JP2000284297A - 液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 手間を要することなくかつ装置の大型化を招
くこともなく、耐湿性を良好にすることができる液晶装
置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置を提供する
こと。 【解決手段】 表示領域２０１及びシール領域２０２以
外の領域２０３の配向膜２０７が除去され、更に封止領
域２０３より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０
を覆うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性
部材２０８が形成されている。従って、手間を要するこ
となくかつ装置の大型化を招くこともなく、耐湿性を良
好にすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置、液晶装
置の製造方法及び投射型表示装置の技術分野に属し、特
に、基板上に形成された配向膜が外側に露出しないよう
に構成した液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表
示装置の技術分野に属する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶装置では、例えば薄膜トラ
ンジスタ（以下、ＴＦＴと称す。）をスイッチン素子と
して有する液晶装置の場合、ＴＦＴアレイ基板上にシー
ル材がその縁に沿って設けられており、その内側には表
示領域が設けられている。そして、ＴＦＴアレイ基板上
にシール材を介して対向基板が対向配置され、ＴＦＴア
レイ基板と対向基板との間隙に液晶が挟持されている。
また、ＴＦＴアレイ基板上のシール材より外側の領域に
は、駆動回路や駆動回路接続端子等が設けられている。
更に、ＴＦＴアレイ基板の表面及び対向基板の表面に
は、それぞれ液晶分子を保持するための、ラビング処理
等の所定の配向処理が施されたポリイミド薄膜などの有
機薄膜からなる配向膜が設けられている。

【０００３】ここで、ＴＦＴアレイ基板には、表示領域
にＴＦＴや画素電極、各種配線が形成され、その外側の
領域に駆動回路や駆動回路接続端子等が形成され、これ
らを覆うように絶縁膜が形成されたＴＦＴアレイ基板の
全面にポリイミド薄膜を形成した後、ポリイミド薄膜の
表面を配向処理することにより配向膜を形成する。その
後、ＴＦＴアレイ基板と同じく配向膜が形成された対向
基板とをシール材を介して対向配置し、液晶封入孔（予
めシール材を形成していない部分）よりＴＦＴアレイ基
板と対向基板との間隙に液晶を封入し、液晶封入口をシ
ール材により塞いでいる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成の液晶装置では、ＴＦＴアレイ基板の表示領域
ばかりでなくその外側の領域にも配向膜が形成されてい
るため、この外側の領域の配向膜である例えば、ポリイ
ミド薄膜が外気の水分を吸収し、この水分がポリイミド
薄膜を浸透して表示領域まで達して性能を劣化させる、
という問題点があった。即ち、従来の液晶装置は、耐湿
性が悪い、という問題点があった。

【０００５】そこで、例えばＴＦＴアレイ基板の表示領
域より外側の領域の配向膜上に湿度を吸収しない部材を
形成し、配向膜の表面をこのような部材で覆ってしまう
ことが考えられる。しかしながら、かかる構成の場合、
ＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の領域は駆動回路
や駆動回路接続端子等が形成され相当面積が広いもので
あるため、このような部材の形成に手間を要することに
なり、加えてこのような液晶装置を収容するための従来
のフレームケースに該装置が収まらなくなり、従って装
置の大型化を招くことにもなる。

【０００６】本発明は上述した問題点に鑑みなされたも
のであり、手間を要することなくかつ装置の大型化を招
くこともなく、耐湿性を良好にすることができる液晶装
置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置を提供する
ことを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の液晶装置は、一方面上の少なくとも表示領
域に配向膜を有し、前記表示領域の周辺領域には前記配
向膜が除去されている第１基板と、前記第１基板の一方
面と対向するように配置された第２基板と、前記第１基
板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第
１基板と前記第２基板との間隙に挟持された液晶と、前
記シール領域より外方へ露出する前記配向膜覆うように
前記シール領域の外周に沿って形成された非吸湿性部材
とを具備することを特徴とする。

【０００８】本発明のこのような構成によれば、表示領
域及びこの表示領域の周辺領域の配向膜が除去され、更
にシール領域より外方へ露出する配向膜を覆うようにシ
ール領域の外周に沿って非吸湿性部材が形成されている
ので、配向膜が外側に露出していない。従って、外側の
湿気が配向膜を介して表示領域内に浸透するようなこと
はなくなり、耐湿性が良好になる、という効果を有す
る。また、非吸湿性部材については、シール領域の外周
に沿って形成すればよいだけなので、手間を要すること
もない。更に、ＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の
領域にある駆動回路や駆動回路接続端子等が形成された
領域まで非吸湿部材を形成する必要もないので、装置の
大型化を招くようなこともない。

