|
JP4576737B2
(ja)
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2000-06-09 |
2010-11-10 |
Jsr株式会社 |
感放射線性樹脂組成物
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US6936398B2
(en)
|
2001-05-09 |
2005-08-30 |
Massachusetts Institute Of Technology |
Resist with reduced line edge roughness
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|
JP4574067B2
(ja)
*
|
2001-06-08 |
2010-11-04 |
ルネサスエレクトロニクス株式会社 |
レジスト組成物
|
|
US7192681B2
(en)
*
|
2001-07-05 |
2007-03-20 |
Fuji Photo Film Co., Ltd. |
Positive photosensitive composition
|
|
JP4512340B2
(ja)
*
|
2003-10-20 |
2010-07-28 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
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JP2011051989A
(ja)
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|
2004-04-23 |
2011-03-17 |
Sumitomo Chemical Co Ltd |
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法
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JP4533660B2
(ja)
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|
2004-05-14 |
2010-09-01 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
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US8105746B2
(en)
|
2006-02-17 |
2012-01-31 |
Kuraray Co., Ltd. |
Tertiary alcohol derivative, polymer compound and photoresist composition
|
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JP5191759B2
(ja)
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|
2008-02-22 |
2013-05-08 |
株式会社クラレ |
新規なアクリル酸エステル誘導体およびその製造方法
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JP5201207B2
(ja)
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2008-05-29 |
2013-06-05 |
富士通株式会社 |
ジチアン誘導体、重合体、レジスト組成物、並びに、前記レジスト組成物を用いた半導体の製造方法
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JP5618924B2
(ja)
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2011-06-30 |
2014-11-05 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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JP5793388B2
(ja)
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2011-09-30 |
2015-10-14 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法
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JP5757851B2
(ja)
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2011-11-25 |
2015-08-05 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
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JP5775804B2
(ja)
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2011-12-06 |
2015-09-09 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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JP2013130654A
(ja)
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2011-12-20 |
2013-07-04 |
Fujifilm Corp |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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JP2013137338A
(ja)
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2011-12-27 |
2013-07-11 |
Fujifilm Corp |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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JP6036545B2
(ja)
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2012-12-21 |
2016-11-30 |
Jsr株式会社 |
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
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JP6273689B2
(ja)
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2013-03-29 |
2018-02-07 |
Jsr株式会社 |
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物及びその製造方法
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JP6223807B2
(ja)
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2013-12-12 |
2017-11-01 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス
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JP6492821B2
(ja)
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2015-03-17 |
2019-04-03 |
Jsr株式会社 |
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
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WO2020129476A1
(ja)
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2018-12-21 |
2020-06-25 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
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