JP2000290372A - Polyimide film - Google Patents

Polyimide film

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JP2000290372A
JP2000290372A JP11100961A JP10096199A JP2000290372A JP 2000290372 A JP2000290372 A JP 2000290372A JP 11100961 A JP11100961 A JP 11100961A JP 10096199 A JP10096199 A JP 10096199A JP 2000290372 A JP2000290372 A JP 2000290372A
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JP
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polyimide film
mol
film
anhydride
coefficient
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JP11100961A
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Japanese (ja)
Inventor
Taku Ito
卓 伊藤
Hitoshi Nojiri
仁志 野尻
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an excellent polyimide film which combines a high elasticity, a linear expansion coefficient equivalent to that of cupper foil and a low moisture-absorbent (hygroscopic) expansion coefficient. SOLUTION: The polyimide film is prepared from a polyamide acid obtained by reacting, in an organic solvent, p-phenylenebis-(trimellitic acid monoester anhydride),2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-propanedibenzoate-3,3',4,4'-tetrac arboxylic acid dianhydride, p-phenylenediamine, and 4,4'-diaminobenzanilide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属、特に銅との
張り合わせ製品において、低反り、高寸法安定性を与え
得る、物性バランスに優れたポリイミドフィルムに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide film having a good balance of physical properties and capable of providing low warpage and high dimensional stability in a product bonded to a metal, particularly copper.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドフィルムは、耐熱性、絶縁
性、耐溶剤性、および耐低温性等を備えており、コンピ
ュータ並びにIC制御の電気・電子機器部品材料として
広く用いられている。
2. Description of the Related Art Polyimide films have heat resistance, insulation, solvent resistance, low-temperature resistance and the like, and are widely used as components for computers and IC-controlled electric and electronic devices.

【0003】近年、コンピュータ並びにIC制御の電気
・電子機器の小型化・薄型化に伴い、配線基盤類やIC
パッケージ材料も小型化・薄型化が求められるようにな
っている。このため、これらに施される配線パターンも
細密になり、フレキシブル配線盤やTAB用キャリアテ
ープ等に用いられるポリイミドフィルムについても加熱
や引張り、さらには吸湿による寸法変化が小さいことが
必要になる。さらに、材料の薄型化に伴い、積層体全体
の「こし」を保ち、加工工程を安定にする必要もある。
In recent years, with the miniaturization and thinning of computers and IC-controlled electric and electronic devices, wiring boards and ICs have been developed.
Packaging materials are also required to be smaller and thinner. For this reason, the wiring patterns applied to these become finer, and it is necessary that polyimide films used for flexible wiring boards, TAB carrier tapes, and the like have small dimensional changes due to heating, pulling, and moisture absorption. Further, as the thickness of the material is reduced, it is necessary to maintain the “strain” of the entire laminate and to stabilize the processing steps.

【0004】このような必要性を満たす為、ポリイミド
フィルムは、線膨張係数が小さく、弾性率が高く吸湿膨
張係数の低いことが望まれる。ただし、フレキシブル配
線盤やICパッケージの製造の際、ポリイミドフィルム
と銅箔とを張り合わせて加工するため、フィルム線膨張
係数に関しては、銅の線膨張係数と大きく異なることは
好ましくない。すなわち、ポリイミドフィルムと銅箔の
線膨張係数が大きく異なると、張り合わせ品に反りが生
じ、加工がしにくくなり、その結果、全体的な寸法精度
や歩留まりが低下するからである。
In order to satisfy such a need, it is desired that the polyimide film has a small linear expansion coefficient, a high elastic modulus and a low moisture absorption expansion coefficient. However, when a flexible wiring board or an IC package is manufactured, a polyimide film and a copper foil are bonded and processed, so that the coefficient of linear thermal expansion of the film is preferably not significantly different from that of copper. That is, if the linear expansion coefficient of the polyimide film is significantly different from that of the copper foil, the bonded product is warped, making it difficult to process, and as a result, the overall dimensional accuracy and yield are reduced.

【0005】まず、ポリイミドフィルムの高弾性率化の
ためには、剛直な構造のモノマー即ち直線性の高いモノ
マーを用いれば良いことは広く知られている。ところ
が、直線性の高いモノマーを多量用いればフィルムの線
膨張係数は低くなりすぎて、銅箔との張り合わせの用途
には適さなくなる。
First, it is widely known that a monomer having a rigid structure, that is, a monomer having high linearity may be used to increase the elastic modulus of a polyimide film. However, if a large amount of a monomer having high linearity is used, the coefficient of linear expansion of the film becomes too low, which makes the film unsuitable for use in laminating with a copper foil.

【0006】比較的高い弾性率を実現しながらも線膨張
係数を下げ過ぎないために、比較的剛直な構造を有する
モノマーを用いて、化学的イミド化剤を用いず熱キュア
法で製造し、面方向の配向を甘くするという方法を取る
例もあるが、熱キュア法は化学的キュア法に比べ必要な
加熱時間が長く、生産性に劣るという不利がある。さら
に、剛直で直線性の高いモノマーを用いると、一般的に
はフィルムの柔軟性は損なわれ、フレキシブル配線板等
としての利点の一つである折り曲げ可能という点に、難
が生じる可能性がある。
In order to realize a relatively high elastic modulus but not to lower the coefficient of linear expansion too much, a monomer having a relatively rigid structure is produced by a thermal curing method without using a chemical imidizing agent. In some cases, a method of reducing the orientation in the plane direction is adopted, but the heat curing method has a disadvantage that the required heating time is longer than that of the chemical curing method and the productivity is inferior. Furthermore, when a rigid and highly linear monomer is used, the flexibility of the film is generally impaired, and it may be difficult to bend, which is one of the advantages as a flexible wiring board or the like. .

