JP2000263433A - ウェーハ搬送装置、ウェーハ研磨装置及びウェーハ製造方法 - Google Patents

ウェーハ搬送装置、ウェーハ研磨装置及びウェーハ製造方法

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JP2000263433A
JP2000263433A JP6933699A JP6933699A JP2000263433A JP 2000263433 A JP2000263433 A JP 2000263433A JP 6933699 A JP6933699 A JP 6933699A JP 6933699 A JP6933699 A JP 6933699A JP 2000263433 A JP2000263433 A JP 2000263433A
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JP
Japan
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wafer
holding head
tray
polishing
polished
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JP6933699A
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English (en)
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Tatsunobu Kobayashi
達宜 小林
Jiro Kajiwara
治郎 梶原
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Priority to KR1020000012646A priority patent/KR100638290B1/ko
Priority to DE60036825T priority patent/DE60036825T2/de
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Priority to DE60036829T priority patent/DE60036829T2/de
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハがウェーハ保持ヘッドに精度良く安
定して着脱可能であるとともに効率良く研磨を行うこと
ができるウェーハ搬送装置、ウェーハ研磨装置及びウェ
ーハ製造方法を提供することを目的としている。 【解決手段】 装置全体1は、ガイドレール6に沿って
水平移動されるトレイ部2と、このトレイ部2移動方向
の下方に設置されたウェーハ着脱機構4とを備えてい
る。ガイドレール6と平行な位置には研磨パッドSが配
置されている。ウェーハ保持ヘッド50に対するトレイ
部2に載置されたウェーハの装着は、ヘッド駆動部51
を旋回させてウェーハ着脱機構4とウェーハ保持ヘッド
50とを対向させるとともにトレイ部2をウェーハ保持
ヘッド50下方に移動させ、ウェーハ着脱機構4によっ
てウェーハを上昇させることにより行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造プロセ
スにおいて、ウェーハ保持ヘッドに研磨されるべきウェ
ーハを受け渡すとともに、研磨されたウェーハをウェー
ハ保持ヘッドから受け取るためのウェーハ搬送装置及
び、半導体ウェーハ表面を研磨する装置に用いられるウ
ェーハ研磨装置並びにウェーハ製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】 近
年、半導体製造装置の高集積化に伴うパターンの微細化
が進んでおり、特に多層構造の微細なパターンの形成が
容易かつ確実に行われるために、製造工程中における半
導体ウェーハの表面を極力平坦化させることが重要とな
ってきている。その場合、表面の膜を研磨するために平
坦化の度合いが高い化学機械的研磨法(CMP法)が脚
光を浴びている。
【0003】CMP法とは、砥粒剤としてSiO2 を用
いたアルカリ溶液やSeO2を用いた中性溶液、或いは
Al2O3を用いた酸性溶液等を用いて化学的・機械的に
ウェーハ表面を研磨し、平坦化する方法である。一般
に、半導体ウェーハの表面を研磨するウェーハ研磨装置
では、ウェーハを保持するウェーハ研磨ヘッドと研磨パ
ッドを貼付したプラテンとを対向するように配置させ、
ウェーハ表面を研磨パッドに押し当てつつ、研磨剤を供
給しながらウェーハ研磨へッドを研磨パッド上で回転さ
せることにより研磨を行っている。
【0004】このCMP法によってウェーハ研磨を行う
装置としては例えば図6に示すようなものがある。図6
において、研磨されるべきウェーハWは、二股状に形成
された2機のアーム303のそれぞれの先端に設けられ
たウェーハ保持ヘッド304にそれぞれ保持されてい
る。これらのウェーハWは、回転可能な3台のプラテン
301のそれぞれの表面に貼付された研磨パッド302
a、302b、302cと当接しつつ回転されることに
よって研磨されるようになっている。このとき、研磨パ
ッド302a、302bは1次研磨用、研磨パッド30
2cは2次研磨用とされている。また、これらの研磨パ
ッド302a、302b、302cは、それぞれの直径
方向に設置されたガイド305に沿って直動されるドレ
ッシングパッド306によってドレッシングされるよう
になっている。アーム303は軸303aに旋回自在に
支持されており、ウェーハWは研磨パッド302a、3
02cによって1次研磨されたあと、研磨パッド302
bによって2次研磨されるようになっている。ウェーハ
Wは、ウェーハ着脱部308において、伸縮可能なハン
ドリングロボット307によってウェーハ保持ヘッド3
04に着脱されるようになっている。つまり、ハンドリ
