JP2000254439A

JP2000254439A - 有害ガス分解装置

Info

Publication number: JP2000254439A
Application number: JP11061974A
Authority: JP
Inventors: Setsuo Suzuki; 木節雄鈴; Yukio Ohashi; 橋幸夫大; Norimitsu Abe; 部法光阿; Koji Hayashi; 幸司林
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1999-03-09
Filing date: 1999-03-09
Publication date: 2000-09-19

Abstract

(57)【要約】【課題】オゾンを有効利用し、脱臭効率が高く、電力
消費量が小さく、さらに、薬品類を使用する必要がなく
環境にやさしい大量処理可能な有害ガス分解装置を提供
すること。【解決手段】本発明の有害ガス処置装置３０は、被処
理ガスが導入されるガス供給口２１ａと、被処理ガス中
に含まれる水溶性成分を除去するために水を供給する水
供給手段３と、を有する第１処理室２１を備える。第１
処理室２１には、オゾンを導入するオゾン導入手段また
はオゾンを発生させるオゾン発生手段６を有する第２処
理室２２が接続され、第２処理室２２には、被処理ガス
をオゾンと共に分解するオゾン分解波長の光を発光する
ランプ７を有する第３処理室２３が接続される。第３処
理室２３には、残留成分を分解する光触媒１１及びオゾ
ン分解波長の光を発光するランプ９を有する第４処理室
２４が接続される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有害ガス分解装置
に係り、特に、脱臭などを目的として、ガス中の有機化
合物や無機化合物を分解したり種々の殺菌処理を行う、
オゾン、光触媒および噴射した水を用いた有害ガス分解
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に脱臭のためのガス処理には、大
量処理の場合、酸化力の強いオゾンを用いたガス分解処
理が広く使用されている。以下に、オゾンを用いた従来
の有害ガス分解装置について、図８を用いて説明する。

【０００３】図８に示すように、従来のガス分解装置１
００は、被処理ガスとしての臭気ガスが吸入される吸入
口１０８を有する処理容器１０１を備えている。吸入口
１０８は、処理容器１０１の下方側の側壁に配置されて
いる。また、処理容器１０１の上方側の側壁には、処理
後の処理ガスが排出される排出口１０７が形成されてい
る。さらに、処理容器１０１の底面部には、処理のため
に用いた水（詳細は後述する）を貯留させる水貯留部１
０５が設けられている。

【０００４】また、処理容器１０１内の、吸入口１０８
と排出口１０７との間には、オゾン発生ランプ１０９が
設置されている。

【０００５】また、処理容器１０１の上面略中央に、処
理容器１０１内にミスト状に水を噴射するノズル１０２
が設けられている。ノズル１０２は、水管１２０によっ
て、ポンプ１０４を介して水貯留部１０５に接続されて
いる。これにより、水は、処理容器１０１内と水管１２
０との間で循環するようになっている。

【０００６】このようなガス処理装置１００は、以下の
ように作用する。

【０００７】オゾン発生ランプ１０９の光（ｈν）は、
処理容器１０１内において、以下の（１）式および
（２）式の反応式にしたがって、オゾンを生成する。

【０００８】Ｏ₂ ＋ｈν → ２Ｏ …（１）Ｏ₂ ＋Ｏ → Ｏ₃ …（２）生成されたオゾンは、紫外線等オゾン分解波長の光の存
在によって、あるいは、ノズル１０２によって噴霧され
る水によって、以下の（３）〜（６）式の反応を起こ
し、ＯＨラジカルを発生する。

【０００９】Ｏ₃ ＋ｈν → Ｏ₂ ＋Ｏ^* …（３）Ｈ₂ Ｏ＋０^* → ２・ＯＨ …（４）Ｏ₃ ＋Ｈ₂ Ｏ → Ｏ₂ ＋Ｈ₂ Ｏ₂ …（５）Ｈ₂ Ｏ₂ → ２・ＯＨ …（６）ここで、Ｏ^* は酸素の励起原子を表わしている。

