JP2000267106A - 液晶ディスプレイ基板処理方法と、その方法を利用した処理装置 - Google Patents

液晶ディスプレイ基板処理方法と、その方法を利用した処理装置

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JP2000267106A
JP2000267106A JP11074774A JP7477499A JP2000267106A JP 2000267106 A JP2000267106 A JP 2000267106A JP 11074774 A JP11074774 A JP 11074774A JP 7477499 A JP7477499 A JP 7477499A JP 2000267106 A JP2000267106 A JP 2000267106A
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soft
rays
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Kentaro Ekoshi
顕太郎 江越
Ichiro Shirahama
一郎 白濱
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Rayon Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶ディスプレイ基板に帯電する静電気を、簡
易且つ完全に除去しようとするものである。 【解決手段】静電気除去装置本体(2)内において、タ
ーンテーブル(6)上に載置した液晶ディスプレイ基板
(8)に対して、この液晶ディスプレイ基板(8)を回
転させつつ軟X線を照射することにより、高密度空気イ
オン空間を装置内に作り、この軟X線により発生する高
密度の空気イオンや直接軟X線が液晶ディスプレイ基板
中を透過することにより発生するイオンと静電気が結合
して電気的に中和されるものとなるので、この液晶ディ
スプレイ基板に残留、帯電する静電気を完全に除去する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イ基板製造工程において、代表的には、液晶分子の配向
を最適にするために行われる、ガラス基板の表面に形成
される配向膜の表面をナイロンブラシ等によるロールに
より擦過するラビング工程において発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなる静電気を除去する処
理方法と、その方法を利用した処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ基板製造工程に
おいて、液晶分子の配向を最適にするために、ガラス基
板の表面に形成される配向膜の表面をナイロンブラシ等
によるロールにより擦過するラビングが行われるが、こ
のラビング工程においては静電気が発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなるため、ラビング工程
によって配向膜の表面が傷つけられることで発生する微
細な塵埃を液晶ディスプレイ基板の表面に吸着してしま
ったり、又液晶ディスプレイ基板自体が静電気を帯びて
しまうことで、例えば、局所的に液晶ディスプレイ基板
を構成する電極間で所定の電圧差を確保することができ
ず、液晶の作動が完全に行われなくなって液晶ディスプ
レイ基板において表示ムラ等の原因となってしまうこと
がある。そこで、代表的には液晶ディスプレイ基板の製
造工程上必要不可欠なこのラビング工程により発生し、
液晶ディスプレイ基板を帯電させることとなる静電気を
除去する必要があり、そのため、ラビング工程後の液晶
ディスプレイ基板の洗浄をかねて水等の溶媒中に長時間
浸漬したり、また高温下において長時間液晶ディスプレ
イ基板を曝す等の静電気除去工程を施すことで、この液
晶ディスプレイ基板に残留、帯電する静電気を放電させ
ることが一般的に行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のもののように、液晶ディスプレイ基板に対するラビ
ング工程を施した後に、この液晶ディスプレイ基板に対
するラビング工程により発生し、帯電することとなる静
電気を除去するために、液晶ディスプレイ基板を洗浄も
かねて水等に長時間浸漬する場合には、液晶ディスプレ
イ基板に帯電する静電気を完全に除去するのに長時間浸
漬する必要があり、しかも水等に長時間浸漬して除去す
る場合には液晶ディスプレイ基板に帯電する静電気の除
去は、液晶ディスプレイ基板の側方より引出される電極