【０００９】また、本発明の液晶装置は、前記非吸湿性
部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなること
が好ましい。

【００１０】このような構成によれば、非吸湿性部材と
してウレタン系の部材を用いた場合、ウレタン系の部材
がシリコン系の接着剤の硬化阻害を起こすのに対して、
非吸湿性部材としてエポキシ系またはアクリル系の部材
を用いればそのようなことはなくなる。

【００１１】本発明の液晶装置は、少なくとも前記第２
基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系
の接着剤を介して透明基板が貼付されていることを特徴
とする。このような場合、非吸湿性部材がシリコン系の
接着剤の硬化阻害を起こすことを抑えることができる。
例えば、非吸湿性部材としえウレタン系の部材を用いた
場合、ウレタン系の部材がシリコン系の接着剤の硬化阻
害を起こすのに対して、非吸湿性部材としてエポキシ系
またはアクリル系の部材を用いればそのような問題を抑
えることができる。

【００１２】本発明の液晶装置は、前記第１基板にはス
イッチング素子と画素電極とからなる画素がマトリクス
状に配置されてなり、前記第２基板には前記画素毎に対
応するようにマイクロレンズが配置されてなることを特
徴とする。

【００１３】このような構成によれば、入射光は、マイ
クロレンズを介して集光された光が液晶層に入るため、
配線や遮光膜等画素周辺への光の侵入を抑え、画素に光
を集光できるため、光の利用効率と高めることができ
る。

【００１４】本発明の液晶装置は、前記マイクロレンズ
が配置された第２基板は接着剤により透明基板に貼り合
わされてなり、前記非吸湿性部材は前記シール領域より
外方へ露出する前記接着剤を覆うように配置されてなる
ことを特徴とする。

【００１５】このような構成によれば、マイクロレンズ
を有する基板と透明基板との間の接着剤の流出を防ぐと
ともに、接着剤の信頼性を向上させることができる。

【００１６】本発明の液晶装置の製造方法は、表示領域
及びこの表示領域を囲むシール領域を有する第１基板の
一方面上に配向膜を形成する工程と、前記第１基板の一
方面上のシール領域にシール材を介在させ、前記第１基
板の一方面と第２基板とを貼り合わせる工程と、前記第
１基板と前記第２基板との間隙に液晶を封入する工程
と、前記第１基板の一方面上の、前記シール領域よりも
外方に露出する前記配向膜の少なくとも一部を除去する
工程と、前記シール領域より外方へ露出する配向膜を少
なくとも覆うように非吸湿性部材を形成する工程とを具
備することを特徴とする。

【００１７】本発明のこのような構成によれば、表示領
域及びこの表示領域を囲むシール領域よりも外方に露出
する配向膜を除去し、更にシール領域より外方へ露出す
る配向膜を少なくとも覆うようにシール領域の外周に沿
って非吸湿性部材を形成することができるので、手間を
要することもなく、更に装置の大型化を招来することも
なく耐湿性の良好な液晶装置を製造できる、という効果
を有する。このように第１基板と第２基板とを貼り合わ
せた後に、シール材よりも外方向に露出する配向膜２０
７を除去するため、配向膜を除去するために使用する例
えば、処理ガス等が第１基板と第２基板の間に侵入する
のを防ぐことができる。

【００１８】また、本発明の液晶装置の製造方法は、少
なくとも前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反
対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板が貼付する
工程を更に有し、前記非吸湿性部材がエポキシ系または
アクリル系の部材からなることが好ましい。このよう構
成によれば、シリコン系の接着剤が効果阻害を起こすと
いった不良をなくすことができる。

【００１９】本発明の液晶装置の製造方法は、前記非吸
湿性部材を形成する工程にあって、前記非吸湿性部材が
硬化型の部材からなり、前記封止領域の外周に非吸湿性
部材を配置した後、このうち一部の前記非吸湿性部材を
硬化し、その後残りの部分の非吸湿性部材を硬化するこ
とを特徴とする。このような構成によれば、非吸湿性部
材の硬化時における収縮作用の集中を抑えることができ
る。すなわち、非吸湿性部材を一度に硬化させようとす
ると、その内側にある第１及び第２基板（表示領域の部
分）を収縮させる力が大きくなり、この結果、第１基板
と第２基板との間隙が狭くなったり広くなったりするす
る恐れがある。かかる問題に対して、本発明の構成によ
れば、シール領域の外周に非吸湿性部材を配置した後、
このうち一部の非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部
分の非吸湿性部材を硬化するように分割して硬化してい
るので、第１及び第２基板（表示領域の部分）の収縮作
用が表示領域中央に集中することがなくなり、第１基板
と第２基板との間隙が狭くなったり広くなったりするの
を防ぐことができる。