【００１０】被処理ガスとしての臭気ガスは、吸入口１
０８から処理容器１０１内に供給される。（４）式及び
（６）式に示す化学反応によって生成されたＯＨラジカ
ルが、臭素ガスに含まれるアンモニア、トリメチルアミ
ン、硫化水素などの硫黄化合物、メチルメルカプタンな
どを分解する。

【００１１】処理後の処理ガスは、排出口１０７から排
出され、処理に用いた水は、処理容器１０１の底面部の
水貯留部１０５に溜まり、ポンプ１０４によって水管１
２０を介してノズル１０２へと循環される。

【００１２】一方、従来のガス分解装置の他の構成例と
して、図９に示すようなガス分解装置がある。図９に示
すガス分解装置１００は、オゾン発生ランプ１０９が設
置される代わりに、排出口１０７の部分に熱触媒室１１
０が設けられている。その他の構成は、図８に示すガス
分解装置１００と略同様である。図８に示すガス分解装
置１００と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説
明は省略する。

【００１３】このようなガス処理装置１００において
は、被処理ガスは、ノズル１０２から噴霧された水によ
って加湿され、熱触媒室１１０において残留成分が分解
されて排出される。すなわち、図９のガス処理装置１０
０では、被処理ガス中に一般に多量に含まれるアンモニ
ア等が先に噴霧水によって除去され、その後熱触媒を用
いて、一般に微量に含まれる硫黄化合物等が効率良く除
去される。なお、噴霧水によるアンモニア除去段階にお
いて、水化合物の粒径が０．１mm以下と非常に細かくア
ンモニアの再放出が起り易いため、中和のためにりん酸
水溶液や次亜塩素酸を添加することが一般的である。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】図８に示すような従来
のガス分解装置１００は、被処理ガスである臭気ガスに
含まれる種々の成分が、同一の処理領域において処理さ
れる。

【００１５】しかしながら、臭気ガス中に水溶性のアン
モニア成分が多量に含まれる場合、例えば０．１mm以下
の霧状の水にアンモニアが溶解する際、オゾン分解によ
り生成された酸素原子とも反応してしまう。その結果、
オゾン密度が低下してしまう。オゾン密度が低下する
と、微量でも悪臭を発するが水に溶解しないメチルメル
カプタン類を分解するためのオゾンとの衝突頻度が少な
くなるため、脱臭効率が非常に悪くなってしまうという
問題がある。また、利用できるオゾン量に対するオゾン
発生量も増加し、コストが高くなるという問題もある。

【００１６】また、図９に示すガス分解装置１００で
は、アンモニア成分等を噴霧水によって完全に除去する
ことが困難で、アンモニアが残存した状態のガスが熱触
媒室１１０に送られてしまうことがある。特に、大風量
の臭気ガスを導入する場合には、ガスの流れが乱れるた
め、水へのアンモニア溶解度が低下し、脱臭効率が低下
する結果となり得る。また、噴霧水からのアンモニア再
発生の程度も大きくなり易く、その場合結果的に残留ア
ンモニア量が大きくなり、脱臭効率が低下する。また、
熱触媒による分解は、電力消費量が大きいという問題も
ある。

【００１７】残留アンモニア量を低下させるために、薬
品を使う方法も知られているが、薬品の使用は環境に対
する影響が心配され得る。

【００１８】本発明は、このような点を考慮してなされ
たものであり、オゾンを有効利用し、脱臭効率が高く、
電力消費量が小さく、さらに、薬品類を使用する必要が
なく環境にやさしい大量処理可能な有害ガス分解装置を
提供することを目的とす。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は、被処理ガスが
導入されるガス供給口と、被処理ガス中に含まれる水溶
性成分を除去するために水を供給する水供給手段と、を
有する第１処理室と、第１処理室に接続されると共に、
オゾンを導入するオゾン導入手段またはオゾンを発生さ
せるオゾン発生手段を有する第２処理室と、第２処理室
に接続されると共に、被処理ガスをオゾンと共に分解す
るオゾン分解波長の光を発光するランプを有する第３処
理室と、第３処理室に接続されると共に、残留成分を分
解する光触媒及びオゾン分解波長の光を発光するランプ
を有する第４処理室と、を備えたことを特徴とする有害
ガス処理装置である。

