JP2000249816A - 光学ミラーおよびこの光学ミラーを使用したレーザー投受光装置ならびにレーザー測距装置 - Google Patents
光学ミラーおよびこの光学ミラーを使用したレーザー投受光装置ならびにレーザー測距装置Info
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- JP2000249816A JP2000249816A JP11005891A JP589199A JP2000249816A JP 2000249816 A JP2000249816 A JP 2000249816A JP 11005891 A JP11005891 A JP 11005891A JP 589199 A JP589199 A JP 589199A JP 2000249816 A JP2000249816 A JP 2000249816A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】反射光をより効果的に集光する。
【解決手段】透過率が異なる部分を有する反射ミラー５
であって、中心部に透過率が高いハーフミラー部５ａを
形成するとともに、その周囲に透過率が低い全反射ミラ
ー部５ｂを形成し、ハーフミラー部５ａと全反射ミラー
部５ｂとを、ガラス母材２１に蒸着する金属鏡面材料２
２の膜の密度または非金属鏡面材料２３の膜厚を変化さ
せて一体に形成した。
であって、中心部に透過率が高いハーフミラー部５ａを
形成するとともに、その周囲に透過率が低い全反射ミラ
ー部５ｂを形成し、ハーフミラー部５ａと全反射ミラー
部５ｂとを、ガラス母材２１に蒸着する金属鏡面材料２
２の膜の密度または非金属鏡面材料２３の膜厚を変化さ
せて一体に形成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自動走行車両や移
動装置などにおける誘導や位置計測、自然物や大型構造
物の測量や異常計測などに使用される光学ミラーおよび
この光学ミラーを使用したレーザー投受光装置ならびに
レーザー測距装置に関する。
動装置などにおける誘導や位置計測、自然物や大型構造
物の測量や異常計測などに使用される光学ミラーおよび
この光学ミラーを使用したレーザー投受光装置ならびに
レーザー測距装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ターゲットにレーザーパルス投射し、そ
の反射光を受光してターゲットまでの距離を測定する測
定装置がある。この測距装置のレーザー投受光装置で
は、投光軸と受光軸とを同一に設定するため、投射レー
ザーパルスと反射レーザーパルスとを分離する反射ミラ
ーが設置されている。従来の反射ミラーは、中心位置に
投射レーザーパルスを通過させるための貫通孔が形成さ
れた穴明きミラー式により構成されたり、あるいは反射
ミラー全体をハーフミラー式により形成したものが採用
されていた。
の反射光を受光してターゲットまでの距離を測定する測
定装置がある。この測距装置のレーザー投受光装置で
は、投光軸と受光軸とを同一に設定するため、投射レー
ザーパルスと反射レーザーパルスとを分離する反射ミラ
ーが設置されている。従来の反射ミラーは、中心位置に
投射レーザーパルスを通過させるための貫通孔が形成さ
れた穴明きミラー式により構成されたり、あるいは反射
ミラー全体をハーフミラー式により形成したものが採用
されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ターゲットの
距離が長い場合、ターゲットからの微弱な反射レーザー
光を拾い出す必要があることから、貫通穴部分で反射の
ない穴明きミラー式や、透過時の透過損失と反射時の反
射損失があるハーフミラー式では、反射レーザー光の減
衰があり集光能力が低いという問題があった。
距離が長い場合、ターゲットからの微弱な反射レーザー
光を拾い出す必要があることから、貫通穴部分で反射の
ない穴明きミラー式や、透過時の透過損失と反射時の反
射損失があるハーフミラー式では、反射レーザー光の減
衰があり集光能力が低いという問題があった。
【０００４】本発明は上記問題点を解決して、より効果
的に反射レーザー光あるいは反射レーザーパルスを集光