ングロボット307はセンドカセット309から研磨さ
れるべきウェーハWを取り出し、このウェーハWをウェ
ーハ着脱部308においてウェーハ保持ヘッド304に
装着させる。そして、研磨終了後のウェーハWはハンド
リングロボット307によってウェーハ着脱部308に
おいてウェーハ保持ヘッド304から離脱され、レシー
ブカセット310に送られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この場合、ウェーハ保
持ヘッド304に対するウェーハの着脱は、伸縮される
ハンドリングロボット307によって行われるようにな
っており、ハンドリングロボット307の構造は複雑な
ものである。このため、ウェーハWに対するハンドリン
グ動作の信頼性が低下したり、装置の洗浄などといった
メンテナンスが困難となる。また、複数のウェーハWを
ウェーハ保持ヘッド304に着脱させるには、ハンドリ
ングロボット307の伸縮範囲を大きくしなければなら
ず、そのためにハンドリングロボット307は大型化・
複雑化される。そのために、動作のスピードは遅くな
り、効率は低下される。
【0006】また、このウェハー着脱部であるハンドリ
ングロボット307自体を移動させることも考えられる
が、装置全体が複雑化してしまったり、ウェーハ保持ヘ
ッド304との位置決めが困難となるなど、信頼性の低
下や効率の低下を招くことになる。
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、ウェーハがウェーハ保持ヘッドに精度良く安
定して着脱可能であるとともに効率良く研磨を行うこと
ができるウェーハ搬送装置、ウェーハ研磨装置及びウェ
ーハ製造方法を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、請求項1に記載の発明は、研磨パッド上でウェーハ
を回転させつつ研磨するウェーハ保持ヘッドに研磨され
るべきウェーハを受け渡すとともに、このウェーハ保持
ヘッドに取り付けられて研磨されたウェーハをウェーハ
保持ヘッドから受け取るためのウェーハ搬送装置であっ
て、前記ウェーハを載置可能なトレイ部と、前記トレイ
部を、前記ウェーハ保持ヘッドの下方を通過するように
移動させるトレイ部移動機構と、前記トレイ部の下方か
ら前記トレイ部に載置された研磨されるべきウェーハを
ウェーハ保持ヘッド下面に装着するとともに、このウェ
ーハ保持ヘッドに装着されて研磨されたウェーハを前記
ウェーハ保持ヘッドから受け取り前記トレイ部に載置さ
せるためのウェーハ着脱機構とを備えたことを特徴とす
る。
【0009】本発明によれば、ウェーハの搬送は前記ト
レイ部によって行われる。そして、このトレイ部をウェ
ーハ保持ヘッド下方に移動させるとともに、この位置に
設けられているウェーハ着脱機構によって、ウェーハは
ウェーハ保持ヘッドに着脱される。このように搬送機構
と着脱機構とを分離させたため、それぞれの機構は簡易
なものとなる。そのため、それぞれの機能の高速化を実
現することができるとともに動作の信頼性も向上され、
メンテナンスも容易となる。
【0010】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
のウェーハ搬送装置であって、前記ウェーハ着脱機構
は、前記研磨パッドと離間した位置に設置されていると
ともに、前記ウェーハ保持ヘッドは、前記研磨パッド上
方と前記ウェーハ着脱機構上方とを移動可能に支持され
ていることを特徴とするウェーハ搬送装置である。
【0011】本発明によれば、ウェーハ保持ヘッドに対
するウェーハの着脱時においては、前記ウェーハ保持ヘ
ッドは前記ウェーハ着脱機構上方に移動され、一方、ウ
ェーハ研磨時においては、前記研磨パッド上方に移動さ
れる。このように、ウェーハの研磨機構と着脱機構とを
離間させたことにより、それぞれの機構を簡易に構成す
ることができる。また、それぞれの動作は干渉すること
なく安定して行われる。
【0012】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載のウェーハ搬送装置であって、前記トレイ部
は、前記ウェーハ着脱機構の上方を移動するように設け
られているとともに、前記ウェーハ着脱機構は、前記ウ
ェーハ下面を支持しつつ該ウェーハを昇降させるアーム
部を備えていることを特徴とするウェーハ搬送装置であ
る。
【0013】本発明によれば、ウェーハ保持ヘッド下方
を移動するように設けられているトレイ部は、前記ウェ
ーハ着脱機構上方を移動するように設けられている。し
がたって、このトレイ部はウェーハ保持ヘッドとウェー
ハ着脱機構との間を移動されるようになっている。そし
て、ウェーハ着脱機構は昇降可能な前記アーム部を備え
ているため、ウェーハ保持ヘッド下方に移動したトレイ
部上のウェーハは前記アーム部によってウェーハ保持ヘ
ッドに装着可能であるとともに、ウェーハ保持ヘッドか
ら離脱可能となっている。
【0014】請求項4に記載の発明は、表面に研磨パッ
ドが貼付されたプラテンと、研磨すべきウェーハを保持
して前記研磨パッドにウェーハの一面を当接させるウェ
ーハ保持ヘッドとを具備し、このウェーハ保持ヘッドと
前記プラテンとの相対運動により前記研磨パッドで前記
ウェーハを研磨するウェーハ研磨装置であって、ウェー
ハを載置可能なトレイ部と、前記トレイ部を、前記ウェ
ーハ保持ヘッドの下方を通過するように移動させるトレ
イ部移動機構と、前記研磨パッドと離間した位置に設置
され、前記トレイ部に載置された研磨されるべきウェー
ハを前記ウェーハ保持ヘッド下面に装着するとともに、
このウェーハ保持ヘッドに装着されて研磨されたウェー
ハを前記ウェーハ保持ヘッドから受け取り前記トレイ部
に載置させるためのウェーハ着脱機構とを備え、前記ウ
ェーハ保持ヘッドは、前記研磨パッド上方と前記ウェー
ハ着脱機構上方とを移動可能に支持されていることを特
徴とするウェーハ研磨装置である。