【００２０】本発明によれば、第１処理室において被処
理ガス中のアンモニア等の水溶性成分が除去され、第３
処理室で硫黄化合物等が分解され、第４処理室で残留臭
気成分が分解されるため、分解処理が順次に分けて行わ
れており、分解効率を向上させることができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。

【００２２】図１は、本発明の第１の実施の形態による
有害ガス分解装置を示す構成概略図である。図１に示す
ように、本発明の第１の実施の形態の有害ガス分解装置
３０は、被処理ガスが導入されるガス供給口２１ａと、
被処理ガス中に含まれる水溶性成分を除去するために水
を供給する水供給手段３と、を有する第１処理室２１を
備えている。水供給手段３は、粒径が１mm程度以上のシ
ャワー状の水を噴射するシャワーノズルで構成されてお
り、第１処理室２１の上面の略中央部分に設けられてい
る。

【００２３】第１処理室２１には、オゾンを発生させる
オゾン発生ランプ６を有する第２処理室２２が、接続管
２０を介して接続されている。オゾン発生ランプ６は、
第２処理室２２内の全体幅に亘るように配置されてい
る。

【００２４】第２処理室２２には、被処理ガス中に含ま
れる硫黄化合物等を加湿状態にてオゾンと共に分解する
紫外線（オゾン分解波長の光）を発光する紫外線ランプ
７を有する第３処理室２３が、接続管２０を介して接続
されている。紫外線ランプ７は、第３処理室２３内の全
体幅に亘るように配置されている。

【００２５】第３処理室２３には、残留臭気成分を分解
する光触媒担持開口体１１、たとえば不織布や金属製メ
ッシュに光触媒を担持したもの、及び紫外線ランプ９を
有する第４処理室２４が、接続管２０を介して接続され
ている。紫外線ランプ９は、第４処理室２４内の全体幅
に亘るように配置されている。そして、紫外線ランプ９
に対して、被処理ガスの流れ方向の前後それぞれに、プ
レート状に形成された光触媒担持開口体１１が第４処理
室２４内の全体幅に亘るように配置されている。更に第
４処理室２４には、最終的な処理ガスが排出される排出
口２４ａが形成されている。

【００２６】次に、このような構成よりなる本実施の形
態の作用について説明する。

【００２７】まず、被処理ガスとしての臭気ガスが、ガ
ス供給口２１を介して第１処理室２１に導入される。一
方、第１処理室２１内に設置されたシャワーノズル３か
らは、水粒径１mm程度のシャワー水が噴射される。その
結果、臭気ガス成分中の水溶性成分、例えばアンモニア
ガスが水に溶解され、これによって臭気ガス成分中のア
ンモニアガス成分が大部分除去される。

【００２８】次に、第１処理室２１内の臭気ガスが接続
管２０を介して第２処理室２２内に移動する。第２処理
室２２内では、オゾン発生ランプ６によりオゾンが発生
している。すなわち、オゾン発生ランプ６の光（ｈν）
は、第２処理室２２内において、以下の（１）式および
（２）式（前述の（１）式及び（２）式と同様）の反応
式にしたがって、オゾンを生成する。

【００２９】Ｏ₂ ＋ｈν → ２Ｏ …（１）Ｏ₂ ＋Ｏ → Ｏ₃ …（２）臭気ガスは、このオゾンと混合する。

【００３０】更に第２処理室２２では、オゾン発生ラン
プ６から発生する熱と、第１処理室２１で噴射されガス
と共に移動してきたシャワー水とにより、臭気ガスが加
湿状態となる。

