JPH03212955A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体装置に係り、論理回路群と、該論理回
路群の出力信号に基づいて外部端子に信号を出力する出
力バッファトランジスタ群とを有する半導体装置に関す
る。The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device having a logic circuit group and an output buffer transistor group that outputs a signal to an external terminal based on an output signal of the logic circuit group.
半導体集積回路(LSI)の微細化が、今日、ますます
進められており、その微細化に伴い、半導体集積回路の
大規模化と多ビン化が進められている。この多ピン化に
より、出力ビンの数も大幅に増大する傾向にある9例え
ばPLA(プロゲラ゛ンブルロジックアレイ)において
は、144もの出力ビン(入力ビンも兼ねる)を備える
ものもある。
半導体集積回路内部には、このような出力ピンに対応し
て例えば第5図に示すようなPチャネルMOSトランジ
スタT1及びNチャネルMOSトランジスタT2からな
る出力バッファトランジスタが設けられており、出力ビ
ン0に付随する負荷を駆動して外部に信号を送出する。
この負荷は、通常、数10〜数100<1)F)程度の
比較的大きなものであるため、出力バッファトランジス
タの電流駆動能力が大きく設定されている。
このように電流駆動能力が大きく設定された出力バッフ
ァトランジスタがスイッチング動作するときには、半導
体集積回路内部の電源・接地線に瞬時的な大電流が流れ
、電源・接地線に寄生するインピーダンスの存在によっ
て、電源・接地電位の変動、即ち電源・接地ノイズが生
じる場合がある。このノイズは、出力ピンの数、即ち出
力バッファトランジスタの数の増加に伴って増大し、回
路誤動作を招来する原因となっている。
この電源・接地ノイズから回路誤動作を防ぐ手段には、
種々のものが考えられている0例えば接地ノイズから回
路誤動作を防ぐ手段には、第6図に示すようなものがあ
る。
第6図の手段においては、半導体集積回路3内部の出力
バッファトランジスタ群2a 、2bと、その他の内部
回路1との接地線を、それぞれ例えばアルミニウムから
なる配線AI、A2とで構成し、これら接地線Al、A
2を比較的電位が安定したバッドPの近傍で分岐するこ
とによって、出力バッファトランジスタ群2a 、2b
で発生した接地ノイズがその接地線A1から内部回路1
の接地線A2に伝播するのを防いでいる。従って、接地
線Aの電位は安定し、出力バッファトランジスタ群2a
、2bで発生したノイズから内部回路1の誤動作を防
止することができる。
又、電源ノイズについても、電源、*A3、A4(図示
せず)に前記と同様な手段を設けて、回路誤動作を防い
でいる。2. Description of the Related Art Today, semiconductor integrated circuits (LSI) are being increasingly miniaturized, and along with this miniaturization, semiconductor integrated circuits are becoming larger in scale and have more bins. With this increase in the number of pins, the number of output bins tends to increase significantly.9 For example, some PLAs (Programmable Logic Arrays) have as many as 144 output bins (which also serve as input bins). Inside the semiconductor integrated circuit, an output buffer transistor consisting of a P-channel MOS transistor T1 and an N-channel MOS transistor T2 as shown in FIG. 5, for example, is provided corresponding to such an output pin. Drives the accompanying load and sends a signal to the outside. Since this load is usually relatively large, on the order of several tens to several hundreds <1) F, the current driving capability of the output buffer transistor is set to be large. When an output buffer transistor with a large current drive capacity performs a switching operation, a large instantaneous current flows through the power supply and ground lines inside the semiconductor integrated circuit, and due to the presence of parasitic impedance in the power supply and ground lines, Fluctuations in power supply/ground potential, that is, power supply/ground noise may occur. This noise increases as the number of output pins, ie, the number of output buffer transistors, increases, causing circuit malfunction. The means to prevent circuit malfunction from this power supply/ground noise are as follows:
Various methods have been considered for preventing circuit malfunctions due to ground noise, for example, as shown in FIG. In the means shown in FIG. 6, the grounding lines between the output buffer transistor groups 2a and 2b inside the semiconductor integrated circuit 3 and the other internal circuits 1 are respectively constituted by wirings AI and A2 made of aluminum, for example. Line Al, A
By branching 2 near the pad P where the potential is relatively stable, the output buffer transistor groups 2a and 2b
The ground noise generated in the internal circuit 1 from the ground wire A1
This prevents the signal from propagating to the ground wire A2. Therefore, the potential of the ground line A is stabilized, and the output buffer transistor group 2a
, 2b can prevent the internal circuit 1 from malfunctioning due to the noise generated. Also, regarding power supply noise, the power supply, *A3, and A4 (not shown) are provided with the same means as described above to prevent circuit malfunction.
