JP2000252363A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2000252363A
JP2000252363A JP5206799A JP5206799A JP2000252363A JP 2000252363 A JP2000252363 A JP 2000252363A JP 5206799 A JP5206799 A JP 5206799A JP 5206799 A JP5206799 A JP 5206799A JP 2000252363 A JP2000252363 A JP 2000252363A
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JP
Japan
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power supply
integrated circuit
semiconductor integrated
signal
pad
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JP5206799A
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Koichi Abe
康一 阿部
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Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a power-supply noise generated by an output buffer circuit which outputs a signal to the outside while an increase in a chip size and a drop in an integration degree are being suppressed and to reduce a power-supply noise, at a time when outputs of especially a plurality of output buffer circuits are toggled simultaneously or nearly simultaneously. SOLUTION: At least one power-supply pad VDD1 and one ground pad GND1 as well as a signal pad S1 which inputs/outputs a signal from and to the outside are arranged in a row on an IO buffer region in the direction perpendicular to a scribing line in the outer circumferential part of a chip which in the closest to the IO buffer region. The number of bonding wires of a power supply and a ground can be increased while a space is not expanded in the parallel direction in the outer circumference of the scribing line 1 and the chip.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所望の回路を作り
込んだコア領域の周囲に、外部に対する信号を入出力し
たり、外部から電源を取り入れる際に用いる複数のIO
バッファ領域を設けたレイアウトの半導体集積回路に係
り、特に、チップサイズの増加や集積度の低下を抑えな
がら、外部に対し信号を出力する出力バッファ回路など
で生じる電源ノイズを低減でき、特に複数の該出力バッ
ファ回路の出力が同時ないしはほぼ同時にトグルする際
の電源ノイズを低減することができる半導体集積回路に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plurality of IOs used for inputting / outputting signals to / from external sources and for taking in power from outside around a core region in which a desired circuit is formed.
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a layout provided with a buffer region.In particular, it can reduce power supply noise generated in an output buffer circuit that outputs a signal to the outside while suppressing an increase in chip size and a decrease in the degree of integration. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit capable of reducing power supply noise when the output of the output buffer circuit toggles simultaneously or almost simultaneously.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1は、従来の半導体集積回路の一部等
価回路を含む回路図である。
2. Description of the Related Art FIG. 1 is a circuit diagram including a partial equivalent circuit of a conventional semiconductor integrated circuit.

【0003】この図では、所望の回路を作り込んだコア
領域の周囲にある、外部に対して信号を出力する出力バ
ッファ、あるいは外部から電源を取り入れる配線が示さ
れている。該半導体集積回路は、所望の回路を作り込ん
だコア領域の周囲に、外部に対する信号を入出力した
り、外部から電源を取り入れる際に用いる複数のIOバ
ッファ領域を設けている。
FIG. 1 shows an output buffer for outputting a signal to the outside, or a wiring for receiving power from the outside, around a core region in which a desired circuit is formed. In the semiconductor integrated circuit, a plurality of IO buffer areas used for inputting / outputting signals to / from the outside and for receiving power from the outside are provided around a core area in which a desired circuit is formed.

【0004】従来は、電源供給の状態が、電源VDDの
1本のボンディングワイヤや、グランドGNDの1本の
ボンディングワイヤによって、複数の出力バッファ回路
や、場合によっては入力バッファ回路を受け持つという
ような状態である。図1においては、符号Lは、ボンデ
ィングワイヤが持つインダクタンス成分を表わしてい
る。なお、ボンディングワイヤは、パッケージ・リード
ワイヤ、あるいはリードワイヤなどとも呼ばれている。
Conventionally, the power supply state is such that a plurality of output buffer circuits and, in some cases, input buffer circuits are covered by one bonding wire of the power supply VDD or one bonding wire of the ground GND. State. In FIG. 1, the symbol L represents the inductance component of the bonding wire. The bonding wire is also called a package lead wire or a lead wire.

【0005】電源電流をiとすると、該電源電流iによ
る電源ノイズの電圧Enoiseは、下記の式のように表わ
される。
[0005] Assuming that the power supply current is i, the voltage Enoise of the power supply noise due to the power supply current i is expressed by the following equation.

【0006】 Enoise=−L(di/dt) ……(1)Enoise = −L (di / dt) (1)

【0007】図2は、電源ノイズを示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing power supply noise.