【００２０】本発明の投射型表示装置は、光源と、前記
光源から出射される光が入射されて画像情報に対応した
変調を施す、請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項
に記載の液晶装置と、前記液晶装置により変調された光
を投射する投射手段とを具備することを特徴とする。

【００２１】かかる構成によれば、上述のように各液晶
装置の耐湿性が良好となり、表示品質の劣化を防ぐこと
ができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。

【００２３】（液晶装置の一実施形態の構成及び作用）
本発明による液晶装置の一実施形態の構成及び作用につ
いて、図１から図３を参照して説明する。図１は本実施
形態に係る液晶装置の平面図であり、図２は図１に示し
た液晶装置におけるＨ−Ｈ’断面図であり、図３は図２
に示したＩ矢示部を拡大した断面図である。

【００２４】図１において、第１基板である光透過性の
ＴＦＴアレイ基板１０上には、表示領域２０１及びこの
表示領域２０１を囲むようにシール領域２０２が設けら
れている。このＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２
０２に沿ってシール材５２が設けられている。

【００２５】表示領域２０１の周辺は、表示領域を囲む
ようにシール材５２が形成されたシール領域２０２と、
があり、シール材５２の途切れ部分からなる液晶注入口
２０３が設けられている。この液晶注入口２０３は例え
ばシール材５２の同一または異なる材料からなる封止部
材２０４により塞がれている。

【００２６】表示領域２０１には、データ線及び走査線
（図示を省略）が縦横に交差するように配置されている
と共に、これらの配線により囲まれる各領域にマトリク
ス状に複数形成された例えばＩＴＯ（インジウム・ティ
ン・オキサイド）膜などの透明導電性薄膜からなる画素
電極（図示を省略）と画素電極を制御するためのＴＦＴ
３０（図２に参照）とが配置され、画像信号が供給され
るデータ線が当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続さ
れ、走査信号が供給される走査線のゲート電極が当該Ｔ
ＦＴのゲートと交差している。そして、ＴＦＴ３０やこ
れらの電極等の上には絶縁膜（図示せず）を介して配向
膜（後述する。）が形成されている。

【００２７】シール領域２０２の外側の領域には、デー
タ線駆動回路１０１及び駆動回路接続端子１０２がＴＦ
Ｔアレイ基板１０の一辺に沿って設けられており、走査
線駆動回路１０４が、例えばこの一辺に隣接する２辺に
沿って設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０の
残る一辺には、表示領域２０４の両側に設けられた走査
線駆動回路１０４間をつなぐための複数の配線１０５が
設けられており、また、対向基板２０のコーナ部の少な
くとも１箇所においては、ＴＦＴアレイ基板１０と対向
基板２０との間で電気的導通をとるための導通材１０６
が設けられている。

【００２８】図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０
上には、図１に示したシール材５２とほぼ同じ輪郭を持
つ透明基板である、光透過性の対向基板２０が対向配置
され、これらＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との
間のシール材５２により囲まれた空間に液晶が封入さ
れ、液晶層５０が形成される。液晶層５０は、画素電極
からの電界が印加されていない状態で配向膜により所定
の配向状態を採る。液晶層５０は、例えば一種又は数種
類のネマティック液晶を混合した液晶からなる。シール
材５２は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をそ
れらの周辺で貼り合わせるための、例えば光硬化性樹脂
や熱硬化性樹脂からなる接着剤であり、両基板間の距離
を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビ
ーズ等のスペーサが混入されている。

【００２９】ここで、上記のＴＦＴアレイ基板１０は、
例えば石英基板からなり、対向基板２０は、例えばガラ
ス基板や石英基板からなる。また、対向基板２０には、
その全面に渡って図示を省略した対向電極（共通電極）
が設けられており、その下側には、ラビング処理等の所
定の配向処理が施された配向膜（図示を省略）が設けら
れている。対向電極は例えば、ＩＴＯ膜などの透明導電
性薄膜からなる。また配向膜は、ポリイミド薄膜などの
有機薄膜からなる。対向基板２０は、画素に対応したマ
イクロレンズアレイ、カラーフィルターを形成してもよ
い。

【００３０】また、対向基板２０の表面（ＴＦＴアレイ
基板１０と対向する面と反対面）にはシリコン系の接着
剤を介して該対向基板２０とほぼ同形状の透明基板２０
５が貼付され、ＴＦＴアレイ基板１０の表面（対向基板
２０と対向する面と反対面）にはシリコン系或いは他の
部材からなる接着剤を介して該ＴＦＴアレイ基板とほぼ
同形状の透明基板２０６が貼付されていてもよい。これ
ら透明基板２０５及び２０６は、対向基板２０の表面や
ＴＦＴアレイ基板１０の表面を傷等から保護すると共
に、例えば当該液晶装置が液晶プロジェクタ等に用いら
れたときに表面に付着したごみ等を光路上の焦点からで
きる限りずらし、これらがはっきりと表示映像上に表示
されるのを防止し、デフォーカスすることができる。