できる光学ミラーとこの光学ミラーを使用したレーザー
投受光装置ならびにレーザー測距装置を提供することを
目的とする。
的に反射レーザー光あるいは反射レーザーパルスを集光
できる光学ミラーとこの光学ミラーを使用したレーザー
投受光装置ならびにレーザー測距装置を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の光学ミラーは、透過率が異なる部分を有する
光学ミラーであって、所定部位に透過率が高いハーフミ
ラー部が形成されるとともに、ハーフミラー部の外周部
に透過率が低い全反射ミラー部が形成されたものであ
る。
に本発明の光学ミラーは、透過率が異なる部分を有する
光学ミラーであって、所定部位に透過率が高いハーフミ
ラー部が形成されるとともに、ハーフミラー部の外周部
に透過率が低い全反射ミラー部が形成されたものであ
る。
【０００６】上記構成によれば、投射光をハーフミラー
部を透過して投射し、その反射光を、ハーフミラー部と
全反射ミラー部とで反射するので、従来の穴明きミラー
やハーフミラーに比較して反射光の集光率を向上させる
ことができ、微弱な反射光を高精度で計測することがで
きる。
部を透過して投射し、その反射光を、ハーフミラー部と
全反射ミラー部とで反射するので、従来の穴明きミラー
やハーフミラーに比較して反射光の集光率を向上させる
ことができ、微弱な反射光を高精度で計測することがで
きる。
【０００７】また請求項２記載の光学ミラーは、ガラス
母材に蒸着する金属鏡面材料の膜の密度または非金属鏡
面材料の膜厚を変化させて、ハーフミラー部と全反射ミ
ラー部とを一体に形成したものである。
母材に蒸着する金属鏡面材料の膜の密度または非金属鏡
面材料の膜厚を変化させて、ハーフミラー部と全反射ミ
ラー部とを一体に形成したものである。
【０００８】上記構成によれば、ハーフミラー部と全反
射ミラー部とを同一のガラス母材に一体に形成したの
で、製造コストを低く抑えることができる。
射ミラー部とを同一のガラス母材に一体に形成したの
で、製造コストを低く抑えることができる。
【０００９】さらに請求項３記載のレーザー光投受光装
置は、投射光軸上に所定角度傾斜して配置された反射ミ
ラーを備え、この投射光軸上に投射レーザー光を投射す
るレーザー発振器を配置するとともに、反射ミラーに反
射される反射光軸上にターゲットに反射して戻る反射レ
ーザー光を受光する受光部を配置したレーザー投受光装
置であって、前記反射ミラーを、所定部位に形成された
ハーフミラー部と、ハーフミラー部の残部に形成された
全反射ミラー部とで構成するとともに、このハーフミラ
ー部が投射光軸上に位置するように配置したものであ
る。
置は、投射光軸上に所定角度傾斜して配置された反射ミ
ラーを備え、この投射光軸上に投射レーザー光を投射す
るレーザー発振器を配置するとともに、反射ミラーに反
射される反射光軸上にターゲットに反射して戻る反射レ
ーザー光を受光する受光部を配置したレーザー投受光装
置であって、前記反射ミラーを、所定部位に形成された
ハーフミラー部と、ハーフミラー部の残部に形成された
全反射ミラー部とで構成するとともに、このハーフミラ
ー部が投射光軸上に位置するように配置したものであ
る。
【００１０】上記構成によれば、装置外への投射レーザ
ー光の出力は規制により制限されるが、装置内でのレー
ザー光は出力の制限がないことから、レーザー発振器の
出力を上げることでターゲットへのレーザー光は一定の
出力を確保することができる。したがって、受光部に集
光される反射レーザー光は、従来の穴明きミラー式に比
べて透孔部がハーフミラーに反射される分、多く集光す
ることができ、また従来のハーフミラー式に比べて透過
損失が無い分集光能力が高く、遠距離のターゲットに反
射された微弱な反射レーザー光であっても、高精度で検
出することができる。
ー光の出力は規制により制限されるが、装置内でのレー
ザー光は出力の制限がないことから、レーザー発振器の
出力を上げることでターゲットへのレーザー光は一定の
出力を確保することができる。したがって、受光部に集
光される反射レーザー光は、従来の穴明きミラー式に比
べて透孔部がハーフミラーに反射される分、多く集光す
ることができ、また従来のハーフミラー式に比べて透過
損失が無い分集光能力が高く、遠距離のターゲットに反
