JP2000249513A - ビームスプリッタ構造群及びビームスプリッタ構造群を備えた干渉計 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 第１部分課題は、干渉計用のビー
ムスプリッタ構造群を提供することである。 【解決手段】 干渉計用のビームスプリッタ構造
群であって、入射光束Ｓを１つの第１及びこれに対して
平行な１つの第２射出光束ＳＡ１、ＳＡ２に分割するた
め、ビームスプリッタ構造群は、１つのビームスプリッ
タ要素１と、１つの補償要素２とを有し、かつビームス
プリッタ要素は、２つの平行な境界面１．１、１．２を
有し、その中１つの境界面は、部分的にビームスプリッ
タ面１．３としてかつ第１境界面に対して平行な他の境
界面１．１が、部分領域において部分反射する反射面
１．４として作用しかつ補償要素２が、２つの射出光束
が互いに平行に経過するように、ビームスプリッタ要素
が配設されており、そして補償要素が、更に射出光束
が、ビームスプリッタ要素及び補償要素における実質的
に等しい光学的路長を通過することを特徴とする前記ビ
ームスプリッタ構造群。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビームスプリッタ
構造群並びにビームスプリッタ構造群を備えた干渉計に
関する。

【０００２】

【従来の技術】干渉計は、一般に測定光と参照光とに光
束を物理的に分けるために役立つ１つ又は複数のビーム
スプリッタ構造群を有し、この際度々測定アーム及び参
照アームが話題になる。反転した放射方向においてこの
構造群は、一般に測定光と参照光の相会に役立つ。干渉
計変形に従って光軸は測定アーム及び参照アームにおい
て互いに相異なる方向に向けられる。測定アーム及び参
照アームは、互いに垂直に向けられ又は互いに平行に向
けられることができる。その際第１の場合に一般にビー
ムスプリッタプリズムが使用され、ビームスプリッタプ
リズム上に参照アームを形成するトリプルプリズムが貼
りつけられる。これについては例えば米国特許第４８０
２７６５号明細書が参照される。平行な測定光路と参照
光路とを備えた第２の場合には、大抵いわゆるケスタプ
リズムが好適なビームスプリッタとして使用される。そ
のようなプリズムは、古典的なビームスプリッタ要素と
して、ナウマン／シュレッダ著カールハンス出版社発行
の教科書「光学機器の構成要素」第６版の１８４頁に示
されている。ビームスプリッタ構造群のそのような変形
の欠点として先ず、製造コストが比較的高いことが指摘
される。万一ケスタ部分プリズムの製作に制約されたピ
ラミッド誤差がある場合、多かれ少なかれ理想の光路と
は偏した光路が生じる。更に決定的な欠点として両射出
光束の平行度が、ビームスプリッタ構造群に対する入射
光束のできる限り正しい入射角に敏感に依存することが
実証され、理想の入射軸線に対する僅かな傾倒が両射出
光束の著しい収斂又は発散を作用する。同様に理想的な
入射軸線に対する入射光束の万一の平行のずれが、両射
出光束の距離に明らかに作用する。特に測定アームと参
照アームにおけるビームスプリッタ構造群と後続の測定
及び参照反射鏡との間の比較的大きな光学的路長では、
そのようなビームスプリッタ構造群を離れる光束の伝播
方向の特定されない変化は不利と見られる、そのわけは
光路中の後続の光学機器構成要素が、これらの光束に正
確に向けられなければならないからである。従って入射
光束のできる限り正しい入射に関する大きな調整コスト
が必要である。

【０００３】米国特許第５６７５４１２号明細書から、
この問題に根本的に迫るビームスプリッタ構造群が公知
である。しかし構造群におけるビーム分割する又はビー
ム偏向する光学作用を有する両構造群は、互いに分離し
て配設されており、射出する２つの光束を互いに平行に
経過させるためにも、互いに高精度に調整されなければ
ならない。

【０００４】互いに平行に向けられた光束を供給する干
渉計用のビームスプリッタ構造群の他の変形が、更に米
国特許第５８０８７３９号明細書に開示されている。こ
の際入射する光束は、互いに間隔ホルダによって固定さ
れた互いに平行に配設されている平面プレートから成る
第１機構上に当たる。第１平面プレートの裏側にビーム
スプリッタ層が配設されており、ビームスプリッタ層は
入射光を透過する光部分ＡＲＴと反射する光部分ＡＲＲ
とに分割する。反射する光部分ＡＲＲは、通常の通過後
に再び第１プレートを離れかつ２つの隣接して配設され
た平面プレートから成る第２機構上に達する。第２機構
で何度も反射した後、この光部分ＡＲＲは、反射鏡の方
向にビームスプリッタ機構を離れる。第１機構のビーム
スプリッタ層を透過した光部分ＡＲＴは、第２平面プレ
ートの反射層で反射されかつ再び第１平面プレートの方
向に偏向される。第１平面プレートを通常の透過後、こ
の光部分ＡＲＴは、この光部分ＡＲＲに対して平行に第
１平面プレート機構を離れる。この提案されたビームス
プリッタ変形で所望の利益を達成するために、第１機構
の内方で両平面プレートを高精度に互いに平行に向ける
ことが必要であり、そのために更に平面プレートの間に
配設された間隔ホルダの製造の際に組立ての際の相応し
た調整コスト又は製造コストが必要とされる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の第１部
分課題は、特に干渉計用のビームスプリッタ構造群を提
供することであり、ビームスプリッタ構造群は、入射す
る光束を少なくとも２つの射出する、平行な光束に分割
する。この際最適には向けられていない入射光束に対し
てできる限り高い不敏感度が要求される。更にビームス
プリッタ構造群の製造の際に大きな製造技術的要求は課
されるべきではない。

【０００６】本発明の第２の部分課題は、上記の問題が
できる限り生じないような干渉計を提供することであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】第１の部分課題による要
求を充足する干渉計用のビームスプリッタ構造群は請求
項１の目的物である。

【０００８】第２の部分課題によるアクセス不良が排除
される干渉計は、請求項１６の目的物である。

【０００９】本発明によるビームスプリッタ構造群又は
本発明による干渉計の有利な実施形態は、実質的にそれ
ぞれ従属請求項に記載された措置から成る。

【００１０】本発明によるビームスプリッタ構造群は、
実質的に２つの別個の要素、即ちビームスプリッタ要素
と補償要素とから成る。この際ビームスプリッタ構造群
の両要素は、平行平面プレートとして形成されており、
即ち各境界面での平行度保持の要求は、特別な製造技術
的コストも万一の調整コストも必要としない。更に本発
明によるビームスプリッタ構造群は、最適ではない入射
光束の場合でも少なくとも２つの射出光束が互いに平行
に経過し又は両射出光束の間隔がそのまま保持されるこ
とを保証する。