【0007】半導体パッケージ用途等では、半導体の信
頼性の観点から、特に吸水率ができるだけ低いことが求
められ、寸法安定性の観点から吸湿膨張係数も低いこと
が求められる。吸水率や吸湿膨張係数を下げるには、分
子構造中のイミド基量を減らすことが有効である。この
為、屈曲基を主鎖中に複数含む長鎖のモノマーが使用さ
れることが多い。しかしこの結果、弾性率の低下や線膨
張係数の過度な増大を招き、寸法安定性が犠牲になる。
極端な場合は、例えば200℃以下の低温にTgを有
するような熱可塑性を示すようになり、ベースフィルム
として用いるには適さなくなる。直線性で長いモノマー
を用いると、分子鎖のパッキングが難しくなり、十分な
靭性を発現することができず、場合によってはフィルム
化する事自体が困難になる。
In applications such as semiconductor packages, it is required that the water absorption is as low as possible from the viewpoint of reliability of the semiconductor, and that the coefficient of hygroscopic expansion is also low from the viewpoint of dimensional stability. To reduce the water absorption and the coefficient of hygroscopic expansion, it is effective to reduce the amount of imide groups in the molecular structure. For this reason, a long-chain monomer containing a plurality of bending groups in the main chain is often used. However, this results in a decrease in elastic modulus and an excessive increase in coefficient of linear expansion, and sacrifices dimensional stability.
In an extreme case, the polymer exhibits a thermoplastic property having a Tg at a low temperature of, for example, 200 ° C. or less, and is not suitable for use as a base film. When a linear and long monomer is used, packing of molecular chains becomes difficult, and sufficient toughness cannot be exhibited, and in some cases, it becomes difficult to form a film itself.

【0008】このように、ポリイミドフィルムの特性と
しては、高弾性率、低線膨張係数、吸水性を低下させる
こと以外にも考慮すべき点は多い。しかし、いずれかの
特性を満足させようとすると、他の特性が犠牲になるな
ど、複数の良い特性を併せ持つポリイミドフィルムを得
ることは特に困難な状況である。
As described above, there are many points to be considered as characteristics of the polyimide film, in addition to the high elastic modulus, the low linear expansion coefficient, and the decrease in water absorption. However, it is particularly difficult to obtain a polyimide film having a plurality of good characteristics, such as sacrificing other characteristics when trying to satisfy one of the characteristics.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、上記の問題点を解決し、高弾性率、銅に近い線膨張
係数、十分な靱性、低い吸水率および吸湿膨張係数とい
った特性を併せ持つ、細配線のフレキシブルプリント基
板やTABフィルムに適したポリイミドフィルムを製造
することに関し、鋭意検討を行った結果、本発明に到っ
たのである。
Accordingly, the present inventors have solved the above-mentioned problems, and have developed characteristics such as a high elastic modulus, a linear expansion coefficient close to copper, sufficient toughness, a low water absorption coefficient and a moisture absorption expansion coefficient. The inventors of the present invention have conducted intensive studies on the production of a polyimide film suitable for a flexible printed circuit board or a TAB film having a thin wiring, and as a result, the present invention has been reached.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前述の要求
に鑑み、特定の組成のポリイミドフィルムにおいて、諸
特性バランスを高度に実現できる特異な場合を見出し
た。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned requirements, the present inventors have found a special case in which a polyimide film having a specific composition can achieve a high balance of various properties.

【0011】本発明のポリイミドフィルムの要旨とする
ところは、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエ
ステル無水物)、2,2-ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テト
ラカルボン酸二無水物、パラフェニレンジアミン、4,
4’−ジアミノベンズアニリドを有機溶剤中で反応させ
て得られるポリアミド酸から製造されることにある。
The gist of the polyimide film of the present invention is p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-3,3 ', 4 , 4'-tetracarboxylic dianhydride, paraphenylenediamine, 4,
It is to be produced from a polyamic acid obtained by reacting 4'-diaminobenzanilide in an organic solvent.

【0012】係るポリイミドフィルムにおいて、上記p
−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水
物)が、全酸無水物に対して40〜99モル%であり、
2,2-ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンジベ
ンゾエート-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無
水物が、全酸無水物に対して1〜60モル%、パラフェ
ニレンジアミンが全ジアミンに対して0〜100モル
%、4,4’−ジアミノベンズアニリドが全ジアミンに
対して0〜100モル%であることにある。
In such a polyimide film, the above p
-Phenylene bis (trimellitic acid monoester anhydride) is 40 to 99 mol% based on the total acid anhydride;
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride is 1 to 60 mol% based on the total anhydride, and paraphenylenediamine is 0 to 100 mol% of the total diamine and 4,4'-diaminobenzanilide are 0 to 100 mol% of the total diamine.