射された微弱な反射レーザー光であっても、高精度で検
出することができる。
【００１１】さらにまた請求項４記載のレーザー測距装
置は、パルス発生器からの制御パルス信号に基づいて投
射レーザーパルスを投射するレーザー発振器と、この投
射レーザーパルスの投射光軸上に所定角度傾斜して配置
され投射レーザーパルスを透過させる反射ミラーと、タ
ーゲットに反射して戻る反射レーザーパルスが前記反射
ミラーで反射される反射光軸上に配置された受光部と、
前記投射レーザーパルスと反射レーザーパルスの到達時
間差を検出する時間差測定回路と、この時間差測定回路
で得られた到達時間差からターゲットまでの距離を測定
する信号処理回路とを具備し、前記反射ミラーを、所定
部位に形成されたハーフミラー部と、その残部に形成さ
れた全反射ミラー部とで構成するとともに、このハーフ
ミラー部が投射光軸上に位置するように配置したもので
ある。
置は、パルス発生器からの制御パルス信号に基づいて投
射レーザーパルスを投射するレーザー発振器と、この投
射レーザーパルスの投射光軸上に所定角度傾斜して配置
され投射レーザーパルスを透過させる反射ミラーと、タ
ーゲットに反射して戻る反射レーザーパルスが前記反射
ミラーで反射される反射光軸上に配置された受光部と、
前記投射レーザーパルスと反射レーザーパルスの到達時
間差を検出する時間差測定回路と、この時間差測定回路
で得られた到達時間差からターゲットまでの距離を測定
する信号処理回路とを具備し、前記反射ミラーを、所定
部位に形成されたハーフミラー部と、その残部に形成さ
れた全反射ミラー部とで構成するとともに、このハーフ
ミラー部が投射光軸上に位置するように配置したもので
ある。
【００１２】上記構成によれば、集光能力の高い反射ミ
ラーを使用するので、遠距離のターゲットからの微弱な
反射レーザーパルスであっても高精度で認識することが
でき、遠距離のターゲットとの距離を正確に測定するこ
とができる。
ラーを使用するので、遠距離のターゲットからの微弱な
反射レーザーパルスであっても高精度で認識することが
でき、遠距離のターゲットとの距離を正確に測定するこ
とができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】ここで、本発明に係るレーザー測
距装置の実施の形態を図１〜図４に基づいて説明する。
距装置の実施の形態を図１〜図４に基づいて説明する。
【００１４】このレーザー測距装置は、図１に示すよう
に、建造物の特定位置に設置されたターゲット１までの
距離Ｌを測定するもので、レーザー投受光装置であるセ
ンサーヘッド部２と、センサーコントローラ部３とが具
備されている。そしてセンサーヘッド部２のレーザー発
振器４から反射ミラー５を透過してターゲット１に向っ
て投射レーザ光である投射レーザーパルスＬｓを投射
し、ターゲット１に達して反射された反射レーザーパル
スＬｒを反射ミラー５に反射させて受光部７の集光レン
ズ部６から受光素子１１で検出する。そして、センサコ
ントローラ部３で投射レーザーパルスＬｓと反射レーザ
ーパルスＬｒの到達時間差（位相差）からターゲット１
までの距離Ｌを測定するものである。
に、建造物の特定位置に設置されたターゲット１までの
距離Ｌを測定するもので、レーザー投受光装置であるセ
ンサーヘッド部２と、センサーコントローラ部３とが具
備されている。そしてセンサーヘッド部２のレーザー発
振器４から反射ミラー５を透過してターゲット１に向っ
て投射レーザ光である投射レーザーパルスＬｓを投射
し、ターゲット１に達して反射された反射レーザーパル
スＬｒを反射ミラー５に反射させて受光部７の集光レン
ズ部６から受光素子１１で検出する。そして、センサコ
ントローラ部３で投射レーザーパルスＬｓと反射レーザ
ーパルスＬｒの到達時間差（位相差）からターゲット１
までの距離Ｌを測定するものである。
【００１５】すなわち、センサコントローラ部３には、
センサーヘッド部２のレーザー発振器４に制御パルス信
号を送るパルス発生器１０が配置されている。そしてセ
ンサーヘッド部２には、この制御パルス信号によりター
ゲット１に投射レーザーパルスＬｓを投射するレーザー
発振器４と、この投射レーザーパルスＬｓの投射光軸Ｏ
ｓ上にたとえば投射光軸Ｏｓに対して４５度傾斜して配