【００３１】そして、オゾンが混合されると共に加湿状
態となった臭気ガスが、接続管２０を介して第３処理室
２３内に移動する。第３処理室２３では、オゾン分解用
の紫外線ランプ９（例えば低圧水銀ランプ）から発生す
るオゾン吸収可能な２５３．７ｎｍの紫外線により、臭
気ガスに混合されているオゾンが分解され、ＯＨラジカ
ルを発生する。この反応は、以下の（３）式及び（４）
式（前述の（３）式及び（４）式と同様）で表される。

【００３２】Ｏ₃ ＋ｈν → Ｏ₂ ＋Ｏ^* …（３）Ｈ₂ Ｏ＋０^* → ２・ＯＨ …（４）ここで、Ｏ^* は酸素の励起原子を表わしている。

【００３３】このオゾン分解反応によって生成されたＯ
Ｈラジカルが、臭素ガスに含まれるアンモニア、トリメ
チルアミン、硫化水素などの硫黄化合物、メチルメルカ
プタンなどを分解する。しかし、このＯＨラジカルによ
る体積反応だけでは、前記の有害成分が必ずしも十分に
分解されず、残留臭気成分として残る場合がある。この
残留臭気成分は、第３処理室２３から第４処理室２４に
移動する。

【００３４】次に、第４処理室２４では、光触媒担持開
口体１１と紫外線ランプ９とによって、残留臭気成分を
分解する。光触媒担持開口体１１の光触媒として二酸化
チタンを用いた場合の表面反応式を（７）〜（９）に示
す。

【００３５】ＴｉＯ₂ ＋ｈν→ＴｉＯ₂ ＋ｈ⁺ ＋ｅ^- …（７）ｅ^- ＋Ｏ₂ →Ｏ₂ ^- …（８）ｈ⁺ ＋Ｈ₂ Ｏ→ＯＨ＋Ｈ⁺ …（９）光触媒担持開口体１１の表面に紫外線があたると、正孔
ｈ⁺ （ホール［ｈｏ１ｅ］）が励起される（反応式
（７））。一方、反応式（７）で発生する励起電子ｅ^-
は、酸素分子Ｏ₂ などの電子受容体により、非常に早い
反応で奪い取られ、負イオン分子Ｏ₂ ^-を生成する（反
応式（８））。その結果、光触媒担持開口体１１には、
ホールｈ⁺ が残り、ホールｈ⁺ により水分子Ｈ₂ Ｏが分
解されて、ＯＨラジカルＯＨが生成される（反応式
（９））。このＯＨラジカルによって、残留臭気成分が
確実に分解される。

【００３６】これらの処理を終えた処理ガスは、排出口
２４ａから排出される。

【００３７】本実施の形態によれば、第１処理室２１に
おいて被処理ガス中のアンモニア等の水溶性成分が除去
され、第３処理室で硫黄化合物等が分解され、第４処理
室で残留臭気成分が分解される。すなわち、分解処理
が、各被処理物質に応じて順次に分けて行われる。この
ため、分解効率が向上しており、大風量の有害ガス分解
が可能である。

【００３８】また、本実施の形態では、効率良く臭気成
分が分解されるため、発生させるオゾン量の低減も可能
であり、運転コストも低減される。

【００３９】なお、本実施の形態において、オゾンを発
生させるオゾン発生ランプ６の代わりに、オゾンを導入
するオゾン導入手段を設けてもよい。

【００４０】次に、本発明の第２の実施の形態の有害ガ
ス処理装置について図２を用いて説明する。図２は、第
２の実施の形態の有害ガス処理装置の概略構成図であ
る。

【００４１】図２に示すように、本実施の形態の有害ガ
ス処理装置３０は、第３処理室２３の紫外線ランプ７の
被処理ガスの流れ方向の前後に、光触媒担持開口体１１
とは異なる種類の吸着性が高い光触媒担持吸着開口体１
５が、プレート状に形成されて、第３処理室２３内の全
体幅に亘るように配置されている。