【００１１】提案されたビームスプリッタ構造群及びこ
れと関連した調整公差は、それが使用される本発明によ
る干渉計の構成における幾分のフレキシビリティを可能
にする。そのように特に光学機器モジュール及び電子機
器モジュールから成る干渉計測定ヘッドのモジュール、
調整非危険構成が可能になる。第１モジュールは、この
際本発明によるビームスプリッタ構造群を有し、これに
対して第２のモジュールは、即ち干渉信号の検出のため
の検出器要素を有する。

【００１２】更に本発明による干渉計は、種々の応用に
フレキシブルに使用されることができ、即ち例えばリニ
ア及び回転運動等の組み合わされた検出のためにも使用
されることができる。

【００１３】本発明によるビームスプリッタ構造群並び
に本発明による干渉計の他の利点並びに詳細は図面に基
づく複数の実施例の次の記載から得られる。

【００１４】

【実施例】図１に基づいて、次に本発明によるビームス
プリッタ構造群の原理的構成を第１実施例に基づいて説
明する。この実施例の本発明によるビームスプリッタ構
造群は、ビームスプリッタ要素１と補償要素２とを備え
た実質的に２つの構成部分を有する。図１中には見通し
を良くする理由から光源、反射鏡要素、検出器要素、評
価要素等のような他の干渉計要素は図示されてない。

【００１５】光源、例えばＨｅＮｅレーザから供給され
る光束は、入射光束Ｓとして先ずビームスプリッタ１に
達する。この要素１は、正確に平行な少なくとも２つの
境界面１．１、１．２を有する透明プレートとして形成
されている。プレート材料として例えばＢＫ７のような
光学的標準ガラスが好適である。選択的に水晶ガラス並
びに場合によってはゼロジュール（Ｚｅｒｏｄｕｒ）が
使用され得る。入射境界面１．１に、この実施例では入
射領域において入射光束Ｓの屈折のみが入射境界面１．
１の記載された垂線Ｌの方向に行われる。入射光束Ｓ
は、この際垂線Ｌに対して角度αでビームスプリッタ要
素１又は透明プレートに入射する。角度αは、プレート
材料としてガラスが使用される場合に、可能な実施形態
においてブリュースタの角度α≒５７°に選択される。

【００１６】プレートを通過後、入射光束Ｓは、第２境
界面１．２に当たり、第２境界面は、少なくとも入射光
束Ｓの当たる部分領域にビームスプリッタ面１．３とし
て設定されている。ビームスプリッタ面１．３では、入
射光束Ｓの２つの部分光束ＳＲ、ＳＴへの分割が行われ
る。部分光束ＳＲは、この際ビームスプリッタ面１．３
で反射されかつ再び第１境界面１．１の方向に偏向さ
れ、これに対して第２部分光束ＳＴは、補償要素２の方
向にビームスプリッタ面１．３を透過する。

【００１７】第１境界面１．１上に少なくとも部分光束
ＳＲの当たる部分領域に反射鏡面１．４が配設されてお
り、反射鏡面ではこの部分光束ＳＲが、透明部分領域を
光が透過する第２境界面１．２の方向に反射され、その
結果そこでは相応する境界面での屈折のみが、ガラスか
ら空気への移行の際に行われる。ビームスプリッタ１を
離れた後、第１射出光束ＳＡ１が存在し、第１射出光束
は、図示しない他の干渉計光路において測定光又は参照
光として使用され得る。

【００１８】ビームスプリッタ面１．３に伝達される部
分光束ＳＴは、続いて補償要素２の第１境界面２．１に
到達し、境界面２１で屈折しかつ第２境界面２．２まで
それ以外の偏向なしに補償要素２を通過し、第２境界面
を通って光は補償要素２を第２射出光束ＳＡ２として離
れる。第２射出光束ＳＡ２は、更に他の干渉計光路にお
ける測定光束又は参照光束として使用され得る。

【００１９】補償要素２は、図示の実施形態において同
様に互いに平行な境界面を有する平行平面プレートとし
て形成されており、即ち入射境界面及び射出境界面２．
１及び２．２は、高精度に互いに平行に向けられてい
る。補償要素２の材料として、既に上記のビームスプリ
ッタ１用の材料が使用される。補償要素２の本質的な光
学的機能は、更に両射出光束ＳＡ１、ＳＡ２が最終的に
実質的に等しい光学的路長で相応した要素１、２に戻さ
れることを確保することに見られる。このことは、図示
の実施例において補償要素２の厚さＤ₂ がビームスプリ
ッタ要素１の厚さＤ ₁の二倍の大きさに選択されること
によって確保される。図示の実施例において、上記の要
求は、前記のようにビームスプリッタ要素１の厚さＤ ₁
に比して二倍の補償要素２の厚さＤ₂ の選択によって簡
単に変換される、そのわけは両要素は同一の材料から成
るからである。従って一般に射出光束ＳＡ１、ＳＡ２は
実質的にビームスプリッタ構造群の要素１、２における
等しい光学的路長を通過しなければならず、その際光学
的路長は、幾何学的路長と屈折率の積として理解され
る。補償要素２のそのような構成によって、万一の温度
変動の場合でも本発明によるビームスプリッタ構造群の
両射出光束ＳＡ１、ＳＡ２は、等しい影響を受け従って
同様に影響されることが確保される。

【００２０】他の積極的な副次効果として、補償要素２
の機能との関連において、両射出光束ＳＡ１及びＳＡ２
の間隔Ａの増大が達成され得ることが挙げられる。それ
により両射出光束ＳＡ１、ＳＡ２の光路は干渉計構造の
構造的条件に適合される。

【００２１】補償要素２をビームスプリッタ要素１から
僅かな距離に配列すること、例えば狭い空隙によって分
離することは有利である。ビームスプリッタ要素１上へ
の要素２のこれとの選択的な接着の場合には、光路のず
れは、例えば万一のくさび状の接着層のような接着誤差
に基づいて生じ得る。更に貼付けは、構造群の製造にお
ける追加の作業工程を招く。

【００２２】図１の実施例におけるビームスプリッタ要
素１のビームスプリッタ面１．３は、偏光光学的に作用
し、即ち両射出光束ＳＡ１、ＳＡ２は、互いに垂直に向
けられた偏光方向を有する。ビームスプリッタ要素２の
反射鏡面１．４は、高反射の誘電積層として形成されて
いる。ビームスプリッタ面がそのような実施形態におい
て、透過される部分光束ＳＴがｐ偏光を有するように設
定される場合、上記の入射角α≒５７°の場合に他の積
極的副次効果が得られる。この場合補償要素２の境界面
２．１、２．２上に反射を減少させない層が層付けされ
又は改良が行われなければならない、即ち僅かな製造コ
ストが得られる。

【００２３】この個所では、上記のビームスプリッタ面
１．３又は反射鏡面１．４の上記の構成が、本発明にと
って本質的なことではないことが示唆される。これに対
する公知の選択も、本発明の範囲で実現可能である。そ
のようにビームスプリッタ面１．３は、いわゆるニュー
トラルスプリッタとしても設定され、ニュートラルスプ
リッタは、誘電的にも金属的にも形成されることができ
る。同様に反射鏡面１．４を例えばアルミニウム層又は
銀層等の形の金属反射鏡面として実現することも可能で
ある。双方の場合に、本発明の範囲内で各面のビームス
プリット又はビーム反射する作用のみが重要である。