置された反射ミラー５と、この反射ミラー５に反射され
た反射レーザーパルスＬｒの反射光軸Ｏｒ上に配置され
た集光レンズ部６および受光素子１１からなる受光部７
が具備されている。またセンサコントローラ部３には、
増幅器１２と、増幅器１２からの出力に応じてゲインを
自動調整するゲイン自動調節器（ＡＧＣ）１３と、投射
レーザーパルスＬｓと反射レーザーパルスＬｒの検出信
号から到達時間差を測定する時間差測定回路１４と、こ
の到達時間差からターゲット１までの距離Ｌを演算する
信号処理回路１５と、この信号処理回路１５により得ら
れた距離Ｌを表示または出力する表示装置１６および電
流出力部１７ならびに電圧出力部１８とが具備されてい
る。
センサーヘッド部２のレーザー発振器４に制御パルス信
号を送るパルス発生器１０が配置されている。そしてセ
ンサーヘッド部２には、この制御パルス信号によりター
ゲット１に投射レーザーパルスＬｓを投射するレーザー
発振器４と、この投射レーザーパルスＬｓの投射光軸Ｏ
ｓ上にたとえば投射光軸Ｏｓに対して４５度傾斜して配
置された反射ミラー５と、この反射ミラー５に反射され
た反射レーザーパルスＬｒの反射光軸Ｏｒ上に配置され
た集光レンズ部６および受光素子１１からなる受光部７
が具備されている。またセンサコントローラ部３には、
増幅器１２と、増幅器１２からの出力に応じてゲインを
自動調整するゲイン自動調節器（ＡＧＣ）１３と、投射
レーザーパルスＬｓと反射レーザーパルスＬｒの検出信
号から到達時間差を測定する時間差測定回路１４と、こ
の到達時間差からターゲット１までの距離Ｌを演算する
信号処理回路１５と、この信号処理回路１５により得ら
れた距離Ｌを表示または出力する表示装置１６および電
流出力部１７ならびに電圧出力部１８とが具備されてい
る。
【００１６】前記反射ミラー５は、投射レーザーパルス
Ｌｓをたとえば中心部のハーフミラー部５ａで透過させ
るとともに、反射レーザーパルスＬｒをハーフミラー部
５ａとその周囲の全反射ミラー部５ｂとにより反射光軸
Ｏｒ方向に反射させるように構成される。なお、ハーフ
ミラー部５ａが反射ミラー５の中心からずれた位置であ
っても、光軸Ｏｓ，Ｏｒ上に配置されれば問題が無い。
Ｌｓをたとえば中心部のハーフミラー部５ａで透過させ
るとともに、反射レーザーパルスＬｒをハーフミラー部
５ａとその周囲の全反射ミラー部５ｂとにより反射光軸
Ｏｒ方向に反射させるように構成される。なお、ハーフ
ミラー部５ａが反射ミラー５の中心からずれた位置であ
っても、光軸Ｏｓ，Ｏｒ上に配置されれば問題が無い。
【００１７】この反射ミラー５は、たとえば図２，図３
に示すように、１枚のガラス母材２１の表面全体に非金
属鏡面材料２２を所定の膜厚で蒸着するか、または金属
鏡面材料２３を所定の密度で蒸着して、透過率Ｔ．Ｒ．
５０％（Ｔ：Ｒ＝５：５）のハーフミラーを形成し、さ
らにこのハーフミラーのハーフミラー部５ａ対応位置を
マスクして、同種または異種の非金属鏡面材料２２また
は金属鏡面材料２３をさらに蒸着して全反射の全反射ミ
ラー部５ｂを形成する。これにより、１枚のガラス母材
２１の表面に、たとえば直径８〜１０ｍｍ（使用する投
射レーザー光径により変化される）のハーフミラー部５
ａとその周囲の全反射ミラー部５ｂとを一体に形成する
ことができる。
に示すように、１枚のガラス母材２１の表面全体に非金
属鏡面材料２２を所定の膜厚で蒸着するか、または金属
鏡面材料２３を所定の密度で蒸着して、透過率Ｔ．Ｒ．
５０％（Ｔ：Ｒ＝５：５）のハーフミラーを形成し、さ
らにこのハーフミラーのハーフミラー部５ａ対応位置を
マスクして、同種または異種の非金属鏡面材料２２また
は金属鏡面材料２３をさらに蒸着して全反射の全反射ミ
ラー部５ｂを形成する。これにより、１枚のガラス母材
２１の表面に、たとえば直径８〜１０ｍｍ（使用する投
射レーザー光径により変化される）のハーフミラー部５
ａとその周囲の全反射ミラー部５ｂとを一体に形成する
ことができる。
【００１８】さらに他の例として、１枚のガラス母材２
１の全反射ミラー部５ｂの対応部をマスクして、非金属
鏡面材料２２を所定の膜厚で蒸着するか、または金属鏡
面材料２３を所定の密度で蒸着して透過率Ｔ．Ｒ．５０
％（Ｔ：Ｒ＝５：５）のハーフミラー部５ａを形成し、
次にハーフミラー部５ａをマスクして同種または異種の