【００４２】その他の構成は、図１に示す第１の実施の
形態と同様の構成である。第２の実施の形態において、
図１に示す第１の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。

【００４３】本実施の形態では、吸着性の高い光触媒担
持吸着開口体１５を用いたことにより、オゾンが光触媒
担持吸着開口体１５において吸着されて分解する。従っ
て、光触媒担持吸着開口体１５において原子状の酸素が
発生するため、光触媒担持吸着開口体１５に吸着される
臭気成分の分解が効果的に促進される。この効果は、本
実施の形態において、光触媒担持吸着開口体１５の代わ
りに単なる吸収材または吸着材を用いても得られる。

【００４４】また本実施の形態では、光触媒担持吸着開
口体１５と紫外線ランプ７からの紫外線との反応光触媒
効果によって、臭気成分の分解を更に促進できるという
効果もある。

【００４５】次に、本発明の第３の実施の形態の有害ガ
ス処理装置について図３を用いて説明する。図３は、第
３の実施の形態の有害ガス処理装置の概略構成図であ
る。

【００４６】図３に示すように、本実施の形態の有害ガ
ス処理装置４０は、全体を略縦型容器として形成され、
その内部に鉛直方向に下から順に各処理室２１、２２、
２３、２４が、互いを区画する壁面及び連通面を介して
連続に形成されている。すなわち、第１処理室２１と第
２処理室２２、第２処理室２２と第３処理室２３及び第
３処理室２３と第４処理室２４の各接続が、接続管を介
さずになされている。

【００４７】第１処理室２１と第２処理室２２との連通
面には、被処理ガスのガス流路を規制するガス整流板４
が設けられている。同様に、第３処理室２３と第４処理
室２４との連通面には、ガス流を規制するガス整流板８
（第２ガス整流板）が設けられている。

【００４８】ガス整流板４の近傍には、シャワーノズル
３からの水の飛散を防止する水飛散防止板５が設置され
ている。

【００４９】また第３処理室２３では、紫外線ランプ７
と光触媒担持吸着開口体１５とが、各々２列ずつ配置さ
れている。

【００５０】また第４処理室２４では、紫外線ランプ９
が３列に配置されている。そして全ての紫外線ランプ９
の近傍をガス流が通過するように、紫外線ランプ９の配
列に沿って、４枚のバッフル板１０が略水平に設置され
ている。更に、バッフル板１０によって形成されたガス
流路中に、開口を有する光触媒担持開口体１１が適当な
間隔をおいて複数配置されている。

【００５１】また、第１処理室２１において、シャワー
ノズル３から噴射される水を循環させるべく、第１処理
室２１の底部には水貯留部２１ｃが形成され、水貯留部
２１ｃとシャワーノズル３とがポンプ２１ｂを介して水
管で接続されている。

【００５２】その他の構成は、図２に示す第２の実施の
形態と略同様の構成である。第３の実施の形態におい
て、図２に示す第２の実施の形態と同一の部分には同一
の符号を付して詳細な説明は省略する。

【００５３】本実施の形態によれば、被処理ガスが重力
に逆らって流れるため、各処理室２１〜２４内での処理
をより効果的に受けることができる。

【００５４】また、ガス整流板４、８により、第１処理
室２１から第２処理室２２へのガスの移動あるいは第３
処理室２３から第４処理室２４へのガス移動が、円滑に
効果的に行われるため、臭気成分の分解効率が向上す
る。

【００５５】更に、第４処理室２４内においては、バッ
フル板１０が形成されてガス流路が実質的に増大され、
更にガス流路中に光触媒担持開口体１１が設けられてい
るため、光触媒担持開口体１１表面へ臭気成分が効果的
に衝突し、その結果、残留臭気成分の分解効率が向上す
る。