【0008】図2において、まず実線にて、出力バッフ
ァ回路から出力される信号が示される。次に、一点鎖線
にて、電源VDDの電圧が示される。又、二点鎖線に
て、グランドGNDの電圧が示される。
In FIG. 2, a signal output from the output buffer circuit is shown by a solid line. Next, the voltage of the power supply VDD is indicated by a chain line. The voltage of the ground GND is indicated by a two-dot chain line.

【0009】まず、一点鎖線の電源VDDの電圧におい
て、符号P1の部分に電源ノイズがある。又、二点鎖線
のグランドGNDの電圧において、符号P2の部分に電
源ノイズがある。
First, in the voltage of the power supply VDD indicated by the alternate long and short dash line, there is power supply noise in a portion denoted by reference numeral P1. Further, in the voltage of the ground GND indicated by the two-dot chain line, there is power supply noise in the portion indicated by the symbol P2.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従来は、例えば図1に
おいて、複数の出力バッファ回路B1〜B3の電源電流
i1〜i3は、1つのインダクタンスLに流れている。
又、電源電流i4〜i6は、1つのインダクタンスLに
流れている。このため、出力バッファ回路B1〜B3に
おいて、出力が同時にトグルするものがある場合、1つ
のインダクタンス成分Lにおける電源電流の変化が該同
時トグルによって激しくなり、電源ノイズが大きくな
る。
Conventionally, for example, in FIG. 1, power supply currents i1 to i3 of a plurality of output buffer circuits B1 to B3 flow through one inductance L.
The power supply currents i4 to i6 are flowing through one inductance L. For this reason, when there is one of the output buffer circuits B1 to B3 whose output toggles at the same time, the change of the power supply current in one inductance component L becomes severe due to the simultaneous toggle, and the power supply noise increases.

【0011】この電源ノイズにより、静止している他の
出力バッファ回路の出力信号の電圧が変化し、該出力信
号を取り込んでいる論理回路を誤動作させてしまう虞が
ある。
Due to the power supply noise, the voltage of the output signal of another output buffer circuit that is stationary changes, and there is a possibility that a logic circuit that receives the output signal may malfunction.

【0012】なお、電源VDDのボンディングワイヤ
や、グランドGNDのボンディングワイヤの本数を増加
すると、このような電源ノイズの問題を低減することが
できる。しかしながら、ボンディングワイヤの数を増加
すると、これらのボンディングワイヤを融着させるため
の、半導体集積回路チップ上のパッドの数を増加する必
要がある。すると、半導体集積回路チップの面積が増加
するなど、集積度の問題が生じる。
The problem of power supply noise can be reduced by increasing the number of bonding wires of the power supply VDD and the number of bonding wires of the ground GND. However, when the number of bonding wires is increased, it is necessary to increase the number of pads on the semiconductor integrated circuit chip for fusing these bonding wires. Then, there arises a problem of the degree of integration such as an increase in the area of the semiconductor integrated circuit chip.

【0013】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、チップサイズの増加や集積度の低下
を抑えながら、外部に対し信号を出力する出力バッファ
回路などで生じる電源ノイズを低減すると共に、特に複
数の該出力バッファ回路の出力が同時ないしはほぼ同時
にトグルする際の電源ノイズを低減することができる半
導体集積回路を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and suppresses power supply noise generated in an output buffer circuit for outputting a signal to the outside while suppressing an increase in chip size and a decrease in the degree of integration. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit capable of reducing power supply noise when the outputs of a plurality of output buffer circuits toggle simultaneously or almost simultaneously.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、所望の回路を
作り込んだコア領域の周囲に、外部に対する信号を入出
力したり、外部から電源を取り入れる際に用いる複数の
IOバッファ領域を設けたレイアウトの半導体集積回路
において、、電源パッド及びグランドパッドの少なくと
も1つと、外部に対する信号を入出力する信号パッドと
を、IOバッファ領域に最接近するチップ外周部分のス
クライブラインに垂直な方向で、該IOバッファ領域内
に一列に配置するようにしたことにより、前記課題を解
決したものである。
According to the present invention, a plurality of IO buffer areas are provided around a core area in which a desired circuit is formed, for use in inputting / outputting a signal to / from the outside or receiving power from the outside. In the semiconductor integrated circuit having the layout described above, at least one of a power supply pad and a ground pad and a signal pad for inputting / outputting a signal to / from an external device are arranged in a direction perpendicular to a scribe line on a chip outer peripheral portion closest to the IO buffer region. The above problem has been solved by arranging in a line in the IO buffer area.

【0015】以下、本発明の作用について、簡単に説明
する。
Hereinafter, the operation of the present invention will be briefly described.

