JP2000256368A - 光学活性なオキサザボロリジン類、その製造方法および用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学活性なオキサザボロリジン類、その製造
方法および用途を提供すること。 【解決手段】 一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１,Ｒ２,Ｒ３ は、水素、アルキル等。）で
示される光学活性なオキサザボロリジン類、その製造方
法および用途。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性なオキサ
ザボロリジン類、その製造方法および光学活性なアルド
ール類の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光学活
性なアルドール類は、例えば医薬中間体として重要な化
合物である。従来からケテンシリルアセタール類とアル
デヒド類との反応によるアルドール類の製造方法が知ら
れているが、この方法では得られる生成物はラセミ体で
あり、その光学活性体を得るためには非常に煩雑な操作
を必要とするという問題があった。

【０００３】

【課題を解決するための手段】このような状況下に本発
明者らは、より効率的な光学活性なアルドール類の製造
方法を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、アミノ基にス
ルホニル基を有する特定の光学活性なアミノアルコール
類と三塩化ホウ素から得られる光学活性なボロリジンを
ルイス酸として用い、ケテンシリルアセタール類とアル
デヒド類との反応による対応する光学純度の優れた光学
活性なアルドール類が、簡便に製造し得ることを見出
し、本発明を完成した。

【０００４】すなわち本発明は、一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１,Ｒ２,Ｒ３ は、それぞれ独立に、水素原
子、低級アルキル基、低級アルキルで置換されていても
よいフェニル基または低級アルキルで置換されていても
よいベンジル基を表すが、同時にすべて水素原子である
ことはない。Ｒ４,Ｒ５は低級アルキル又は低級アルコ
キシで置換されていてもよいアリール基、あるいは低級
アルキル又は低級アルコキシで置換されていてもよいア
ラルキル基を表し、 Ｒ６ は、フッ素または塩素で置換
されていてもよい低級アルキル基、低級アルキル又は低
級アルコキシで置換されていてもよいアリール基、ある
いは低級アルキル又は低級アルコキシで置換されていて
もよいアラルキル基を表し、＊は不斉炭素を表す。）で
示される光学活性なオキサザボロリジン類、その製造方
法、それを用いる光学活性なアルドール類の製造方法を
提供するものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の一般式（II）で示される光学活性なβ−
アミノアルコール類の置換基Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ とし
ては、それぞれ例えば水素原子、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル等の低級アルキル基、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル等の低級アルキルで置換されていてもよ
いフェニル基、メチル、エチル、プロピル、ブチル等の
低級アルキルで置換されていてもよいベンジル基等が挙
げられ、同時にすべて水素原子であることはない。

【０００６】置換基Ｒ４ 、Ｒ５ としては、それぞれ例
えば水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチル等の
低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ等の低級アルコキシ基等が挙げられる。 Ｒ６
は、フッ素または塩素で置換されていてもよいメチル、
エチル、プロピル、ブチル等の低級アルキル基、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル等の低級アルキル又はメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の低級アル
コキシで置換されていてもよいフェニル、ナフチル等の
アリール基、あるいはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル等の低級アルキル基、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル等の低級アルキル又はメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ等の低級アルコキシで置換されていても
よいベンジル、フェニルエチル等のアラルキル基等が挙
げられる。