【0015】本発明によれば、ウェーハの搬送は前記ト
レイ部によって行われる。そして、このトレイ部をウェ
ーハ保持ヘッド下方に移動させるとともに、この位置に
設けられているウェーハ着脱機構によって、ウェーハは
ウェーハ保持ヘッドに着脱される。このように搬送機構
と着脱機構とを分離させたため、それぞれの機構は簡易
なものとなる。そのため、それぞれの機能の高速化を実
現することができるとともに動作の信頼性も向上され、
メンテナンスも容易となる。また、ウェーハ保持ヘッド
に対するウェーハの着脱時においては、前記ウェーハ保
持ヘッドは前記ウェーハ着脱機構上方に移動され、一
方、ウェーハ研磨時においては、前記研磨パッド上方に
移動される。このように、ウェーハの研磨機構と着脱機
構とを離間させたことにより、それぞれの機構を簡易に
構成することができるとともに、それぞれの動作は干渉
することなく安定して行われる。
【0016】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
のウェーハ研磨装置であって、前記研磨パッドは前記ト
レイ部の移動方向に沿って複数設置されているととも
に、これら研磨パッドと対応するように前記ウェーハ保
持ヘッド及びウェーハ着脱機構が複数設置されており、
ウェーハ保持ヘッドは、これら研磨パッド上方とウェー
ハ着脱機構上方とをそれぞれ移動可能に支持されている
ことを特徴とするウェーハ研磨装置である。
【0017】本発明によれば、前記トレイ部の移動方向
に沿って研磨パッドを複数設けたため、例えば種類の異
なった研磨パッドや研磨剤を使用して1次研磨、2次研
磨などといった研磨を同時に行うことができる。そし
て、前記トレイ部は、前記複数の研磨パッドに対応する
ように設けられたウェーハ着脱機構上方を移動すること
により、それぞれのウェーハ保持ヘッドに対してウェー
ハを着脱させることができる。また、ウェーハ保持ヘッ
ドは、これらウェーハ着脱機構と研磨パッドとの間をそ
れぞれ独立して移動されることにより、最小限のトレイ
部を備えさせるだけで、各ウェーハ保持ヘッドに対する
ウェーハの着脱や、各ウェーハ保持ヘッドにおけるウェ
ーハ研磨を効率良く行うことができる。
【0018】請求項6に記載の発明は、請求項4または
5に記載のウェーハ研磨装置であって、前記トレイ部
は、複数の研磨されるべきウェーハを前記トレイ部に受
け渡すための上流側ロボットアームと、研磨後のウェー
ハを前記トレイ部から受け取るための下流側ロボットア
ームとの間を移動可能に支持されているとともに、自転
可能に設けられていることを特徴とするウェーハ研磨装
置である。
【0019】本発明によれば、ロボットアームによって
トレイ部に複数のウェーハを受け渡したり受け取ったり
する場合においても、トレイ部を自転させつつ行えるた
め、ロボットアームの機構を複雑化することなく、ウェ
ーハの受け取り、受け渡し動作を容易に行うことができ
る。
【0020】請求項7に記載の発明は、表面に研磨パッ
ドが貼付されたプラテンと、研磨すべきウェーハを保持
して前記研磨パッドにウェーハの一面を当接させるウェ
ーハ保持ヘッドとを具備し、このウェーハ保持ヘッドと
前記プラテンとの相対運動により前記研磨パッドで前記
ウェーハを研磨する研磨工程と、前記ウェーハ保持ヘッ
ドに研磨されるべきウェーハを受け渡すとともに、この
ウェーハ保持ヘッドに取り付けられて研磨されたウェー
ハをウェーハ保持ヘッドから受け取るためのウェーハ搬
送工程とを含んだウェーハ製造方法であって、研磨され
るべきウェーハを載置したトレイ部を、ウェーハ着脱機
構上方に移動させるとともに、このトレイ部上方に前記
ウェーハ保持ヘッドを移動させ、前記ウェーハ着脱機構
によってトレイ部に載置されているウェーハを前記ウェ
ーハ保持ヘッドに装着させた後、このウェーハ保持ヘッ
ドを前記研磨パッド上に移動させて前記ウェーハの研磨
を行い、研磨後のウェーハは、前記ウェーハ保持ヘッド
から前記ウェーハ着脱機構に受け渡されるとともに前記
トレイ部に載置されることを特徴とするウェーハ製造方
法である。
【0021】本発明によれば、搬送機構と着脱機構とを
分離させたため、それぞれの機構は簡易なものとなり、
それぞれの機能の高速化を実現することができるととも
に動作の信頼性も向上され、メンテナンスも容易とな
る。また、ウェーハの研磨機構と着脱機構とを離間して
配置するとともに、ウェーハ保持ヘッドに対するウェー
ハの着脱時においては、前記ウェーハ保持ヘッドを前記
ウェーハ着脱機構上方に移動させ、一方、ウェーハ研磨
時においては、前記研磨パッド上方に移動させるように
したため、それぞれの機構を簡易に構成することができ
るとともに、それぞれの動作を干渉させることなく安定
して行うことができる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態による
ウェーハ搬送装置及びウェーハ研磨装置並びにウェーハ
製造方法を図面を参照して説明する。図1は本発明のウ
ェーハ研磨装置の一実施形態のうち上方から見た平面図
であり、図2は図1の側面図である。また、図3、図4
はそれぞれ図1、図2の要部拡大図である。
【0023】これらの図において、装置全体1は、ウェ
ーハWを複数載置可能なトレイ部2と、このトレイ部2
を移動可能に支持するトレイ部移動機構3と、トレイ部
移動機構3の下方に設けられたウェーハ着脱機構4とを
備えている。
【0024】平面視長方形の板状に形成されたトレイ部
2は、ほぼウェーハWと同じ大きさを有する孔部2aを
2つ備えている。それぞれの孔部2aには円環状に形成
された歯車状の係合部5が設置されており、ウェーハW
は、周縁をこの係合部5に載置させることによってトレ
イ部2に支持されている。
【0025】トレイ部移動機構2は、トレイ部2を水平
方向移動自在に支持するガイドレール6と、このガイド
レール6に沿ってトレイ部2を移動させるための駆動部
7とを備えている。トレイ部2の両側には、ガイドレー