【００２４】図２（ａ）及び（ｂ）に基づいて、続いて
本発明によるビームスプリッタ構造群の本質的な利点が
明らかにされる。この際図１中に記載されたビームスプ
リッタ構造群の実施形態が示され、その際それぞれ最適
に入射する入射光束Ｓの他に他の入射光束Ｓ′が表され
ており、この入射光束Ｓ′は、理想の入射方向とは偏し
てビームスプリッタ構造群に入射する。実際においてこ
のことは、ビームスプリッタ構造群が例えば入射角光束
Ｓに対してねじられることを意味する。図２（ａ）にお
いてこの際入射光束Ｓ′は、理想の入射方向又は入射光
束Ｓに対して角度Δαの下に本発明によるビームスプリ
ッタ構造群又はビームスプリッタ要素１に入射する。し
かし存在する偏倚にもかかわらず、本発明による措置に
基づいて出力側で更に２つの射出光束ＳＡ１′、ＳＡ
２′が生じ、これらは互いに平行に向けられ、即ち両射
出光束ＳＡ１′、ＳＡ２′間の角度β′は、両射出光束
ＳＡ１、ＳＡ２の理想の場合のようにβ＝β′＝０が得
られる。従来のケスタプリズムを使用する場合、この場
合には角度β≠０であり、このことは後続の光学機器構
成要素の調整の際に問題を生じる。

【００２５】図２（ｂ）には、結局、入射光束Ｓの理想
の入射方向からの万一の入射光束Ｓ′の平行ずれΔｄが
両射出光束ＳＡ１′、ＳＡ２′にいかに作用するかが図
示されている。実際にこのことは、入射光束Ｓ′に対す
るビームスプリッタ構造群の平行ずれが存在し、例えば
ビームスプリッタ構造群の最適ではない調整の原因とな
ることを意味する。図２（ｂ）において、そのような場
合によっては生じる平行ずれも、両射出光束ＳＡ１′、
ＳＡ２′の間隔には影響を与えないことが認識され、入
射光束Ｓ′に平行ずれΔｄが存在する場合にも、両射出
光束ＳＡ１′、ＳＡ２′の間隔Ａ′は、両射出光束ＳＡ
１、ＳＡ２の間の間隔Ａを有する理想の場合と比較して
変わらず、即ちＡ′＝Ａである。これに対してこの場合
のケスタプリズムでは間隔Ａ′の変更が予期され、この
ことは次の光路の問題の原因となる。

【００２６】上記ビームスプリッタ構造群が使用され
る、本発明による干渉計の第１実施形態の図式的正面図
は、図３に示されている。本発明による干渉計５０は、
この際光源５１、例えばＨｅＮｅレーザを有し、その出
力光は、入射光束Ｓとして本発明によるビームスプリッ
タ構造群１００に入射する。これは図１に既に記載され
た第１実施例と同様に形成されている。従って改めて説
明すべきビームスプリッタ構造群１００の記載は、ここ
では省略される。ビームスプリッタ構造群１００を、２
つの平行な射出光束ＳＡ１、ＳＡ２が離れる。この際第
１光束ＳＡ１は、ビームスプリッタ構造群１００から間
隔をおいて静止の参照反射鏡５３が配設されている干渉
計５０の参照アームに達する。参照反射鏡５３は、この
際好ましくは公知のトリプルプリズムとして形成されて
いる。第２射出光束は、更に干渉計５０の固有の測定ア
ームに入射し、入射アームにおける測定反射鏡５４は、
その相対的又は場合によっては絶対位置を特定されるた
めの測定方向Ｘに移動可能である。測定反射鏡５４もト
リプルプリズムとして形成されている。

【００２７】測定アーム及び反射鏡アームにおける両反
射鏡５３、５４での両射出光束ＳＡ１、ＳＡ２の反射
後、反射した光束ＳＡ１Ｒ、ＳＡ２Ｒは、再び本発明に
よるビームスプリッタ構造群１００に達する。これを両
光束ＳＡ１Ｒ、ＳＡ２Ｒの順序とは逆に、通過し、光束
は再びビームスプリッタ面１．３に集められ又は相会さ
せられる。対の可干渉光束は、結局光束ＳＩＦとして検
出器ユニット５５に達し、検出器ユニットは当たった干
渉信号を検出しかつ他の処理又は位置特定のために後続
の評価ユニット５６に受け渡す。ここで、例えば両可干
渉光束の光路に図３には個々には表されていない他の光
学的要素が配設されることができる。この際、例えば公
知の方法で位相のずれた干渉信号の発生のために役立つ
偏光光学的かつビームスプリット要素が対象とされるこ
とができる。

【００２８】本発明によるビームスプリッタ構造群の第
２実施例を次に図４に基づいて説明する。更にビームス
プリッタ構造群は実質的に、ビームスプリッタ要素２１
と補償要素２２との２つの構成要素を有する。

【００２９】ビームスプリッタ要素２１も、補償要素２
２も、前記の実施例同様に、既に上記の材料によって製
造される平行平面プレートとして形成されている。入射
光束Ｓは、更にビームスプリッタ要素２１の境界面２
１．１に当たる。この領域において、第１境界面２１．
１はビームスプリッタ面２１．３として形成されてい
る。入射光束Ｓは、ビームスプリッタ面２１．３で第１
部分光束ＳＴと第２部分光束ＳＲとに分割される。第１
部分光束ＳＴは、ビームスプリッタ面２１．３を透過し
かつビームスプリッタ要素２１を通過後その第２境界面
２１．２に当たり、第２境界面２１．２は、この部分領
域に反射鏡面２１．４として形成されている。反射鏡面
２１．４から部分光束ＳＴが、再び第１境界面２１．１
の方向に反射され、第１境界面は、部分領域を透過され
かつそこでガラスから空気への移行の際に相応した屈折
を行う。ビームスプリッタ要素２１を離れた後、第１射
出光束ＳＡ１が存在する。

【００３０】ビームスプリッタ面２１．３で反射された
第２部分光束ＳＲは、補償要素２２の方向又は補償要素
２２の第１境界面２２．１の方向に偏向される。部分光
束ＳＲは、補償要素２２を通過しかつその第２境界面２
２．２で第２射出光束ＳＡ２として再びこの構成部分２
２から射出する。

【００３１】本発明によるビームスプリッタ構造群の種
々の実施形態に関して、第１実施例の前記記載が参照さ
れる。

【００３２】前記両変形の組合せから得られる本発明に
よるビームスプリッタ構造群の第３実施例を次に、図５
に基づいて説明する。これらは、第１にビームスプリッ
タ面への入射光束の一度ガラス側の入射が行われ（図
１）、一方他の場合に空気側の入射が行われる（図
４）。