【０００７】光学活性なβ−アミノアミノアルコール類
（II）の代表的な化合物としては、例えば光学活性な2-
（ｐ−トルエンスルホニルアミノ）-3- トリメチルシロ
キシ-1,1- ジフェニルブタノ−ル、2-メタンスルホニル
アミノ-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジフェニルブタノ
−ル、2-（α-ナフタレンスルホニルアミノ）-3- トリ
メチルシロキシ-1,1- ジフェニルブタノ−ル、2-トリフ
ルオロメタンスルホニルアミノ-3- トリメチルシロキシ
-1,1- ジフェニルブタノ−ル、2-（p-ニトロベンゼンス
ルホニルアミノ）-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジフェ
ニルブタノ−ル、2-（2,4,6-トリメチルベンゼンスルホ
ニルアミノ）-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジフェニル
ブタノ−ル、2-（2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミ
ノ）-3-トリメチルシロキシ-1,1- ジフェニルブタノ−
ル、2-（2,4,6-トリイソプロピルベンゼンスルホニルア
ミノ）-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジフェニルブタノ
−ル、2-（p-クロロベンゼンスルホニルアミノ）-3- ト
リメチルシロキシ-1,1- ジフェニルブタノ−ル、2-（ｐ
−トルエンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジメチル
シロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-メタンスルホ
ニルアミノ-3-(ｔ-ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフ
ェニルブタノ−ル、2-（α-ナフタレンスルホニルアミ
ノ）-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニル
ブタノ−ル、2-トリフルオロメタンスルホニルアミノ-3
-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ
−ル、2-（p-ニトロベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ
- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−
ル、2-（2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニルアミノ）
-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタ
ノ−ル、2-（2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ）
-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタ
ノ−ル、2-（2,4,6-トリイソプロピルベンゼンスルホニ
ルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフ
ェニルブタノ−ル、2-（p-クロロベンゼンスルホニルア
ミノ）-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノ−ル、2-（ｐ−トルエンスルホニルアミノ）メ
タンスルホニルアミノ-3-(ｔ- ブチルジエチルシロキ
シ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-メタンスルホニルア
ミノ-3-(ｔ- ブチルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェニル
ブタノ−ル、2-（α-ナフタレンスルホニルアミノ）-3-
(ｔ- ブチルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ
−ル、2-トリフルオロメタンスルホニルアミノ-3-(ｔ-
ブチルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、
2-（p-ニトロベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチ
ルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-
（2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ
- ブチルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−
ル、2-（2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ）-3-
(ｔ- ブチルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ
−ル、2-（2,4,6-トリイソプロピルベンゼンスルホニル
アミノ）-3-(ｔ- ブチルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェ
ニルブタノ−ル、2-（p-クロロベンゼンスルホニルアミ
ノ）-3-(ｔ-ブチルジエチルシロキシ)-1,1-ジフェニル
ブタノ−ル、2-（ｐ−トルエンスルホニルアミノ）-3-
(ｔ- ブチルジ- ｉ- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニ
ルブタノ−ル、2-メタンスルホニルアミノ-3-(ｔ- ブチ
ルジ- ｉ- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−
ル、2-（α-ナフタレンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブ
チルジ- ｉ- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ
−ル、2-トリフルオロメタンスルホニルアミノ-3-(ｔ-
ブチルジ- ｉ- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタ
ノ−ル、2-（p-ニトロベンゼンスルホニルアミノ）-3-
(ｔ- ブチルジ- ｉ-プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニル
ブタノ−ル、2-（2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニル
アミノ）-3-(ｔ- ブチルジ- ｉ- プロピルシロキシ)-1,
1-ジフェニルブタノ−ル、2-（2,5-ジクロロベンゼンス
ルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジ-ｉ- プロピルシロ
キシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-（2,4,6-トリイソ
プロピルベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジ
- ｉ- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、
2-（p-クロロベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチ
ルジ- ｉ- プロピルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−
ル、2-（ｐ−トルエンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチ
ルジフェニルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-
メタンスルホニルアミノアミノ-3-(ｔ- ブチルジフェニ
ルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-（α-ナフ
タレンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジフェニルシ
ロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-トリフルオロメ
タンスルホニルアミノ-3-(ｔ- ブチルジフェニルシロキ
シ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-（p-ニトロベンゼン
スルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジフェニルシロキ
シ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-（2,4,6-トリメチル
ベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジフェニル
シロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-（2,5-ジクロ
ロベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジフェニ
ルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、2-（2,4,6-ト
リイソプロピルベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブ
チルジフェニルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−ル、
2-（2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ-
ブチルジフェニルシロキシ)-1,1-ジフェニルブタノ−
ル、2-アミノ-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジトリルブ
タノ−ル、2-（ｐ−トルエンスルホニルアミノ）-3- ト
リメチルシロキシ-1,1- ジトリルブタノ−ル、2-メタン
スルホニルアミノ-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジトリ
ルブタノ−ル、2-（α-ナフタレンスルホニルアミノ）-
3-トリメチルシロキシ-1,1- ジトリルブタノ−ル、2-ト
リフルオロメタンスルホニルアミノ-3- トリメチルシロ
キシ-1,1- ジトリルブタノ−ル、2-（p-ニトロベンゼン
スルホニルアミノ）-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジト
リルブタノ−ル、2-（2,4,6-トリメチルベンゼンスルホ
ニルアミノ）-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジトリルブ
タノ−ル、2-（2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミ
ノ）-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジトリルブタノ−
ル、2-（2,4,6-トリイソプロピルベンゼンスルホニルア
ミノ）-3- トリメチルシロキシ-1,1- ジトリルブタノ−
ル、-1,1- ビス（メトキシフェニル) ブタノ−ル2-（ｐ
−トルエンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジメチル
シロキシ）-1,1- ビス（メトキシフェニル) ブタノ−
ル、2-メタンスルホニルアミノ-3-(ｔ- ブチルジメチル
シロキシ）-1,1- ビス（メトキシフェニル) ブタノ−
ル、2-（α-ナフタレンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブ
チルジメチルシロキシ）-1,1- ビス（メトキシフェニ
ル) ブタノ−ル、2-トリフルオロメタンスルホニルアミ
ノ-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ）-1,1- ビス（メト
キシフェニル) ブタノ−ル、2-（p-ニトロベンゼンスル
ホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ）-1,1
- ビス（メトキシフェニル) ブタノ−ル、2-（2,4,6-ト
リメチルベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジ
メチルシロキシ）-1,1- ビス（メトキシフェニル) ブタ
ノ−ル、2-（2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ）
-3-(ｔ- ブチルジメチルシロキシ）-1,1- ビス（メトキ
シフェニル) ブタノ−ル、2-（2,4,6-トリイソプロピル
ベンゼンスルホニルアミノ）-3-(ｔ- ブチルジメチルシ
ロキシ）-1,1- ビス（メトキシフェニル)ブタノ−ル等
が挙げられる。

【０００８】これらの光学活性なβ−アミノアルコール
類(II)は、光学活性トレオニンを出発原料として得られ
る光学活性アミノアルコール化合物[Tetrahedron,54,10
265(1998)]と塩化スルホニル類との反応により容易に製
造することができる。例えば、光学活性トレオニンにベ
ンジルオキシカルボニルハライドを作用させて、アミノ
基を保護した後、ジアゾメタンを作用させてカルボン酸
をエステル化し、次いでt-ブチルシリルハライド類を作
用させてヒドロキシ基にt-ブチルシリル基を導入し、次
いでフェニルマグネシウムハライドを作用させてエステ
ル基をジフェニル化し、しかる後にアミノ基の脱保護
し、次いで塩化スルホニル類との反応により良好な収率
で光学活性なβ−アミノアルコール類(II)を製造するこ
とができる。