【0016】本発明においては、所望の回路を作り込ん
だコア領域の周囲に、外部に対する信号を入出力した
り、外部から電源を取り入れる際に用いる複数のIOバ
ッファ領域を設けたレイアウトの半導体集積回路におい
て、、IOバッファ領域、及びその周辺において工夫が
なされている。
According to the present invention, a semiconductor integrated circuit having a layout in which a plurality of IO buffer regions used for inputting / outputting signals to / from the outside and receiving power from the outside is provided around a core region in which a desired circuit is formed. In the circuit, the device is devised in the IO buffer area and its periphery.

【0017】本発明においては、IOバッファを用いて
外部に入出力する信号毎に、電源パッド及びグランドパ
ッドの少なくとも1つとを設け、必要に応じて該信号毎
にボンディングワイヤによる電源又はグランドの配線
の、半導体集積回路チップ外部に対する接続をするよう
にしている。このように、従来に比べて多くのボンディ
ングワイヤで接続するので、外部に対し信号を出力する
出力バッファ回路などで生じる電源ノイズを低減でき、
特に複数の該出力バッファ回路の出力が同時ないしはほ
ぼ同時にトグルする際の電源ノイズを低減することがで
きる。
In the present invention, at least one of a power supply pad and a ground pad is provided for each signal input / output to and from the outside using an IO buffer, and power supply or ground wiring by a bonding wire is provided for each signal as required. Is connected to the outside of the semiconductor integrated circuit chip. In this way, since the connection is made with a larger number of bonding wires than in the past, power supply noise generated in an output buffer circuit or the like that outputs a signal to the outside can be reduced,
In particular, it is possible to reduce power supply noise when the outputs of the plurality of output buffer circuits toggle at the same time or almost at the same time.

【0018】更に、本発明では、上述のように従来に比
べて増加する、電源パッド及びグランドパッドの少なく
とも1つと、IOバッファ領域から外部に入出力する信
号のパッドとを、該IOバッファ領域に最接近するチッ
プ外周部分のスクライブラインに垂直な方向で、該IO
バッファ領域内に一列に配置する。このため、該スクラ
イブラインに平行な方向、即ち、半導体集積回路チップ
外周に平行な方向に並ぶパッドの数は増加しない。従っ
て、半導体集積回路チップの外形を拡大するなどの必要
がなく、チップサイズの増加や集積度の低下を抑えるこ
とができる。
Further, according to the present invention, as described above, at least one of a power supply pad and a ground pad, and a pad for a signal input / output from the IO buffer area to the outside, which are increased as compared with the related art, are provided in the IO buffer area. In the direction perpendicular to the scribe line on the outer peripheral portion of the chip that comes closest, the IO
Place them in a line in the buffer area. Therefore, the number of pads arranged in the direction parallel to the scribe line, that is, the direction parallel to the outer periphery of the semiconductor integrated circuit chip does not increase. Therefore, there is no need to enlarge the outer shape of the semiconductor integrated circuit chip, and it is possible to suppress an increase in chip size and a decrease in the degree of integration.

【0019】なお、本発明においては、このように一列
配置されるパッドの詳細な配置位置を限定するものでは
ない。該配置位置は、IOバッファ領域内のスクライブ
ライン側であるのが好ましい。
The present invention does not limit the detailed arrangement of the pads arranged in a line in this manner. The disposition position is preferably on the scribe line side in the IO buffer area.

【0020】又、一列配置されるパッドが、IOバッフ
ァ領域から外部に入出力する信号のパッドと、電源パッ
ドとであってもよい。あるいは、該信号パッドと、グラ
ンドパッドとであってもよい。あるいは、これら信号パ
ッドと、電源パッドと、グランドパッドとであってもよ
い。更に、このような一列配置の際、一列配置のパッド
の順序を限定するものではない。
The pads arranged in a row may be a pad for signals input / output from the IO buffer area to the outside and a power supply pad. Alternatively, the signal pad and the ground pad may be used. Alternatively, these signal pads, power supply pads, and ground pads may be used. Further, in such a one-row arrangement, the order of the one-row pads is not limited.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明の実施の
形態を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0022】図3は、本発明が適用された第1実施形態
の半導体集積回路チップにおける本発明適用部分のIO
バッファ領域を中心とする集積回路レイアウト図であ
る。又、図4は、該IOバッファ領域周辺の回路図であ
る。図5は、半導体集積回路における該IOバッファ領
域周辺の断面図である。
FIG. 3 shows the IO of the portion of the semiconductor integrated circuit chip according to the first embodiment to which the present invention is applied.
FIG. 2 is an integrated circuit layout diagram centering on a buffer area. FIG. 4 is a circuit diagram around the IO buffer area. FIG. 5 is a cross-sectional view around the IO buffer region in the semiconductor integrated circuit.