【0013】係るポリイミドフィルムにおいて、100
℃以上200℃以下の平均線膨張係数が15〜30pp
m/℃、引張弾性率が5.5〜8.5GPa、吸湿膨張
係数が10ppm/RH%以下であることにある。
In such a polyimide film, 100
The average linear expansion coefficient between 200 ° C and 200 ° C is 15-30 pp
m / ° C., a tensile modulus of 5.5 to 8.5 GPa, and a coefficient of hygroscopic expansion of 10 ppm / RH% or less.

【0014】好ましくは、本発明のポリイミドフィルム
の製造方法では、上記脱水閉環が、酸無水物と三級アミ
ンとのイミド化剤の存在下で行われ得る。
[0014] Preferably, in the method for producing a polyimide film of the present invention, the dehydration ring closure may be performed in the presence of an imidating agent between an acid anhydride and a tertiary amine.

【0015】p−フェニレンビス(トリメリット酸モノ
エステル無水物)モノマー(以下TMHQという)は、
パラフェニレンジアミン(以下p−PDA)との組み合
わせにおいて、棒状構造をとり、フィルムの高弾性が顕
現され、主鎖構造上にはエステル結合があり、これが熱
的にはやや柔軟であるため、例えばピロメリット酸を用
いた場合等に比べて線膨張係数が極端に下がることがな
くなる。また、エステル結合がイミド環の分極を緩和
し、吸水率を下げ吸湿膨張率を下げる効果も有する。と
ころが、TMHQは、p−PDAとの組み合わせでは、
構造的に硬すぎ、線膨張係数も依然低く、また靭性が不
十分である。ジアミノジフェニルエーテル等の屈曲性ジ
アミン化合物を共重合することによっても、依然一定以
上の弾性率を得ようとすると線膨張係数は下がりすぎて
しまい、両者のバランスをとるのは困難であった。
The p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) monomer (hereinafter referred to as TMHQ) is
In combination with paraphenylenediamine (hereinafter referred to as p-PDA), it has a rod-like structure, exhibits high elasticity of the film, has an ester bond on the main chain structure, and is slightly flexible thermally. The coefficient of linear expansion does not decrease extremely as compared with the case where pyromellitic acid is used. Further, the ester bond has the effect of relaxing the polarization of the imide ring, lowering the water absorption rate and decreasing the moisture expansion rate. However, TMHQ, in combination with p-PDA,
It is structurally too hard, still has a low coefficient of linear expansion, and has insufficient toughness. Even when a flexible diamine compound such as diaminodiphenyl ether is copolymerized, the coefficient of linear expansion is still too low to obtain a certain elastic modulus, and it is difficult to balance the two.

【0016】熱可塑性を有するポリイミドフィルムの合
成に使用される頻度が高い2,2-ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンジベンゾエート-3,3’,4,
4’-テトラカルボン酸二無水物(以下、ESDAとい
う)を用いると、TMHQを用いた場合と同じく、ES
DA中に含まれるエステル結合がイミド環の分極を緩和
する効果により、吸水率が低く、吸湿膨張係数も低いポ
リイミドフィルムを得ることが出来る。しかし、剛直な
ジアミンであるp−PDAや4,4’−ジアミノベンズ
アニリド(以下、DABAという)との組み合わせた場
合でさえ、線膨張係数は60〜70ppm/℃と非常に
大きく、また、弾性率も低くなる。そこでESDAを用
いた場合の吸湿特性を維持して、銅との組み合わせにお
いて不都合のない適度な線膨張係数と高弾性発現の為に
TMHQをさらに共重合する、本発明の構成は、非常に
有効である。すなわち、本発明によれば、高弾性率、銅
との組み合わせにおいて不都合のない適度な線膨張係
数、低吸湿膨張係数の特性を有するバランスのよいポリ
イミドフィルムが得られる。
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-3,3 ′, 4, which is frequently used for synthesizing a thermoplastic polyimide film
When 4'-tetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as ESDA) is used, the same as when TMHQ is used, ES
Due to the effect of the ester bond contained in DA to relax the polarization of the imide ring, a polyimide film having a low water absorption and a low coefficient of moisture expansion can be obtained. However, even in combination with rigid diamines such as p-PDA and 4,4'-diaminobenzanilide (hereinafter, referred to as DABA), the coefficient of linear expansion is very large at 60 to 70 ppm / ° C. The rate is also lower. Therefore, the configuration of the present invention, in which TMHQ is further copolymerized for maintaining a suitable linear expansion coefficient and high elasticity without inconvenience in combination with copper while maintaining the moisture absorption characteristics when ESDA is used, is very effective. It is. That is, according to the present invention, a well-balanced polyimide film having characteristics of a high modulus of elasticity, an appropriate linear expansion coefficient without a disadvantage in combination with copper, and a low hygroscopic expansion coefficient can be obtained.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の用語「モノマー」とは、
単量体のジアミンあるいはテトラカルボン酸二無水物の
いずれかをいう。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The term "monomer" in the present invention is defined as
It refers to either monomeric diamine or tetracarboxylic dianhydride.