【００３３】図５に表されたビームスプリッタ構造群の
変形に基づいて、例えば二軸線干渉計が構成される、そ
のわけは出力側でそれぞれ２つの平行な射出光束ＳＡ
１、ＳＡ２、ＳＢ１、ＳＢ２の二対が発生されるからで
ある。射出光束ＳＡ１、ＳＡ２、ＳＢ１、ＳＢ２のそれ
ぞれ一対が、座標軸Ｘ、Ｙの設定に使用される。本発明
によるビームスプリッタ構造群は、ビームスプリッタ要
素３１の他に両射出方向Ｘ、Ｙの各々に２つの他の補償
要素３２．Ａ、３２．Ｂを有する。補償要素３２．Ａ、
３２．Ｂは、改めて少なくとも２つの互いに平行に向け
られた境界面を有する平行平面プレートとして形成され
ている。

【００３４】入射光束Ｓは、更に、ビームスプリッタ要
素３１の第１境界面３１．１に当たり、第１境界面はビ
ームスプリッタ要素３１の部分領域に第１ビームスプリ
ッタ３１．３を有する。一方これまでの変形においては
各ビームスプリッタ面でのビームスプリッタ比は、一般
に１：１に選択され、反射した部分光束と透過した部分
光束の強度の所定の比が重要である。第一ビームスプリ
ッタ面３１．３が、透過した第二部分光束ＳＴに対する
反射した第一部分光束ＳＲの強度比がＩ＝１：３に選択
されるように形成されている。第一部分光束ＳＲは、ビ
ームスプリッタ面３１．３で第一補償要素３２．Ｂの方
向に偏向され、その第１境界面３２．Ｂ１に当たり、こ
れを通過しかつ第一補償要素３２．Ｂ１として第一射出
光束ＳＢ１としてＸ（負）方向に離れる。第二部分光束
ＳＴは、ビームスプリッタ要素３１の第２境界面３１．
２の方向に通過しかつ第二ビームスプリッタ面３１．５
が配設されている部分領域に当たる。この部分領域は、
更に当たる部分光束ＳＴのための反射又は透過を作用
し、その際強度比Ｉは、反射した光部分から透過した光
部分へＩ＝２：１に選択される。従って第二ビームスプ
リッタ面３１．５で第３及び第４部分光束ＳＴＴ、ＳＴ
Ｒが生じる。

【００３５】第２部分光束ＳＴＲは、更にビームスプリ
ッタ要素３１の第１境界面３１．１の方向に反射されか
つビームスプリッタ要素３１の部分領域に当たり、第１
境界面は、ビームスプリッタ面３１．６として作用しか
つ以下第３ビームスプリッタ面３１．６と称する。反射
光強度と透過光強度の比Ｉは、第３ビームスプリッタ面
３１．６ではＩ＝１：１に選択される。第３ビームスプ
リッタ面３１．６を透過する部分光束は、最終的にビー
ムスプリッタ要素３１、従ってビームスプリッタ構造群
を第２射出光束ＳＢ２として第一射出光束ＳＢ１と平行
に離れる。

【００３６】第２ビームスプリッタ面３１．５を透過す
る第３部分光束ＳＴＴは、続いて第２補償要素３２．Ａ
に達する。補償要素３２．Ａの第１境界面３２．Ａ１を
通り部分光束ＳＴＴの入射後、部分光束ＳＴＴは、補償
要素３２．Ａを通過しかつ第２境界面３２．Ａ２を通っ
て第３射出光束ＳＡ２として第２補償要素３２．ＡをＹ
方向に離れる。

【００３７】第３ビームスプリッタ面で反射した部分光
束ＳＴＲＲは、ビームスプリッタ要素３１の第２境界面
３１．２の方向に偏向されかつこの境界面３１．２を、
ガラスから空気への移行の際に屈折のみを行う部分領域
を透過する。この部分光束ＳＴＲＲから、第３射出光束
ＳＡ２に対して平行に向けられる第４射出光束ＳＡ１が
生じる。

【００３８】それぞれ平行な射出光束ＳＡ１、ＳＡ２、
ＳＢ１、ＳＢ２の両対は、互いに直交しておりかつ、例
えば図３に基づいて説明したように、測定反射鏡の位置
の特定のための相応した干渉計機構に利用されることが
できる。

【００３９】本発明による干渉計６０の第２実施形態
は、図６に示されている。この変形は、測定されるべき
対象物の検出のみならず、直線移動可能な構造群の万一
の回転運動の同時の測定をも可能にする。相応した課題
設定は、例えばウエハステッパ等のような、半導体製造
システムの領域にある。