非金属鏡面材料３２または金属鏡面材料３３を蒸着し、
全反射の全反射ミラー部５ｂを一体に形成する。または
この逆の手順で、全反射ミラー部５ｂを形成後、ハーフ
ミラー部５ａを形成してもよい。
１の全反射ミラー部５ｂの対応部をマスクして、非金属
鏡面材料２２を所定の膜厚で蒸着するか、または金属鏡
面材料２３を所定の密度で蒸着して透過率Ｔ．Ｒ．５０
％（Ｔ：Ｒ＝５：５）のハーフミラー部５ａを形成し、
次にハーフミラー部５ａをマスクして同種または異種の
非金属鏡面材料３２または金属鏡面材料３３を蒸着し、
全反射の全反射ミラー部５ｂを一体に形成する。または
この逆の手順で、全反射ミラー部５ｂを形成後、ハーフ
ミラー部５ａを形成してもよい。
【００１９】ここで、ハーフミラー部５ａおよび全反射
ミラー部５ａを形成する非金属鏡面材料３２は、Ｚｎ
Ｓ，ＣｅＯ2，ＴｉＯ2などがあり、また金属鏡面材料３
３は、Ａｌ，Ａｇ，Ｃｒ，Ａｕなどがある。また、全反
射ミラー部５ｂには、使用する波長の反射率が高く、他
の周波数の反射率の低い材料あるいは付着方法で鏡面を
形成することにより、他の余分な光（ノイズ）を排除す
ることができるフィルタ機能を発揮させることができ
る。
ミラー部５ａを形成する非金属鏡面材料３２は、Ｚｎ
Ｓ，ＣｅＯ2，ＴｉＯ2などがあり、また金属鏡面材料３
３は、Ａｌ，Ａｇ，Ｃｒ，Ａｕなどがある。また、全反
射ミラー部５ｂには、使用する波長の反射率が高く、他
の周波数の反射率の低い材料あるいは付着方法で鏡面を
形成することにより、他の余分な光（ノイズ）を排除す
ることができるフィルタ機能を発揮させることができ
る。
【００２０】さらに他の例として、図４に示すように、
中心部に直径８〜１０ｍｍの貫通孔３１ａが形成された
穴明きミラー３１により全反射ミラー部５ｂが形成さ
れ、この貫通孔２１ａに取付けられたハーフミラー板３
２によりハーフミラー部５ａが形成される。
中心部に直径８〜１０ｍｍの貫通孔３１ａが形成された
穴明きミラー３１により全反射ミラー部５ｂが形成さ
れ、この貫通孔２１ａに取付けられたハーフミラー板３
２によりハーフミラー部５ａが形成される。
【００２１】上記実施の形態によれば、屋内外へ放射さ
れるレーザー光の出力は規制により制限されており、装
置内での出力の制限がないことから、レーザー発振器４
の出力を上げることにより、ハーフミラー部５ａを透過
した投射レーザーパルスの出力は、制限値の出力を確保
することができる。このため、反射レーザーパルスＬｒ
は、従来の穴明きミラー式に比べて貫通孔部分がハーフ
ミラー部５ａに反射される分を多く集光することができ
る。また従来のハーフミラー式に比べて、全反射ミラー
部５ｂの反射損失が無い分だけ集光能力を高くすること
ができる。したがって、遠距離のターゲット１に反射さ
れた微弱な反射レーザーパルスＬｒであっても、高精度
で認識することができる。このため、レーザー測距装置
の場合、測定範囲が広くなって微弱な反射レーザーパル
スＬｒでも高精度を検出することができる。
れるレーザー光の出力は規制により制限されており、装
置内での出力の制限がないことから、レーザー発振器４
の出力を上げることにより、ハーフミラー部５ａを透過
した投射レーザーパルスの出力は、制限値の出力を確保
することができる。このため、反射レーザーパルスＬｒ
は、従来の穴明きミラー式に比べて貫通孔部分がハーフ
ミラー部５ａに反射される分を多く集光することができ
る。また従来のハーフミラー式に比べて、全反射ミラー
部５ｂの反射損失が無い分だけ集光能力を高くすること
ができる。したがって、遠距離のターゲット１に反射さ
れた微弱な反射レーザーパルスＬｒであっても、高精度
で認識することができる。このため、レーザー測距装置
の場合、測定範囲が広くなって微弱な反射レーザーパル
スＬｒでも高精度を検出することができる。
【００２２】また反射ミラー５を１枚のガラス母材２１
に蒸着した金属膜の密度または非金属膜の膜厚を変化さ
せてハーフミラー部５ａと全反射ミラー部５ｂとを一体
に形成したので、穴明きミラー３１とハーフミラー板３
２とで構成されたものに比較して、製造コストを低く抑
えることができ、さらに貫通孔３１ａの周囲エッジ部の
損失や乱反射を考慮する必要も無い。
に蒸着した金属膜の密度または非金属膜の膜厚を変化さ
せてハーフミラー部５ａと全反射ミラー部５ｂとを一体