【0018】ポリイミドフィルムの特性として、ここで
引張弾性率とはASTM−D882に準じて測定した値
をいう。平均線膨張係数は理学電機(株)製TMA81
40を用いて、窒素の存在下、1分間に10℃の割合で
温度を上昇させて、100℃〜200℃の時の値を測定
して求める。吸湿膨張係数は、ポリイミドフィルムがた
るまないように最低限の加重をかけた状態(5mm×2
0mmのサンプルに対して、約3g)で、湿度を30R
H%に調湿し完全に飽和するまで吸湿させて寸法を計測
し、その後湿度を90RH%に調湿して同様に飽和吸湿
させた後寸法を計測し、両者の結果から相対湿度差1%
あたりの寸法変化率を求める。
As the characteristics of the polyimide film, the tensile modulus here means a value measured according to ASTM-D882. The average linear expansion coefficient is TMA81 manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.
Using a 40, the temperature is increased at a rate of 10 ° C. per minute in the presence of nitrogen, and the value at 100 ° C. to 200 ° C. is measured and determined. The coefficient of hygroscopic expansion is determined by applying a minimum load (5 mm × 2 mm) so that the polyimide film does not sag.
For a 0 mm sample, about 3 g) and a humidity of 30R
Humidity was adjusted to H%, moisture was absorbed until it was completely saturated, and the dimensions were measured. Then, the humidity was adjusted to 90 RH%, and the moisture was similarly saturated and absorbed. Then, the dimensions were measured.
Calculate the dimensional change rate around

【0019】本発明のポリイミドフィルムは、当業者に
公知のポリアミド酸合成法により調製されたポリアミド
酸から、製造され得る。
The polyimide film of the present invention can be produced from a polyamic acid prepared by a polyamic acid synthesis method known to those skilled in the art.

【0020】本発明の重合工程で用いられる有機溶剤
は、当業者に公知の種々の溶剤を用い得る。例えば、ポ
リアミド酸に対して高い溶解性を有する高極性溶媒を用
いることが好ましいが、これらの高極性溶媒に貧溶媒を
添加することも可能である。高極性溶媒の例としては、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド等のアミド類、N−メチル−2−ピロリドン等
のピロリドン類、フェノール、p−クロロフェノール、
o−クロロフェノール等のフェノール類等が挙げられ
る。貧溶媒の例としては、トルエン、テトラヒドロフラ
ン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール等が挙げられる。これらの溶媒を混合して、適当
に溶解度パラメータを調整することにより、溶解性を高
めることもできる。
As the organic solvent used in the polymerization step of the present invention, various solvents known to those skilled in the art can be used. For example, it is preferable to use a highly polar solvent having high solubility in polyamic acid, but it is also possible to add a poor solvent to these highly polar solvents. Examples of highly polar solvents include:
Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, pyrrolidones such as N-methyl-2-pyrrolidone, phenol, p-chlorophenol,
Examples include phenols such as o-chlorophenol. Examples of the poor solvent include toluene, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol and the like. By mixing these solvents and appropriately adjusting the solubility parameter, the solubility can be increased.

【0021】本発明において、ポリアミド酸を合成する
為には、酸無水物として、以下の構造式を持つTMHQ
In the present invention, in order to synthesize polyamic acid, TMHQ having the following structural formula is used as an acid anhydride.

【0022】[0022]

【化1】 および以下の構造式を持つESDAEmbedded image And ESDA with the following structural formula

【0023】[0023]

【化2】 を用いる。Embedded image Is used.

【0024】本発明において、ポリアミド酸を合成する
為には、ジアミンとして、以下の構造式を持つp−PD
In the present invention, in order to synthesize polyamic acid, p-PD having the following structural formula is used as a diamine.
A

【0025】[0025]

【化3】 以下の構造式を持つDABAEmbedded image DABA with the following structural formula

【0026】[0026]

【化4】 から選ばれる1種以上を用いる。Embedded image At least one selected from the group consisting of:

【0027】ポリアミド酸の合成のための各モノマーの
添加順序は特に限定されず、様々な方法が可能である。
溶媒に、全ジアミンを溶解し、これにテトラカルボン酸
二無水物を徐々に加えておおむね当量として粘度を調整
しつつ、さらに残りのテトラカルボン酸二無水物をその
ままあるいは適当な溶媒に溶解して加えて、当量比を等
しくさせることが一般的に行われているが、これに限定
されない。これらの添加順序によっては、フィルムの特
性を微妙に制御することも可能である。具体的には、D
ABA及びp−PDA、またはDABAまたはp−PD
Aを溶剤中に溶解し、これに対して、TMHQを加え、
その後ESDAを加える方法;あるいは、DABA及び
p−PDA、またはDABAまたはp−PDAを溶剤に
溶解しておき、これにESDA、TMHQの順に二種の
酸無水物を順次加える方法;または、同様に2種のジア
ミンを溶解しておき、これに2種の酸無水物の混合物を
加える方法;2種のジアミンのうちどちらか一方を溶剤
に溶解しておき、これに2種の酸無水物のうち1種を加
えて、その後にもう1種のジアミンを加え、さらにその
後もう1種の酸無水物を加える方法、等を上げることが
できる。1種のジアミンを複数のステップに分けて添加
する事などでさらにバリエーションは多くなり、これら
により種々の特性の微妙な調整が可能である。特にDA
BA及びp−PDA、またはDABAまたはp−PDA
を有機溶剤中に溶解させ、これにTMHQを加え、続い
てESDAを加えるという手順によって合成されたポリ
アミド酸を用いた場合は、酸無水物の添加順序をこの逆
にした場合よりも得られるポリイミドフィルムが好まし
い。
The order of adding each monomer for synthesizing the polyamic acid is not particularly limited, and various methods can be used.
In the solvent, dissolve all the diamine, gradually add tetracarboxylic dianhydride to this and adjust the viscosity as an approximately equivalent, and further dissolve the remaining tetracarboxylic dianhydride as it is or in an appropriate solvent. In addition, it is common practice to make equivalence ratios equal, but not limited to this. Depending on the order of addition, the properties of the film can be finely controlled. Specifically, D
ABA and p-PDA, or DABA or p-PD
A is dissolved in a solvent, and TMHQ is added thereto.
Thereafter, a method of adding ESDA; or a method of dissolving DABA and p-PDA, or DABA or p-PDA in a solvent, and sequentially adding two acid anhydrides to ESDA and TMHQ in this order; or A method in which two diamines are dissolved and a mixture of two acid anhydrides is added thereto; one of the two diamines is dissolved in a solvent, and the two acid anhydrides are added thereto. One of them can be added, and then another diamine can be added, and then another acid anhydride can be added. Variations are further increased by adding one kind of diamine in a plurality of steps, and these allow fine adjustment of various characteristics. Especially DA
BA and p-PDA, or DABA or p-PDA
Is dissolved in an organic solvent, and TMHQ is added thereto, followed by addition of ESDA.In the case of using a polyamic acid synthesized by the procedure described above, a polyimide obtained by adding the acid anhydride in the reverse order is obtained. Films are preferred.