【００５６】次に、本発明の第４の実施の形態の有害ガ
ス処理装置について図４を用いて説明する。図４は、第
４の実施の形態の有害ガス処理装置の概略構成図であ
る。

【００５７】本実施の形態の第３処理室２３では、紫外
線ランプ７と光触媒担持吸着開口体１５とが、各々３列
ずつ配置されている。また第４処理室２４では、光触媒
担持開口体１１の近傍に、光触媒担持開口体１１が担持
する光触媒とは異なる種類の、吸着性の高い光触媒１２
が設けられている。

【００５８】その他の構成は、図３に示す第３の実施の
形態と同様の構成である。第４の実施の形態において、
図３に示す第３の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。

【００５９】本実施の形態による第４処理室２４内にお
いては、吸着性の高い光触媒１２を設けたことにより、
残留臭気成分の実質的な滞留時間が長くなり、残留臭気
成分の分解効率が更に向上する。

【００６０】なお、吸着性の高い光触媒１２の代わり
に、単なる吸着材や吸収剤を用いることも効果的であ
る。

【００６１】次に、本発明の第５の実施の形態の有害ガ
ス処理装置について図５を用いて説明する。図５は、第
５の実施の形態の有害ガス処理装置の概略構成図であ
る。

【００６２】本実施の形態の有害ガス処理装置４０は、
第１処理室２１のガス吸入口２１ａにおいて、被処理ガ
ス中の水溶性成分の濃度、例えばアンモニアの濃度を検
出する濃度センサ４１を有している。

【００６３】一方、水貯留部２１ｃとポンプ２１ｂとの
間の水管部分に、制御弁４３が設置されている。そし
て、濃度センサ４１及び制御弁４３に、濃度センサ４１
が検出する水溶性成分の濃度に基づいて、ノズルシャワ
ー３による水供給量を制御すべく制御弁４３を制御する
制御部４２が接続されている。

【００６４】その他の構成は、図３に示す第３の実施の
形態と同様の構成である。第５の実施の形態において、
図３に示す第３の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。

【００６５】本実施の形態においては、濃度センサ４１
によって検出される被処理ガス中の水溶性成分の濃度が
低い時には、シャワーノズル３から供給する水の量を低
減させるべく制御弁４３が制御され、濃度センサ４１に
よって検出される被処理ガス中の水溶性成分の濃度が高
い時には、シャワーノズル３から供給する水の量を増加
させるべく制御弁４３が制御される。

【００６６】本実施の形態によれば、水の供給が適量に
なされるため、ポンプ２１ｂの電力を抑制でき、処理効
率も向上する。

【００６７】次に、本発明の第６の実施の形態の有害ガ
ス処理装置について図６を用いて説明する。図６は、第
６の実施の形態の有害ガス処理装置の概略構成図であ
る。

【００６８】本実施の形態の有害ガス処理装置４０は、
第１処理室２１のガス吸入口２１ａにおいて、被処理ガ
スの温度を検出する温度センサ５１を有している。

【００６９】一方、水貯留部２１ｃとポンプ２１ｂとの
間の水管部分に、制御弁５３が設置されている。そし
て、温度センサ５１及び制御弁５３に、濃度センサ５１
が検出する被処理ガスの温度に基づいて、ノズルシャワ
ー３による水供給量を制御すべく制御弁５３を制御する
制御部５２（第２制御手段）が接続されている。

【００７０】その他の構成は、図３に示す第３の実施の
形態と同様の構成である。第６の実施の形態において、
図３に示す第３の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。

【００７１】一般的に、温度が低いほど被処理ガス中の
水溶性成分は水に溶け易い。従って本実施の形態におい
ては、温度センサ５１によって検出される被処理ガスの
温度が低い時には、シャワーノズル３から供給する水の
量を低減させるべく制御弁４３が制御され、温度センサ
５１によって検出される被処理ガスの温度が高い時に
は、シャワーノズル３から供給する水の量を増加させる
べく制御弁５３が制御される。