【００３１】図３に示すように、表示領域２０１及びシ
ール材５２が形成されたシール領域２０２には、ポリイ
ミド薄膜などの有機薄膜からなり配向処理が施された配
向膜２０７が設けられ、これら領域以外の領域、具体的
はシール領域２０２より外側の領域２０９では、配向膜
２０７が除去されている。

【００３２】更に、図１乃至図３に示すように、シール
領域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１
０を覆うようにシール領域２０２の外周に沿ってエポキ
シ系またはアクリル系の部材からなる非吸湿性部材２０
８（図中右上がりの斜線で示している。）が形成されて
いる。

【００３３】このように本実施形態の液晶装置によれ
ば、表示領域２０１及びシール領域２０２の外方の領域
２０９の配向膜２０７が除去され、更にシール領域２０
２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆う
ようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材２
０８が形成されているので、配向膜２０７が外側に露出
していない。従って、図４に示すように、外側の湿気２
１１が配向膜２０７’を介して表示領域内に浸透するよ
うなことはなくなる。よって、本実施形態の液晶装置
は、耐湿性が非常に良好である。また、上述の実施形態
では、対向基板側の配向膜の図示を省略して説明した
が、対向基板側に配向膜が形成されている場合も同様に
シール領域２０２より外方へ露出する配向膜の端面を覆
うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材
２０８を形成することにより、外側の湿気２１１が配向
膜を介して表示領域内に浸透することを防ぐことができ
る。

【００３４】耐湿性の向上という観点から、図４に示す
ように、シール領域２０２より外側の駆動回路や駆動回
路接続端子等が形成された領域の配向膜２０７’を覆う
ように、それらの領域の配向膜２０７’上に非吸湿性部
材２０８’（図４の点線で示す）を形成しても良い。し
かし、この場合は、非吸湿性部材２０８’を設ける領域
が増え、しかも厚さが増すため、フレーム等が組み込め
なくなり、装置の大型化を招くことになる。また、これ
らの領域の全てに非吸湿性部材２０８’を形成するのも
非常に手間を要することになる。即ち、本実施形態の液
晶装置では、非吸湿性部材の形成にそれほど手間を要す
ることもなく、更に装置の大型化を招くようなこともな
い。

【００３５】なお、上記実施の形態における液晶装置の
ＴＦＴアレイ基板１０上には更に、製造途中や出荷時の
当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路
等を形成してもよい。また、データ線駆動回路１０１及
び走査線駆動回路１０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に
設ける代わりに、例えばＴＡＢ（テープオートメイテッ
ドボンディング基板）上に実装された駆動用ＬＳＩに、
ＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に設けられた異方性導電
フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにし
てもよい。また、対向基板２０の投射光が入射する側及
びＴＦＴアレイ基板１０の出射光が出射する側には各
々、例えば、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モー
ド、ＳＴＮ（スーパーＴＮ）モード、Ｄ−ＳＴＮ（ダブ
ル−ＳＴＮ）モード等の動作モードや、ノーマリーホワ
イトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて、
偏光フィルム、位相差フィルム、偏光手段などが所定の
方向で配置される。

【００３６】また、上記実施の形態における液晶装置
は、例えばカラー液晶プロジェクタ（投射型表示装置）
に適用されるため、３枚の液晶装置がＲＧＢ用のライト
バルブとして各々用いられ、各パネルには各々ＲＧＢ色
分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色
の光が投射光として各々入射されることになる。従っ
て、この実施の形態では、対向基板２０に、カラーフィ
ルタは設けられていない。しかしながら、所定領域にＲ
ＧＢのカラーフィルタをその保護膜と共に、対向基板２
０上に形成してもよい。このようにすれば、液晶プロジ
ェクタ以外の直視型や反射型のカラー液晶テレビなどの
カラー液晶装置に各実施の形態における液晶装置を適用
できる。

【００３７】また、対向基板２０上に、何層もの屈折率
の相違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用し
て、ＲＧＢ色を作り出すダイクロイックフィルタを形成
してもよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板
によれば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。

【００３８】（液晶装置の製造プロセス）次に、以上の
ような構成を持つ液晶装置の製造プロセスの一例につい
て、図５及び図６を参照して説明する。

【００３９】図５の工程（１）に示すように、石英基
板、ハードガラス等のＴＦＴアレイ基板１０を用意す
る。ここでは、このＴＦＴアレイ基板１０上に、各種の
配線や素子等が既に形成されているものとして、後述す
る対向基板２０についても対向電極や配向膜が既に形成
されているものとして説明する。