ル6に装着されたリニアブシュホルダ8が連結されてお
り、このリニアブシュホルダ8がガイドレール6に沿っ
て摺動されることにより、トレイ部2がガイドレール6
の長手方向に沿って移動されるようになっている。
【0026】トレイ部2の一端には、ガイドレール6に
平行に設けられた駆動部レール7aに連結されている駆
動部7が設けられている。この駆動部7には、例えばリ
ニアモータが用いられている。そして、駆動部7を駆動
させることにより、トレイ部2はガイドレール6及び駆
動部レール7aの長手方向に沿って水平方向に移動され
るようになっている。なお、このトレイ部2は1つ設置
されたものであり、図1中左右方向に移動されるように
なっている。
【0027】トレイ部2の移動方向のうち、上流側と下
流側とには、上流側ロボットアーム10aと下流側ロボ
ットアーム10bとがそれぞれ設置されている。このう
ち上流側ロボットアーム10aは、研磨されるべきウェ
ーハWを収容させたウェーハ収容部からウェーハWを受
け取り、先端部に設けられたウェーハ吸着機構によって
ウェーハWの一面を保持し、トレイ部2の孔部2aに設
置された係合部5にウェーハWを載置させるものであ
る。このとき、上流側ロボットアーム10aは、前記ウ
ェーハ収容部とトレイ部2との間を旋回可能に設けられ
たものであり、先端部に研磨されるべきウェーハWを吸
着した状態で、前記ウェーハ収容部からトレイ部2のう
ち近接した側の孔部2a上方まで旋回し、この吸着を解
くことによって、トレイ部2にウェーハWを載置させる
ようになっている。
【0028】同様に、下流側ロボットアーム10bも、
下流側に移動されたトレイ部2と例えば研磨済ウェーハ
収容部との間を旋回されるように設けられており、先端
部のウェーハ吸着機構によって保持させた研磨後のウェ
ーハを前記研磨済ウェーハ収容部に収容させるようにな
っている。
【0029】また、トレイ部2は水平方向に自転可能に
設けられており、各ロボットアーム10a、10b側に
それぞれ移動してウェーハWの受け渡し、受け取りが行
われる際、複数設けられた孔部2aを各ロボットアーム
10a、10b側に近づけるように回転するようになっ
ている。
【0030】ガイドレール6と水平方向に離間した位置
には、トレイ部2の移動方向と平行になるように、プラ
テンP表面に貼付された研磨パッドSが2箇所に設けら
れている。このうち上流側(図1中左側)の研磨パッド
Sは1次研磨用であって、下流側(図1中右側)の研磨
パッドSは2次研磨用であり、それぞれ材質の異なった
ものが使用されている。それぞれのプラテンPは回転自
在に支持されており、このプラテンPが回転されること
によって研磨パッドSも回転されるようになっている。
【0031】研磨パッドSの材質には、従来よりウェー
ハWの研磨に使用されていたものであればいずれでも良
く、例えばポリエステル等からなる不織布にポリウレタ
ン樹脂等の軟質樹脂を含浸させたベロアタイプパッド、
ポリエステル等の不織布を基材としてその上に発泡ポリ
ウレタン等からなる発泡樹脂層を形成したスエードタイ
プパッド、或いは独立発泡させたポリウレタン等からな
る発泡樹脂シートが使用される。そして、ウェーハWの
研磨の目的に応じて、それぞれの研磨パッドの材質を変
えることができるようになっている。
【0032】上流側及び下流側の研磨パッドSのそれぞ
れの上方には、それぞれ2つのウェーハ保持ヘッド50
が配置されている。このウェーハ保持ヘッド50は、平
面視長方形状に形成されたヘッド駆動部51の端部に回
転自在に支持されているとともに、トレイ部2の孔部2
aの間隔と同じ間隔を有するように配置されている。こ
の2基のヘッド駆動部51は回転駆動源を備えた軸51
aに旋回自在に支持されており、このヘッド駆動部51
が旋回されることによって、ウェーハ保持ヘッド50は
研磨パッド51上方とトレイ部2の移動経路上方とを移
動されるようになっている。
【0033】トレイ部移動機構3のうちガイドレール6
の下方には、トレイ部2の移動方向に沿って複数のウェ
ーハ着脱機構4が設置されている。このウェーハ着脱機
構4は、ヘッド駆動部51に設けられた2つのウェーハ
保持ヘッド50の間隔と同じ間隔を有するように2基ず
つ設けられているとともに、それぞれのヘッド駆動部5
1に対応するように配置されており、全部で4基設けら
れている。
【0034】トレイ部2は、ウェーハ着脱機構4の上方
を移動するように設けられている。また、ウェーハ着脱
機構4は、ウェーハW下面を支持するためのアーム部4
aと、このアーム部4aを孔部2aに挿通させるように
昇降させるための昇降機構4bとを備えている。この昇
降機構4bには例えばエアシリンダが用いられている。
そして、ウェーハ着脱機構4の上方に移動されたトレイ
部2上のウェーハWは、アーム部4aによってその下面
を支持されるとともに、トレイ部2とウェーハ保持ヘッ
ド50下面との間において昇降されるようになってい
る。
【0035】図5に示すように、ウェーハ保持ヘッド5
0は、天板部33及び筒状に形成された周壁部34から
なるヘッド本体32と、ヘッド本体32の内部に張られ
たダイヤフラム35と、ダイヤフラム35の下面に固定
された円盤状のキャリア36と、周壁部34の内壁とキ
ャリア36の外周面に同心状に設けられた円環状のリテ
ーナリング37とを備えている。
【0036】ヘッド本体32は、円板状の天板部33と
天板部33の外周下方に固定された筒状の周壁部34と
から構成され、ヘッド本体32の下端部は開口されて中
空になっている。天板部33は、シャフト39に同軸に
固定されており、シャフト39には、圧力調整機構50
に連通された流路45が鉛直方向に形成されている。ま
た、周壁部34の下端部には、全周にわたって段部34
a及び半径方向内方に突出された円環状の係止部40が
形成されている。
【0037】繊維補強ゴムなどの弾性材料からなるダイ
ヤフラム35は円環状または円板状に形成されており、