を通してのみ行われるものであるので、液晶ディスプレ
イ基板中に帯電して液晶ディスプレイ基板の表示ムラ等
の原因となる静電気を完全に除去することは非常に困難
なことであって、微量ながらも静電気が残留してしまう
ことがあり、また液晶ディスプレイ基板を長時間浸漬し
て静電気を除去することとなる溶媒、例えば水等を使用
した場合においては液晶ディスプレイ基板の側方に導出
されることとなる電極の腐食等の原因となるので、静電
気を除去することとなる溶媒の乾燥を確実に行わなけれ
ばならず、そのため液晶ディスプレイ基板に対する熱等
の影響を考慮した上で、使用する溶媒の種類によっては
非常に乾燥作業に時間がかかるという問題点がある。
【0004】また、高温下において液晶ディスプレイ基
板を長時間曝すことによって静電気を除去しようとする
ものの場合には、水等の静電気を除去する溶媒を使用し
て静電気を除去するものに比べて、静電気を除去するこ
ととなる溶媒の乾燥不要とする点では製造工程での静電
気除去作業の時間を短縮することができるものである
が、直接液晶ディスプレイ基板を長時間高温下で曝すも
のであるので、液晶ディスプレイ基板を構成するガラス
板や配向膜において熱による変形や破損等により正常な
動作をしない表示素子を発生させてしまう欠点がある。
【0005】そこで、この発明は被処理物である液晶デ
ィスプレイ基板において、代表的には製造工程中のラビ
ング工程において発生し、液晶ディスプレイ基板の表面
或いはその内部に帯電することとなる残留静電気をその
多少にかかわらず迅速に、且つ、完全に除去できるよう
にするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】そのために、液晶ディス
プレイ基板に対して、外部への軟X線の漏洩を完全に遮
蔽でき、且つ軟X線を反射自在とする空間内において、
被照射物である液晶ディスプレイ基板に対して均等に回
転させつつ、例えば横置又は複数の液晶ディスプレイ基
板をホルダーにより一定の間隔を設けながら並置させた
上で軟X線を照射してなるものである。
【0007】即ち、液晶ディスプレイ基板の処理装置
は、外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽でき、且つ軟X
線を反射自在とするものであって、開閉自在となる扉体
を有する装置本体内において、回転自在なターンテーブ
ルを配置すると共に、この回転自在となるターンテーブ
ル上に被照射物である液晶ディスプレイ基板を横置さ
せ、又は複数の液晶ディスプレイ基板をホルダーにより
一定の間隔を設けながら並置させて軟X線を照射してな
るものである。
【0008】
【発明の実施の形態】外部への軟X線の漏洩を完全に遮
蔽でき、且つ軟X線を反射自在とする空間内において、
軟X線を照射することによりこの空間内において高密度
の空気イオンが発生することとなるので、この高密度の
空気イオンの存在によりまず液晶ディスプレイ基板表面
に帯電する微小な残留静電気が電気的に中和、除去され
ることとなると共に、液晶ディスプレイ基板の周囲に導
出される電極を介して液晶ディスプレイ基板内に帯電し
ている静電気をも中和、除去できるものである上、この
空間内で直接照射、又は反射する軟X線が液晶ディスプ
レイ基板内を透過することによっても、液晶ディスプレ
イ基板内に残留、帯電する微弱な静電気さえも電気的に
中和、除去されることとなるので、被照射物である液晶
ディスプレイ基板に帯電する静電気はその多少にかかわ
らず完全に除去することができる。
【0009】このとき、被照射物である液晶ディスプレ
イ基板を処理装置内のターンテーブルに対して横置する
ばかりでなく、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダー
により一定の間隔を設けながら並置させて照射を行って
も、照射する軟X線により発生する高密度の空気イオン
により、液晶ディスプレイ基板表面の静電気のみなら
ず、液晶ディスプレイ基板の周囲に導出される電極を介
して液晶ディスプレイ基板内に帯電している静電気をも
中和、除去できると共に、複数の液晶ディスプレイ基板
が一定間隔をあけて並置されているので、軟X線が直接
液晶ディスプレイ基板中を透過することもできて、効率
よく、且つ完全に液晶ディスプレイ基板に帯電する静電
気を除去することができるものとなる。
【0010】なお、軟X線が被照射物である液晶ディス
プレイ基板中を中和することにより、液晶ディスプレイ
基板中イオンが残留してしまうことがあっても、このイ
オンは液晶ディスプレイ基板のアースに吸収されるの
で、軟X線を照射することにより新たに静電気を帯電さ