【０００９】本発明における光学活性なβ−アミノアル
コール(II)は、一般式(VI) （式中、Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3 ,Ｒ4 ,Ｒ５及び＊は前記と同じ意
味を表す。）で示される光学活性アミノアルコール類と
塩化スルホニル化合物との反応により製造される。上記
反応には、通常、溶媒が用いられ、かかる溶媒として
は，例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベン
ゼン等の芳香族類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン等の炭化水素類、メチレンクロリド、エチレンクロリ
ド、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、これらの混
合物などが挙げられる。溶媒は、光学活性アミノアルコ
ール類(VI)に対して、通常0.5 〜20重量倍程度使用され
る。光学活性なアミノアルコール類(II)は、例えばトリ
エチルアミン等の３級アミン、ジメチルアミノピリジン
等のピリジン類等の塩基の存在下、対応する光学活性ア
ミノアルコール化合物(VI)と塩化スルホニル類とを反応
させることにより製造し得る。３級アミンの使用量は塩
化スルホニル化合物に対し、通常１ 〜10モル倍程度、
好ましくは1 〜5 モル倍程度である。また、ピリジン類
の使用量は塩化スルホニル化合物に対し、通常０．１
〜５0モル％程度、好ましくは０．1 〜１０モル％程度
である。

【００１０】上記反応で使用する塩化スルホニル化合物
としては、p-トシルクロリド、メタンスルホニルクロリ
ド、α-ナフタレンスルホニルクロリド、トリフルオロ
メタンスルホニルクロリド、p-ニトロベンゼンスルホニ
ルクロリド、２，４，６-トリメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド、２，５−ジクロロベンゼンスルホニルクロ
リド、２，４，６-トリイソプロピルベンゼンスルホニ
ルクロリド、 p-クロロベンゼンスルホニルクロリド等
を挙げることができる。

【００１１】また本発明の光学活性なオキサザボロリジ
ン類（Ｉ）は、光学活性なβ−アミノアルコール類（I
I）と三塩化ホウ素を反応させることにより製造するこ
とができる。

【００１２】光学活性なオキサザボロリジン類（Ｉ）の
代表化合物としては、例えば、前記光学活性なβ−アミ
ノアミノアルコール類（II）の代表化合物として挙げた
化合物と三塩化ホウ素との反応により得られる対応する
光学活性なオキサザボロリジン類（Ｉ）が挙げられる。

【００１３】光学活性なβ−アミノアルコール類（II）
と三塩化ホウ素を反応させ光学活性なオキサザボロリジ
ン類（Ｉ）を得る製造法には、通常、n-BuLi等のアルキ
ルリチウムが併用される。上記反応において該三塩化ホ
ウ素の使用量は、光学活性なβ−アミノアルコール類(I
I)に対して、通常0.8 〜10モル倍程度、好ましくは1 〜
5 モル倍程度である。アルキルリチウムの使用量は、光
学活性なβ−アミノアルコール類(II)に対して、通常、
２モル倍程度である。

【００１４】上記反応には、通常、溶媒が用いられ、か
かる溶媒としては，例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼン等の芳香族類、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素類、メチレンクロリ
ド、エチレンクロリド、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、これらの混合物などが挙げられる。溶媒は、光
学活性なβ−アミノアルコール類(II)に対して、通常0.
5 〜20重量倍程度使用される。光学活性なオキサザボロ
リジン類（Ｉ）を得る際の具体的な方法としては、例え
ば、溶媒及び光学活性なβ−アミノアルコール類(II)の
混合物にアルキルリチウムを加え、次いで三塩化ホウ素
を加える方法等を挙げることができる。この際、反応温
度は通常−20 〜50 ℃程度、好ましくは−10 〜30℃程
度である。かくして得られる光学活性なオキサザボロリ
ジン類（Ｉ）、単離して用いることもできるが、通常は
そのまま他の反応に利用することができる。

【００１５】上記のようにして得られる本発明の光学活
性なオキサザボロリジン類（Ｉ）は、例えば、以下の反
応に利用できる。 一般式（III） （式中、 Ｒ７は低級アルキル基、Ｒ８、Ｒ９はそれぞ
れ低級アルキル基、水素原子を表す。）で示されるケテ
ンシリルアセタール類と一般式（IV） （式中、Ｒ１０は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン、アルコキシ基を表す。）で示されるアルデヒド類と
を、前記一般式（Ｉ）で示される光学活性なオキサザボ
ロリジン類の存在下に反応させることを特徴とする一般
式（Ｖ） （式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０および＊は前記と同
じ意味を表し、Ｒ１１は水素原子またはトリメチルシリ
ル基を表す。）で示される光学活性なアルドール類の製
造方法。

【００１６】上記光学活性なアルドール類（Ｖ）を得る
反応において、光学活性なオキサザボロリジン類（Ｉ）
の使用量は、ケテンシリルアセタール類(III)とアルデ
ヒド類(IV)に対し、原料の光学活性なβ−アミノアミノ
アルコール類（II）換算で、通常、0.01〜3 モル倍程
度、好ましくは0.05〜2 モル倍程度である。ケテンシリ
ルアセタール類(III)の使用量はアルデヒド類(IV)に対
し、通常0.８〜3 モル倍程度、好ましくは１〜2 モル倍
程度である。上記反応には通常、溶媒が用いられ、かか
る溶媒としては，例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼン等の芳香族類、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素類、メチレンクロリ
ド、エチレンクロリド、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、これらの混合物などが挙げられる。溶媒は、光
学活性なβ−アミノアミノアルコール類（II）に対し
て、通常、0.5〜20重量倍程度使用される。