に形成したので、穴明きミラー３１とハーフミラー板３
２とで構成されたものに比較して、製造コストを低く抑
えることができ、さらに貫通孔３１ａの周囲エッジ部の
損失や乱反射を考慮する必要も無い。
【００２３】なお、上記実施の形態では、ターゲット１
を自然反射体としたが、投射レーザーパルスＬｓの光軸
と反射レーザーパルスＬｒの光軸とが互いに平行となる
再帰型の反射体であってもよい。
を自然反射体としたが、投射レーザーパルスＬｓの光軸
と反射レーザーパルスＬｒの光軸とが互いに平行となる
再帰型の反射体であってもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上に述べたごとく請求項１記載の光学
ミラーによれば、投射光をハーフミラー部を透過して投
射し、その反射光を、ハーブミラー部と全反射ミラー部
とで反射するので、従来の穴明きミラーやハーフミラー
に比較して反射光の集光率を向上させることができ、微
弱な反射光を高精度で計測することができる。
ミラーによれば、投射光をハーフミラー部を透過して投
射し、その反射光を、ハーブミラー部と全反射ミラー部
とで反射するので、従来の穴明きミラーやハーフミラー
に比較して反射光の集光率を向上させることができ、微
弱な反射光を高精度で計測することができる。
【００２５】また請求項２記載の光学ミラーによれば、
ハーフミラー部と全反射ミラー部とを同一のガラス母材
に一体に形成したので、製造コストを低く抑えることが
できる。
ハーフミラー部と全反射ミラー部とを同一のガラス母材
に一体に形成したので、製造コストを低く抑えることが
できる。
【００２６】さらに請求項３記載のレーザー投受光装置
によれば、装置外への投射レーザー光の出力は規制によ
り制限されるが、装置内でのレーザー光は出力の制限が
ないことから、レーザー発振器の出力を揚げることでタ
ーゲットへのレーザー光は一定の出力を確保することが
できる。したがって、受光素子に集光される反射レーザ
ー光は、従来の穴明きミラー式に比べて透孔部がハーフ
ミラーに反射される分、多く集光することができ、また
従来のハーフミラー式に比べて透過損失が無い分集光能
力が高く、遠距離のターゲットに反射された微弱な反射
レーザー光であっても、高精度で検出することができ
る。
によれば、装置外への投射レーザー光の出力は規制によ
り制限されるが、装置内でのレーザー光は出力の制限が
ないことから、レーザー発振器の出力を揚げることでタ
ーゲットへのレーザー光は一定の出力を確保することが
できる。したがって、受光素子に集光される反射レーザ
ー光は、従来の穴明きミラー式に比べて透孔部がハーフ
ミラーに反射される分、多く集光することができ、また
従来のハーフミラー式に比べて透過損失が無い分集光能
力が高く、遠距離のターゲットに反射された微弱な反射
レーザー光であっても、高精度で検出することができ
る。
【００２７】さらにまた請求項４記載のレーザー測距装
置によれば、集光能力の高い反射ミラーを使用するの
で、遠距離のターゲットからの微弱な反射レーザーパル
スであっても高精度で認識することができ、遠距離のタ
ーゲットとの距離を正確に測定することができる。
置によれば、集光能力の高い反射ミラーを使用するの
で、遠距離のターゲットからの微弱な反射レーザーパル
スであっても高精度で認識することができ、遠距離のタ
ーゲットとの距離を正確に測定することができる。
【図１】本発明に係るレーザー測距装置の実施の形態を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】同反射ミラーの斜視図である。
【図３】同反射ミラーの断面図である。
【図４】同反射ミラーの変形例を示す断面図である。
１ ターゲット ２ センサーヘッド部 ３ センサーコントローラ部 ４ レーザー発振器 ５ 反射ミラー ５ａ ハーフミラー部 ５ｂ 全反射ミラー部 ６ 集光レンズ部 ７ 受光部 １０ パルス発生器 １１ 受光素子 １４ 時間差測定回路 １５ 信号処理回路 ２１ ガラス母材 ２２ 非金属鏡面材料 ２３ 金属鏡面材料 ３１ 穴明きミラー ３２ ハーフミラー板 Ｌ 測定距離 Ｌｓ 投射レーザーパルス Ｌｒ 反射レーザーパルス Ｏｓ 投射光軸 Ｏｒ 反射光軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 AA02 AA16 AA21 DA01 DA22 DE07 5J084 AC02 AD01 BA03 BA32 BB21 BB24 BB25 CA03 EA04