せることはない。また、帯電中和後余分となる正負の空
気イオンも、圧倒的に大きなアース電位の面積を有する
装置内部に吸収され、余分な電荷は残存しない。
【0011】
【実施例】この発明を図に示す実施例により更に説明す
る。(1)はこの発明の実施例である液晶ディスプレイ
基板の処理方法を具体化した液晶ディスプレイ基板の静
電気除去装置であり、この液晶ディスプレイ基板の静電
気除去装置(1)は、その内側上部略中央に軟X線(点
線で表示)の照射源(図示せず)を有すると共に、その
内壁面(5)は外部への軟X線(点線で表示)の漏洩を
完全に遮蔽でき、且つ軟X線(点線で表示)を反射自在
とする空間(3)を形成するものであって、開閉自在と
なる扉体(4)を有する静電気除去装置本体(2)と、
この静電気除去装置本体(2)の内部で、例えば被照射
物である液晶ディスプレイ基板(8)を載置した上でモ
ーター(図示せず)により回転させて、この照射源から
発生する軟X線(点線で表示)を照射させてなるターン
テーブル(6)から構成されるものである。
【0012】そして、この発明の実施例である液晶ディ
スプレイ基板の静電気除去装置(1)においては、被照
射物である液晶ディスプレイ基板(8)を、例えば横置
又は複数の液晶ディスプレイ基板(8)を高分子プラス
チック製のホルダー(10)内において一定の間隔を設
けながら並置させ、例えば軟X線(点線で表示)の照射
源に対してその液晶ディスプレイ基板(8)の縁辺部
(11)を対向させた上で軟X線(点線で表示)を照射
してなるものである。
【0013】なお、この液晶ディスプレイ基板の静電気
除去装置(1)において、被照射物である液晶ディスプ
レイ基板(8)に対して、軟X線(点線で表示)を照射
するに当たっては、この静電気除去装置本体(2)に付
属するタイマー(7)により、任意の時間を設定するこ
とができるものである。
【0014】この発明の実施例である液晶ディスプレイ
の静電気除去装置(1)は以上の構成を具えるので、被
照射物である液晶ディスプレイ基板(8)において帯電
する静電気を除去しようとするために、この被照射物で
ある液晶ディスプレイ基板(8)に対して、軟X線(点
線で表示)を照射すると、この静電気除去装置本体
(2)内の空間(3)内において高密度の正負全く同数
の空気イオンが発生することとなるので、この軟X線
(点線で表示)により発生する高密度の空気イオンの存
在によりまず液晶ディスプレイ基板(8)表面に帯電す
る微弱な静電気が電気的に中和、除去されるものとな
る。
【0015】更に、液晶ディスプレイ基板(8)内に帯
電している静電気は、液晶ディスプレイ基板(8)の周
囲に導出される電極(9)を介して、静電気除去装置本
体(2)の空間(3)内に存在する、軟X線(点線で表
示)により発生する高密度の空気イオンと結合すること
により電気的に中和、除去されることになると共に、こ
の静電気除去装置本体(2)の空間(3)内で照射源か
ら直接照射、又はこの静電気除去装置本体(2)の内壁
面(5)に反射する軟X線(点線で表示)が液晶ディス
プレイ基板(8)内を透過することによっても電気的に
中和、除去されることとなるので、被照射物である液晶
ディスプレイ基板(8)に帯電する静電気はその多少に
かかわらず除去することができることとなり、また軟X
線(点線で表示)が被照射物である液晶ディスプレイ基
板(8)中を透過することによって、液晶ディスプレイ
基板(8)中にイオンが残留してしまっても、このイオ
ンは液晶ディスプレイ基板(8)のアース側に吸収され
た後、同様に液晶ディスプレイ基板(8)の周囲に導出
される電極(9)を介して、静電気除去装置本体(2)
の空間(3)内に存在する高密度の空気イオンと結合す
ることによって電気的に中和、除去されて、軟X線(点
線で表示)を照射することにより被照射物である液晶デ
ィスプレイ基板(8)が新たに静電気を帯電させること
はないものでもある。
【0016】この液晶ディスプレイ基板(8)に帯電す
る静電気を除去するために、液晶ディスプレイの静電気
除去装置(1)において被照射物である液晶ディスプレ
イ基板(8)に対して軟X線(点線で表示)を照射する
に当たっては、被照射物である液晶ディスプレイ基板
(8)を静電気除去装置本体(2)内のターンテーブル
(6)に対して横置するばかりでなく、複数の液晶ディ
スプレイ基板(8)をホルダー(10)内において一定
の間隔を設けながら並置させ、例えば軟X線(点線で表
示)の照射源に対して、これら液晶ディスプレイ基板
(8)の縁辺部(11)を対向させて照射を行っても、
照射する軟X線(点線で表示)により発生する高密度の