【００１７】上記反応の反応温度は、通常、−78 〜50
℃程度、好ましくは−78〜30℃程度である。上記反応で
用いられるアルデヒド類(IV)としては、例えば、ベンズ
アルデヒド、o,m,p-クロロベンズアルデヒド、 o,m,p-
メトキシベンズアルデヒド等を挙げることができる。ま
た、ケテンシリルアセタール類(III)としては、例え
ば、１−エトキシ−２−メチル−１−トリメチルシロキ
シプロペン、１−エトキシ−２メチル−１−トリメチル
シロキシブテン、１−エトキシ−２−エチル−１−トリ
メチルシロキシブテン等を挙げることができる。

【００１８】かくして光学活性なアルドール類（Ｖ）が
生成するが、これを単離するにあたっては、例えば、反
応マスに飽和炭酸水素ナトリウムなどの水溶液を加えて
反応を停止した後、酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、
無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤で乾燥後、溶媒を留去す
る等して、単離することができる。単離した光学活性な
アルドール類（Ｖ）は、必要に応じて再結晶や各種クロ
マトグラフィー等の精製手段に付すことにより更に精製
することもできる。本発明において得られる光学活性な
アルドール類（Ｖ）の具体例は、出発原料として用いた
ケテンシリルアセタール類(III)とアルデヒド類(IV)に
対応するものが挙げられる。

【００１９】

【発明の効果】本発明によれば、3-位に置換シリルオキ
シ基とアミノ基に置換スルホニル基を有する特定の光学
活性なβ−アミノアミノアルコール類（II）とアルキル
リチウム、三塩化ホウ素から光学活性なオキサザボロリ
ジン類（Ｉ）が得られ、これをを用いて、ケテンシリル
アセタール類とアルデヒド類とを反応させることによ
り、光学純度の優れた光学活性なアルドール類が、煩雑
な操作もなく製造できる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
でないことは言うまでもない。

【００２１】実施例１：1-エトキシ-2-メチル-1-トリメ
チルシロキシプロ ペンの調製 アルゴン雰囲気下,500 ml三口丸底フラスコにジイソプ
ロピルアミン3.9 ml(27.80 mmol) を秤量し、 Et2O50 m
lに溶解、撹拌した。0℃に冷却した後、n-BuLi 18.6 ml
(28.40 mmol, 1.53 N)を加えた。15分反応させた後イソ
酪酸エチル3.5ml(25.80 mmol)をEt2O 50 mlに溶解させ1
時間かけて滴下し、さらに1 時間反応させた後、トリ
メチルクロロシラン4.0 ml(31.50mmol)をEt2O 50 mlに
溶解させ加えた。0 ℃から室温まで自然昇温し20 時間
撹拌し、沈殿物をセライト濾過によって除去した。濾液
をエバポレーターで注意深く濃縮した後、減圧蒸留する
ことで1-エトキシ-2-メチル-1-トリメチルシロキシプロ
ペンを得た。 収量 3730.2 mg 収率 78 % 沸点63-68 ℃(40-45 mmHg)¹ H-NMR (CDCl₃):d 0.18 (s, 9H), 1.20 (t, 3H, J =
7.10 Hz), 1.51 (s, 3H), 1.56 (s, 3H),3.75 (q, 2H,J
= 7.10 Hz)

【００２２】実施例２：(2S,3R)-2-(p-トルエンスルホ
ニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-
ジフェニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (759.0 mg, 2.10 mmol) を秤量
し、ジクロロメタン (5 ml) に溶かし 0 ℃に冷却した
後、トリエチルアミン(0.57 ml, 4.10 mmol)を入れる。
ジクロロメタン(5 ml)に溶かした p-トシルクロリド(58
7 mg, 3.08 mmmol)を入れ、さらにDMAP(20 mg)を入れ、
0 ℃から室温まで自然昇温し15 時間撹拌した。飽和食
塩水で反応を停止し、酢酸エチルで抽出を行い無水硫酸
ナトリウムで乾燥させ、濾過後濃縮した。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(Hex : AcOEt =15 : 1)で精製
を行い、(2S,3R)-2-(p-トルエンスルホニルアミノ)-3-
(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタ
ノールを得た。 収量 862.2 mg 収率 80 % Rf 0.3 (Hex : AcOEt = 15 :
1)¹ H-NMR (CDCl3, 270 MHz): d 0.00 (s, 3H),0.19 (s, 3
H),1.07 (s, 9H) ,1.57 (d, J = 6.27 Hz, 3H). 2.51
(s, 3H), 4.61 (q, J= 6.27 Hz, 1H). 4.69 (d, J = 3
4.32Hz, 1H), 5.16 (s, 1H), 5.30 (d, J =9.24Hz, 1
H), 7.13-7.38 (m, 10H), 7.64 (d, J = 8.25Hz, 2H), 7.76 (d, J =
7.59Hz, 2H) IR (CHCl3):3400,2950,1570,1400,1300,1240,1200,113
0,780,730,460cm¹.