【0023】まず、図3において、符号1の破線が本実
施形態の半導体集積回路チップのスクライブラインであ
る。該スクライブライン1より右側が、半導体集積回路
チップの内部であり、更に一点鎖線3で囲まれた領域が
IOバッファ領域であり、斜線Aの部分に入出力回路を
形成するためのトランジスタなどの素子領域を設けてい
る。本実施形態では素子領域Aとパッド配置部分とが分
かれているが、パッド配置部分は素子領域と重なっても
よい。つまり、素子領域A上にパッドを配置してもよ
い。該IOバッファ領域の右側には、所望の回路を作り
込んだコア領域が存在する。本実施形態の半導体集積回
路は、所望の回路を作り込んだコア領域の周囲に、外部
に対する信号を入出力したり、外部から電源を取り入れ
る際に用いる複数のIOバッファ領域が設けられたレイ
アウトである。
First, in FIG. 3, the dashed line 1 is a scribe line of the semiconductor integrated circuit chip of the present embodiment. The right side of the scribe line 1 is the inside of the semiconductor integrated circuit chip, and the area surrounded by the dashed line 3 is the IO buffer area. An area is provided. In the present embodiment, the element region A and the pad arrangement portion are separated, but the pad arrangement portion may overlap the element region. That is, pads may be arranged on the element region A. On the right side of the IO buffer area, there is a core area in which a desired circuit is formed. The semiconductor integrated circuit according to the present embodiment has a layout in which a plurality of IO buffer regions used for inputting / outputting signals to / from external devices and receiving power from the external devices are provided around a core region in which a desired circuit is formed. is there.

【0024】又、スクライブライン1より左側が、半導
体集積回路チップの外側であり、該半導体集積回路チッ
プを封止するパッケージのリードGND2、S2、及び
VDD2が配置されている。これらリードを経由して、
当該パッケージの外部のピンに電気的に接続される。
The left side of the scribe line 1 is outside the semiconductor integrated circuit chip, and the leads GND2, S2, and VDD2 of the package for sealing the semiconductor integrated circuit chip are arranged. Via these leads,
It is electrically connected to pins outside the package.

【0025】又、図4及び図5において、PチャネルM
OSトランジスタT1、及びNチャネルMOSトランジ
スタT2により、IOバッファ領域の出力バッファが構
成されている。
4 and 5, the P channel M
The OS transistor T1 and the N-channel MOS transistor T2 form an output buffer in the IO buffer area.

【0026】出力バッファの出力信号Sは、図3〜図5
において、信号配線W2、半導体集積回路チップ内のパ
ッドS1、該パッドS1と前述のリードS2とを接続す
るボンディングワイヤ、該リードS2を経由し、半導体
集積回路チップのパッケージ外部に出力される。又、該
出力バッファに対する電源供給において、まず電源VD
Dについては、パッケージ外部から、前述のリードVD
D2、該リードVDD2と半導体集積回路チップ内のパ
ッドVDD1とを接続するボンディングワイヤ、該パッ
ドVDD1、電源配線W1を経由してPチャネルMOS
トランジスタT1のソースに接続される。電源GNDに
ついては、パッケージ外部から、前述のリードGND
2、該リードGND2と半導体集積回路チップ内のパッ
ドGND1とを接続するボンディングワイヤ、該パッド
GND1、電源配線W3を経由して接続される。
The output signal S of the output buffer is shown in FIGS.
The signal is output to the outside of the package of the semiconductor integrated circuit chip via the signal wiring W2, the pad S1 in the semiconductor integrated circuit chip, the bonding wire connecting the pad S1 and the above-mentioned lead S2, and the lead S2. In supplying power to the output buffer, first, the power supply VD
As for D, from the outside of the package,
D2, a bonding wire connecting the lead VDD2 and the pad VDD1 in the semiconductor integrated circuit chip, a P-channel MOS via the pad VDD1, and the power supply wiring W1.
Connected to the source of transistor T1. As for the power supply GND, the above-mentioned lead GND is supplied from outside the package.
2. Bonding wires for connecting the leads GND2 and the pads GND1 in the semiconductor integrated circuit chip, the pads GND1, and the power supply wiring W3.

