フッ化ガ
リウム、フッ化インジウム、フッ化ビスマス、フッ化ラ
ンタン、フッ化セリウム、フッ化プラセオジウム、フッ
化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化ユーロピウ
ム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウム、フッ化
ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化ツリウム、フッ
化イッテルビウム、フッ化ルテチウム等が好適に利用で
きる。
【００１２】送風装置４は、洗面器２のボール面２ａの
上端周縁部に設けた気体噴出口２ｂと、気体噴出口２ｂ
へ気体を送風する送風機５と、気体噴出口２ｂと送風機
５とを連通する送風ダクト６とを備えている。該気体噴
出口２ｂは、下方に向かって空気等の気体を噴出するよ
うにしてあり、噴出した気体が、洗面器２のボール面２
ａの起立面域２ａ−２に沿って流れて底面域２ａ−１を
通過し、排水口２ｃの上方へ方向変換して流れ出るよう
にしてある。気体噴出口２ｂは、上端周縁部の全周又は
適所に設けられ、連続したスリット状、断続的な長孔又
は丸孔等で形成されている。気体噴出口２ｂが断続的な
長孔又は丸孔等で形成された場合には、噴出した気体
は、ボール面２ａの起立面域２ａ−２に沿って流れると
きに周方向へ拡散し、底面域２ａ−１の全域を通過する
ことになる。上記送風機５は、水栓７からの吐水が終了
した後、タイマー等で設定した適宜時間（例えば、５
秒）だけ運転させる制御回路（図示略）で、自動的に起
動停止させるようになっている。
上端周縁部に設けた気体噴出口２ｂと、気体噴出口２ｂ
へ気体を送風する送風機５と、気体噴出口２ｂと送風機
５とを連通する送風ダクト６とを備えている。該気体噴
出口２ｂは、下方に向かって空気等の気体を噴出するよ
うにしてあり、噴出した気体が、洗面器２のボール面２
ａの起立面域２ａ−２に沿って流れて底面域２ａ−１を
通過し、排水口２ｃの上方へ方向変換して流れ出るよう
にしてある。気体噴出口２ｂは、上端周縁部の全周又は
適所に設けられ、連続したスリット状、断続的な長孔又
は丸孔等で形成されている。気体噴出口２ｂが断続的な
長孔又は丸孔等で形成された場合には、噴出した気体
は、ボール面２ａの起立面域２ａ−２に沿って流れると
きに周方向へ拡散し、底面域２ａ−１の全域を通過する
ことになる。上記送風機５は、水栓７からの吐水が終了
した後、タイマー等で設定した適宜時間（例えば、５
秒）だけ運転させる制御回路（図示略）で、自動的に起
動停止させるようになっている。
【００１３】この送風装置４を備えた水回り装置１は、
水栓７からの吐水が終了すると、送風機５が適宜時間だ
け運転して気体噴出口２ｂから気体を噴出させ、洗面器
２のボール面２ａを乾燥させる。
水栓７からの吐水が終了すると、送風機５が適宜時間だ
け運転して気体噴出口２ｂから気体を噴出させ、洗面器
２のボール面２ａを乾燥させる。
【００１４】
【実施例】（比較例１）＃ＳＣ１ ケイ砂、長石、粘土等を原料として調製した衛生陶器素
地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍの板状の鋳込み成形
体を作製し、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏを主成分とす
る釉薬をスプレーコーティング法により塗布し、１１０
０〜１２００℃で焼成することにより試料を得た。得ら
れた板状試料について、水との接触角測定及びゼータ電
位測定を行った。水との接触角は、接触角測定器（協和
界面科学製、ＣＡ−Ｘ１５０）を用い、マイクロシリン
ジから試料表面に水滴を滴下した後３０秒後に測定し
た。その結果、釉薬層表面の水との接触角は３０°であ
り、親水性の表面であった。ゼータ電位測定は、レーザ
ーゼータ電位計（大塚電子製、ＥＬＳ−６０００）を用
い、ｐＨ〜７．０、濃度１０ｍＭのＮaＣl水溶液を電解
質とし、ポリスチレンラテックスを光散乱のモニター粒
子として、レーザーの散乱光の様子から電気泳動時にお
ける電気浸透流の分布を測定し、、これを森・岡本の式
で解析することにより行った。その結果、釉薬層表面の
ゼータ電位は、−５７．２ｍＶであった。
地泥漿を用いて、７０×１５０ｍｍの板状の鋳込み成形
体を作製し、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏを主成分とす
る釉薬をスプレーコーティング法により塗布し、１１０
０〜１２００℃で焼成することにより試料を得た。得ら
れた板状試料について、水との接触角測定及びゼータ電
位測定を行った。水との接触角は、接触角測定器（協和
界面科学製、ＣＡ−Ｘ１５０）を用い、マイクロシリン
ジから試料表面に水滴を滴下した後３０秒後に測定し
た。その結果、釉薬層表面の水との接触角は３０°であ
り、親水性の表面であった。ゼータ電位測定は、レーザ
ーゼータ電位計（大塚電子製、ＥＬＳ−６０００）を用
い、ｐＨ〜７．０、濃度１０ｍＭのＮaＣl水溶液を電解
質とし、ポリスチレンラテックスを光散乱のモニター粒
子として、レーザーの散乱光の様子から電気泳動時にお
ける電気浸透流の分布を測定し、、これを森・岡本の式
で解析することにより行った。その結果、釉薬層表面の