空気イオンにより、液晶ディスプレイ基板(8)表面の
静電気のみならず、これら液晶ディスプレイ基板(8)
の周囲に導出される電極(9)を介して液晶ディスプレ
イ基板(8)内に帯電している静電気をも電気的に中
和、除去できると共に、複数の液晶ディスプレイ基板
(8)が一定間隔をあけて並置されているので、軟X線
(点線で表示)が直接液晶ディスプレイ基板(8)内を
透過することもできて、効率よく、且つ完全に液晶ディ
スプレイ基板(8)に帯電する静電気を除去することが
できるものとなる。また、ホルダー(10)と端面で接
する構造の液晶ディスプレイ基板(8)間に発生し易い
静電気も完全に除去することができる。
【0017】
【発明の効果】以上のとおり、液晶ディスプレイの製造
工程中のラビング工程、その他の工程等により液晶ディ
スプレイ基板に帯電することとなる静電気を、軟X線を
照射することにより、この軟X線によって発生すること
となる高密度の空気イオン及び、直接軟X線が被照射物
である液晶ディスプレイ内を透過することにより電気的
に中和、除去するものとすることで、短時間に、しかも
完全に液晶ディスプレイ基板に帯電することとなる静電
気を完全に除去できるので、液晶ディスプレイ基板の製
造工程における作業性を著しく向上させると共に、帯電
する静電気による液晶ディスプレイ基板の表示ムラをな
くせるので、製品としての歩留まりの向上と同時に製造
コストの削減を図ることができる優れた効果を有するも
のである。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置の全体斜視図である。
【図2】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置内での軟X線照射状態を示した図であ
る。
【図3】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置内で、ホルダーを使用しての軟X線照
射状態を示した図である。
【符号の説明】
1 液晶ディスプレイ基板の静電気除去装置 2 静電気除去装置本体 3 空間 4 扉体 5 内壁面 6 ターンテーブル 7 タイマー 8 液晶ディスプレイ基板 9 電極 10 ホルダー 11 縁辺部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年3月7日(2000.3.7)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 液晶ディスプレイ基板処理方法
と、その方法を利用した処理装置
【特許請求の範囲】
【請求項】 外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽で
き、且つ軟X線を反射する空間内において、回転する被
照射物である液晶ディスプレイ基板に対する軟X線の照
射を、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダーにより一
定の間隔を設けながら並置させて行ってなる液晶ディス
プレイ基板処理方法。
【請求項】 外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽で
き、且つ軟X線を反射するものであって、開閉自在とな
る扉体を有する静電気除去装置本体内において、回転自
在なターンテーブルを配置すると共に、この回転自在と
なるターンテーブル上において被照射物である複数の液
晶ディスプレイ基板をホルダーにより一定の間隔を設け
ながら並置させて軟X線を照射してなる液晶ディスプレ
イ基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イ基板製造工程において、代表的には、液晶分子の配向
を最適にするために行われる、ガラス基板の表面に形成
される配向膜の表面をナイロンブラシ等によるロールに
より擦過するラビング工程において発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなる静電気を除去する処
理方法と、その方法を利用した処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ基板製造工程に
おいて、液晶分子の配向を最適にするために、ガラス基
板の表面に形成される配向膜の表面をナイロンブラシ等
によるロールにより擦過するラビングが行われるが、こ
のラビング工程においては静電気が発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなるため、ラビング工程
によって配向膜の表面が傷つけられることで発生する微