【0028】何れの場合もジアミン化合物のモル量の合
計と酸無水物化合物のモル量の合計はほぼ同一となるよ
うに用いる。ここで、「ほぼ同一」としたのは、完全に
同一であると重合度が過度に上がりすぎ、その結果溶液
粘度が過度に上昇して取り扱いにくくなるからである。
ジアミン化合物モル量合計と、酸無水物化合物モル量合
計の比率は、0.95〜1.05、好ましくは0.98
〜1.02の範囲であり、1:1でないことが特に好ま
しい。
In any case, the total molar amount of the diamine compound and the total molar amount of the acid anhydride compound are used so as to be substantially the same. Here, the term "substantially the same" is used because the degree of polymerization is excessively increased if the two are completely the same, and as a result, the solution viscosity is excessively increased and the handling becomes difficult.
The ratio of the total amount of the diamine compound to the total amount of the acid anhydride compound is 0.95 to 1.05, preferably 0.98.
To 1.02, and particularly preferably not 1: 1.

【0029】それぞれのモノマーの添加割合は、特に限
定されないが、好ましくは全酸無水物中、TMHQは、
40モル%以上99モル%以下であり、ESDAは、1
モル%以上60モル%以下であり、ジアミン成分に関し
てはp−PDA、DABAの比率は限定する必要がな
い、即ち両者ともに全ジアミン中0モル%以上100モ
ル%以下であり、どのような比で用いても良好な特性を
発現する。酸二無水物性分に関して、特に好ましくは、
全酸無水物中、TMHQは、50モル%以上90モル%
以下であり、ESDAは、10モル%以上50モル%以
下である。
The proportion of each monomer to be added is not particularly limited, but preferably, in all the acid anhydrides, TMHQ is
40 mol% or more and 99 mol% or less;
Mol% or more and 60 mol% or less, and the ratio of p-PDA and DABA does not need to be limited with respect to the diamine component, that is, both are 0 mol% or more and 100 mol% or less in all diamines. Good properties are exhibited even when used. With respect to the acid dianhydride component, particularly preferably,
TMHQ in the total acid anhydride is 50 mol% or more and 90 mol%.
Or less, and the ESDA is 10 mol% or more and 50 mol% or less.

【0030】これらの4種のモノマー以外のモノマー成
分を少量加え、すなわちジアミンの場合はジアミン全体
の10モル%以下、酸無水物の場合は酸無水物全体の1
5モル%以下の量を加え、得られるポリイミドフィルム
の特性の微妙な調整をすることも可能である。使用する
モノマーにもよるが、概ねこの量以下の共重合であれ
ば、吸湿特性・熱特性・機械特性を好ましいレベルに保
つ事ができる。少量用いるモノマーとしては、ジアミン
としては、ジメチルベンジジン、4,4’−ジアミノジ
フェニルエーテル、2,2’−ビス(4−アミノフェノ
キシフェニル)プロパン、4,4’−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ビフェニル、またこれらのフッ素等ハロゲ
ン置換体等があげられる。酸無水物としては、オキシジ
フタル酸無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無
水物、3,3',4,4'−ジフェニルスルフォンテトラ
カルボン酸二無水物、等を例示することができる。
A small amount of a monomer component other than these four monomers is added, that is, 10% by mole or less of the total amount of the diamine in the case of the diamine, and 1% of the total amount of the acid anhydride in the case of the acid anhydride.
By adding an amount of 5 mol% or less, it is possible to finely adjust the characteristics of the obtained polyimide film. Although it depends on the monomer used, if the copolymerization is approximately equal to or less than this amount, the moisture absorption properties, thermal properties, and mechanical properties can be maintained at preferable levels. Examples of the monomer used in a small amount include dimethylbenzidine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2′-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, Further, halogen-substituted products such as fluorine may be used. Examples of the acid anhydride include oxydiphthalic anhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, pyromellitic acid Examples thereof include dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride.