しかしながら、前記従来の技術においては、バッドPの
近傍の電位が比較的安定しているとはいえ、出力バッフ
ァトランジスタの数が著しく増加すると、該バッファト
ランジスタのスイッチング動作に伴う瞬時電流も著しく
増加するなめ、バッドPと電源・接地電位を供給する外
部電源装置との間のインピーダンスが顕在化して、パッ
ドP近傍の電位が変動し、回路誤動作を招来するという
問題点がある。
これに対して、電源・接地ノイズは、電源・接地線の寄
生インピーダンス、及びバッドPと前記外部電源装置と
の間のインピーダンスの存在により顕在化するものであ
ることから、これらインピーダンスを小さくすれば電源
・接地ノイズを防止することができる。しかしながら、
半導体集積回路のV&細化による配線の薄膜化、及びチ
ップ面積縮小のための配線幅の縮小等の制約のため、出
力バッファトランジスタ数の著しい増加に対して、十分
対処可能な程にまで前記インピーダンスを小さくするこ
とには、事実上の限界があり、前記問題点に対する有効
な対策とはならないという問題点がある8例えば特開昭
1−14775に開示された技術では、多層配線構造を
採用して電源・接地線を並列化し配線層金属の断面積を
増やすことにより、前記インピーダンスの減少を図ろう
としているが、前記制約のなめこの技術でも前記インピ
ーダンスを小さくすることには事実上の限界がある。
本発明は、前記従来の問題点に鑑みてなされたもので、
半導体集積回路の大規模化、著しい多ビン化に伴って増
大した電源・接地ノイズが生じても、回路誤動作を招来
することのない半導体装置を提供することを課題とする
。However, in the conventional technology, although the potential near the bad P is relatively stable, when the number of output buffer transistors increases significantly, the instantaneous current associated with the switching operation of the buffer transistors also increases significantly. In short, there is a problem in that impedance between the pad P and an external power supply device that supplies power and ground potential becomes apparent, and the potential near the pad P fluctuates, leading to circuit malfunction. On the other hand, power supply/ground noise becomes apparent due to the presence of parasitic impedance of the power supply/ground line and impedance between the pad P and the external power supply, so if these impedances are reduced, Power supply/ground noise can be prevented. however,
Due to constraints such as thinning of wiring due to V & thinning of semiconductor integrated circuits and reduction of wiring width to reduce chip area, the impedance has been increased to the extent that it can sufficiently cope with a significant increase in the number of output buffer transistors. There is a practical limit to reducing the size of the wiring, and there is a problem that it is not an effective solution to the above-mentioned problem. Attempts have been made to reduce the impedance by parallelizing the power supply and ground lines and increasing the cross-sectional area of the wiring layer metal, but even with this technology, there is a practical limit to reducing the impedance. be. The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and
An object of the present invention is to provide a semiconductor device that does not cause circuit malfunction even when power supply/ground noise increases due to the increase in the scale of semiconductor integrated circuits and the significant increase in the number of bins.
本発明は、論理回路群と、該論理回路群の出力信号に基
づいて外部端子に信号を出力する出力バッファトランジ
スタ群とを有する半導体装置において、前記論理回路群
に正電源、負電源、又は接地電位を供給するための第1
の配線と、前記出力バッファトランジスタ群に正電源、
負電源、又は接地電位を供給するための第2の配線とを
各々独立して設け、前記第1及び第2の配線のそれぞれ
に外部から正電源、負電源、又は接地電位を伝達するた
めの第1及び第2の電源伝達手段とを備えることにより
、前記課題を解決したものである。
又、前記第1及び第2の電源伝達手段を、前記第1及び
第2の配線のそれぞれについて複数設けることができる
。これにより、ノイズ伝播がより効果的に防止でき、回
路誤動作を更に一層確実に防止できる。
ス、前記第2の配線を、出力バッファトランジスタのソ
ースに入る電源のみが独立するように形成することがで
きる。これにより、出力バッファトランジスタの著しい
増加に対しても、ノイズ伝播を確実に防止し、回路動作
を安定させ得る。The present invention provides a semiconductor device having a logic circuit group and an output buffer transistor group that outputs a signal to an external terminal based on an output signal of the logic circuit group. The first for supplying the potential
wiring, and a positive power supply to the output buffer transistor group.