【００７２】本実施の形態によれば、水の供給が適量に
なされるため、ポンプ２１ｂの電力を抑制でき、処理効
率も向上する。

【００７３】次に、本発明の第７の実施の形態の有害ガ
ス処理装置について図７を用いて説明する。図７は、第
７の実施の形態の有害ガス処理装置の概略構成図であ
る。

【００７４】本実施の形態の有害ガス処理装置４０は、
第１処理室２１の水貯留部２１ｃにおいて、循環する水
のｐＨを検出するｐＨセンサ６１を有している。また、
水貯留部２１ｃには、排水管６４と供給管６５とが接続
されている。排水管６４と供給管６５とには、それぞれ
排水弁６４ａ及び供給弁６５ａが設けられている。

【００７５】更に、水貯留部２１ｃとポンプ２１ｂとの
間の水管部分に、制御弁６３が設置されている。そし
て、ｐＨセンサ６１、排水弁６４ａ、供給弁６５ａ及び
制御弁６３に、ｐＨセンサ６１が検出する循環水のｐＨ
に基づいて、循環水を交換すべく排水弁６４ａ、供給弁
６５ａ及び制御弁４３を制御する制御部４２が接続され
ている。

【００７６】その他の構成は、図３に示す第３の実施の
形態と同様の構成である。第７の実施の形態において、
図３に示す第３の実施の形態と同一の部分には同一の符
号を付して詳細な説明は省略する。

【００７７】本実施の形態においては、例えば循環水の
ｐＨが８以上或いは６以下の値になった場合、通常は閉
になっている排水弁６５ａを開にすると同時に、制御弁
６３を閉じて水の循環を停止する。循環水が完全に排出
された時点で、排水弁６５ａを閉にし、供給弁６５ａを
開にして必要量の水を供給する。その後、制御弁６３を
開にして、水の循環作業を再開させる。

【００７８】本実施の形態によれば、循環水が被処理ガ
ス中の水溶性成分を十分に溶解してその水溶解特性が低
減したことを、そのｐＨを検出することによって検知
し、適切に循環水の交換を行うすることにより、循環水
の水溶解特性を高く維持することができる。

【００７９】尚、本発明は上記の実施の形態には限定さ
れず、その主旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施で
きることは言うまでもない。例えば、整流板の形状、ノ
ズルの形状、ランプの配置、オゾンランプの本数など自
由に変更できる。

【００８０】

【発明の効果】本発明によれば、第１処理室において被
処理ガス中のアンモニア等の水溶性成分が除去され、第
３処理室で硫黄化合物等が分解され、第４処理室で残留
臭気成分が分解されるため、分解処理が順次に分けて行
われ、各分解処理の効率を各々向上させることができ
る。

【００８１】従って、オゾンを有効利用することができ
ると共に、脱臭効率が高く電力消費量が小さく、さら
に、薬品類を使用する必要がなく環境にやさしい大量処
理可能な有害ガス処理装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有害ガス分解装置の第１の実施の形態
の概略構成図。