【００２３】実施例３： (2S,3R)-2-メタンスルホニル
アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジフェ
ニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (296.8 mg, 0.80 mmol) を秤量
し、ジクロロメタン (2 ml) に溶かし 0 ℃に冷却した
後、トリエチルアミン(0.22 ml, 1.60 mmol)を入れる。
ジクロロメタン(2 ml)に溶かした メシルクロリド(137.
5 mg, 1.20 mmol)を入れ、さらにDMAP(7.8 mg)を入れ、
0 ℃から室温まで自然昇温し5 時間撹拌した。飽和食塩
水で反応を停止し、酢酸エチルで抽出を行い無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させ、濾過後濃縮した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(Hex : AcOEt =5 : 1)で精製を行
い、(2S,3R)-2-メタンスルホニルアミノ-3-(t-ブチルジ
メチルシリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノールを得
た。 収量 282.7 mg 収率 79 %、Rf 0.3 (Hex : AcOEt = 5 :
1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz): d 0.00 (s, 6H), 0.85(s,
9H), 1.35 (d, J = 6.27 Hz, 3H). 1.91 (s, 3H), 4.3
9 (d, J =9.90Hz, 1H).4.48 (q, J = 18.14Hz,1H), 4.9
3 (d, J = 9.57Hz, 1H), 4.98 (s, 1H), 7.13-7.38 (m,
6H), 7.59-7.66 (m, 4H) IR (CHCl₃): 3400, 1610, 1180, 780, 740cm^-1.

【００２４】実施例４： (2S,3R)-2-(a-ナフタレンスル
ホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1
-ジフェニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (370.6 mg, 1.00 mmol) を秤量
し、1,2-ジクロロエタン (2 ml) に溶かし 0 ℃に冷却
した後、トリエチルアミン(0.28 ml, 2.00 mmol)を入れ
る。1,2-ジクロロエタン (3 ml) に溶かしたa-ナフタレ
ンスルホニルクロライド(340.0 mg, 1.50 mmol)を入
れ、さらにDMAP(9.8 mg)を入れ、0 ℃から室温まで自然
昇温し4 時間撹拌した。飽和食塩水で反応を停止し、酢
酸エチルで抽出を行い無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、
濾過後濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(Hex : AcOEt = 5 : 1)で精製を行い、(2S,3R)-2-(a-ナ
フタレンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリ
ルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノールを得た。 収量 487.5 mg 収率 87 %、Rf 0.4 (Hex : AcOEt = 5 :
1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d 0.00 (s, 3H), 0.13(s, 3
H), 1.08 (s, 9H), 1.47 (d, J = 6.27 Hz, 3H). 4.61
(q, J = 6.27Hz, 1H),4.77 (d, J = 8.91Hz, 1H), 5.22
(s, 1H), 5.74 (d,J = 13.53 Hz, 1H).6.85-6.90 (m,
3H), 7.35-7.52 (m, 5H), 7.73-7.86 (m, 4H), 7.99-8.
04 (m, 4H),8.63 (d, J = 8.68 Hz, 1H). IR (CHCl₃): 3400, 2930, 1570, 1390, 1310, 1230, 11
90,1140, 740, 570, 460cm^-1.

【００２５】実施例５： (2S,3R)-2-トリフルオロメタ
ンスルホニルアミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキ
シ)-1,1-ジフェニ ルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (370.6 mg, 1.00 mmol) を秤量
し、ジクロロメタン (2 ml) に溶かし-78 ℃に冷却した
後、トリエチルアミン(0.21 ml, 1.50 mmol)を入れる。
ジクロロメタン(2 ml)に溶かしたトリフルオロメタンス
ルホン酸無水物(310.4 mg, 1.10 mmol)を入れ、さらにD
MAP(9.8 mg)を入れ、-78 ℃から0 ℃まで自然昇温し13.
5 時間撹拌した。飽和食塩水で反応を停止し、酢酸エチ
ルで抽出を行い無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過後
濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hex :
AcOEt = 12 : 1)で精製を行い、(2S,3R)-2-トリフルオ
ロメタンスルホニルアミノ-3-(t-ブチルジメチルシリル
オキシ)-1,1-ジフェニルブタノールを得た。 収量 186.0 mg 収率37 %、Rf 0.4 (Hex : AcOEt = 12 :
1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz): d 0.00 (s, 6H), 0.87(s, 9
H),1.35 (d, J = 6.60Hz, 3H). 4.41 (s, 1H), 4.55
(q, J = 19.1Hz, 1H),4.95 (s, 1H), 5.52 (br, 1H),
7.15-7.42 (m, 6H), 7.56-7.61 (m, 4H)

【００２６】実施例６： (2S,3R)-2-(p-ニトロベンゼ
ンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリルオキ
シ)-1,1-ジフェニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (370.6 mg, 1.00 mmol) を秤量
し、トルエン (2 ml) に溶かし 0 ℃に冷却した後、ト
リエチルアミン(0.28ml, 2.00 mmol)を入れる。トルエ
ン(3 ml)に溶かした p-ニトロベンゼンスルホニルクロ
ライド(332.4 mg, 1.50 mmol)を入れ、さらにDMAP(9.8
mg)を入れ、0℃から70 ℃まで加熱し93 時間撹拌した。
飽和食塩水で反応を停止し、酢酸エチルで抽出を行い無
水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過後濃縮した。シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(Hex: AcOEt = 10 : 1)
で精製を行い、(2S,3R)-2-(p-ニトロベンゼンスルホニ
ルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノールを得た。 収量 362.9 mg 収率 65 %、Rf 0.3 (Hex : AcOEt = 10
: 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz): d -0.66 (s, 3H),0.00 (s,
3H), 0.80 (s, 9H), 1.35 (d, J = 6.27Hz, 3H). 4.39-
4.49 (m, 2H),4.85 (s, 1H), 5.30 (d, J = 9.57Hz, 1
H), 6.76-6.84 (m, 4H), 7.08-7.46 (m,8H), 7.86 (d,
J = 8.91Hz, 2H).IR (CHCl3): 3400, 2950, 1500, 132
0, 1230,1140, 750 cm^-1.