ダイヤフラム固定リング41によって周壁部34の内壁
に形成された段部34a上に固定されている。
【0038】ダイヤフラム35上方には流体室44が形
成されており、シャフト39に形成された流路45に連
通されている。そして、流体室44内部に、図示しない
圧力調整機構から流路45を通して、空気をはじめとす
る流体が供給されることによって、流体室44内部の圧
力は調整される。
【0039】セラミック等の高剛性材料からなるキャリ
ア36はほぼ円盤状に一定の厚さで形成されており、ダ
イヤフラム35の上面に設けられたキャリア固定リング
42によって固定されている。キャリア固定リング42
の上部には円環状に段部42aが形成されており、天板
部33から鉛直方向に挿通されナット49、スぺーサー
49aによって固定されているストッパーボルト48の
下端に形成された段部48aと係合されるようになって
いる。そして、例えばウェーハ保持ヘッド31が上昇さ
れ、キャリア36などの自重によってダイヤフラム35
が下方にたわんでも、段部42aと段部48aとが係合
することにより、ダイヤフラム35に過剰な力を作用さ
せないようになっている。
【0040】リテーナリング37は、周壁部34の内壁
とキャリア36の外周面との間に円環状に形成されてお
り、周壁部34の内壁との間及びキャリア36の外周面
との間に僅かな隙間を空けて、周壁部34及びキャリア
36と同心状に配置されている。また、リテーナリング
37は、ダイヤフラム35の上面に設けられたリテーナ
リング固定リング43によって固定されている。リテー
ナリング37の上端面及び下端面は水平に形成されてい
る。また、リテーナリング37の外周面には段部37a
が形成されており、ウェーハ保持ヘッド31が上昇され
た際、段部37aと係止部40とが係合することによっ
てリテーナリング37の下方向への過剰な移動を抑え、
ダイヤフラム35に局所的な力を作用させないようにな
っている。
【0041】なお、このウェーハ保持ヘッド50として
は種々のものを用いることが可能であり、例えばヘッド
駆動部51とウェーハ保持ヘッド50とを球面軸受によ
って傾動自在に支持したものなど様々なものを採用する
ことができる。
【0042】次に、このような構成を持つウェーハ搬送
装置及び研磨装置についての動作について説明する。は
じめに、研磨されるべきウェーハWをトレイ部2に載置
させるため、前記ウェーハ収容部に収容されている研磨
されるべきウェーハWを、上流側ロボットアーム10a
によって取り出させる。つまり、研磨されるべきウェー
ハWは、上流側ロボットアーム10aの先端に設けられ
たウェーハ吸着機構によって、その上面を保持される。
【0043】ウェーハWを保持した上流側ロボットアー
ム10aは、トレイ部2の移動経路上に旋回される。こ
のとき、トレイ部2は上流側ロボットアーム10a側に
移動されている。次いで、上流側ロボットアーム10a
は、保持しているウェーハWを、トレイ部2に形成され
た2つの孔部2aのうち、近接している側の孔部2a上
方に配置させる。そして前記ウェーハ吸着機構によるウ
ェーハWの保持を解くことにより、ウェーハWは孔部2
aに設けられた係合部5に載置される。
【0044】トレイ部2において2つ設けられた孔部2
aのうち、一方の孔部2aにウェーハWを支持させた
ら、このトレイ部2を自転させる。トレイ部2を自転さ
せることにより、もう一方の孔部2aが上流側ロボット
アーム10aに近づくように配置される。そして前述と
同様、上流側ロボットアーム10aによって研磨される
べきウェーハWをウェーハ収容部から取り出すととも
に、もう一方の孔部2aにウェーハWを載置させる。こ
うして、トレイ部2には、研磨されるべきウェーハWが
2つ載置された状態となる。
【0045】駆動部7を駆動させることによって、研磨
されるべきウェーハWが載置されたトレイ部2を、ガイ
ドレール6に沿って下流側に水平移動させるとともに、
ヘッド駆動部51を旋回させて、2つのウェーハ保持ヘ
ッド50がトレイ部2の移動経路上であるガイドレール
6側に配置されるようにする。このとき、トレイ部2の
移動経路上に移動されたウェーハ保持ヘッド50は、ウ
ェーハ着脱機構4と対向するように位置決めされるよう
になっている。
【0046】また、研磨されるべきウェーハWが載置さ
れたトレイ部2は、ウェーハWをウェーハ保持ヘッド5
0とウェーハ着脱機構4との間に配置させるように移動
されるとともに、その位置で停止される。
【0047】この状態で、ウェーハ着脱機構4のそれぞ
れのアーム部4aを上昇させるとともに、孔部2aの係
合部5に載置されているそれぞれのウェーハWを前記ア
ーム部4aによって下方から支持させる。そしてアーム
部4aをさらに上昇させることにより、ウェーハWはウ
ェーハ保持ヘッド50に接近されるとともに、その下面
に装着される。すなわち、ウェーハWは、キャリア36
の下面に設けられたウェーハ付着シート36aに付着さ
れ、リテーナリング37によって周囲を係止される。
【0048】ウェーハ保持ヘッド50に装着されたウェ
ーハWの研磨を行うために、へッド駆動部51を旋回さ
せて、研磨されるべきウェーハWを装着したウェーハ保
持ヘッド50を研磨パッドS上方に配置させ、その表面
をプラテンP上面に貼付された研磨パッドSに当接させ
る。
【0049】次いで、流路45から流体室44に空気な
どの流体を流入させることによって、流体室44内の圧
力を調節し、キャリア36及びリテーナリング37の研
磨パッドSへの押圧圧力を調節する。キャリア36及び
リテーナリング37はダイヤフラム35に支持された、
それぞれ独立して上下方向に変位可能なフローティング
構造となっており、流体室44内部の圧力によって研磨
パッドSへの押圧圧力が調節可能となっている。
【0050】そして、このウェーハ保持ヘッド50に保
持されたウェーハWを研磨パッドS上で回転させること
により、ウェーハWの1次研磨が行われる。
【0051】ウェーハWの1次研磨が終了したら、再び