【0027】本実施形態においては、IOバッファを用
いて外部に出力する信号毎に、電源パッド及びグランド
パッドを設け、該信号毎にボンディングワイヤによる電
源及びグランドの配線の、チップ外部に対する接続をす
るようにしている。このように、従来に比べて多くのボ
ンディングワイヤで接続するので、外部に対し信号を出
力する出力バッファ回路などで生じる電源ノイズを低減
でき、特に複数の該出力バッファ回路の出力が同時ない
しはほぼ同時にトグルする際の電源ノイズを低減するこ
とができる。
In this embodiment, a power supply pad and a ground pad are provided for each signal to be output to the outside using the IO buffer, and the power supply and ground wiring by bonding wires is connected to the outside of the chip for each signal. Like that. As described above, since the connection is made with a larger number of bonding wires than in the related art, power supply noise generated in an output buffer circuit or the like that outputs a signal to the outside can be reduced. In particular, the outputs of a plurality of the output buffer circuits are simultaneously or almost simultaneously. Power supply noise when toggling can be reduced.

【0028】又、電源パッドVDD1と、グランドパッ
ドGND1と、IOバッファ領域から外部に出力する信
号のパッドS1とが、図3において左右方向で一列に配
置されている。該方向は、該IOバッファ領域に最接近
するチップ外周部分のスクライブライン1に垂直な方向
である。このため、該スクライブライン1に平行な方
向、即ち、半導体集積回路チップ外周に平行な方向に並
ぶパッドの数は増加しない。従って、半導体集積回路チ
ップの外形を拡大するなどの必要がなく、チップサイズ
の増加や集積度の低下を抑えることができる。
A power supply pad VDD1, a ground pad GND1, and a pad S1 for outputting a signal from the IO buffer area to the outside are arranged in a line in the left-right direction in FIG. The direction is a direction perpendicular to the scribe line 1 in the outer peripheral portion of the chip closest to the IO buffer area. Therefore, the number of pads arranged in the direction parallel to the scribe line 1, that is, the direction parallel to the outer periphery of the semiconductor integrated circuit chip does not increase. Therefore, there is no need to enlarge the outer shape of the semiconductor integrated circuit chip, and it is possible to suppress an increase in chip size and a decrease in the degree of integration.

【0029】次に、図5において、図3と同様に破線1
はスクライブラインである。又、一点鎖線3で囲まれた
領域がIOバッファ領域である。IOバッファ領域内部
に、電源パッドVDD1と、グランドパッドGND1
と、IOバッファ領域から外部に出力する信号のパッド
S1とが設けられている。
Next, in FIG. 5, as in FIG.
Is a scribe line. The area surrounded by the dashed line 3 is the IO buffer area. Within the IO buffer area, a power supply pad VDD1 and a ground pad GND1
And a pad S1 for a signal to be output from the IO buffer area to the outside.

【0030】更に、図5において、M1〜M5は、それ
ぞれ、第1金属配線層〜第5金属配線層を示す。このよ
うに本実施形態は、金属配線層が5層構成のものであ
る。しかしながら、本発明は、このようなものに限定さ
れるものではなく、後述するようなパッドS1、VDD
1、GND1、又これらパッドに対する配線が可能であ
れば、幾つの層構成であってもよい。又、性能その他の
要素の条件が満たされれば、金属配線層以外の配線層を
利用してもよい。
Further, in FIG. 5, M1 to M5 denote a first metal wiring layer to a fifth metal wiring layer, respectively. As described above, in the present embodiment, the metal wiring layer has a five-layer structure. However, the present invention is not limited to this, and the pads S1, VDD
1, GND1 and any number of layers may be used as long as wiring to these pads is possible. If the conditions of performance and other factors are satisfied, a wiring layer other than the metal wiring layer may be used.

【0031】図6は、本発明が適用された第2実施形態
の半導体集積回路のチップ及びその周辺のレイアウト図
である。
FIG. 6 is a layout diagram of a chip of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention and its periphery.

【0032】該図6においては、破線で示すスクライブ
ライン1により、本実施形態の半導体集積回路のチップ
外周が示されると共に、該半導体集積回路チップを封止
するパッケージの一部のレイアウトが示される。該半導
体集積回路チップ自体については、本実施形態のもの
は、前述した第1実施形態のものと同一である。本実施
形態は、第1実施形態とは、半導体集積回路チップを封
止するパッケージが異なる。
In FIG. 6, a scribe line 1 shown by a broken line shows the outer periphery of the semiconductor integrated circuit chip of this embodiment, and also shows a layout of a part of a package for sealing the semiconductor integrated circuit chip. . The semiconductor integrated circuit chip of the present embodiment is the same as that of the first embodiment described above. This embodiment is different from the first embodiment in a package for sealing a semiconductor integrated circuit chip.