【００４０】工程（２）に示すように、ＴＦＴアレイ基
板１０上の全面にポリイミド系の配向膜の塗布液を塗布
した後、所定のプレティルト角を持つように且つ所定方
向でラビング処理を施すこと等により、配向膜２０７を
形成する。

【００４１】次に、工程（３）に示すように、ＴＦＴア
レイ基板１０上のシール領域２０２にシール材５２を介
在させ、相互の配向膜が対面するようにＴＦＴアレイ基
板１０と対向基板２０とを対向配置し、ＴＦＴアレイ基
板１０と対向基板２０とをシール材５２により貼り合わ
せる。

【００４２】次に、工程（４）に示すように、真空吸引
等により、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間
隙に、液晶注入口２０３（図１参照）を介して例えば複
数種類のネマティック液晶を混合してなる液晶を吸引す
る。そして、液晶注入口２０３を封止部材２０４により
塞いで（図１参照）、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板
２０との間に所定層厚の液晶層５０を形成する。その
後、液晶注入の際に付着した表面上の液晶を洗浄により
除去する。

【００４３】次に、図６の工程（５）に示すように、Ｔ
ＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２より外側の領
域２０９にある配向膜２０７を、例えばＯ２プラズマ処
理により除去する。このように工程（４）の後に配向膜
２０７を除去するように構成することで、液晶注入口２
０を介してＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間
隙に例えば処理ガスが進入し、その内の配向膜に悪影響
を与えることを防止できる。

【００４４】次に、工程（６）に示すように、シール領
域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０
を覆うようにＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０
２の外周に沿ってエポキシ系またはアクリル系の部材か
らなる非吸湿性部材２０８を形成する。

【００４５】次に、工程（７）に示すように、対向基板
２０の表面にシリコン系の接着剤を介して透明基板２０
５を貼付すると共に、ＴＦＴアレイ基板１０の表面にシ
リコン系或いは他の部材からなる接着剤を介して透明基
板２０６を貼付する。ここで、上述したように非吸湿性
部材２０８がエポキシ系またはアクリル系の部材からな
るので、シリコン系の接着剤が硬化阻害を起こすような
ことはなく、透明基板を確実に基板上に貼付することが
可能となる。

【００４６】以上のように、本実施形態の製造方法によ
れば、手間を要することもなく、更に装置の大型化を招
来することもなく耐湿性の良好な液晶装置を製造でき
る。

【００４７】次に、図６の工程（６）に示した非吸湿性
部材２０８を形成するために好適な実施形態を説明す
る。図７はその工程図である。

【００４８】まず、図７の工程（Ａ）に示すように、Ｔ
ＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿っ
て硬化前の非吸湿性部材２０８ａを形成する。非吸湿性
部材としては、例えばＵＶ硬化型（紫外線硬化型）の部
材を用いる。

【００４９】次に、工程（Ｂ）に示すように、ＴＦＴア
レイ基板１０及び対向基板２０の上方に第１のマスク３
０１を配置する。この第１のマスク３０１には、ＴＦＴ
アレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形
成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、ＴＦＴ
アレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された硬化
前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に
透孔３０１ａが形成されている。そして、第１のマスク
３０１の上方より紫外線（ＵＶ）を照射し、この透孔３
０１ａを介してＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に
沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化
する。

【００５０】次に、工程（Ｃ）に示すように、ＴＦＴア
レイ基板１０及び対向基板２０の上方に第２のマスク３
０２を配置する。この第２のマスク３０２には、ＴＦＴ
アレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形
成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、ＴＦＴ
アレイ基板１０の対向する他の２辺に沿って形成された
硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位
置に透孔３０２ａが形成されている。そして、第２のマ
スク３０２の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０２ａ
を介してＴＦＴアレイ基板１０の対向する他の２辺に沿
って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化す
る。

【００５１】以上の工程を経て、ＴＦＴアレイ基板１０
上のシール領域２０２の外周に沿って硬化された非吸湿
性部材２０８が形成される。

【００５２】ここで、上述した非吸湿性部材２０８の硬
化時に非吸湿性部材２０８が収縮し、その内側にあるＴ
ＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を収縮させようと
する。その場合、例えばＴＦＴアレイ基板１０上のシー
ル領域２０２の外周に沿って形成された非吸湿性部材２
０８ａを一度にまとめて硬化した場合には、ＴＦＴアレ
イ基板１０及び対向基板２０のほぼ中心に向けて収縮さ
せようとするので、結果的にＴＦＴアレイ基板１０と対
向基板２０との間隙が狭くなったり広くなったりする。
これに対して、図７に示したように、ＴＦＴアレイ基板
１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された非
吸湿性部材２０８ａを一度にまとめて硬化するのではな
く、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成
された非吸湿性部材２０８ａを硬化し、その後に残りの
２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化す
るように構成すれば、上記のようなＴＦＴアレイ基板１
０及び対向基板２０の収縮作用が表示領域中央に集中す
ることがなくなり、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２
０との間隙が狭くなったり広くなったりするようなこと
はなくなる。