【００２７】実施例７： (2S,3R)-2-(2.4.6-トリメチ
ルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシ
リルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (370.6 mg, 1.00 mmol) を秤量
し、トルエン(2 ml) に溶かし 0 ℃に冷却した後、トリ
エチルアミン(0.21ml, 1.50 mmol)を入れる。トルエン
(3 ml)に溶かした 2,4,6-トリメチルスルホニルクロラ
イド(240.6 mg, 1.10 mmol)を入れ、さらにDMAP(9.8 m
g)を入れ、0℃から室温まで自然昇温し、その後加熱還
流して17.5 時間撹拌した。飽和食塩水で反応を停止
し、酢酸エチルで抽出を行い無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、濾過後濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(Hex : AcOEt = 20 : 1)で精製を行い、(2S,3R)-
2-(2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(t-
ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ルを得た。 収量 470.4 mg 収率 85 %、Rf 0.4 (Hex : AcOEt = 10
: 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz): d, 0.00 (s, 6H),0.89 (s,
9H), 1.24 (d, J = 7.26Hz, 3H). 2.19 (s, 3H), 2.50
(s, 6H), 4.37(q, J = 35.92Hz, 1H), 4.54 (d, J =
9.24Hz, 1H) 4.98 (s, 1H), 5.29 (d, J =8.91Hz, 1H),
6.66 (s, 2H), 6.69-6.87 (m, 3H), 7.14-7.55 (m, 7
H)

【００２８】実施例８： (2S,3R)-2-(2,5-ジクロロベ
ンゼンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリル
オキシ)-1,1-ジフェニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (370.6 mg, 1.00 mmol) を秤量
し、トルエン(2 ml) に溶かし 0 ℃に冷却した後、トリ
エチルアミン(0.28ml, 2.00 mmol)を入れる。トルエン
(3 ml)に溶かした 2,5-ジクロロベンゼンスルホニルク
ロライド(368.3 mg, 1.50 mmol)を入れ、さらにDMAP(1.
23 mg)を入れ、0 ℃から室温まで自然昇温し、その後加
熱還流して49 時間撹拌した。飽和食塩水で反応を停止
し、酢酸エチルで抽出を行い無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、濾過後濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(Hex : AcOEt = 20 : 1)で精製を行い、(2S,3R)-
2-(2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチ
ルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノールを
得た。 収量 297.3 mg 収率 51 %、Rf 0.3 (Hex : AcOEt = 20
: 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz): d, -0.24 (s, 3H), 0.00
(s, 3H), 0.86 (s, 9H),1.39 (d, J = 6.27Hz, 3H). 4.
45-4.55 (m, 2H), 4.94 (s,1H), 5.87 (d, J =9.23H
z, 1H). 6.69-7.52 (m, 13H), IR (CHCl₃): 3400, 226
0,1610, 1140 cm^-1.

【００２９】実施例９： (2S,3R)-2-(2,4,6-トリイソプ
ロピルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチ
ルシリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (370.6 mg, 1.00 mmol) を秤量
し、トルエン(2 ml) に溶かし 0 ℃に冷却した後、トリ
エチルアミン(0.28ml, 2.00 mmol)を入れる。トルエン
(3 ml)に溶かした 2.4.6-トリイソプロピルベンゼンス
ルホニルクロライド(454.3 mg, 1.50mmol)を入れ、さら
にDMAP(9.8 mg)を入れ、0 ℃から室温まで自然昇温し、
その後加熱還流して50 時間撹拌した。飽和食塩水で反
応を停止し、酢酸エチルで抽出を行い無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させ、濾過後濃縮した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(Hex : AcOEt =15 : 1)で精製を行い、
(2S,3R)-2-(2.4.6-トリイソプロピルベンゼンスルホニ
ルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノールを得た。 収量 226.2 mg 収率 36 %、Rf 0.3 (Hex : AcOEt = 15
: 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz): d, 0.00 (s, 6H), 0.90(s,
9H),1.25 (d, J = 1.32Hz, 2H) 1.28 (s, 18H), 4.33
(q, J = 6.26Hz, 1H),4.72 (d, J = 8.58Hz, 1H).5.07
(s, 1H), 5.27 (d, J = 8.25Hz, 1H). 6.90-7.8(m, 10
H), 7.85 (d, J =1.32Hz, 2H). IR (CHCl3): 3400, 294
0, 1430, 1110,940, 710, 570, 460 cm^-1.

【００３０】実施例１０： (2S,3R)-2-(p-クロロベン
ゼンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチルシリルオ
キシ)-1,1-ジフェニルブタノールの合成 アルゴン雰囲気下、30 ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)
-2-アミノ-3-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジ
フェニルブタノール (370.6 mg, 1.00 mmol) を秤量
し、トルエン(2 ml) に溶かし 0 ℃に冷却した後、トリ
エチルアミン(0.28ml, 2.00 mmol)を入れる。トルエン
(3 ml)に溶かした p-クロロベンゼンスルホニルクロラ
イド(316.6 mg, 1.50 mmol)を入れ、さらにDMAP(1.23 m
g)を入れ、0℃から室温まで自然昇温し、その後加熱還
流して40 時間撹拌した。飽和食塩水で反応を停止し、
酢酸エチルで抽出を行い無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せ、濾過後濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(Hex : AcOEt = 20 : 1)で精製を行い、(2S,3R)-2-
(p-クロロベンゼンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメ
チルシリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノールを得た。 収量 404.0 mg 収率 74 %、Rf 0.3 (Hex : AcOEt = 20
: 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d, 0.00 (s, 3H), 0.21(s, 3
H),1.08 (s, 9H), 1.61(d, J = 6.27Hz, 3H). 4.65 (q,
J =18.14Hz, 1H),4.76 (d, J = 9.57Hz, 1H).5.15 (s,
1H), 5.42 (d, J = 9.23Hz, 1H). 7.17-7.77(m, 14H).
IR (CHCl₃):3400, 2940, 140, 1290, 1130cm^-1.