【００４０】図３の本発明による干渉計の第１変形との
本質的に相違として、図６に表された実施形態は、トリ
プルプリズムとして形成された２つの測定反射鏡５４
Ａ、５４Ｂを有し、これらは、１つの構成ユニット５５
に配設されている。構成ユニット５５は、残りの干渉計
構成要素に対してＸ方向に移動可能に配設されており、
その上製造公差に基づいて、図平面に対して垂直に向け
られた軸線Ｚのまわりの構成ユニット５５の回転も行わ
れる。Ｘ方向の変位もＺ軸線のまわりの回転も本発明に
よる干渉計変形によって検出されることができる。この
目的のために前記例に比して光路における所定の変形が
必要であり、即ち以下に説明すべき使用されるビームス
プリッタ構造群２００の構成において必要とされる。本
発明による干渉計６０は、ビームスプリッタ構造群２０
０に達する入射光束Ｓを供給する光源６１を含む。ビー
ムスプリッタ構造群は、この適用のために変形された構
成を有する。図５の例と類似して、ビームスプリッタ要
素４１の他に、２つの補償要素４２Ａ及び４２Ｂが設け
られ、これらは図示の方法でビームスプリッタ要素４１
から僅かに離れて配設されている。ビームスプリッタ要
素４１、第１補償要素４２Ａ及び第２補償要素４２Ｂ
は、更に上記の材料から成る平行平面プレートとして形
成されている。ビームスプリッタ要素４１の光源６１に
面した同様な境界面上に一括して３つの部分領域が反射
鏡面４１．１、４１．２、４１．３として形成されてお
り、選択的にこの個所に勿論単一の反射層が挿入される
ことができる。向かい合って位置する第２境界面に２つ
の部分領域がビームスプリッタ面４１．４、４１．５と
して形成されており、ビームスプリッタ面４１．４、４
１．５の間に他の部分領域が反射面４１．６として形成
されている。ビームスプリッタ面４１．４、４１．５
は、光線分割比に関して、最終的に干渉に至る部分光束
ができる限り等しい強度を有するように設定されてい
る。ビームスプリッタ構造群２００の図示の変形は、出
力側で３つの平行な射出光束ＳＡ１、ＳＡ２、ＳＡ３を
供給する。射出光束の２つＳＡ１、ＳＡ３は、構成ユニ
ット５５の両測定反射鏡５４Ａ、５４Ｂ上に当たる測定
光として利用される。第３射出光束ＳＡ２は、参照光と
して利用されかつ同様に後方反射するトリプルプリズム
として形成された静止の参照反射鏡６３上に当たる。反
射鏡５４Ｂ及び６３による反射後、反射した両光束ＳＡ
２Ｒ及びＳＡ３Ｒは、ビームスプリッタ構造群２００上
に達し又はそこで第２補償要素４２Ｂ及びビームスプリ
ッタ要素４１上に達する。反射する光束ＳＡ１Ｒは、図
６に図式的にのみ示唆された他のビームスプリッタ構造
群３００に達する。第２ビームスプリッタ構造群３００
から光束ＳＡ１Ｒが再び２つの平行な射出光束ＳＡＲ
１、ＳＡＲ２に分割され、これらは第１補償要素４２Ａ
上に当たる。第２ビームスプリッタ構造群３００を考慮
して、その上入射する入射光束から２つの平行な射出光
束が発生可能にされなければならないことのみが指摘さ
れる。例えばこの個所に、図１に基づいて記載されたよ
うな、本発明によるビームスプリッタ構造群が使用され
ることができる。第２ビームスプリッタ構造群３００か
ら供給される光束ＳＡ１Ｒ１は、ビームスプリッタ要素
４１に測定反射鏡５４Ｂから反射される光束ＳＡ３Ｒと
一緒にされ、光束の可干渉第１対としてこれら両光束Ｓ
Ａ１Ｒ１、ＳＡ３Ｒは、光束ＳＩＦＷとして第２検出器
ユニット６５．１上に達する。光束ＳＩＦＷ又は相応し
た干渉信号は、この際Ｚ軸線のまわりの構成ユニット５
５の万一の回転に関する情報を供給する。第２ビームス
プリッタ構造群３００から供給される光束ＳＡ１Ｒ２
は、ビームスプリッタ要素４１において静止の測定反射
鏡６３から反射した光束ＳＡ２Ｒと一緒になり、光束の
可干渉第２対としてこれら両光束ＳＡ１Ｒ２、ＳＡ２Ｒ
は、光束ＳＩＦＬとして第２検出器ユニット６５．２上
に供給される。光束ＳＩＦＬは、測定方向Ｘに沿う構成
ユニット５５の直線移動に関する情報を供給する。両検
出器ユニット６５．１、６５．２によって検出される干
渉信号は、再処理のために後続の評価ユニット６６に受
渡される。

【００４１】干渉に至る種々の光束の光学的路長を考慮
して、この例でも、例えばガラスと空気の後に配置され
る干渉計における各光学的路長は、同一である。このた
めに第２補償要素４２Ｂの厚さは、ビームスプリッタ要
素４１の厚さの二倍に選択され、第１補償要素４２Ａの
厚さは、ビームスプリッタ要素４１の厚さと同一に選択
される。これらの要素の厚さの特定に関して図１に記載
の例が参照される。

【００４２】この実施形態の他の有利な変形において、
種々の反射鏡５４Ａ、５４Ｂ、６３から戻る光束ＳＡ１
Ｒ、ＳＡ２Ｒ、ＳＡ３Ｒは、光束ＳＡ１、ＳＡ２、ＳＡ
３が反射鏡５４Ａ、５４Ｂ、６３上に入射する平面と同
一の平面には反射されず、即ち図平面には反射されな
い。光は、同様に光束ＳＡ１Ｒ、ＳＡ２Ｒ、ＳＡ３Ｒが
入射平面に対して垂直にビームスプリッタ構造群２００
に向かって反射されるように設定されることができる。
このことは、ビームスプリッタ構造群３００の得られる
構造大きさを考慮して、ビームスプリッタ構造群３００
における種々のビームスプリッタ面及び反射鏡面の構成
に関して利点を提供する。

【００４３】続いて本発明による干渉計の第３の変形を
図７に基づいて説明する。上記の両実施形態において
は、反射鏡として常にトリプルプリズム、即ち後方反射
要素が使用された。これに対して少なくとも干渉計アー
ム、例えば測定アームに反射鏡として平面鏡が使用され
る。このことは、特に本発明による干渉計によって平面
内の運動が、即ちＸ方向及びＹ方向の同時の運動が検出
されるべきである場合に有利である。この場合に干渉計
による位置特定を可能にするために、空間的に広い反射
鏡が必要とされ、従ってＸ方向及びＹ方向の同時の運動
の場合も各測定反射鏡から後方反射が行われる。この目
的のためにトリプルプリズムのような後方反射要素は好
適ではない。

【００４４】−図７には示されてない−光源から来る、
直線偏向された入射光束Ｓは、この際先ず再びビームス
プリッタ構造群４００に達し、ビームスプリッタ構造群
はこの実施形態ではビームスプリッタ要素７１及び補償
要素７２の他に他の反射鏡要素７５を有する。入射する
入射光束Ｓに面したビームスプリッタ要素７１の境界面
上に部分領域が設けられ、部分領域は、反射鏡面７１．
１として役立ち、向かい合って位置する境界面上に部分
領域がビームスプリッタ面７１．２として設定されてい
る。図１の実施例と類似の方法でビームスプリッタ構造
群４００は、更に２つの平行な射出光束ＳＡ１、ＳＡ２
を供給する。第１射出光束ＳＡ１は、干渉計の参照アー
ムにおいて参照反射鏡７３上に達し、参照反射鏡は後方
反射するトリプルプリズムとして設定されている。参照
反射鏡７３から光束ＳＡ１Ｒがビームスプリッタ構造群
４００の方向に反射されかつ第２光束ＳＡ２Ｒ′と一緒
になり、その結果可干渉光束ＳＩＦが−図７に示された
−検出器ユニットに達する。第２干渉光束ＳＡ２Ｒ′
は、この際次に説明する方法で第２射出光束ＳＡ２から
生じ、第２射出光束は、ビームスプリッタ構造群４００
をＸ方向に移動可能な測定反射鏡７４の方向に離れる。
既に示唆したように、測定反射鏡７４は、空間的に広い
平面鏡として形成されている。直線偏向された射出光束
ＳＡ２は、測定反射鏡７４に当たる前に、円偏向を有す
るλ／４板の形の偏光変更要素７６を通過する。測定反
射鏡７４で反射した後、光束ＳＡ２Ｒは、逆向きの円偏
光を有する。λ／４板７６をもう一度透過した後、直線
偏光された光束が存在し、その際偏光平面は、元の入射
光束Ｓの偏光平面に対して垂直である。補償要素７２を
通過後、そのように偏光された光束ＳＡ２Ｒは、ビーム
スプリッタ面７１．２に当たりかつ光束ＳＡ２′がビー
ムスプリッタ構造群４００を測定反射鏡７４の方向に離
れる前に、後方反射する反射鏡要素７５の方向に全反射
する。ビームスプリッタ面７１．２上で反射鏡要素７５
を会して反射後、測定反射鏡７４の方向にビームスプリ
ッタ群４００を光束ＳＡ２′が離れる前に、もう一度全
反射が行われる。λ／４板を通過後、更に円偏光された
光束が存在し、この光束は、測定反射鏡７４に当たる。
測定反射鏡での反射後、光束ＳＡ２Ｒ′は、更に逆向き
に円偏光された偏光を有する。λ／４板７６を通過後、
光束ＳＡ２Ｒ′は、直線偏光され、その際偏光平面は、
光束ＳＡ１Ｒの偏光平面に対して垂直であり、光は最終
的にこの光束と重ね合わされる。このために光束ＳＡ２
Ｒ′は、補償要素７２の通過及びビームスプリッタ面７
１．２の透過後、光束ＳＡ１Ｒと光束ＳＩＦの内方で一
緒にされ、光束ＳＩＦは、結局検出器ユニット上に達し
かつ位相差に依存する干渉信号を供給する。