A second wiring for supplying a negative power supply or a ground potential is provided independently, and a positive power supply, a negative power supply, or a ground potential is transmitted from the outside to each of the first and second wirings. The above problem is solved by including first and second power transmission means. Further, a plurality of the first and second power transmission means can be provided for each of the first and second wirings. Thereby, noise propagation can be more effectively prevented, and circuit malfunctions can be prevented even more reliably. The second wiring can be formed so that only the power source input to the source of the output buffer transistor is independent. As a result, even with a significant increase in the number of output buffer transistors, noise propagation can be reliably prevented and circuit operation can be stabilized.
本発明においては、論理回路群と出力バッファトランジ
スタ群を有する半導体装置において、前記論理回路群に
正電源、負電源、又は接地電位を供給するための第1の
配線と、前記出力バッファトランジスタに正電源、負電
源、又は接地電位を供給するための第2の配線とを独立
して設け、第1及び第2の電源供給手段から、前記第1
及び第2の配線のそれぞれに外部から正電源−負電源、
又は接地電位を供給するようにして、前記論理回路群の
第1の配線と出力バッファトランジスタ群の第2の配線
を分離している。
従って、出力バッファトランジスタのスイッチング動作
によって発生した電源・接地ノイズが、前記論理回路群
に電源・接地線を介して伝播することがなくなるため、
論理回路が出力バッファトランジスタ群で生じたノイズ
により誤動作することがない。In the present invention, in a semiconductor device having a logic circuit group and an output buffer transistor group, a first wiring for supplying a positive power supply, a negative power supply, or a ground potential to the logic circuit group; A second wiring for supplying a power supply, a negative power supply, or a ground potential is provided independently, and the first and second power supply means
and a positive power supply to a negative power supply from the outside to each of the second wiring,
Alternatively, the first wiring of the logic circuit group and the second wiring of the output buffer transistor group are separated by supplying a ground potential. Therefore, the power supply/ground noise generated by the switching operation of the output buffer transistor is prevented from propagating to the logic circuit group via the power supply/ground line.
The logic circuit will not malfunction due to noise generated in the output buffer transistor group.
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
まず第1実施例について説明する。
第1図は、第1実施例にかかる半導体集積回路8の平面
図である。
第1図に示すように、この半導体集積回路8は、論理回
路群からなる内部回路10と、第1、第2の出力バッフ
ァトランジスタ群12a、12bと、前記出力バッファ
トランジスタ群12a、12bに正電源及び接地電位を
供給するための、その−部にバッドP14a=P14b
を有する電源線14a及び接地線14bと、前記内部回
F#r10に正電源及び接地電位を供給するための、そ
の一部にバッドP16a 、P16bを有する電源線1
6a及び接地線16bと、図示しない外部の電源装置か
ら供給される正電源を前記電源線14a、16aに伝達
するための、それぞれ独立した電源ビンVdd+ 、V
dd2及びワイヤWI O,Wl 2と、図示しない電
源装置からの接地電位を前記接地+1!14b、16b
に伝達するための、それぞれ独立した接地h’ンVSS
+ 、VSS2 、及びワイヤW14、Wl6とを有す
る。