Claims (4)
- 【請求項１】透過率が異なる部分を有する光学ミラーで
あって、 所定部位に透過率が高いハーフミラー部が形成されると
ともに、ハーフミラー部の外周部に透過率が低い全反射
ミラー部が形成されたことを特徴とする光学ミラー。 - 【請求項２】ガラス母材に蒸着する金属鏡面材料の膜の
密度または非金属鏡面材料の膜厚を変化させて、ハーフ
ミラー部と全反射ミラー部とを一体に形成したことを特
徴とする請求項１記載の光学ミラー。 - 【請求項３】投射光軸上に所定角度傾斜して配置された
反射ミラーを備え、この投射光軸上に投射レーザー光を
投射するレーザー発振器を配置するとともに、反射ミラ
ーに反射される反射光軸上にターゲットに反射して戻る
反射レーザー光を受光する受光部を配置したレーザー投
受光装置であって、 前記反射ミラーを、所定部位に形成されたハーフミラー
部と、このハーフミラー部の残部に形成された全反射ミ
ラー部とで構成するとともに、このハーフミラー部が投
射光軸上に位置するように配置したことを特徴とするレ
ーザー投受光装置。 - 【請求項４】パルス発生器からの制御パルス信号に基づ
いて投射レーザーパルスを投射するレーザー発振器と、 この投射レーザーパルスの投射光軸上に所定角度傾斜し
て配置され投射レーザーパルスを透過させる反射ミラー
と、 ターゲットに反射して戻る反射レーザーパルスが前記反
射ミラーで反射される反射光軸上に配置された受光部
と、 前記投射レーザーパルスと反射レーザーパルスの到達時
間差を検出する時間差測定回路と、 この時間差測定回路で得られた到達時間差からターゲッ
トまでの距離を測定する信号処理回路とを具備し、 前記反射ミラーを、所定部位に形成されたハーフミラー
部と、その残部に形成された全反射ミラー部とで構成す
るとともに、このハーフミラー部が投射光軸上に位置す
るように配置したことを特徴とするレーザー測距装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11005891A JP2000249816A (ja) | 1998-12-28 | 1999-01-13 | 光学ミラーおよびこの光学ミラーを使用したレーザー投受光装置ならびにレーザー測距装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37180898 | 1998-12-28 | ||
| JP10-371808 | 1998-12-28 | ||
| JP11005891A JP2000249816A (ja) | 1998-12-28 | 1999-01-13 | 光学ミラーおよびこの光学ミラーを使用したレーザー投受光装置ならびにレーザー測距装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000249816A true JP2000249816A (ja) | 2000-09-14 |
Family
ID=26339918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11005891A Pending JP2000249816A (ja) | 1998-12-28 | 1999-01-13 | 光学ミラーおよびこの光学ミラーを使用したレーザー投受光装置ならびにレーザー測距装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000249816A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006053055A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Inc Engineering Co Ltd | レーザ測定装置 |
| JP2007225392A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Spectratech Inc | 光干渉装置 |