【００５３】なお、図７に示した実施形態では、ＴＦＴ
アレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された非吸
湿性部材２０８ａを硬化し、その後に残りの２辺に沿っ
て形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化するようにし
て非吸湿性部材２０８を形成したが、例えば図８に示す
ように非吸湿性部材２０８を形成しても構わない。

【００５４】即ち、まず図８の工程（Ａ）に示すよう
に、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周
に沿って硬化前の非吸湿性部材２０８ａを形成する。非
吸湿性部材としては、例えばＵＶ硬化型（紫外線硬化
型）の部材を用いる。

【００５５】次に、工程（Ｂ）に示すように、ＴＦＴア
レイ基板１０及び対向基板２０の上方に第１のマスク３
０３を配置する。この第１のマスク３０３には、ＴＦＴ
アレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形
成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、４つの
コーナ部及びその近傍に形成された硬化前の非吸湿性部
材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０３ａが
形成されている。そして、第１のマスク３０３の上方よ
りＵＶを照射し、この透孔３０３ａを介して４つのコー
ナ部及びその近傍に形成された硬化前の非吸湿性部材２
０８ａを硬化する。

【００５６】次に、工程（Ｃ）に示すように、ＴＦＴア
レイ基板１０及び対向基板２０の上方に第２のマスク３
０４を配置する。この第２のマスク３０４には、ＴＦＴ
アレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形
成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、上述し
た４つのコーナ部及びその近傍以外の位置に形成された
硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位
置に透孔３０４ａが形成されている。そして、第２のマ
スク３０４の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０４ａ
を介して４つのコーナ部及びその近傍以外の位置に形成
された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。

【００５７】更に、本発明の他の実施形態として、対向
基板２０上に１画素1個対応するようにマイクロレンズ
を形成してもよい。このような構成について、図１０を
用いて説明する。他の実施形態では、上述の一の実施形
態と同様な構成を有し、その説明は省略し、異なる点の
み説明する。

【００５８】図１０は、ＴＦＴアレイ基板と対向基板と
がシール材５２により貼り合わされてなる液晶装置のシ
ール領域周辺の断面図である。図１０に示されるよう
に、ＴＦＴアレイ基板１０上にはＴＦＴ３０とＴＦＴ３
０に接続された画素電極９と、その上に配向膜２０７が
配置されている。一方、対向基板側は、画素毎にマイク
ロレンズ３３が形成されたマイクロレンズ基板３１が配
置されている。マイクロレンズ基板３１上は接着剤であ
る透明樹脂剤４８によりカバーガラス３２等の透明基板
と貼り合わされており、カバーガラス３２上には、画素
毎に設けられた遮光膜６、対向電極３３、配向膜２０７
が順次積層して配置されている。このように、マイクロ
レンズ基板３１を用いることにより、入射光の集光効率
を向上することで、明るい液晶装置が実現できる。そし
て、この場合、非吸湿性部材２０８を配向膜２０７だけ
でなく、マイクロレンズ基板３１とカバーガラス３２と
の間に配置された接着樹脂層４８を覆うようにすること
により、接着樹脂の流出を留めることができるととも
に、接着樹脂層４８の信頼性を向上させることができ
る。

【００５９】（電子機器）上記の液晶装置を用いた電子
機器の一例として、投射型表示装置の構成について、図
９を参照して説明する。図９において、投射型表示装置
１１００は、上述した液晶装置を３個用意し、夫々ＲＧ
Ｂ用の液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ及び９６２Ｂとして
用いた投射型液晶装置の光学系の概略構成図を示す。本
例の投射型表示装置の光学系には、前述した光源装置９
２０と、均一照明光学系９２３が採用されている。そし
て、投射型表示装置は、この均一照明光学系９２３から
出射される光束Ｗを赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に分
離する色分離手段としての色分離光学系９２４と、各色
光束Ｒ、Ｇ、Ｂを変調する変調手段としての３つのライ
トバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂと、変調された
後の色光束を再合成する色合成手段としての色合成プリ
ズム９１０と、合成された光束を投射面１００の表面に
拡大投射する投射手段としての投射レンズユニット９０
６を備えている。また、青色光束Ｂを対応するライトバ
ルブ９２５Ｂに導く導光系９２７をも備えている。