前記電源線14a、16aのバッドP14a、P16a
は、第1図に示すように互いに独立しており、前記ワイ
ヤWI O,Wl 2で各独立の電源ビンVdd+ 、
Vdd2に接続されるものである。従って、各電源線1
4a、16aは、半導体集積図F!@8上で互いに分離
、独立している。又、前記接地線14b、16bのバッ
ドP14b、P16bは、第1図に示すように、互いに
独立しており、前記ワイヤW14.W16で各独立の接
地ビンVSS1、VSS2に接続されるものである。従
って各接地線14b、16bは半導体集積回路8上で互
いに分離、独立している。
前記接地ビンVSSt 、VSS2は、インピーダンス
が十分に小さく、且つ、安定した接地電位に固定された
接地線GNDに接続され、この接地線GNDには図示し
ない電源装置から接地電位が供給されている。
又、前記電源ビンVdL 、Vdd2は、同様にインピ
ーダンスが十分に小さく、且つ、安定した正電源が図示
しない電源装置から供給されている。
この実施例においては、前記のように安定した接地電位
に固定された接地線GNDから各接地線14b、16b
に分岐して配線していることから、出力バッファトラン
ジスタ群12a、12bのスイッチング動作によって発
生した接地ノイズは、接地バッドP14bからワイヤW
14、接地ビンVss、を介して接地線GNDに至るの
みでこの接地線GNDに吸収され、その他の内部回路1
0へ前記接地線GNDを介して伝播されることはない。
ここで、本第1実施例において、第1、第2の出力バッ
ファトランジスタ群12a、12bを構成する出力バッ
ファトランジスタ12を、例えば第2図に示すような、
P型基板22上に設けたNチャネルMO3)ランジスタ
で構成した場合、あるいはCMOS構成とした場合につ
いて考える。
第2図の回路において、出力バッファトランジスタ12
には、アルミニウムからなる接地線14bで接地電位が
供給されると共に、内部回路10にはアルミニウムから
なる接地線16bで接地電位が供給される。なお、第2
図において、符号20は、内部回路10を構成するNチ
ャネルMOSトランジスタである。
第2図のように、P型半導体からなる基板22の電位(
ソース電位)の固定を前記接地線14bを接続し、その
接地電位によってもかまわないが、この場合、前記内部
回路10を構成するNチャネルMOSトランジスタ20
の近傍の基板電位を固定するのにアルミニウムからなる
接地線16bを使用しているため、この基板22を介し
て出力バッファトランジスタ12で生じた接地ノイズが
内部回路10に伝播する恐れが生じる。この基板22を
介してのノイズの伝播は、基板の等価抵抗「Pが前記接
地線14b、16bの抵抗r1、r2に比較して十分大
きいため、当該接地線14b、16bを介してのノイズ
の伝播よりもその程度は小さいが、出力バッファトラン
ジスタ12の数が著しく増加した場合、その影響を無視
することができなくなる。
そこで、このような接地ノイズの伝播の防止について万
全を期するために、第3図に示すように、出力バッファ
トランジスタ12周辺の基板電位を固定する接地線とし
て、出力バッファトランジスタに接地電位を供給するア
ルミニウム配線14−b以外の接地線を、例えば内部回
路10の接地線16bを図の実線のように用いることで
、更に一層のノイズ防止効果が得られる。なお、第3図
に示すように、前記接地線16bを用いる他、パッドP
16bの近傍から分岐した、第3図中破線で示すような
接地線16cを新設するようにしてもよい、これら接地
線16b、16cは、レイアウトの容易さによって使い
分けて配線することができる。
なお、以上においては、接地ノイズに関する対策につい
て説明したが、電源ノイズに対してもパッドP14a
、P16aが分離しているため、同様の効果が得られる
。
この第1実施例は、半導体集積回路が大規模化し複数電
源を必要とする場合に、各電源ビン及び各電源線毎に異
なる電源を供給するのに好適である。
次に、第2実施例について説明する。
第4図は、第2実施例にかかる半導体集積回路8の平面
図である。
この第2実施例は、前記第1実施例の半導体集積回路に
おいて、パッドP14b、P16bが隣接している場合
に、第1実施例の接地ビンVSS。
vss2に替えて、1つの共通した接地ビンVSSを設
け、パッドP14b、P16bからのワイヤW14、W
16を接地ビンVssに共通に接続したものである。
この場合、接地ビンVSSの抵抗値はほとんど無視でき
ることから、接地ピン数を減らして第1の実施例と同様
の効果を得ることができる。又、大規模複数電源から電
源を供給するときには、第1実施例のような構成で各配
線を設ければ、各配線毎に電源を供給するのに好適であ
るが、この第1実施例で電圧を固定した場合を考えれば
、第2実施例の構成として同様の効果を得ることができ
る。
前記第1、第2実施例においては、出力バッファトラン
ジスタ及び内部回路に電源・接地電位を供給するパッド
P14a 、P14b 、P16a、P16bをそれぞ
れ各電源線、接地線14a、14b 、16a 、16
bについて1つずつ設けていたが、出力ビン増加に伴っ
て適宜それらパッドを増設して該出力ビンと接続すれば
、より安定した正電源・接地電位を得ることができる。
又、前記第1、第2実施例においては、第2図、第3図
に示すように、P型基板上に形成された半導体集積回路
について例示したが、本発明が実施できる半導体装置は
このようなP型基板上に構成される半導体集積回路に限
定されるものではなく、他の導電型の構造を有する半導
体装置においても同様に適用することが可能である。
更に、前記第1、第2実施例においては、出力バッファ
トランジスタとしてMOSトランジスタを例示したが、
本発明を実施する際に半導体集積回路を構成するトラン
ジスタはこの種のものに限定されず、他の例えばバイポ
ーラ型のトランジスタを用いた半導体装置にも適用する
ことができる。
又、前記第1、第2実施例では、電源線から正電源を接
地線から接地電位を供給していたが、本発明が実施され
る半導体装置に供給される電源はこの種のものに限定さ
れず、負電源も含む任意の電源を供給する際に本発明は