【００４５】この本発明による干渉計の変形において、
ビームスプリッタ要素７１と補償要素７２とがビームス
プリッタ構造群の内方で等しい厚さを有するとしても、
ガラスと空気の等しい光学的路長についての要求は、同
様に保持される。補償要素７２を通る二度又は四度の通
過に基づいて、しかし上記要求はこの構成においても充
足される。

【００４６】図７の干渉計変形の可能なバリエーション
において、干渉計変形をディファレンシャル平面鏡−干
渉計として形成することが可能である。このために図７
の例を補完して、そこに設けられた測定反射鏡７４に対
する第２の平面鏡測定反射鏡が必要であり、測定反射鏡
上には両射出光束ＳＡ２、ＳＡ２′が当たる。

【００４７】図７の干渉計の実施例の他のバリエーショ
ンは、結局図８に示されている。更に可動測定反射鏡８
４は、平面鏡として形成されており、一方静止の参照反
射鏡８３としてトリプルプリズムが使用される。本発明
による干渉計の第４実施例は、ビームスプリッタ構造群
５００の第２反射鏡要素８５．２を除いて実質的に前記
第３実施例の構成に相応する。この際ビームスプリッタ
構造群５００は、更に境界面−部分領域を備えたビーム
スプリッタ要素８１を有し、境界面−部分領域は、反射
鏡面８１．１及びビームスプリッタ面８１．２として作
用する。更に図７の例のように偏光を変更する光学的要
素８６は、測定アームにおけるλ／４板の形で配設され
ている。第２反射鏡要素８５．２の図示の配列によっ
て、最終的に光束の第２の通過は、対の干渉する光束Ｓ
ＩＦが図示しない検出器ユニット上に達する前に、全干
渉計成分によって作用される。この相異なる干渉計構成
要素を通る相異なる光束のこの二度の通過の本質的な効
果として、発生した干渉信号の前記例に比して半分の信
号周期が生じる。本発明による干渉計のこの変形によっ
て、位置特定の際の解像力向上が可能である。

【００４８】同様に前記例におけると同様に、更にこの
変形をディファレンシャル平面鏡干渉計として形成する
ことが可能である。このために上記のように、第２の平
面鏡測定干渉計が必要であり、この測定干渉計上に４つ
の相応する射出光束の２つＳＡ２、ＳＡ２′が当たる。

【００４９】本発明は、決して前記例に限定されるもの
ではない。本発明の教示の範囲に有利な一連の実施可能
性が存在する。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明によるビームスプリッタ構造群
の第１実施形態の光路を示す図である。

【図２】図２は、理想の入射方向から入射光束が偏倚し
た場合の状況を示す図であって、（ａ）は、入射角が僅
かに偏倚した場合の状況を示し、（ｂ）は、入射高が僅
かに偏倚した場合の状況を示す図である。

【図３】図３は、ビームスプリッタ構造群の上記第１実
施形態が使用される本発明による干渉計の第１実施形態
の光路を示す図である。

【図４】図４は、本発明によるビームスプリッタ構造群
の第２実施形態の光路を示す図である。

【図５】図５は、本発明によるビームスプリッタ構造群
の第３実施形態の光路を示す図である。

【図６】図６は、本発明による干渉計の第２実施形態の
光路を示す図である。

【図７】図７は、本発明による干渉計の第３実施形態の
光路を示す図である。

【図８】図８は、本発明による干渉計の第４実施形態の
光路を示す図である。

【符号の説明】

１ ビームスプリッタ要素 １．１ 境界面 １．２ 境界面 １．３ ビームスプリッタ面 １．４ 反射面 ２ 補償要素 ２１ ビームスプリッタ要素 ２１．１ 境界面 ２１．２ 境界面 ２１．３ ビームスプリッタ面 ２１．４ 反射面 ２２ 補償要素 ３１ ビームスプリッタ要素 ３１．１ 境界面 ３１．２ 境界面 ３１．３ ビームスプリッタ面 ３１．５ ビームスプリッタ面 ３１．６ ビームスプリッタ面 ３２．Ａ 補償要素 ３２．Ｂ 補償要素 ４１ ビームスプリッタ要素 ４１．１ 反射面 ４１．２ 反射面 ４１．３ ビームスプリッタ面 ４１．４ ビームスプリッタ面 ４１．５ ビームスプリッタ面 ４２Ａ 補償要素 ４２Ｂ 補償要素 ７１ ビームスプリッタ要素 ７１．１ 反射面 ７１．２ ビームスプリッタ面 ７２ 補償要素 ８１ ビームスプリッタ要素 ８１．１ 反射面 ８１．２ ビームスプリッタ面 ８２ 補償要素 Ｓ 入射光束 ＳＡ１ 射出光束 ＳＡ２ 射出光束 ＳＢ１ 射出光束 ＳＢ２ 射出光束

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エルヴイン・シユパンナー ドイツ連邦共和国、83278 タウヌスシユ タイン、フオルストマイエルストラーセ、 12