ヘッド駆動部51を旋回させ、ウェーハ着脱機構4上方
に移動されているトレイ部2と、1次研磨を終えたウェ
ーハWとを対向させる。そして、ウェーハ着脱機構4の
アーム部4aをトレイ部2の下方から孔部2aを挿通さ
せつつ上昇させて、アーム部4aでウェーハWの下面を
支持させるとともに、この状態でウェーハ保持ヘッド5
0によるウェーハWの保持を解き、アーム部4aにウェ
ーハWを載置させる。ウェーハWを支持したアーム部4
aを下降させることにより、この1次研磨を終えたウェ
ーハWはトレイ部2に載置される。
【0052】1次研磨を終えたウェーハWは、2次研磨
用である下流側のウェーハ保持ヘッド50に装着される
ようになっている。すなわち、このウェーハWを載置さ
せたトレイ部2を下流側に移動させて、下流側に設置さ
れたウェーハ着脱機構4上方に配置させる。そして、1
次研磨時と同様に、下流側のヘッド駆動部51を旋回さ
せて2次研磨用のウェーハ保持ヘッド50をトレイ部2
上方に配置させ、下流側のウェーハ着脱機構4によっ
て、1次研磨を終えたウェーハWを、2次研磨用のウェ
ーハ保持ヘッド50に装着させる。そしてヘッド駆動部
51を旋回させてこのウェーハ保持ヘッド50を2次研
磨用の研磨パッドS上面に配置させ、研磨を行う。
【0053】このウェーハWの2次研磨が行われている
最中に、トレイ部2を上流側に移動させ、上流側ロボッ
トアーム10aによってウェーハ収容部に収容されてい
る研磨されるべきウェーハWをこのトレイ部2に受け渡
すことが可能である。この研磨されるべきウェーハW
は、前述同様、下流側に移動されて1次研磨用のウェー
ハ保持ヘッド50に保持されるとともに、1次研磨が行
われる。つまり、1次、2次の研磨動作の時間をずらす
ことによって、1次研磨と2次研磨とをそれぞれ独立さ
せて同時に行うことができる。
【0054】一方、2次研磨を終えたウェーハWは、1
次研磨時と同様に、下流側のウェーハ着脱機構4によっ
てトレイ部2に載置される。このトレイ部2は、1次研
磨用ウェーハ保持ヘッド50にウェーハWを受け渡した
あと下流側に移動されたものである。2次研磨を終えた
ウェーハWを載置させたトレイ部2は、駆動部7によっ
て下流側ロボットアーム10b側に搬送される。ウェー
ハWは、下流側ロボットアーム10bのウェーハ吸着機
構によってその一面を保持されるとともに、下流側ロボ
ットアーム10bの旋回によって前記研磨済ウェーハ収
容部に収容される。
【0055】研磨済みのウェーハWを下流側ロボットア
ーム10bに受け渡したトレイ部2は、前記1次研磨を
終えたウェーハWを受け取って2次研磨工程に搬送させ
るために、再び上流側に移動される。このようにトレイ
部2は、上流側、下流側ロボットアーム10a、10b
や1次、2次用ウェーハ保持ヘッド50に対するウェー
ハWの受け取り、受け渡しのために、移動自在とされた
構成となっている。
【0056】このようにウェーハWの搬送はトレイ部2
の水平移動によって行われるものであり、ウェーハ保持
ヘッド50へのウェーハWの着脱はトレイ部2をウェー
ハ保持ヘッド50下方に移動させるとともにこの位置に
設けたウェーハ着脱機構4によって行われるものである
としたことにより、それぞれの機構は簡易なものとな
り、動作の高速化を実現することができるとともに動作
の信頼性も向上され、メンテナンスも容易にできるよう
になる。
【0057】つまり、搬送機構と着脱機構とを分離した
構成とすることにより、例えばトレイ部2においては、
水平方向の直線移動動作及び目標位置での停止動作を高
速且つ正確に実現できればよく、一方、ウェーハ着脱機
構4においては、ウェーハ保持ヘッド50に対するウェ
ーハWの着脱動作のみを高速且つ正確に実現できればよ
い。すなわち、それぞれの動作を制御するための制御系
を複雑化させることなく正確且つ高速な動作を実現する
ことができる。このように、それぞれの機構及び制御を
簡易なものとすることができ、それぞれの機能の高速化
を実現することができるとともに動作の信頼性も向上さ
れ、メンテナンスも容易となる。
【0058】また、ウェーハ着脱機構4を、ウェーハW
の研磨機構である研磨パッドSと離間した位置に設置さ
せるとともに、ウェーハ保持ヘッド50は、研磨パッド
S上方とウェーハ着脱機構4上方との間をヘッド駆動部
51の旋回によって移動される構成とし、ウェーハ保持
ヘッド50に対するウェーハWの着脱時においてはウェ
ーハ保持ヘッド50はウェーハ着脱機構4上方に移動さ
れ、一方、ウェーハW研磨時においては、研磨パッドS
上方に移動されるようにしたため、ウェーハWの着脱動
作と研磨動作とはそれぞれ干渉することなく安定して行
われるとともに、それぞれの機構を簡易に構成すること
ができる。
【0059】またトレイ部2は、ウェーハ保持ヘッド5
0下方とウェーハ着脱機構4上方との間において移動自
在に支持されているとともに、ウェーハ着脱機構4は昇
降可能なアーム部4aを備えているため、ウェーハ保持
ヘッド50下方に移動したトレイ部2上のウェーハW
は、このアーム部4aによってウェーハ保持ヘッド50
に対して安定して着脱される。
【0060】ウェーハWの研磨機構である研磨パッドS
及びウェーハ保持ヘッド50をトレイ部2の移動方向に
沿って複数設置させたことにより、それぞれの研磨機構
によって、例えば異なった研磨パッドSや研磨剤を使用
して1次研磨、2次研磨といった種類の異なった研磨を
同時に行うことができる。
【0061】そしてトレイ部2は、前記研磨機構と対応
するように複数設けられたウェーハ着脱機構4上を移動
されるとともに、それぞれのウェーハ保持ヘッド50
は、ヘッド駆動部51の旋回によってトレイ部2の移動
経路上にそれぞれ時間差を有しつつ独立して移動するよ
うに設けられたため、ウェーハ保持ヘッド50に対する
ウェーハWの着脱工程とウェーハWの研磨工程とは、そ
れぞれ独立して行うことができるため、各工程での休止
時間は低減される。したがってスループットは向上さ