実施できるものである。Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. First, a first example will be explained. FIG. 1 is a plan view of a semiconductor integrated circuit 8 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, this semiconductor integrated circuit 8 includes an internal circuit 10 consisting of a logic circuit group, first and second output buffer transistor groups 12a and 12b, and a positive output buffer transistor group 12a and 12b. Pads P14a=P14b are connected to the negative part for supplying power and ground potential.
and a power line 1 having pads P16a and P16b in part thereof for supplying a positive power source and a ground potential to the internal circuit F#r10.
6a and ground line 16b, and independent power supply bins Vdd+ and V for transmitting positive power supplied from an external power supply device (not shown) to the power supply lines 14a and 16a, respectively.
dd2 and wires WI O, Wl 2, and the ground potential from the power supply device (not shown) are connected to the ground +1!14b, 16b.
Each independent ground h'n VSS
+, VSS2, and wires W14 and Wl6. Pads P14a and P16a of the power supply lines 14a and 16a
are independent from each other as shown in FIG.
It is connected to Vdd2. Therefore, each power line 1
4a and 16a are semiconductor integrated diagrams F! They are separated and independent from each other on @8. Further, the pads P14b and P16b of the grounding wires 14b and 16b are independent from each other, as shown in FIG. W16 is connected to each independent grounding bin VSS1, VSS2. Therefore, the ground lines 14b and 16b are separated and independent from each other on the semiconductor integrated circuit 8. The grounding bins VSSt and VSS2 are connected to a grounding line GND which has sufficiently low impedance and is fixed to a stable grounding potential, and this grounding line GND is supplied with a grounding potential from a power supply device (not shown). Further, the power supply bins VdL and Vdd2 similarly have sufficiently low impedance and are supplied with stable positive power from a power supply device (not shown). In this embodiment, each ground line 14b, 16b is connected to the ground line GND fixed at a stable ground potential as described above.
Since the wiring is branched into the wire W, the ground noise generated by the switching operation of the output buffer transistor groups 12a and 12b is routed from the ground pad P14b to the wire W.
14, only reaches the grounding line GND via the grounding bin Vss, and is absorbed by this grounding line GND, and other internal circuits 1
0 through the ground line GND. In the first embodiment, the output buffer transistors 12 constituting the first and second output buffer transistor groups 12a and 12b are, for example, as shown in FIG.