ゼータ電位は、−５７．２ｍＶであった。
【００１５】（実施例１）グラスカＢ６０３ 比較例１と同一の板状試料を用意した。この試料の釉薬
層表面全体に、ＪＳＲ製グラスカＢ６０３（図３に示し
たシロキサン以外の結合２の部分にメタクリル基を含有
する）をスプレーコーティングし、室温で３０分間乾燥
させた後、２００℃で３０分間かけて加熱硬化させ、シ
リコーンとアクリルから成る被膜を形成させた。得られ
た試料について、比較例１と同様に測定を行ったとこ
ろ、上記被膜の表面と水との接触角は９５°であり、撥
水性の被膜であった。また、上記被膜の表面のゼータ電
位測定結果は、−２４．８ｍＶであった。
層表面全体に、ＪＳＲ製グラスカＢ６０３（図３に示し
たシロキサン以外の結合２の部分にメタクリル基を含有
する）をスプレーコーティングし、室温で３０分間乾燥
させた後、２００℃で３０分間かけて加熱硬化させ、シ
リコーンとアクリルから成る被膜を形成させた。得られ
た試料について、比較例１と同様に測定を行ったとこ
ろ、上記被膜の表面と水との接触角は９５°であり、撥
水性の被膜であった。また、上記被膜の表面のゼータ電
位測定結果は、−２４．８ｍＶであった。
【００１６】（実施例２）グラスカＳＨ１ 比較例１と同一の板状試料を用意した。この試料の釉薬
層表面全体に、図３に示したシロキサン以外の結合２の
部分にフルオロ基を含有するシリコーン系コーティング
液をスプレーし、室温で３０分間乾燥させた後、２００
℃で３０分間かけて加熱硬化させ、シリコーンとフルオ
ロカーボンから成る被膜を形成させた。得られた試料に
ついて、比較例１と同様に測定を行ったところ、上記被
膜の表面と水との接触角は１０５°であり、撥水性の被
膜であった。また、上記被膜の表面のゼータ電位測定結
果は、−２０．７ｍＶであった。
層表面全体に、図３に示したシロキサン以外の結合２の
部分にフルオロ基を含有するシリコーン系コーティング
液をスプレーし、室温で３０分間乾燥させた後、２００
℃で３０分間かけて加熱硬化させ、シリコーンとフルオ
ロカーボンから成る被膜を形成させた。得られた試料に
ついて、比較例１と同様に測定を行ったところ、上記被
膜の表面と水との接触角は１０５°であり、撥水性の被
膜であった。また、上記被膜の表面のゼータ電位測定結
果は、−２０．７ｍＶであった。
【００１７】（参考例）大腸菌のゼータ電位 あらかじめ培養しておいた大腸菌（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｉ
ａ ｃｏｌｉ，ＩＦＯ３９７２）菌液から、遠心分離器
により大腸菌のみを取り出し、１０ｍＭのリン酸緩衝溶
液で希釈してｐＨ〜７．０に調整した。上記大腸菌（粒
子）が含まれた溶液を、レーザーゼータ電位計（大塚電
子製、ＥＬＳ−６０００）を用い、レーザーの散乱光の
様子から電気泳動時における電気浸透流の分布を測定
し、これを森・岡本の式で解析することによりゼータ電
位を求めた。その結果、大腸菌表面のゼータ電位は、−
１９．１ｍＶであった。
ａ ｃｏｌｉ，ＩＦＯ３９７２）菌液から、遠心分離器
により大腸菌のみを取り出し、１０ｍＭのリン酸緩衝溶
液で希釈してｐＨ〜７．０に調整した。上記大腸菌（粒
子）が含まれた溶液を、レーザーゼータ電位計（大塚電
子製、ＥＬＳ−６０００）を用い、レーザーの散乱光の
様子から電気泳動時における電気浸透流の分布を測定
し、これを森・岡本の式で解析することによりゼータ電
位を求めた。その結果、大腸菌表面のゼータ電位は、−
１９．１ｍＶであった。
【００１８】このように本発明の実施例においては、水
との接触角が高い撥水性表面となっていて水滴が小さく
なるため、乾燥した表面が得られやすい。また、水の存
在下では、大腸菌表面のゼータ電位と同符号であるとと
もにほぼ同程度の絶対値を持っていることから、電気的
反発により接触が妨げられ、除菌効果が得られるものと
推定される。
との接触角が高い撥水性表面となっていて水滴が小さく
なるため、乾燥した表面が得られやすい。また、水の存
在下では、大腸菌表面のゼータ電位と同符号であるとと
もにほぼ同程度の絶対値を持っていることから、電気的
反発により接触が妨げられ、除菌効果が得られるものと
推定される。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、除菌性に優れた洗面装
置を提供することが可能となる。
置を提供することが可能となる。
【図１】 本発明に係る洗面装置の一実施形態を示す断
面図。
面図。
【図２】 本発明に適用可能な撥水性樹脂の一例を示す
図。
図。
１…洗面装置、２…洗面器、２ａ…洗面器のボール面、
２ａ−１…底面域、２ａ−２…起立面域、２ｂ…気体噴
出口、２ｃ…排水口、５…送風機、６…送風ダクト、７
…水栓、１１…シロキサン結合、１２…シロキサン以外
の結合
２ａ−１…底面域、２ａ−２…起立面域、２ｂ…気体噴
出口、２ｃ…排水口、５…送風機、６…送風ダクト、７
…水栓、１１…シロキサン結合、１２…シロキサン以外
の結合