【図２】本発明の有害ガス分解装置の第２の実施の形態
の概略構成図。

【図３】本発明の有害ガス分解装置の第３の実施の形態
の概略構成図。

【図４】本発明の有害ガス分解装置の第４の実施の形態
の概略構成図。

【図５】本発明の有害ガス分解装置の第５の実施の形態
の概略構成図。

【図６】本発明の有害ガス分解装置の第６の実施の形態
の概略構成図。

【図７】本発明の有害ガス分解装置の第７の実施の形態
の概略構成図。

【図８】従来のオゾンを用いた有害ガス分解装置の概略
構成図。

【図９】従来の水溶液処理と熱触媒を用いた有害ガス分
解装置の概略構成図。

【符号の説明】

３シャワーノズル６オゾン発生ランプ４、８整流板５水飛散防止板７，９紫外線ランプ１０バッフル板１１光触媒担持開口体１２吸着性の高い光触媒１５光触媒担持吸着開口体２０接続管２１第１処理室２１ａガス吸入口２１ｂポンプ２１ｃ水貯留部２２第２処理室２３第３処理室２４第４処理室２４ａ排出口３０、４０有害ガス分解装置４１濃度センサ４２制御部４３制御弁５１温度センサ５２制御部５３制御弁６１ｐＨセンサ６２制御部６３制御弁６４排水管６４ａ排水弁６５供給管６５ａ供給弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者阿部法光神奈川県川崎市幸区小向東芝町１株式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者林幸司東京都港区芝浦一丁目１番１号株式会社東芝本社事務所内Ｆターム(参考） 4D002 AA03 AA06 AA13 AA14 AB02 BA02 BA04 BA05 BA09 CA01 CA20 DA35 DA51 GA02 GA03 GB02 GB03 GB06 GB09 GB12 GB20 4D048 AA01 AA03 AA05 AA08 AA22 AB01 AB03 AC07 CA03 CC22 DA02 DA06 DA08 DA10 EA01 4G069 AA03 BA48A CA02 CA07 CA10 CA17 DA06 EA10 EA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理ガスが導入されるガス供給口と、被
処理ガス中に含まれる水溶性成分を除去するために水を
供給する水供給手段と、を有する第１処理室と、第１処理室に接続されると共に、オゾンを導入するオゾ
ン導入手段またはオゾンを発生させるオゾン発生手段を
有する第２処理室と、第２処理室に接続されると共に、被処理ガスをオゾンと
共に分解するオゾン分解波長の光を発光するランプを有
する第３処理室と、第３処理室に接続されると共に、残留成分を分解する光
触媒及びオゾン分解波長の光を発光する紫外線ランプを
有する第４処理室と、を備えたことを特徴とする有害ガ
ス処理装置。
【請求項２】第１処理室と第２処理室とは、被処理ガス
の流路を規制するガス整流板を介して接続されているこ
とを特徴とする請求項１に記載の有害ガス処理装置。
【請求項３】ガス整流板の近傍に、水飛散防止板が設置
されたことを特徴とする請求項２に記載の有害ガス処理
装置。
【請求項４】第３処理室と第４処理室とは、被処理ガス
の流路を規制する第２ガス整流板を介して接続されてい
ることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の
有害ガス処理装置。
【請求項５】被処理ガス中の水溶性成分の濃度を検出す
る濃度センサと、濃度センサに接続され、濃度センサが検出する水溶性成
分の濃度に基づいて、水供給手段による水供給量を制御
する制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項
１乃至４のいずれかに記載の有害ガス処理装置。
【請求項６】被処理ガスの温度を検出する温度センサ
と、温度センサに接続され、温度センサが検出する温度に基
づいて、水供給手段による水供給量を制御する第２制御
手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１乃至４
のいずれかに記載の有害ガス処理装置。
【請求項７】水供給手段によって供給される水のｐＨを
検出するｐＨセンサと、ｐＨセンサに接続され、ｐＨセンサが検出する水のｐＨ
に基づいて、水供給手段によって供給される水を交換す
る水交換手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項
１乃至６のいずれかに記載の有害ガス処理装置。
【請求項８】第４処理室は、バッフル板と、光触媒担持
開口体とを有することを特徴とする請求項１乃至７のい
ずれかに記載の有害ガス処理装置。
【請求項９】バッフル板の近傍に光触媒が設置されたこ
とを特徴とする請求項８に記載の有害ガス処理装置。
【請求項１０】バッフル板の近傍に、光触媒担持開口体
に担持された光触媒とは異なる種類の光触媒が設置され
たことを特徴とする請求項９に記載の有害ガス処理装
置。