Consider a case where the device is configured with an N-channel MO3) transistor provided on a P-type substrate 22, or a case where a CMOS structure is used. In the circuit of FIG. 2, the output buffer transistor 12
A ground potential is supplied to the internal circuit 10 by a ground line 14b made of aluminum, and a ground potential is supplied to the internal circuit 10 by a ground line 16b made of aluminum. In addition, the second
In the figure, reference numeral 20 denotes an N-channel MOS transistor constituting the internal circuit 10. As shown in FIG. 2, the potential (
The source potential) may be fixed by connecting the ground line 14b and using the ground potential; however, in this case, the N-channel MOS transistor 20 constituting the internal circuit 10
Since the ground line 16b made of aluminum is used to fix the substrate potential near the substrate 22, there is a risk that ground noise generated in the output buffer transistor 12 will propagate to the internal circuit 10 via the substrate 22. The noise propagation through the substrate 22 is caused by the fact that the equivalent resistance "P" of the substrate is sufficiently large compared to the resistance r1, r2 of the grounding wires 14b, 16b. Although the extent of the noise is smaller than the propagation, the effect cannot be ignored if the number of output buffer transistors 12 increases significantly.Therefore, in order to take all possible measures to prevent the propagation of such ground noise, As shown in FIG. 3, as a ground line for fixing the substrate potential around the output buffer transistor 12, a ground line other than the aluminum wiring 14-b that supplies the ground potential to the output buffer transistor is used, for example, as a ground line of the internal circuit 10. By using the ground wire 16b as shown by the solid line in the figure, an even further noise prevention effect can be obtained.In addition to using the ground wire 16b, as shown in FIG.
A new grounding line 16c as shown by the broken line in FIG. 3 may be newly installed branching from the vicinity of the grounding line 16b. These grounding lines 16b and 16c can be used and wired depending on the ease of layout. Note that although the countermeasures against ground noise have been explained above, the pad P14a can also be used against power supply noise.
, P16a are separated, similar effects can be obtained. This first embodiment is suitable for supplying different power to each power supply bin and each power line when a semiconductor integrated circuit becomes large-scale and requires a plurality of power supplies. Next, a second example will be described. FIG. 4 is a plan view of the semiconductor integrated circuit 8 according to the second embodiment. In the second embodiment, in the semiconductor integrated circuit of the first embodiment, when the pads P14b and P16b are adjacent to each other, the grounding bin VSS of the first embodiment is applied. One common grounding bin VSS is provided instead of vss2, and wires W14 and W from pads P14b and P16b
16 are commonly connected to the grounding pin Vss. In this case, since the resistance value of the ground pin VSS is almost negligible, the same effect as in the first embodiment can be obtained by reducing the number of ground pins. Furthermore, when power is supplied from multiple large-scale power sources, it is suitable to provide power to each wiring by providing each wiring in the configuration as in the first embodiment, but in this first embodiment, Considering the case where the voltage is fixed, similar effects can be obtained with the configuration of the second embodiment. In the first and second embodiments, pads P14a, P14b, P16a, and P16b, which supply power and ground potentials to the output buffer transistors and internal circuits, are connected to power lines and ground lines 14a, 14b, 16a, and 16, respectively.
One pad was provided for each pad b, but as the number of output bins increases, if these pads are added as appropriate and connected to the output bins, a more stable positive power supply/ground potential can be obtained. Furthermore, in the first and second embodiments, as shown in FIGS. 2 and 3, a semiconductor integrated circuit formed on a P-type substrate was illustrated, but the semiconductor device in which the present invention can be implemented is as follows. The present invention is not limited to semiconductor integrated circuits configured on such P-type substrates, but can be similarly applied to semiconductor devices having structures of other conductivity types. Furthermore, in the first and second embodiments, a MOS transistor was used as an example of the output buffer transistor, but
The transistors constituting a semiconductor integrated circuit when implementing the present invention are not limited to this type of transistor, and the present invention can also be applied to a semiconductor device using other bipolar transistors, for example. Further, in the first and second embodiments, the positive power source is supplied from the power line and the ground potential is supplied from the ground line, but the power source supplied to the semiconductor device in which the present invention is implemented is limited to this type. However, the present invention can be implemented when supplying any power source including a negative power source.
以上説明した通り、本発明によれば、出力バッファトラ
ンジスタから電源・接地ノイズが発生した場合に、その
ノイズの伝播を防いで論理回路の誤動作を確実に防止し
て、安定な回路動作を確保することができる。特に、半
導体装置が大規模化し、それに有する出力ビンが著しく
増加することに対しても確実に対処して、安定な回路動
作を得ることができるという優れた効果が得られる。As explained above, according to the present invention, when power supply/ground noise is generated from the output buffer transistor, the propagation of the noise is prevented to reliably prevent malfunction of the logic circuit, thereby ensuring stable circuit operation. be able to. In particular, an excellent effect can be obtained in that it is possible to reliably cope with the increase in the scale of semiconductor devices and the significant increase in the number of output bins included therein, and to obtain stable circuit operation.