細な塵埃を液晶ディスプレイ基板の表面に吸着してしま
ったり、又液晶ディスプレイ基板自体が静電気を帯びて
しまうことで、例えば、局所的に液晶ディスプレイ基板
を構成する電極間で所定の電圧差を確保することができ
ず、液晶の作動が完全に行われなくなって液晶ディスプ
レイ基板において表示ムラ等の原因となってしまうこと
がある。そこで、代表的には液晶ディスプレイ基板の製
造工程上必要不可欠なこのラビング工程により発生し、
液晶ディスプレイ基板を帯電させることとなる静電気を
除去する必要があり、そのため、ラビング工程後の液晶
ディスプレイ基板の洗浄をかねて水等の溶媒中に長時間
浸漬したり、また高温下において長時間液晶ディスプレ
イ基板を曝す等の静電気除去工程を施すことで、この液
晶ディスプレイ基板に残留、帯電する静電気を放電させ
ることが一般的に行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のもののように、液晶ディスプレイ基板に対するラビ
ング工程を施した後に、この液晶ディスプレイ基板に対
するラビング工程により発生し、帯電することとなる静
電気を除去するために、液晶ディスプレイ基板を洗浄も
かねて水等に長時間浸漬する場合には、液晶ディスプレ
イ基板に帯電する静電気を完全に除去するのに長時間浸
漬する必要があり、しかも水等に長時間浸漬して除去す
る場合には液晶ディスプレイ基板に帯電する静電気の除
去は、液晶ディスプレイ基板の側方より引出される電極
を通してのみ行われるものであるので、液晶ディスプレ
イ基板中に帯電して液晶ディスプレイ基板の表示ムラ等
の原因となる静電気を完全に除去することは非常に困難
なことであって、微量ながらも静電気が残留してしまう
ことがあり、また液晶ディスプレイ基板を長時間浸漬し
て静電気を除去することとなる溶媒、例えば水等を使用
した場合においては液晶ディスプレイ基板の側方に導出
されることとなる電極の腐食等の原因となるので、静電
気を除去することとなる溶媒の乾燥を確実に行わなけれ
ばならず、そのため液晶ディスプレイ基板に対する熱等
の影響を考慮した上で、使用する溶媒の種類によっては
非常に乾燥作業に時間がかかるという問題点がある。
【0004】また、高温下において液晶ディスプレイ基
板を長時間曝すことによって静電気を除去しようとする
ものの場合には、水等の静電気を除去する溶媒を使用し
て静電気を除去するものに比べて、静電気を除去するこ
ととなる溶媒の乾燥不要とする点では製造工程での静電
気除去作業の時間を短縮することができるものである
が、直接液晶ディスプレイ基板を長時間高温下で曝すも
のであるので、液晶ディスプレイ基板を構成するガラス
板や配向膜において熱による変形や破損等により正常な
動作をしない表示素子を発生させてしまう欠点がある。
【0005】そこで、この発明は被処理物である液晶デ
ィスプレイ基板において、代表的には製造工程中のラビ
ング工程において発生し、液晶ディスプレイ基板の表面
或いはその内部に帯電することとなる残留静電気をその
多少にかかわらず迅速に、且つ、完全に除去できるよう
にするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】そのために、外部への軟
X線の漏洩を完全に遮蔽でき、且つ軟X線を反射する空
間内において、回転する被照射物である液晶ディスプレ
イ基板に対する軟X線照射を、複数の液晶ディスプレ
イ基板をホルダーにより一定の間隔を設けながら並置さ
て行ってなるものである。
【0007】即ち、液晶ディスプレイ基板の処理装置
は、外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽でき、且つ軟X
線を反射するものであって、開閉自在となる扉体を有す
る装置本体内において、回転自在なターンテーブルを配
置すると共に、この回転自在となるターンテーブル上に
被照射物である複数の液晶ディスプレイ基板をホルダー
により一定の間隔を設けながら並置させて軟X線を照射
してなるものである。
【0008】
【発明の実施の形態】処理装置内のターンテーブルに
いては、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダーにより
一定の間隔を設けながら並置させて照射を行うことで、
直接又は処理装置内で反射して間接的に照射することと
なる軟X線により発生する高密度の空気イオンにより、
液晶ディスプレイ基板表面の静電気のみならず、液晶デ
ィスプレイ基板の周囲に導出される電極を介して液晶デ
ィスプレイ基板内に帯電している静電気をも中和、除去
できると共に、特に複数の液晶ディスプレイ基板が一定