【0031】重合反応は、一般的にポリアミド酸の重合
反応に用いられる温度であれば、特に限定されないが、
60℃以下が好ましく、40℃以下で行うことがより好
ましい。高温度になると、酸無水物基の開環反応が生じ
易く、ポリアミド酸の生成反応を阻害することがある。
The polymerization reaction is not particularly limited as long as it is a temperature generally used for a polyamic acid polymerization reaction.
The temperature is preferably 60 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or lower. When the temperature is high, a ring opening reaction of the acid anhydride group is likely to occur, which may inhibit the polyamic acid generation reaction.

【0032】重合反応は、窒素あるいはアルゴン等の不
活性ガス中で行わせることが好ましいが、その他の条件
下でも行い得る。
The polymerization reaction is preferably carried out in an inert gas such as nitrogen or argon, but may be carried out under other conditions.

【0033】ポリアミド酸の溶液中の濃度は、5〜30
wt%、さらには10〜25wt%が好ましい。これよ
り低いと溶剤が増え、フィルム製造後の乾燥に時間がか
かり、これより高い濃度の場合、粘度が上昇して加工が
困難となる場合がある。
The concentration of the polyamic acid in the solution is 5 to 30.
wt%, more preferably 10 to 25 wt%. If the concentration is lower than this, the solvent increases, and it takes time to dry the film after production. If the concentration is higher than this, the viscosity may increase and processing may be difficult.

【0034】ポリアミド酸溶液の粘度は、フィルム加工
できる粘度であれば特に限定されないが、22℃で約1
00〜10000ポイズ程度、好ましくは500〜60
00ポイズである。粘度が低過ぎるとフィルムの特性に
悪影響を与え、加工の際に厚みを安定化することも難し
い。一方、粘度が高過ぎる場合、溶液の攪拌が困難とな
り、フィルム状に加工する際に強い力が必要となり、不
都合である。
The viscosity of the polyamic acid solution is not particularly limited as long as it can process a film.
About 00 to 10000 poise, preferably 500 to 60
00 poise. If the viscosity is too low, the properties of the film are adversely affected, and it is also difficult to stabilize the thickness during processing. On the other hand, if the viscosity is too high, stirring of the solution becomes difficult, and a strong force is required when processing into a film, which is inconvenient.

【0035】得られたポリアミド酸の溶液を、フィルム
状に形成し、ポリアミド酸をイミド化してポリイミドフ
ィルムを得ることができる。一般的には、このイミド化
は、加熱により脱水する熱的方法および脱水剤あるいは
イミド化触媒を用いる化学的方法とがある。このうちの
いずれの方法を用いてもよく、化学的方法と熱的方法の
両方を併用することもできる。脱水剤と触媒を添加して
加熱、乾燥する化学的方法によれば、熱的方法よりも効
率がよく、優れた特性がフィルムに付与され得る。脱水
剤あるいはイミド化触媒を用いない場合でも、本願発明
の4種のモノマーを用いるならば製造工程で延伸工程を
入れる等の方法により、同等の特性を実現することも可
能であるが、生産性の面から、化学的方法が好ましい。
The resulting polyamic acid solution is formed into a film, and the polyamic acid is imidized to obtain a polyimide film. In general, the imidation includes a thermal method of dehydration by heating and a chemical method using a dehydrating agent or an imidization catalyst. Any of these methods may be used, and both the chemical method and the thermal method may be used in combination. According to a chemical method in which a dehydrating agent and a catalyst are added to heat and dry, a film is more efficient than a thermal method, and excellent characteristics can be imparted to a film. Even when a dehydrating agent or an imidization catalyst is not used, if the four types of monomers of the present invention are used, the same properties can be realized by a method such as inserting a stretching step in the production process. In view of this, a chemical method is preferable.

【0036】このような脱水剤は、例えば、無水酢酸等
の脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物などである。
Such dehydrating agents include, for example, aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, aromatic acid anhydrides and the like.

【0037】イミド化に用いられる触媒は、ピリジン、
α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、トリメチ
ルアミン、ジメチルアニリン、トリエチルアミン、イソ
キノリンなどの第3級アミンなどである。
The catalyst used for imidization is pyridine,
tertiary amines such as α-picoline, β-picoline, γ-picoline, trimethylamine, dimethylaniline, triethylamine and isoquinoline.

【0038】以下にイミド化の化学的方法の例を挙げら
れるが、本発明はこれに限定されない。すなわち、得ら
れたポリアミド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量
の第3級アミンとを加えた溶液を、支持板やPET等の
有機化合物でできたフィルム、ドラム、あるいはエンド
レスベルト状に流延又は塗布して膜状とし、その膜を1
50℃以下の温度で約5分〜90分間乾燥し、自己支持
性のポリアミド酸重合体の塗膜を得る。次にこれを支持
体より引き剥がして端部を固定する。その後、100℃
〜500℃程度まで徐々に加熱することによりイミド化
させ、冷却後これより取り外してポリイミドフィルムを
得る。
The following are examples of chemical methods for imidization, but the present invention is not limited thereto. That is, a solution obtained by adding a dehydrating agent having a stoichiometric amount or more and a catalytic amount of a tertiary amine to the obtained polyamic acid solution is applied to a support plate, a film made of an organic compound such as PET, a drum, or an endless belt. Into a film by casting or coating
It is dried at a temperature of 50 ° C. or less for about 5 to 90 minutes to obtain a self-supporting polyamic acid polymer coating film. Next, this is peeled off from the support to fix the end. Then 100 ° C
It is imidized by gradually heating it to about 500 ° C., and after cooling, it is removed from it to obtain a polyimide film.