【００６０】均一照明光学系９２３は、２つのレンズ板
９２１、９２２と反射ミラー９３１を備えており、反射
ミラー９３１を挟んで２つのレンズ板９２１、９２２が
直交する状態に配置されている。均一照明光学系９２３
の２つのレンズ板９２１、９２２は、それぞれマトリク
ス状に配置された複数の矩形レンズを備えている。光源
装置９２０から出射された光束は、第１のレンズ板９２
１の矩形レンズによって複数の部分光束に分割される。
そして、これらの部分光束は、第２のレンズ板９２２の
矩形レンズによって３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２
５Ｇ、９２５Ｂ付近で重畳される。従って、均一照明光
学系９２３を用いることにより、光源装置９２０が出射
光束の断面内で不均一な照度分布を有している場合で
も、３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂ
を均一な照明光で照明することが可能となる。

【００６１】各色分離光学系９２４は、青緑反射ダイク
ロイックミラー９４１と、緑反射ダイクロイックミラー
９４２と、反射ミラー９４３から構成される。まず、青
緑反射ダイクロイックミラー９４１において、光束Ｗに
含まれている青色光束Ｂおよび緑色光束Ｇが直角に反射
され、緑反射ダイクロイックミラー９４２の側に向か
う。赤色光束Ｒはこのミラー９４１を通過して、後方の
反射ミラー９４３で直角に反射されて、赤色光束Ｒの出
射部９４４からプリズムユニット９１０の側に出射され
る。

【００６２】次に、緑反射ダイクロイックミラー９４２
において、青緑反射ダイクロイックミラー９４１におい
て反射された青色、緑色光束Ｂ、Ｇのうち、緑色光束Ｇ
のみが直角に反射されて、緑色光束Ｇの出射部９４５か
ら色合成光学系の側に出射される。緑反射ダイクロイッ
クミラー９４２を通過した青色光束Ｂは、青色光束Ｂの
出射部９４６から導光系９２７の側に出射される。本例
では、均一照明光学素子の光束Ｗの出射部から、色分離
光学系９２４における各色光束の出射部９４４、９４
５、９４６までの距離がほぼ等しくなるように設定され
ている。

【００６３】色分離光学系９２４の赤色、緑色光束Ｒ、
Ｇの出射部９４４、９４５の出射側には、それぞれ集光
レンズ９５１、９５２が配置されている。したがって、
各出射部から出射した赤色、緑色光束Ｒ、Ｇは、これら
の集光レンズ９５１、９５２に入射して平行化される。

【００６４】このように平行化された赤色、緑色光束
Ｒ、Ｇは、ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇに入射して
変調され、各色光に対応した画像情報が付加される。す
なわち、これらの液晶装置は、不図示の駆動手段によっ
て画像情報に応じてスイッチング制御されて、これによ
り、ここを通過する各色光の変調が行われる。一方、青
色光束Ｂは、導光系９２７を介して対応するライトバル
ブ９２５Ｂに導かれ、ここにおいて、同様に画像情報に
応じて変調が施される。尚、本例のライトバルブ９２５
Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂは、それぞれさらに入射側偏光
手段９６０Ｒ、９６０Ｇ、９６０Ｂと、出射側偏光手段
９６１Ｒ、９６１Ｇ、９６１Ｂと、これらの間に配置さ
れた液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９６２Ｂとからなる
液晶ライトバルブである。

【００６５】導光系９２７は、青色光束Ｂの出射部９４
６の出射側に配置した集光レンズ９５４と、入射側反射
ミラー９７１と、出射側反射ミラー９７２と、これらの
反射ミラーの間に配置した中間レンズ９７３と、ライト
バルブ９２５Ｂの手前側に配置した集光レンズ９５３と
から構成されている。集光レンズ９４６から出射された
青色光束Ｂは、導光系９２７を介して液晶装置９６２Ｂ
に導かれて変調される。各色光束の光路長、すなわち、
光束Ｗの出射部から各液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９
６２Ｂまでの距離は青色光束Ｂが最も長くなり、したが
って、青色光束の光量損失が最も多くなる。しかし、導
光系９２７を介在させることにより、光量損失を抑制す
ることができる。

【００６６】各ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２
５Ｂを通って変調された各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂは、色合成
プリズム９１０に入射され、ここで合成される。そし
て、この色合成プリズム９１０によって合成された光が
投射レンズユニット９０６を介して所定の位置にある投
射面１００の表面に拡大投射されるようになっている。