間隔をあけて並置されているので、直接照射するばかり
でなく処理装置内での反射を介してあらゆる方向から
X線が液晶ディスプレイ基板中を透過することにもなっ
、効率よく、且つ完全に液晶ディスプレイ基板に帯電
する静電気を除去することができるものとなる。
【0009】なお、軟X線が被照射物である液晶ディス
プレイ基板中を中和することにより、液晶ディスプレイ
基板中イオンが残留してしまうことがあっても、この
イオンは液晶ディスプレイ基板のアースに吸収されるの
で、軟X線を照射することにより新たに静電気を帯電さ
せることはない。また、帯電中和後余分となる正負の空
気イオンも、圧倒的に大きなアース電位の面積を有する
装置内部に吸収され、余分な電荷は残存しない。
【0010
【実施例】この発明を図に示す実施例により更に説明す
る。(1)はこの発明の実施例である液晶ディスプレイ
基板の処理方法を具体化した液晶ディスプレイ基板の静
電気除去装置であり、この液晶ディスプレイ基板の静電
気除去装置(1)は、その内側上部略中央に軟X線(点
線で表示)の照射源(図示せず)を有すると共に、その
内壁面(5)は外部への軟X線(点線で表示)の漏洩を
完全に遮蔽でき、且つ軟X線(点線で表示)を反射する
空間(3)を形成するものであって、開閉自在となる扉
体(4)を有する静電気除去装置本体(2)と、この静
電気除去装置本体(2)の内部で、例えば被照射物であ
る液晶ディスプレイ基板(8)を載置した上でモーター
(図示せず)により回転させて、この照射源から発生す
る軟X線(点線で表示)を照射させてなるターンテーブ
ル(6)から構成されるものである。
【001】そして、この発明の実施例である液晶ディ
スプレイ基板の静電気除去装置(1)においては、被照
射物である複数の液晶ディスプレイ基板(8)を高分子
プラスチック製のホルダー(10)内において一定の間
隔を設けながら並置させ、軟X線(点線で表示)の照射
源に対してその液晶ディスプレイ基板(8)の縁辺部
(11)を対向させた上で軟X線(点線で表示)を照射
してなるものである。
【001】なお、この液晶ディスプレイ基板の静電気
除去装置(1)において、被照射物である液晶ディスプ
レイ基板(8)に対して、軟X線(点線で表示)を照射
するに当たっては、この静電気除去装置本体(2)に付
属するタイマー(7)により、任意の時間を設定するこ
とができるものである。
【001】この発明の実施例である液晶ディスプレイ
の静電気除去装置(1)は以上の構成を具えるので、被
照射物である液晶ディスプレイ基板(8)において帯電
する静電気を除去しようとするために、この高分子プラ
スチック製のホルダー(10)内において一定の間隔を
設けながら並置させる被照射物である液晶ディスプレイ
基板(8)に対して、軟X線(点線で表示)を照射する
と、この静電気除去装置本体(2)内の空間(3)内に
おいて高密度の正負全く同数の空気イオンが発生するこ
ととなるので、この軟X線(点線で表示)により発生す
る高密度の空気イオンの存在によりまず液晶ディスプレ
イ基板(8)表面に帯電する微弱な静電気が電気的に中
和、除去されるものとなる。
【001】更に、液晶ディスプレイ基板(8)内に帯
電している静電気は、液晶ディスプレイ基板(8)の周
囲に導出される電極(9)を介して、静電気除去装置本
体(2)の空間(3)内に存在する、軟X線(点線で表
示)により発生する高密度の空気イオンと結合すること
により電気的に中和、除去されることになると共に、こ
の静電気除去装置本体(2)の空間(3)内で照射源か
ら直接照射、又はこの静電気除去装置本体(2)の内壁
面(5)に反射する軟X線(点線で表示)が液晶ディス
プレイ基板(8)内を透過することによっても電気的に
中和、除去されることとなるので、被照射物である液晶
ディスプレイ基板(8)に帯電する静電気はその量の
少にかかわらず除去することができることとなり、また
軟X線(点線で表示)が被照射物である液晶ディスプレ
イ基板(8)中を透過することによって、液晶ディスプ
レイ基板(8)中にイオンが残留してしまっても、この
イオンは液晶ディスプレイ基板(8)のアース側に吸収
された後、同様に液晶ディスプレイ基板(8)の周囲に
導出される電極(9)を介して、静電気除去装置本体
(2)の空間(3)内に存在する高密度の空気イオンと
結合することによって電気的に中和、除去されて、軟X
線(点線で表示)を照射することにより被照射物である
液晶ディスプレイ基板(8)が新たに静電気を帯電させ
ることはないものでもある。
【001】この液晶ディスプレイ基板(8)に帯電す
る静電気を除去するために、液晶ディスプレイの静電気
除去装置(1)において被照射物である液晶ディスプレ