【００３１】実施例１１： 3-ヒドロキシ-2,2-ジメチ
ル-3-フェニルプロピオン酸エチルの合成 アルゴン雰囲気下、30ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)-
2-(p-トルエンスルホニルアミノ)-3-(t-ブチルジメチル
シリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノール (52.7 mg,
0.10 mmol) を秤量し、トルエンまたはジクロロメタン
(1 ml) に溶かし 0℃に冷却した後、Base(0.20mmol)を
入れその後、ボラントリハライド(0.10mmol)を加え、0
℃で1時間撹拌した。-78 ℃に冷却した後、1-エトキシ-
2-メチル-1-トリメチルシロキシプロペンのケテンシリ
ルアセタール113.0mg(0.60mmol)とベンズアルデヒド53.
1mg(0.50mmol)をトルエン(2ml)に溶かし、滴下した。徐
々に昇温しながら反応させた後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液によって反応を停止し、酢酸エチルで抽出を行い
無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過後濃縮して粗生成
物を得た。シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル = 8 : 1)により単離精製し、3-ヒドロキ
シ-2,2-ジメチル-3-フェニルプロピオン酸エチル13を得
た。キラルカラムOJを用いた高速クロマトグラフィーに
より光学純度を決定した。 HPLC保持時間 24.12min.(S) 30.67min.(R) (ヘキサン:
2-プロパノール= 30 :1)、Rf 0.3 (Hex : AcOEt = 6 :
1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d, 1.11 (s, 3H), 1.14(s, 3
H), 1.27 (t, J = 7.13Hz, 3H). 3.19 (d, J = 4.13Hz,
1H), 4.18 (q, J =7.13Hz, 2H). 4.89 (d, J =4.13H
z, 1H) 7.31 (s, 5H). IR (neat): 3450, 3025,2975, 1
150, 1720, 1460, 1385, 1365, 1255,1130, 1050, 102
5, 700 cm-1.

【００３２】実施例１２： β-ヒドロキシエステルの
合成 アルゴン雰囲気下、30ml二口ナス型フラスコに(2S,3R)-
2-(2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(t-
ブチルジメチルシリルオキシ)-1,1-ジフェニルブタノー
ル(110.6 mg, 0.20 mmol) を秤量し、トルエン(1 ml)
に溶かし 0 ℃に冷却した後、n-BuLi 0.28 ml(0.40 mmo
l, 1.45 N)を入れその後、BCl30.40 ml(0.20 mmol, 0.5
0 M)を加え、0℃で1時間撹拌した。-78 ℃に冷却した
後、1-エトキシ-2-メチル-1-トリメチルシロキシプロペ
ンのケテンシリルアセタール41.4mg(0.22mmol)をトルエ
ン(1.5ml)に溶かし加えた後、アルデヒド(0.20mmol)の
トルエン溶液(1.5ml)を2時間かけて滴下した。78 ℃か
ら0℃まで自然昇温し反応させた。以後、同様の操作を
行い生成物を得た。 3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-3-(p-クロロベンゼン)プロ
ピオン酸エチル 収量 8.3 mg 収率 19 %、光学純度 95 %ee HPLC保持時間 21.28min 26.48min. (ヘキサン:2-プロ
パノール= 30 : 1) Rf 0.4 (Hex : AcOEt = 5 : 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d, 1.08 (s, 3H), 1.11(s, 3
H),1.26 (t, J = 14.19Hz, 3H) 3.41 (d, J = 4.29Hz,
1H), 4.16 (q, J =21.44Hz, 2H). 4.85 (d, J =4.29Hz,
1H), 7.16-7.30 (m, 4H). IR (neat):3400, 2930, 1680, 1460, 1140, 840, 570cm
^-1. 3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-3-(p-メトキシベンゼン)プ
ロピオン酸エチル 収量 21.7 mg 収率 43 %、光学純度 89 %ee [α]D23 = + 22.60 (c 0.416, CHCl₃) HPLC保持時間 25.79min 30.75min.、 (ヘキサン:2-プ
ロパノール= 15 : 1) Rf 0.5 (Hex : AcOEt = 3 : 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d, 1.08 (s, 3H), 1.12 (s,
3H),1.26 (t, J = 14.52Hz,3H). 3.21 (d, J = 3.30Hz,
1H), 3.79 (s, 3H), 4.16 (q, J= 21.44Hz, 2H). 4.83
(d, J = 2.64Hz, 1H).6.84 (d, J = 6.60Hz, 2H). 7.
22(d, J = 8.57Hz, 2H). IR (neat): 3400, 2950, 1660, 1120, 650, 540 cm^-1. 3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-3-(p-メチルベンゼン)プロ
ピオン酸エチル 収量 16.3 mg 収率 34 %、光学純度 92 %ee、[α]D23 =
+ 20.92 (c 0.306, CHCl₃) HPLC保持時間 18.022min 21.54min. (ヘキサン:2-プ
ロパノール= 30 : 1) Rf 0.3 (Hex : AcOEt =8 : 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d, 1.09 (s, 3H), 1.12 (s,
3H),1.27 (t, J = 14.19Hz,3H). 2.33 (s, 3H), 3.15
(d, J = 4.29Hz, 1H), 4.17 (q, J= 21.44Hz, 2H), 4.8
5 (d, J = 4.29Hz, 1H), 7.07-7.26 (m, 4H). IR (neat):3440, 2960, 1680, 1450, 1430, 1140, 960,
820, 710, 560, 480 cm ^-1. 3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-3-(m-クロロベンゼン)プロ
ピオン酸エチル 収量 17.2 mg 収率 39 %、光学純度 94 %ee、[α]D23 =
+ 9.09 (c 0.330, CHCl ₃) HPLC保持時間 16.31min.19.92min. ODカラム (ヘキサ
ン:2-プロパノール=30 : 1) Rf 0.4 (Hex : AcOEt = 5 : 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d, 1.11 (s, 3H), 1.13 (s,
3H),1.26 (t, J = 14.19Hz,3H). 3.37 (d, J = 4.29Hz,
1H), 4.18 (q, J = 21.44Hz,2H). 4.84 (d, J= 4.62
Hz, 1H), 7.15-7.31 (m, 4H). IR (neat): 3420, 2950,
1690, 1450, 1140, 980, 850, 770, 710, 580, 480 cm
^-1. 3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-3-(m-メトキシベンゼン)プ
ロピオン酸エチル 収量 16.3 mg 収率 32 %、光学純度 90 %ee、[α]D23 =
+ 10.92 (c 0.348, CHCl₃) HPLC保持時間 12.46min 20.15min. (ヘキサン:2-プロ
パノール= 10 : 1) Rf 0.4 (Hex : AcOEt = 5 : 1)¹ H-NMR (CDCl₃, 270 MHz):d, 1.13 (s, 3H), 1.16 (s,
3H),1.28 (t, J = 15.17Hz,3H), 3.26 (d, J = 4.94Hz,
1H), 3.81 (s, 3H), 4.19 (q, J =7.91Hz, 2H), 4.87
(d, J = 4.29Hz,1H), 6.82-6.96 (m, 3H), 7.20-7.29
(m,1H). IR (neat): 3520, 2980, 1680, 1560, 1460, 1140, 97
0, 840, 770, 710, 640,570, 480 cm^-1.