【００６７】このような構成を有する液晶プロジェクタ
において、各ライトバルブを本発明の構成を有すること
により、耐湿性が良好となり、表示品質の劣化を防ぐこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る液晶装置のＴＦＴア
レイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基
板の側から見た平面図である。

【図２】図１のＨ−Ｈ’断面図である。

【図３】図２に示したＩ矢示部を拡大した断面図であ
る。

【図４】本発明の効果を説明するための参考図である。

【図５】液晶装置の一実施形態の製造プロセスを、順を
追って示す工程図（その１）である。

【図６】液晶装置の一実施形態の製造プロセスを、順を
追って示す工程図（その２）である。

【図７】図６に示した工程（６）を更に詳しく説明する
ための工程図である。

【図８】図６に示した工程（６）の別の例を更に詳しく
説明するための工程図である。

【図９】液晶装置を用いた電子機器の一例である投射型
表示装置の構成図である。

【図１０】本発明の他の実施形態に係わる液晶装置のＴ
ＦＴアレイ基板とマイクロレンズを有する対向基板とが
シール材により貼り合わされたシール領域周辺の断面図
である。

【符号の説明】

１０…ＴＦＴアレイ基板 ２０…対向基板 ５０…液層層 ５２…シール材 ２０１…表示領域 ２０２…シール領域 ２０５…透明基板 ２０７…配向膜 ２０８…非吸湿性部材 ２０９…配向膜が除去された領域 ２１０…配向膜の端面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 LA07 LA25 LA42 MA01X MA07Y NA24 NA44 NA45 NA53 QA07 RA05 RA10 TA04 TA09 TA12 TA14 TA15 TA16 TA18 UA05 2H091 FA02Z FA05Z FA08Z FA11Z GA06 GA08 GA09 GA13 GA17 HA07 HA10 LA06 LA15 MA07

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方面上の少なくとも表示領域に配向膜
   を有し、前記表示領域の周辺領域には前記配向膜が除去
   されている第１基板と、 前記第１基板の一方面と対向するように配置された第２
   基板と、 前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材
   と、 前記第１基板と前記第２基板との間隙に挟持された液晶
   と、 前記シール領域より外方へ露出する前記配向膜を覆うよ
   うに前記シール領域の外周に沿って形成された非吸湿性
   部材とを具備することを特徴とする液晶装置。
2. 【請求項２】 前記非吸湿性部材がエポキシ系またはア
   クリル系の部材からなることを特徴とする請求項１に記
   載の液晶装置。
3. 【請求項３】 少なくとも前記第２基板の前記第１基板
   と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透
   明基板が貼付されていることを特徴とする請求項２に記
   載の液晶装置。
4. 【請求項４】 前記第１基板にはスイッチング素子と画
   素電極とからなる画素がマトリクス状に配置されてな
   り、前記第２基板には前記画素毎に対応するようにマイ
   クロレンズが配置されてなることを特徴とする請求項１
   乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
5. 【請求項５】 前記マイクロレンズが配置された第２基
   板は接着剤により透明基板に貼り合わされてなり、前記
   非吸湿性部材は前記シール領域より外方へ露出する前記
   接着剤を覆うように配置されてなることを特徴とする請
   求項４に記載の液晶装置。
6. 【請求項６】 表示領域及びこの表示領域を囲むシール
   領域を有する第１基板の一方面上に配向膜を形成する工
   程と、 前記第１基板の一方面上の前記シール領域にシール材を
   介在させ、前記第１基板の一方面と第２基板とを貼り合
   わせる工程と、 前記第１基板と前記第２基板との間隙に液晶を封入する
   工程と、 前記第１基板の一方面上の、前記シール領域よりも外方
   に露出する前記配向膜の少なくとも一部を除去する工程
   と、 前記シール領域より外方に露出する配向膜を少なくとも
   覆うように非吸湿性部材を形成する工程とを具備するこ
   とを特徴とする液晶装置の製造方法。
7. 【請求項７】 少なくとも前記第２基板の前記第１基板
   と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透
   明基板が貼付する工程を更に有し、 前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材
   からなることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の
   製造方法。
8. 【請求項８】 前記非吸湿性部材を形成する工程にあっ
   て、 前記非吸湿性部材が硬化型の部材からなり、 前記封止領域の外周に非吸湿性部材を配置した後、この
   うち一部の前記非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部
   分の非吸湿性部材を硬化することを特徴とする請求項６
   または請求項７に記載の液晶装置の製造方法。
9. 【請求項９】 光源と、前記光源から出射される光が入
   射されて画像情報に対応した変調を施す、請求項１乃至
   請求項５のうちいずれか一項に記載の液晶装置と、前記
   液晶装置により変調された光を投射する投射手段とを具
   備することを特徴とする投射型表示装置。