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 正昭 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 安藤 正美 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 林 浩一 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 早川 信 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 Ｆターム(参考） 2D061 BA01 BB10 BC01
Claims (4)
- 【請求項１】 水栓器具と、洗面器と、乾燥装置を備
え、前記洗面器のボール面には撥水性被膜が形成されて
おり、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０ｍＶ以
上−１０ｍＶ以下であり、前記乾燥装置は前記洗面器の
ボール面上を乾燥可能であることを特徴とする除菌性を
有する洗面装置。 - 【請求項２】 水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面には撥水性被膜が形成されて
おり、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０ｍＶ以
上−１０ｍＶ以下であり、前記送風装置は前記洗面器の
ボール面上に気体を噴出可能であることを特徴とする除
菌性を有する洗面装置。 - 【請求項３】 水栓器具と、洗面器と、送風装置を備
え、前記洗面器のボール面には撥水性被膜が形成されて
おり、前記撥水性被膜表面のゼータ電位は−４０ｍＶ以
上−１０ｍＶ以下であり、前記水栓器具の使用後に前記
送風装置を駆動させて前記洗面器のボール面に気体を送
風させることが可能であることを特徴とする除菌性を有
する洗面装置。 - 【請求項４】 前記撥水性被膜には、さらに抗菌剤が固
定されていることを特徴とする請求項１〜３に記載の除
菌性を有する洗面装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11090080A JP2000279331A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 除菌性を有する洗面装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11090080A JP2000279331A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 除菌性を有する洗面装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000279331A true JP2000279331A (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=13988552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11090080A Pending JP2000279331A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 除菌性を有する洗面装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000279331A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021182630A1 (ja) * | 2020-03-13 | 2021-09-16 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 衛生設備および衛生設備を製造する方法 |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP11090080A patent/JP2000279331A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021182630A1 (ja) * | 2020-03-13 | 2021-09-16 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 衛生設備および衛生設備を製造する方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050531 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20071026 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20071113 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071206 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080520 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080717 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080901 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20081017 |