| JP2008216238A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-09-18 | Denso Wave Inc | レーザレーダ装置 |
| JP2009121836A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Denso Wave Inc | レーザレーダ装置 |
| US8350882B2 (en) | 2007-03-28 | 2013-01-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical unit, image forming apparatus including the same and optical element thereof |
| CN106199991A (zh) * | 2015-09-18 | 2016-12-07 | 王治霞 | 分光片及其激光共轴测距仪和应用 |
| WO2018011591A1 (en) * | 2016-07-13 | 2018-01-18 | Oxford University Innovation Limited | Interferometric scattering microscopy |
-
1999
- 1999-01-13 JP JP11005891A patent/JP2000249816A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006053055A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Inc Engineering Co Ltd | レーザ測定装置 |
| JP2007225392A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Spectratech Inc | 光干渉装置 |
| JP2008216238A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-09-18 | Denso Wave Inc | レーザレーダ装置 |
| US8350882B2 (en) | 2007-03-28 | 2013-01-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical unit, image forming apparatus including the same and optical element thereof |
| KR101239967B1 (ko) * | 2007-03-28 | 2013-03-06 | 삼성전자주식회사 | 광학유닛, 이를 포함하는 화상형성장치 및 그 광학소자 |
| JP2009121836A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Denso Wave Inc | レーザレーダ装置 |
| CN106199991A (zh) * | 2015-09-18 | 2016-12-07 | 王治霞 | 分光片及其激光共轴测距仪和应用 |
| WO2018011591A1 (en) * | 2016-07-13 | 2018-01-18 | Oxford University Innovation Limited | Interferometric scattering microscopy |
| US10775597B2 (en) | 2016-07-13 | 2020-09-15 | Oxford University Innovation Limited | Interferometric scattering microscopy |
| EP3923054A1 (en) * | 2016-07-13 | 2021-12-15 | Oxford University Innovation Limited | Interferometric scattering microscopy |
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