第1図は、本発明の第1実施例に係る半導体集積回路の
構成を示す平面図、
第2図は、前記半導体集積回路の出力バッファトランジ
スタ及び内部回路の詳細な構成を示す縦断面図、
第3図は、同じく縦断面図、
第4図は、本発明の第2実施例を示す半導体集積回路の
要部平面図、
第5図は、−船釣な出力バッファトランジスタの構成を
示す回路図、
第6図は、従来の半導体集積回路の電源・接地配線の構
成例を示す要部平面図である。
8・・・半導体集積回路、
10・・・内部回路、
12・・・出力バッファトランジスタ、12a、12b
・・・出力バッファトランジスタ群、14a、16a・
・・出力バッファトランジスタ群及び内部回路の電源線
、
14b、16b・・・出力バッファトランジスタ群及び
内部回路の接地線、
WIO〜W16・・・ワイヤ、
Vdd+ 、Vdd2−電源ビン、
VSS+ 、VSS2−接地ビン、
GND・・・接地線、
P14a 、P16a 、P14b 、P16b・・・
電源パッド、
20・・・NチャネルMOSトランジスタ、22・・・
基板、
rp・・・基板内の等価抵抗。FIG. 1 is a plan view showing the configuration of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention; FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing the detailed configuration of an output buffer transistor and an internal circuit of the semiconductor integrated circuit; FIG. 3 is a longitudinal sectional view, FIG. 4 is a plan view of a main part of a semiconductor integrated circuit showing a second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a circuit showing a configuration of a typical output buffer transistor. FIG. 6 is a plan view of a main part showing an example of the configuration of power supply/ground wiring of a conventional semiconductor integrated circuit. 8... Semiconductor integrated circuit, 10... Internal circuit, 12... Output buffer transistor, 12a, 12b
... Output buffer transistor group, 14a, 16a.
...Power supply line for the output buffer transistor group and internal circuit, 14b, 16b...Ground line for the output buffer transistor group and internal circuit, WIO to W16...Wire, Vdd+, Vdd2-power supply bin, VSS+, VSS2-ground Bin, GND...Grounding wire, P14a, P16a, P14b, P16b...
Power supply pad, 20... N channel MOS transistor, 22...
Substrate, rp...Equivalent resistance within the substrate.
Claims (3)
て外部端子に信号を出力する出力バッファトランジスタ
群とを有する半導体装置において、前記論理回路群に正
電源、負電源、又は接地電位を供給するための第1の配
線と、 前記出力バッファトランジスタ群に正電源、負電源、又
は接地電位を供給するための第2の配線とを各々独立し
て設け、 前記第1及び第2の配線のそれぞれに外部から正電源、
負電源、又は接地電位を伝達するための第1及び第2の
電源伝達手段とを備えることを特徴とする半導体装置。(1) In a semiconductor device having a logic circuit group and an output buffer transistor group that outputs a signal to an external terminal based on an output signal of the logic circuit group, the logic circuit group is connected to a positive power source, a negative power source, or a ground potential. and a second wiring for supplying a positive power source, a negative power source, or a ground potential to the output buffer transistor group, respectively provided independently, Connect each wire to an external positive power supply,
A semiconductor device comprising first and second power transmission means for transmitting a negative power supply or a ground potential.
手段を、前記第1及び第2の配線のそれぞれについて複
数設けたことを特徴とする半導体装置。(2) The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of said first and second power transmission means are provided for each of said first and second wirings.
力バッファトランジスタのソースに入る電源のみが独立
するように形成したことを特徴とする半導体装置。(3) The semiconductor device according to claim 1 or 2, wherein the second wiring is formed so that only a power source input to the source of the output buffer transistor is independent.
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JP2009160A JPH03212955A (en) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | Semiconductor device |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009160A JPH03212955A (en) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | Semiconductor device |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH03212955A true JPH03212955A (en) | 1991-09-18 |
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JP2009160A Pending JPH03212955A (en) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | Semiconductor device |
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JP (1) | JPH03212955A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5883427A (en) * | 1996-09-10 | 1999-03-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device power supply wiring structure |
WO1999054937A1 (en) * | 1998-04-23 | 1999-10-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of designing power supply circuit and semiconductor chip |
-
1990
- 1990-01-18 JP JP2009160A patent/JPH03212955A/en active Pending
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