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 特に干渉計用のビームスプリッタ構造群
   であって、その上に当たる入射光束（Ｓ）を少なくとも
   １つの第１及びこれに対して平行な少なくとも１つの第
   ２射出光束（ＳＡ１、ＳＡ２；ＳＢ１、ＳＢ２）に分割
   するためのものであって、その際ビームスプリッタ構造
   群は、少なくとも１つのビームスプリッタ要素（１；２
   １；３１；４１；７１；８１）と、少なくとも１つの補
   償要素（２；２２；３２．Ａ、３２．Ｂ；４２Ａ、４２
   Ｂ；７２；８２）とを有し、かつビームスプリッタ要素
   （１；２１；３１；４１；７１；８１）は、２つの平行
   な境界面（１．１、１．２；２１．１、２１．２、；３
   １．１、３１．２）を有する透明なプレートから成り、
   その中１つの境界面（１．２；２１．１、；３１．１、
   ３１．２）は、少なくとも部分的にビームスプリッタ面
   （１．３；２１．３；３１．３、３１．５、３１．６；
   ４１．３、４１．４、４１．５；７１．２；８１．２）
   としてかつ第１境界面（１．２；２１．１、２１；３
   １．１、３１．２）に対して平行な他の境界面（１．
   １；２１．２；３１．１、３１．２）は、少なくとも部
   分領域において少なくとも部分反射する反射面（１．
   ４；２１．４；３１．３、３１．５、３１．６；４１．
   １、４１．２；７１．１；８１．１）として作用しかつ
   補償要素（２；２２；３２．Ａ、３２．Ｂ；４２Ａ、４
   ２Ｂ；７２；８２）は、少なくとも２つの射出光束（Ｓ
   Ａ１、ＳＡ２；ＳＢ１、ＳＢ２）が、互いに平行に経過
   するように、ビームスプリッタ要素（１；２１；３１；
   ４１；７１；８１）に関して配設されており、そして補
   償要素（２；２２；３２．Ａ、３２．Ｂ；４２Ａ、４２
   Ｂ；７２；８２）は、更に、射出光束（ＳＡ１、ＳＡ
   ２；ＳＢ１、ＳＢ２）が、ビームスプリッタ要素（１；
   ２１；３１；４１；７１；８１）及び補償要素（２；２
   ２；３２．Ａ、３２．Ｂ；４２Ａ、４２Ｂ；７２；８
   ２）における実質的に等しい光学的路長を通過すること
   を特徴とする前記ビームスプリッタ構造群。
2. 【請求項２】 その際ビームスプリッタ面（１．３；２
   １．３；３１．３、３１．５、３１．６；４１．３、４
   １．４、４１．５；７１．２；８１．２）が、その上に
   当たる入射光束（Ｓ）の互いに垂直に偏光された２つの
   部分光束（ＳＲ、ＳＴ；ＳＴＲ、ＳＴＴ、ＳＴＲＲ）へ
   の分割を作用する、請求項１に記載のビームスプリッタ
   構造群。
3. 【請求項３】 その際ビームスプリッタ面（１．３；２
   １．３；３１．３、３１．５、３１．６；４１．３、４
   １．４、４１．５；７１．２；８１．２）が、その上に
   当たる入射光束（Ｓ）の同一に偏光された部分光束（Ｓ
   Ｒ、ＳＴ；ＳＴＲ、ＳＴＴ、ＳＴＲＲ）への分割を作用
   する、請求項１に記載のビームスプリッタ構造群。
4. 【請求項４】 その際反射面（１．４；２１．４；３
   １．３、３１．５、３１．６；４１．１、４１．２；７
   １．１；８１．１）が、高反射誘電積層として形成され
   ている、請求項１に記載のビームスプリッタ構造群。
5. 【請求項５】 その際補償要素（２；２２；３２．
   Ａ、３２．Ｂ；４２Ａ、４２Ｂ；７２；８２）が、ビー
   ムスプリッタ（１；２１；３１；４１；７１；８１）か
   ら距離をおいて配設されている、請求項１に記載のビー
   ムスプリッタ構造群。
6. 【請求項６】 その際補償要素（２；２２；３２．
   Ａ、３２．Ｂ；４２Ａ、４２Ｂ；７２；８２）も、その
   平行な境界面（２．１、２．２；２２．１、２２．２；
   ３２．Ａ１、３２．Ａ２、３２．Ｂ１、３２．Ｂ２）を
   通って光束が入射及び射出する平行平面のプレートとし
   て形成されている、請求項１に記載のビームスプリッタ
   構造群。
7. 【請求項７】 その際ビームスプリッタ要素（１）と
   補償要素（２）とが、その上に入射する入射光束（Ｓ）
   に関して同一形に形成されておりかつ配設されており、
   入射光束（Ｓ）は、垂線（Ｌ）に対して特定の入射角
   （α）で、ビームスプリッタ要素（１）の第１境界面
   （１．１）上に入射しかつ通過後ビームスプリッタ面
   （１．３）上の第２境界面（１．２）上に射出し、そこ
   から−第１の部分光束（ＳＲ）は、反射面（１．４）に
   向かって第１境界面（１．１）の方向に反射され、そこ
   から更に第２境界面（１．２）の方向に反射され、この
   光束は第２境界面の透明な領域を通過しかつビームスプ
   リッタ構造群を第１射出光束（ＳＡ１）として離れ、そ
   して第２部分光束（ＳＴ）は、ビームスプリッタ面
   （１．３）を通過し、かつ補償要素（２）の第２境界面
   （２．１）上に当たり、補償要素を通過し、かつ第２境
   界面（２．２）を第２射出光束（ＳＡ２）として離れ
   る、請求項１に記載のビームスプリッタ構造群。
8. 【請求項８】 その際入射角（α）が、ブリュースタ
   の角度に相応する、請求項７に記載のビームスプリッタ
   構造群。
9. 【請求項９】 その際補償要素（２）の厚さ（Ｄ₂ ）
   が、ビームスプリッタ要素（１）の厚さ（Ｄ₁ ）の二倍
   である、請求項７に記載のビームスプリッタ構造群。
10. 【請求項１０】 その際ビームスプリッタ要素（２
    １）と補償要素（２２）とが、その上に入射する入射光
    束（Ｓ）に関して同一形に形成されておりかつ配設され
    ており、入射光束（Ｓ）は、垂線に対して特定の入射角
    で、この領域ではビームスプリッタ面（２１．３）とし
    て作用するビームスプリッタ要素（２１）の第１境界面
    （２１．１）上に当たり、そこから第１の部分光束（Ｓ
    Ｔ）は、ビームスプリッタ面（２１．３）を通過しかつ
    この領域で反射面（２１．４）として作用するビームス
    プリッタ要素（２１）の向かい合った第２境界面（２
    １．２）上に当たり、かつそこから更にビームスプリッ
    タ要素（２１）の第１境界面（２１．１）の方向に反射
    され、部分光束は第１境界面の透明な領域を通過しかつ
    ビームスプリッタ構造群を第１射出光束（ＳＡ１）とし
    て離れ、そして第２部分光束（ＳＲ）は、ビームスプリ
    ッタ面（２１．３）から補償要素（２２）の方向に反射
    されかつ補償要素（２２）の第１境界面（２２．１）上
    に当たり、補償要素を通過しかつ第２境界面（２２．
    ２）で第２射出光束（ＳＡ２）として離れる、請求項１
    に記載のビームスプリッタ構造群。
11. 【請求項１１】 その際ビームスプリッタ要素（３
    １）と補償要素（３２．Ａ、３２．Ｂ）とは、その上に