【0033】即ち、本第2実施形態では、半導体集積回
路のパッケージにおいて、搭載する半導体集積回路チッ
プの周囲に、電源VDD用リードとして利用される、リ
ング状配線VDD3を設けている。同様に、搭載する半
導体集積回路チップの周囲に、グランドGND用リード
として利用される、リング状配線GND3を設けてい
る。なお、該リング状配線GND3は、リング状配線V
DD3の外側にあるが、内側に設けてもよい。
That is, in the second embodiment, in the package of the semiconductor integrated circuit, a ring-shaped wiring VDD3 used as a power supply VDD lead is provided around the semiconductor integrated circuit chip to be mounted. Similarly, a ring-shaped wiring GND3 used as a ground GND lead is provided around the semiconductor integrated circuit chip to be mounted. Note that the ring-shaped wiring GND3 is a ring-shaped wiring V
Although it is outside DD3, it may be provided inside.

【0034】更に、これらリング状配線VDD3及びリ
ング状配線GND3の外側に、IOバッファ領域により
信号を入出力するための多数のリードS3が設けられて
いる。該リードS3の一部は、半導体集積回路チップの
パッケージ外部へ、IOバッファ領域の出力バッファか
ら信号を出力するために用いられている。又、該リード
S3は、図6において、ほぼ放射状方向に敷設されてい
る。
Further, a number of leads S3 for inputting and outputting signals to and from the IO buffer area are provided outside the ring-shaped wiring VDD3 and the ring-shaped wiring GND3. A part of the lead S3 is used to output a signal from the output buffer in the IO buffer area to the outside of the package of the semiconductor integrated circuit chip. The lead S3 is laid almost in a radial direction in FIG.

【0035】なお、スクライブライン1により外形が示
される半導体集積回路チップにおいて、符号7の斜線の
領域に、多数の前述したIOバッファ領域が隣接して作
り込まれている。又、砂目の網掛け部分の符号5は、所
望の回路を作り込んだコア領域である。
In the semiconductor integrated circuit chip whose outer shape is indicated by the scribe line 1, a large number of the above-mentioned IO buffer areas are formed adjacent to the hatched area of the reference numeral 7. Reference numeral 5 in the shaded portion indicates a core region in which a desired circuit is formed.

【0036】図7は、本実施形態の半導体集積回路にお
ける本発明適用部分のIOバッファ領域を中心とする集
積回路レイアウト図である。
FIG. 7 is an integrated circuit layout diagram of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment, focusing on the IO buffer region of the portion to which the present invention is applied.

【0037】該図7は、前述の第1実施形態の図3に相
当し、比較することで相違を明確に把握できる。なお、
図7において、一点鎖線のスクライブライン1より下側
が半導体集積回路チップ内部であり、スクライブライン
1、一点鎖線3、パッドS1、VDD1、GND1など
は、第1実施形態と同様である。
FIG. 7 corresponds to FIG. 3 of the first embodiment, and the difference can be clearly grasped by comparing. In addition,
7, the lower side of the dashed line scribe line 1 is inside the semiconductor integrated circuit chip, and the scribe line 1, the dashed line 3, the pads S1, VDD1, GND1 and the like are the same as in the first embodiment.

【0038】本実施形態では、該図7、又図4及び図5
において、出力バッファの出力信号Sは、信号配線W
2、半導体集積回路チップ内のパッドS1、該パッドS
1と前述のリードS3とを接続するボンディングワイ
ヤ、該リードS3を経由し、半導体集積回路のパッケー
ジ外部に出力される。又、該出力バッファに対する電源
供給において、まず電源VDDについては、パッケージ
外部から、前述のリードVDD3、該リードVDD3と
半導体集積回路チップ内のパッドVDD1とを接続する
ボンディングワイヤ、該パッドVDD1、電源配線W1
を経由して接続される。電源GNDについては、パッケ
ージ外部から、前述のリードGND3、該リードGND
3と半導体集積回路チップ内のパッドGND1とを接続
するボンディングワイヤ、該パッドGND1、電源配線
W3を経由して接続される。
In this embodiment, FIG. 7, FIG. 4 and FIG.
, The output signal S of the output buffer is
2. Pad S1 in the semiconductor integrated circuit chip;
A bonding wire connecting the lead 1 and the lead S3 is output to the outside of the package of the semiconductor integrated circuit via the lead S3. In the power supply to the output buffer, first, the power supply VDD is supplied from the outside of the package to the aforementioned lead VDD3, a bonding wire connecting the lead VDD3 to the pad VDD1 in the semiconductor integrated circuit chip, the pad VDD1, the power supply wiring. W1
Connected via As for the power supply GND, the above-described lead GND3, the lead GND,
3 and a bonding wire connecting the pad GND1 in the semiconductor integrated circuit chip, the pad GND1, and the power supply wiring W3.