れ、効率の良いウェーハWの研磨及び搬送を行うことが
できる。
【0062】またトレイ部2は、複数のウェーハWを載
置させた状態で移動可能であるため、ウェーハWの搬送
は効率良く行われる。そして、このトレイ部2を自転可
能としたことにより、トレイ部2に複数のウェーハWを
載置させる場合においても、自転させながら載置可能で
あるため、載置を容易に行うことができる。つまり各ロ
ボットアーム10a、10bによるトレイ部2に対する
ウェーハWの受け取り、受け渡しは、トレイ部2の孔部
2aをそれぞれのロボットアーム10a、10bに接近
させるようにトレイ部2を自転させてから行うことが可
能であり、このため、これらのロボットアーム10a、
10bに伸縮機能を備えさせることなくそれぞれの孔部
2aにウェーハWを設置させることができる。
【0063】このように、トレイ部2を自転可能とした
ため、各ロボットアーム10a、10bの構造をも簡易
に構成することができるとともに、これらの動作の高速
化や信頼性の向上を実現することができる。
【0064】
【発明の効果】本発明のウェーハ搬送装置、ウェーハ研
磨装置及びウェーハ製造方法は、以下のような効果を有
するものである。
【0065】請求項1に記載の発明によれば、ウェーハ
の搬送は前記トレイ部によって行われる。そして、この
トレイ部をウェーハ保持ヘッド下方に移動させるととも
に、この位置に設けられているウェーハ着脱機構によっ
て、ウェーハはウェーハ保持ヘッドに着脱される。この
ように搬送機構と着脱機構とを分離させたため、それぞ
れの機構は簡易なものとなる。そのため、それぞれの機
能の高速化を実現することができるとともに動作の信頼
性も向上され、メンテナンスも容易となる。
【0066】請求項2に記載の発明によれば、ウェーハ
保持ヘッドに対するウェーハの着脱時においては、前記
ウェーハ保持ヘッドは前記ウェーハ着脱機構上方に移動
され、一方、ウェーハ研磨時においては、前記研磨パッ
ド上方に移動される。このように、ウェーハの研磨機構
と着脱機構とを離間させたことにより、それぞれの機構
を簡易に構成することができる。また、それぞれの動作
は干渉することなく安定して行われる。
【0067】請求項3に記載の発明によれば、ウェーハ
保持ヘッド下方を移動するように設けられているトレイ
部は、前記ウェーハ着脱機構上方を移動するように設け
られている。しがたって、このトレイ部はウェーハ保持
ヘッドとウェーハ着脱機構との間を移動されるようにな
っている。そして、ウェーハ着脱機構は昇降可能な前記
アーム部を備えているため、ウェーハ保持ヘッド下方に
移動したトレイ部上のウェーハは前記アーム部によって
ウェーハ保持ヘッドに装着可能であるとともに、ウェー
ハ保持ヘッドから離脱可能となっている。
【0068】請求項4に記載の発明によれば、ウェーハ
の搬送は前記トレイ部によって行われる。そして、この
トレイ部をウェーハ保持ヘッド下方に移動させるととも
に、この位置に設けられているウェーハ着脱機構によっ
て、ウェーハはウェーハ保持ヘッドに着脱される。この
ように搬送機構と着脱機構とを分離させたため、それぞ
れの機構は簡易なものとなる。そのため、それぞれの機
能の高速化を実現することができるとともに動作の信頼
性も向上され、メンテナンスも容易となる。また、ウェ
ーハ保持ヘッドに対するウェーハの着脱時においては、
前記ウェーハ保持ヘッドは前記ウェーハ着脱機構上方に
移動され、一方、ウェーハ研磨時においては、前記研磨
パッド上方に移動される。このように、ウェーハの研磨
機構と着脱機構とを離間させたことにより、それぞれの
機構を簡易に構成することができるとともに、それぞれ
の動作は干渉することなく安定して行われる。
【0069】請求項5に記載の発明によれば、前記トレ
イ部の移動方向に沿って研磨パッドを複数設けたため、
例えば種類の異なった研磨パッドや研磨剤を使用して1
次研磨、2次研磨などといった研磨を同時に行うことが
できる。そして、前記トレイ部は、前記複数の研磨パッ
ドに対応するように設けられたウェーハ着脱機構上方を
移動することにより、それぞれのウェーハ保持ヘッドに
対してウェーハを着脱させることができる。また、ウェ
ーハ保持ヘッドは、これらウェーハ着脱機構と研磨パッ
ドとの間をそれぞれ独立して移動されることにより、最
小限のトレイ部を備えさせるだけで、各ウェーハ保持ヘ
ッドに対するウェーハの着脱や、各ウェーハ保持ヘッド
におけるウェーハ研磨を効率良く行うことができる。
【0070】請求項6に記載の発明によれば、ロボット
アームによってトレイ部に複数のウェーハを受け渡した
り受け取ったりする場合においても、トレイ部を自転さ
せつつ行えるため、ロボットアームの機構を複雑化する
ことなく、ウェーハの受け取り、受け渡し動作を容易に
行うことができる。
【0071】請求項7に記載の発明によれば、搬送機構
と着脱機構とを分離させたため、それぞれの機構は簡易
なものとなり、それぞれの機能の高速化を実現すること
ができるとともに動作の信頼性も向上され、メンテナン
スも容易となる。また、ウェーハの研磨機構と着脱機構
とを離間して配置するとともに、ウェーハ保持ヘッドに
対するウェーハの着脱時においては、前記ウェーハ保持
ヘッドを前記ウェーハ着脱機構上方に移動させ、一方、
ウェーハ研磨時においては、前記研磨パッド上方に移動
させるようにしたため、それぞれの機構を簡易に構成す
ることができるとともに、それぞれの動作を干渉させる
ことなく安定して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウェーハ搬送装置及び研磨装置の実施
形態の一例を示す平面図である。
【図2】図1の側面図である。
【図3】図1のうち、トレイ部近傍の拡大図である。
【図4】図2のうち、ウェーハ着脱機構近傍の拡大図で
ある。
【図5】ウェーハ保持ヘッドを説明するための断面図で
ある。
【図6】従来の装置を説明する図である。
【符号の説明】