    入射する入射光束（Ｓ）に関して同一形に形成されてお
    りかつ配設されており、入射光束（Ｓ）は、垂線に対し
    て特定の入射角で、この領域で第１ビームスプリッタ面
    （３１．３）として作用するビームスプリッタ要素（３
    １）の第１境界面（３１．１）上に特定された射出角で
    入射し、そこから第１の部分光束（ＳＲ）は、ビームス
    プリッタ面（３１．３）から第１補償要素（３２．Ｂ）
    の方向に反射されかつ第１補償要素（３２．Ｂ）の第１
    境界面（３２．Ｂ１）上に当たり、第１補償要素を通過
    しかつ第２境界面（３２．Ｂ２）を第１射出光束（ＳＢ
    １）として離れ、 第２部分光束（ＳＴ）は、第１ビームスプリッタ面（３
    １．３）を透過し、ビームスプリッタ要素（３１）を第
    ２境界面（３１．２）の方向に通過しかつそこで第２ビ
    ームスプリッタ面（３１．５）として作用する部分領域
    に当たり、そこから第３部分光束（ＳＴＲ）は、第１境
    界面（３１．１）の方向に反射され、そこで第３ビーム
    スプリッタ面（３１．６）として作用する部分領域に当
    たり、かつそこから第５部分光束が、第３ビームスプリ
    ッタ面（３１．６）を透過しかつビームスプリッタ構造
    群を第２射出光束（ＳＢ２）として離れ、第２射出光束
    は、第１射出光束（ＳＢ１）に対して平行に向けられて
    おり、そして第２ビームスプリッタ面（３１．５）を透
    過した、第４部分光束（ＳＴＴ）は、第２補償要素（３
    ２．Ａ）の第１境界面（３２．Ａ１）上に当たり、第２
    補償要素を通過しかつ第２境界面（３２．Ａ２）で第３
    射出光束（ＳＡ２）として第２補償要素（３２．Ａ）を
    離れ、そして第３ビームスプリッタ面（３１．６）で反
    射された、第６部分光束（ＳＴＲＲ）は、ビームスプリ
    ッタ要素（３１）の第２境界面（３１．２）の方向に偏
    向され、第２境界面の透明な領域を部分光束が透過しか
    つ第４射出光束（ＳＡ１）としてビームスプリッタ構造
    群を離れ、第４射出光束は、第３射出光束（ＳＡ２）に
    対して平行に向けられている、請求項１に記載のビーム
    スプリッタ構造群。
12. 【請求項１２】 その際第１及び第２射出光束（ＳＢ
    １、ＳＢ２）が、両第３及び第４射出光束（ＳＡ１、Ｓ
    Ａ２）に対して垂直に向けられている、請求項１１に記
    載のビームスプリッタ構造群。
13. 【請求項１３】 その際ビームスプリッタ構造群（２
    ００）が、２つの補償要素（４２Ａ、４２Ｂ）を有し、
    ２つの補償要素を通って２つの射出光束（ＳＡ１、ＳＡ
    ２）が、ビームスプリッタ構造群（２００）を互い平行
    に離れ、一方第３射出光束（ＳＡ３）は、ビームスプリ
    ッタ要素（４１）を離れ、第３部分光束は、同様に前記
    両射出光束（ＳＡ１、ＳＡ２）に対して平行に向けられ
    ている、請求項１に記載のビームスプリッタ構造群。
14. 【請求項１４】 その際ビームスプリッタ構造群（４
    ００；５００）は、ビームスプリッタ要素（７１；８
    １）及び補償要素（７２；８２）とは別個に配設されて
    いる少なくとも１つの後方反射する反射要素（７５；８
    ５．１、８５．２）を有し、この反射要素は、ビームス
    プリッタ要素（７１；８１）のビームスプリッタ面（７
    １．２、８１．２）から来る光束を再びビームスプリッ
    タ面（７１．２、８１．２）上に反射して戻す、請求項
    １に記載のビームスプリッタ構造群。
15. 【請求項１５】 請求項１から１４までのうちのいずれ
    か１つに記載のビームスプリッタ構造群を干渉計に使用
    する方法。
16. 【請求項１６】 干渉計において、 干渉計は、光源（５１）と、参照アームにおける少なく
    とも１つの静止の参照反射鏡（５３）と、測定アームに
    おける測定方向（Ｘ）に移動可能な少なくとも１つの測
    定反射鏡と、位置に依存する干渉信号を検出するための
    検出器ユニット（５５）と、検出された干渉信号の再処
    理のための評価ユニット（５６）と、並びに光源（５
    １）から発せられかつその上に当たる入射光束（Ｓ）を
    少なくとも１つの第１及びこれに対して平行な少なくと
    も１つの第２射出光束（ＳＡ１、ＳＡ２；ＳＢ１、ＳＢ
    ２）に分割するための少なくとも１つのビームスプリッ
    タ構造群とを備え、 その際ビームスプリッタ構造群（１００）は、少なくと
    も１つのビームスプリッタ要素（１；２１；３１；４
    １；７１；８１）と、少なくとも１つの補償要素（２；
    ２２；３２．Ａ、３２．Ｂ；４２Ａ、４２Ｂ；７２；８
    ２）を有しかつビームスプリッタ要素（１；２１；３
    １；４１；７１；８１）は、２つの平行な境界面を有す
    る透明なプレートから成り、その中１つの境界面が少な
    くとも部分的にビームスプリッタ面としてかつ前記境界
    面に対して平行な他の境界面は、少なくとも部分領域に
    おいて少なくとも部分的に反射する反射鏡面として機能
    し、そして補償要素（２；２２；３２．Ａ、３２．Ｂ；
    ４２Ａ、４２Ｂ；７２；８２）は、少なくとも２つの射
    出光束（ＳＡ１、ＳＡ２；ＳＢ１、ＳＢ２）が互いに平
    行に経過しかつその際射出光束（ＳＡ１、ＳＡ２；ＳＢ
    １、ＳＢ２）が、検出器ユニット（５５）上に達する前
    に、干渉計において実質的に等しい光学的路長を通過す
    ることを特徴とする前記干渉計。
17. 【請求項１７】 その際少なくとも１つの射出光束の
    光路に、ビームスプリッタ構造群からのこの射出光束の
    光学的路程長が調整可能であるように、寸法設定された
    光学的要素が配設されている、請求項１６に記載の干渉
    計。
18. 【請求項１８】 その際光学的要素が、平行平面のプ
    レートとして形成されている、請求項１７に記載の干渉
    計。
19. 【請求項１９】 その際射出光束（ＳＡ１、ＳＡ２）
    の２つが、２つの測定反射鏡（５４Ａ、５４Ｂ）に当た
    り、測定反射鏡は共に１つの構造ユニット（５５）に配
    設されており、構造ユニットは、測定方向（Ｘ）に直線
    的に移動可能でありかつ測定方向（Ｘ）に対して垂直な
    軸線（Ｚ）のまわりに回転可能に配設されている、請求
    項１３に記載のビームスプリッタ構造群（２００）を備
    えた、請求項１６に記載の干渉計。
20. 【請求項２０】 その際両反射鏡（７４；８４）の少
    なくとも１つが、平行平面鏡として形成されている、請
    求項１４に記載のビームスプリッタ構造群（４００、５
    ００）を備えた請求項１６に記載の干渉計。