【0039】本実施形態においては、半導体集積回路の
パッケージにおいて、リードとして用いる配線VDD3
及び配線GND3がリング状であるため、信号リードS
2毎に設けている第1実施形態に比較して形成しやす
い。又、パッケージ外部に対するピンにおいて、複数の
信号S3に対して、電源VDDやグランドGNDのピン
を1つ共通で設けるようにすることが、第1実施形態に
比較して容易であり、パッケージピンの有効利用が容易
である。
In this embodiment, in the package of the semiconductor integrated circuit, the wiring VDD3 used as a lead is used.
Since the wiring GND3 is ring-shaped, the signal lead S
It is easier to form than in the first embodiment provided for every two. In addition, it is easier to provide a common power supply VDD or ground GND pin for a plurality of signals S3 as compared with the first embodiment. Effective utilization is easy.

【0040】図8は、以上に説明した第1実施形態及び
第2実施形態の半導体集積回路の一部等価回路を含む回
路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram including a partially equivalent circuit of the semiconductor integrated circuits of the first and second embodiments described above.

【0041】この図は、従来例の前述した図1に対比さ
れており、所望の回路を作り込んだコア領域の周囲にあ
る、外部に対して信号を出力する出力バッファ、あるい
は外部から電源を取り入れる配線が示されている。図8
においては、符号Lは、パッケージリード及びボンディ
ングワイヤが持つインダクタンス成分を表わしている。
This figure is different from the above-described conventional example shown in FIG. 1, in which an output buffer for outputting a signal to the outside or a power supply from the outside is provided around a core region in which a desired circuit is formed. The wiring to be taken is shown. FIG.
, L represents an inductance component of the package lead and the bonding wire.

【0042】前述の従来例の図1では、電源VDDの1
本のボンディングワイヤや、グランドGNDの1本のボ
ンディングワイヤによって、複数の出力バッファ回路
や、場合によっては入力バッファ回路を受け持つという
ような状態である。従って、複数の出力バッファ回路B
1〜B3の電源電流i1〜i3は、1つのインダクタン
スLに流れている。又、電源電流i4〜i6は、1つの
インダクタンスLに流れている。
In FIG. 1 of the conventional example described above, the power supply VDD
In this state, a plurality of output buffer circuits and, in some cases, an input buffer circuit are covered by one bonding wire or one bonding wire of the ground GND. Therefore, a plurality of output buffer circuits B
Power supply currents i1 to i3 of 1 to B3 flow through one inductance L. The power supply currents i4 to i6 are flowing through one inductance L.

【0043】これに対して、図8に示されるように、こ
れら実施形態では、複数の出力バッファ回路それぞれ
や、場合によっては複数の入力バッファ回路それぞれ
に、電源VDDのボンディングワイヤや、グランドGN
Dのボンディングワイヤが設けられている。従って、出
力バッファ回路B1〜B3の電源電流i1〜i3は、別
のインダクタンスLに流れている。又、電源電流i4〜
i6は、別のインダクタンスLに流れている。
On the other hand, as shown in FIG. 8, in these embodiments, the bonding wire of the power supply VDD, the ground GND, and the like are provided to each of the plurality of output buffer circuits and, in some cases, each of the plurality of input buffer circuits.
D bonding wires are provided. Therefore, the power supply currents i1 to i3 of the output buffer circuits B1 to B3 are flowing to another inductance L. Also, the power supply current i4
i6 is flowing through another inductance L.

【0044】このためこれら実施形態では、出力バッフ
ァ回路B1〜B3において、出力が同時にトグルするも
のがある場合にも、前述した(1)式で示される電源ノ
イズEnoiseが小さくなる。
Therefore, in these embodiments, even in the case where there are output buffer circuits B1 to B3 whose outputs toggle at the same time, the power supply noise Enoise expressed by the above equation (1) is reduced.