イ基板(8)に対して軟X線(点線で表示)を照射する
に当たって、特に被照射物である液晶ディスプレイ基板
(8)をホルダー(10)内において一定の間隔を設け
ながら並置させ、軟X線(点線で表示)の照射源に対し
て、これら液晶ディスプレイ基板(8)の縁辺部(1
1)を対向させて照射を行うことで、照射する軟X線
(点線で表示)により発生する高密度の空気イオンによ
り、液晶ディスプレイ基板(8)表面の静電気のみなら
ず、これら液晶ディスプレイ基板(8)の周囲に導出さ
れる電極(9)を介して液晶ディスプレイ基板(8)内
に帯電している静電気をも電気的に中和、除去できると
共に、複数の液晶ディスプレイ基板(8)が一定間隔を
あけて並置されていることで、軟X線(点線で表示)が
直接照射するばかりでなく除去装置(1)内での反射を
介してあらゆる方向から液晶ディスプレイ基板(8)内
を透過することもできて、効率よく、且つ完全に液晶デ
ィスプレイ基板(8)に帯電する静電気を除去すること
ができるものとなる。また、ホルダー(10)と端面で
接する構造の液晶ディスプレイ基板(8)間に発生し易
い静電気も完全に除去することができる。
【001
【発明の効果】以上のとおり、液晶ディスプレイの製造
工程中のラビング工程、その他の工程等により液晶ディ
スプレイ基板に帯電することとなる静電気を、軟X線を
照射することにより、この軟X線によって発生すること
となる高密度の空気イオン及び、直接軟X線が被照射物
である液晶ディスプレイ内を透過することにより電気的
に中和、除去するものとすることで、短時間に、しかも
完全に液晶ディスプレイ基板に帯電することとなる静電
気を完全に除去できるので、液晶ディスプレイ基板の製
造工程における作業性を著しく向上させると共に、帯電
する静電気による液晶ディスプレイ基板の表示ムラをな
くせるので、製品としての歩留まりの向上と同時に製造
コストの削減を図ることができる優れた効果を有するも
のである。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置の全体斜視図である。
【図2】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置に使用される液晶ディスプレイ基板の
斜視図である。
【図3】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置内で、ホルダーを使用しての軟X線照
射状態を示した図である。
【符号の説明】 1 液晶ディスプレイ基板の静電気除去装置 2 静電気除去装置本体 3 空間 4 扉体 5 内壁面 6 ターンテーブル 7 タイマー 8 液晶ディスプレイ基板 9 電極 10 ホルダー 11 縁辺部
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H088 FA20 FA23 FA24 HA01 HA03 MA18 MA20 2H090 HC14 HC16 HC18 JC09 MB01 MB03

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽で
    き、且つ軟X線を反射自在とする空間内において、被照
    射物である液晶ディスプレイ基板に対して均等に回転さ
    せつつ、軟X線を照射してなる液晶ディスプレイ基板処
    理方法。
  2. 【請求項2】 上記外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽
    でき、且つ軟X線を反射自在とする空間内において、回
    転する被照射物である液晶ディスプレイ基板に対する軟
    X線の照射を、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダー
    により一定の間隔を設けながら並置させて行ってなる請
    求項1記載の液晶ディスプレイ基板処理方法。
  3. 【請求項3】 外部への軟X線の漏洩を完全に遮蔽で
    き、且つ軟X線を反射自在とするものであって、開閉自
    在となる扉体を有する静電気除去装置本体内において、
    回転自在なターンテーブルを配置すると共に、この回転
    自在となるターンテーブル上において被照射物である液
    晶ディスプレイ基板を横置、又は複数の液晶ディスプレ
    イ基板をホルダーにより一定の間隔を設けながら並置さ
    せて軟X線を照射してなる液晶ディスプレイ基板処理装
    置。
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