【0039】熱的方法によるイミド化の例は、上記の化
学的イミド化法と同様の工程が挙げられるが、これに限
定されない。すなわち、ポリアミド酸溶液を支持板やP
ET等の有機化合物製のフィルム、ドラムあるいはエン
ドレスベルト等の支持体上に流延または塗布して膜状と
し、加熱処理し得る。
Examples of the imidization by a thermal method include, but are not limited to, the same steps as in the chemical imidization method described above. That is, the polyamic acid solution is added to the support plate or P
The film may be cast or coated on a support such as a film, a drum or an endless belt made of an organic compound such as ET, and may be subjected to a heat treatment.

【0040】フィルムの製造に際しては、さらに、熱劣
化防止剤を加えて焼成時のフィルムの劣化を防止し得
る。その他の添加剤を加えて、フィルム製造時における
フィルムの劣化等を防止することもできる。熱劣化防止
剤としては、トリフェニルフォスフェイト等の燐酸系の
劣化防止剤、置換基を有する又は置換基を有さないベン
ゾフェノン等が挙げられる。その他の添加剤としては、
金属単体、有機金属化合物、またはガラス系のフィラー
類等が挙げられる。
In the production of the film, a thermal deterioration inhibitor may be further added to prevent the film from deteriorating during firing. Other additives can be added to prevent the film from deteriorating during the production of the film. Examples of the thermal deterioration inhibitor include a phosphoric acid-based deterioration inhibitor such as triphenyl phosphate, and a benzophenone having or not having a substituent. Other additives include
A simple metal, an organometallic compound, a glass-based filler, or the like can be used.

【0041】以下に実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0042】[0042]

【実施例】(実施例1)窒素置換雰囲気中の氷浴下でジ
メチルアセトアミド 800g中に、34.9g(総ジ
アミン中の100mol%)のp−PDAを溶解し、
これにTMHQ81.4g(総酸無水物中の約55mo
l%)を徐々に加えて良く攪拌反応させ、続いてESD
A83.7g(総酸無水物中の約45mol%)を徐々
に加え、23℃での測定で約2500ポイズのポリアミ
ド酸溶液を得た。
(Example 1) 34.9 g (100 mol% in total diamine) of p-PDA was dissolved in 800 g of dimethylacetamide in an ice bath in a nitrogen-substituted atmosphere,
This was mixed with 81.4 g of TMHQ (about 55 mo in total anhydride).
1%) was gradually added, and the mixture was thoroughly stirred and reacted.
83.7 g of A (about 45 mol% in the total acid anhydride) was gradually added to obtain a polyamic acid solution of about 2500 poise by measurement at 23 ° C.

【0043】このポリアミド酸溶液100gを0℃程度
に冷却し、これに13.5gの無水酢酸と4.1gのイ
ソキノリンを加えて、均一に攪拌しこれを、SUS板上
に焼成後50μmになるような所定の厚みにキャスト
し、125℃で5分熱風乾燥した。その後SUS板より
フィルムを引き剥がし、 これを4片を固定した状態で
170℃で1.5分、250℃で1.5分、350℃で
3分、430℃で3分加熱乾燥し、ポリイミドフィルム
を得た。このフィルムの引張弾性率、線膨張係数、吸湿
膨張係数を測定した結果を表1に示す。 (実施例2)窒素置換雰囲気中の氷浴下でジメチルアセ
トアミド 800g中に、61.5g(総ジアミン中の
100mol%)のDABAを溶解し、 これにTM
HQ68.2g(総酸無水物中の約55mol%)を徐
々に加えて良く攪拌反応させ、続いてESDA70.2
g(総酸無水物中の約45mol%)を徐々に加え、2
3℃での測定で約2500ポイズのポリアミド酸溶液を
得た。
100 g of this polyamic acid solution was cooled to about 0 ° C., and 13.5 g of acetic anhydride and 4.1 g of isoquinoline were added thereto, and the mixture was stirred uniformly and fired on a SUS plate to a thickness of 50 μm. It was cast to a predetermined thickness as described above and dried with hot air at 125 ° C. for 5 minutes. Thereafter, the film was peeled off from the SUS plate, and the four pieces were fixed and heated and dried at 170 ° C. for 1.5 minutes, 250 ° C. for 1.5 minutes, 350 ° C. for 3 minutes, and 430 ° C. for 3 minutes. A film was obtained. Table 1 shows the results of measurement of the tensile modulus, linear expansion coefficient, and moisture expansion coefficient of this film. Example 2 61.5 g (100 mol% in total diamine) of DABA was dissolved in 800 g of dimethylacetamide under an ice bath in a nitrogen atmosphere, and TM was added thereto.
68.2 g of HQ (about 55 mol% in the total acid anhydride) was gradually added, and the mixture was thoroughly stirred and reacted.
g (about 45 mol% in the total acid anhydride) was gradually added, and 2 g
As a result of measurement at 3 ° C., a polyamic acid solution of about 2500 poise was obtained.