2 トレイ部 2a 孔部 3 トレイ部移動機構 4 ウェーハ着脱機構 6 ガイドレール 7 駆動部 7a 駆動部レール 8 リニアブシュホルダ 10a 上流側ロボットアーム 10b 下流側ロボットアーム 50 ウェーハ保持ヘッド 51 ヘッド駆動部 S 研磨パッド P プラテン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C058 AA07 AA12 AA18 AB03 AB04 AB08 AC01 CB03 DA17 5F031 CA02 DA05 FA01 FA03 FA12 MA22 PA06

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨パッド上でウェーハを回転させつつ
    研磨するウェーハ保持ヘッドに研磨されるべきウェーハ
    を受け渡すとともに、このウェーハ保持ヘッドに取り付
    けられて研磨されたウェーハをウェーハ保持ヘッドから
    受け取るためのウェーハ搬送装置であって、 前記ウェーハを載置可能なトレイ部と、 前記トレイ部を、前記ウェーハ保持ヘッドの下方を通過
    するように移動させるトレイ部移動機構と、 前記トレイ部の下方から前記トレイ部に載置された研磨
    されるべきウェーハをウェーハ保持ヘッド下面に装着す
    るとともに、このウェーハ保持ヘッドに装着されて研磨
    されたウェーハを前記ウェーハ保持ヘッドから受け取り
    前記トレイ部に載置させるためのウェーハ着脱機構とを
    備えたことを特徴とするウェーハ搬送装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のウェーハ搬送装置であ
    って、 前記ウェーハ着脱機構は、前記研磨パッドと離間した位
    置に設置されているとともに、 前記ウェーハ保持ヘッドは、前記研磨パッド上方と前記
    ウェーハ着脱機構上方とを移動可能に支持されているこ
    とを特徴とするウェーハ搬送装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載のウェーハ搬送
    装置であって、 前記トレイ部は、前記ウェーハ着脱機構の上方を移動す
    るように設けられているとともに、 前記ウェーハ着脱機構は、前記ウェーハ下面を支持しつ
    つ該ウェーハを昇降させるアーム部を備えていることを
    特徴とするウェーハ搬送装置。
  4. 【請求項4】 表面に研磨パッドが貼付されたプラテン
    と、研磨すべきウェーハを保持して前記研磨パッドにウ
    ェーハの一面を当接させるウェーハ保持ヘッドとを具備
    し、このウェーハ保持ヘッドと前記プラテンとの相対運
    動により前記研磨パッドで前記ウェーハを研磨するウェ
    ーハ研磨装置であって、 ウェーハを載置可能なトレイ部と、 前記トレイ部を、前記ウェーハ保持ヘッドの下方を通過
    するように移動させるトレイ部移動機構と、 前記研磨パッドと離間した位置に設置され、前記トレイ
    部に載置された研磨されるべきウェーハを前記ウェーハ
    保持ヘッド下面に装着するとともに、このウェーハ保持
    ヘッドに装着されて研磨されたウェーハを前記ウェーハ
    保持ヘッドから受け取り前記トレイ部に載置させるため
    のウェーハ着脱機構とを備え、 前記ウェーハ保持ヘッドは、前記研磨パッド上方と前記
    ウェーハ着脱機構上方とを移動可能に支持されているこ
    とを特徴とするウェーハ研磨装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載のウェーハ研磨装置であ
    って、 前記研磨パッドは前記トレイ部の移動方向に沿って複数
    設置されているとともに、これら研磨パッドと対応する
    ように前記ウェーハ保持ヘッド及びウェーハ着脱機構が
    複数設置されており、 ウェーハ保持ヘッドは、これら研磨パッド上方とウェー
    ハ着脱機構上方とをそれぞれ移動可能に支持されている
    ことを特徴とするウェーハ研磨装置。
  6. 【請求項6】 請求項4または5に記載のウェーハ研磨
    装置であって、 前記トレイ部は、複数の研磨されるべきウェーハを前記
    トレイ部に受け渡すための上流側ロボットアームと、研
    磨後のウェーハを前記トレイ部から受け取るための下流
    側ロボットアームとの間を移動可能に支持されていると
    ともに、自転可能に設けられていることを特徴とするウ
    ェーハ研磨装置。
  7. 【請求項7】 表面に研磨パッドが貼付されたプラテン
    と、研磨すべきウェーハを保持して前記研磨パッドにウ
    ェーハの一面を当接させるウェーハ保持ヘッドとを具備
    し、このウェーハ保持ヘッドと前記プラテンとの相対運
    動により前記研磨パッドで前記ウェーハを研磨する研磨
    工程と、 前記ウェーハ保持ヘッドに研磨されるべきウェーハを受
    け渡すとともに、このウェーハ保持ヘッドに取り付けら
    れて研磨されたウェーハをウェーハ保持ヘッドから受け
    取るためのウェーハ搬送工程とを含んだウェーハ製造方
    法であって、 研磨されるべきウェーハを載置したトレイ部を、ウェー
    ハ着脱機構上方に移動させるとともに、このトレイ部上
    方に前記ウェーハ保持ヘッドを移動させ、 前記ウェーハ着脱機構によってトレイ部に載置されてい
    るウェーハを前記ウェーハ保持ヘッドに装着させた後、
    このウェーハ保持ヘッドを前記研磨パッド上に移動させ
    て前記ウェーハの研磨を行い、 研磨後のウェーハは、前記ウェーハ保持ヘッドから前記
    ウェーハ着脱機構に受け渡されるとともに前記トレイ部
    に載置されることを特徴とするウェーハ製造方法。
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