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AA03 AB81 AB84 AC21 AC26 AC27 AC41 AC48 AC81 BA53 BJ50 BM30 BN10 BP30 KA63 4H049 VN01 VP01 VQ29 VQ55 VQ56 VQ97 VR10 VR20 VR23 VR41 VS21 VS55 VT34 VT40 VT42 VT43 VT44 VT46 VU06 VU35 VU36 VW02 VW32 VW33 VW34 VW35

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１,Ｒ２,Ｒ３ は、それぞれ独立に、水素原
   子、低級アルキル基、低級アルキルで置換されていても
   よいフェニル基または低級アルキルで置換されていても
   よいベンジル基を表すが、同時にすべて水素原子である
   ことはない。Ｒ４,Ｒ５は低級アルキル又は低級アルコ
   キシで置換されていてもよいアリール基、あるいは低級
   アルキル又は低級アルコキシで置換されていてもよいア
   ラルキル基を表し、 Ｒ６ は、フッ素または塩素で置換
   されていてもよい低級アルキル基、低級アルキル又は低
   級アルコキシで置換されていてもよいアリール基、ある
   いは低級アルキル又は低級アルコキシで置換されていて
   もよいアラルキル基を表し、＊は不斉炭素を表す。）で
   示される光学活性なオキサザボロリジン類。
2. 【請求項２】一般式（II） （式中、Ｒ１,Ｒ２,Ｒ３ は、それぞれ独立に、水素原
   子、低級アルキル基、低級アルキルで置換されていても
   よいフェニル基または低級アルキルで置換されていても
   よいベンジル基を表すが、同時にすべて水素原子である
   ことはない。 Ｒ４,Ｒ５は低級アルキル又は低級アルコ
   キシで置換されていてもよいアリール基、あるいは低級
   アルキル又は低級アルコキシで置換されていてもよいア
   ラルキル基を表し、 Ｒ６ は、フッ素または塩素で置換
   されていてもよい低級アルキル基、低級アルキル又は低
   級アルコキシで置換されていてもよいアリール基、ある
   いは低級アルキル又は低級アルコキシで置換されていて
   もよいアラルキル基を表し、＊は不斉炭素を表す。）で
   示される光学活性なβ−アミノアルコール類と三塩化ホ
   ウ素とを反応させることを特徴とする前記一般式（１）
   で示される光学活性なオキサザボロリジン類の製造方
   法。
3. 【請求項３】前記一般式（II）で示される光学活性なβ
   −アミノアルコール類。
4. 【請求項４】一般式（III） （式中、 Ｒ７は低級アルキル基、Ｒ８、Ｒ９はそれぞ
   れ低級アルキル基、水素原子を表す。）で示されるケテ
   ンシリルアセタール類と一般式（IV） （式中、Ｒ１０は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
   ン、アルコキシ基を表す。）で示されるアルデヒド類と
   を、前記一般式（Ｉ）で示される光学活性なオキサザボ
   ロリジン類の存在下に反応させることを特徴とする一般
   式（Ｖ） （式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０および＊は前記と同
   じ意味を表し、Ｒ１１は水素原子またはトリメチルシリ
   ル基を表す。）で示される光学活性なアルドール類の製
   造方法。