【0044】このポリアミド酸溶液を実施例1と同様の
方法で加工し、ポリイミドフィルムとした。実施例1と
同様に、特性試験を行った。その結果を表1に示す。
This polyamic acid solution was processed in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide film. A characteristic test was performed in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0045】[0045]

【表1】 (比較例1〜4)実施例と同様の方法で、ジメチルアセ
トアミド中にジアミン成分を全て溶解した後酸無水物を
加える方法で、溶液中の総固形分濃度20%、及び粘度
2500ポイズになるように重合反応をおこなった。各
成分とそのモル%は表2に示している。ここで、ODA
は4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを表す。実施
例と同様にこれらのポリアミド酸溶液を用いてポリイミ
ドフィルムを得て、その特性を測定した結果を表2に示
す。
[Table 1] (Comparative Examples 1 to 4) A method of dissolving all diamine components in dimethylacetamide and then adding an acid anhydride in the same manner as in the example. The solution has a total solid concentration of 20% and a viscosity of 2500 poise. The polymerization reaction was carried out as described above. Table 2 shows the components and their mol%. Where ODA
Represents 4,4′-diaminodiphenyl ether. A polyimide film was obtained using these polyamic acid solutions in the same manner as in the examples, and the properties were measured. Table 2 shows the results.

【0046】[0046]

【表2】 [Table 2]

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明のポリイミドフィルムはこれまで
のベース用ポリイミドフィルムに無い優れた吸湿特性、
特に低い吸湿膨張を有し、なおかつ高弾性でありながら
銅の線膨張係数を下回ることなく、従って銅張の基盤や
TAB用テープとして用いた場合に極めて優れた反り特
性を発現できる。本発明のポリイミドフィルムは、柔軟
性・耐熱性にも優れ、ベースポリイミドフィルムとして
必要な特性を損なわないため、益々細密化する電子機器
に対応することができる。
As described above, the polyimide film of the present invention has excellent moisture absorbing properties which are not found in the conventional base polyimide film,
In particular, it has a low hygroscopic expansion and high elasticity, but does not fall below the coefficient of linear expansion of copper. Therefore, when used as a copper-clad base or TAB tape, it can exhibit extremely excellent warpage characteristics. The polyimide film of the present invention is excellent in flexibility and heat resistance, and does not impair the characteristics required as a base polyimide film, so that it can be used for electronic devices that are increasingly miniaturized.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA60 AH13 BB02 BC01 4J043 PA06 PA08 PA19 QB15 QB26 QB31 RA35 SA06 SB01 SB03 TA22 TB03 UA121 UA131 UA142 UA672 UB172 UB221 VA011 VA021 VA032 VA041 VA062 XA16 ZA04 ZA11 ZA31 ZB11 ZB50  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F071 AA60 AH13 BB02 BC01 4J043 PA06 PA08 PA19 QB15 QB26 QB31 RA35 SA06 SB01 SB03 TA22 TB03 UA121 UA131 UA142 UA672 UB172 UB221 VA011 VA021 VA032 VA041 VA062 XA11 ZA11 ZA11ZA

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 p−フェニレンビス(トリメリット酸モ
ノエステル無水物)、2,2-ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパンジベンゾエート-3,3’,4,4’-
テトラカルボン酸二無水物、パラフェニレンジアミン、
4,4’−ジアミノベンズアニリドを有機溶剤中で反応
させて得られるポリアミド酸から製造されることを特徴
とするポリイミドフィルム。
1. A p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-3,3 ′, 4,4′-
Tetracarboxylic dianhydride, paraphenylenediamine,
A polyimide film produced from a polyamic acid obtained by reacting 4,4'-diaminobenzanilide in an organic solvent.
【請求項2】 前記p−フェニレンビス(トリメリット
酸モノエステル無水物)が、全酸無水物に対して40〜
99モル%であり、2,2-ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパンジベンゾエート-3,3’,4,4’-テ
トラカルボン酸二無水物が、全酸無水物に対して1〜6
0モル%、パラフェニレンジアミンが全ジアミンに対し
て0〜100モル%、4,4’−ジアミノベンズアニリ
ドが全ジアミンに対して0〜100モル%であることを
特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルム。
2. The p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) is present in an amount of from 40 to 40% based on the total acid anhydride.
99 mol%, and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride is 1 to 6 with respect to the total anhydride.
2. The composition according to claim 1, wherein 0 mol%, paraphenylenediamine is 0 to 100 mol% with respect to all diamines, and 4,4′-diaminobenzanilide is 0 to 100 mol% with respect to all diamines. 3. Polyimide film.
【請求項3】 請求項1または2に記載のポリイミドフ
ィルムであって、100℃以上200℃以下の平均線膨
張係数が15〜30ppm/℃、引張弾性率が5.5〜
8.5GPa、吸湿膨張係数が10ppm/RH%以下
であることを特徴とするポリイミドフィルム。
3. The polyimide film according to claim 1, wherein an average linear expansion coefficient at 100 ° C. or more and 200 ° C. or less is 15-30 ppm / ° C., and a tensile modulus is 5.5-3.5.
A polyimide film having 8.5 GPa and a coefficient of hygroscopic expansion of 10 ppm / RH% or less.
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