【0045】以上のように第1実施形態及び第2実施形
態においては、本発明を効果的に適用することができ
る。従って、チップサイズの増加や集積度の低下を抑え
ながら、外部に対し信号を出力する出力バッファ回路な
どで生じる電源ノイズを低減すると共に、特に複数の該
出力バッファ回路の出力が同時ないしはほぼ同時にトグ
ルする際の電源ノイズを低減することができる。
As described above, the present invention can be effectively applied to the first embodiment and the second embodiment. Therefore, while suppressing an increase in chip size and a decrease in the degree of integration, power supply noise generated in an output buffer circuit for outputting a signal to the outside is reduced, and in particular, the outputs of a plurality of the output buffer circuits are simultaneously or almost simultaneously toggled. The power supply noise at the time of performing can be reduced.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明によれば、チップサイズの増加や
集積度の低下を抑えながら、外部に対し信号を出力する
出力バッファ回路などで生じる電源ノイズを低減すると
共に、特に複数の該出力バッファ回路の出力が同時ない
しはほぼ同時にトグルする際の電源ノイズを低減するこ
とができる。
According to the present invention, while suppressing an increase in chip size and a decrease in the degree of integration, it is possible to reduce power supply noise generated in an output buffer circuit or the like for outputting a signal to the outside. Power supply noise when the output of the circuit toggles at or almost simultaneously can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の半導体集積回路の一部等価回路を含む回
路図
FIG. 1 is a circuit diagram including a partial equivalent circuit of a conventional semiconductor integrated circuit.

【図2】電源ノイズを示すグラフFIG. 2 is a graph showing power supply noise.

【図3】本発明が適用された第1実施形態の半導体集積
回路における本発明適用部分のIOバッファ領域を中心
とする集積回路レイアウト図
FIG. 3 is an integrated circuit layout diagram of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment to which the present invention is applied, focusing on an IO buffer region to which the present invention is applied;

【図4】上記IOバッファ領域周辺の回路図FIG. 4 is a circuit diagram around the IO buffer area.

【図5】前記実施形態の半導体集積回路における該IO
バッファ領域周辺の断面図
FIG. 5 shows the IO in the semiconductor integrated circuit of the embodiment.
Sectional view around buffer area

【図6】本発明が適用された第2実施形態の半導体集積
回路のチップ及びその周辺のレイアウト図
FIG. 6 is a layout diagram of a chip of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment to which the present invention is applied and the periphery thereof;

【図7】上記実施形態の半導体集積回路における本発明
適用部分のIOバッファ領域を中心とする集積回路レイ
アウト図
FIG. 7 is an integrated circuit layout diagram centering on an IO buffer region of a portion to which the present invention is applied in the semiconductor integrated circuit of the embodiment.

【図8】前記第1実施形態及び前記第2実施形態の半導
体集積回路の一部等価回路を含む回路図
FIG. 8 is a circuit diagram including a partially equivalent circuit of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment and the second embodiment;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…スクライブライン VDD…電源 GND…グランド W1〜W3…配線 VDD1、GND1、S1…パッド VDD2、VDD3、GND2、GND3、S2、S3
…リード B1〜B3…出力バッファ回路 L…インダクタンス
1: Scribe line VDD: Power supply GND: Ground W1 to W3: Wiring VDD1, GND1, S1 ... Pads VDD2, VDD3, GND2, GND3, S2, S3
... Leads B1 to B3 ... Output buffer circuit L ... Inductance

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】所望の回路を作り込んだコア領域の周囲
に、外部に対する信号を入出力したり、外部から電源を
取り入れる際に用いる複数のIOバッファ領域を設けた
レイアウトの半導体集積回路において、 電源パッド及びグランドパッドの少なくとも1つと、外
部に対する信号を入出力する信号パッドとを、IOバッ
ファ領域に最接近するチップ外周部分のスクライブライ
ンに垂直な方向で、該IOバッファ領域内に一列に配置
するようにしたことを特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having a layout in which a plurality of IO buffer regions used for inputting / outputting a signal to / from an external device and receiving power from an external device are provided around a core region in which a desired circuit is formed. At least one of a power supply pad and a ground pad, and a signal pad for inputting / outputting a signal to / from the outside are arranged in a line in the IO buffer area in a direction perpendicular to a scribe line on a chip outer peripheral portion closest to the IO buffer area. A semiconductor integrated circuit characterized in that:
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