TWI712773B - 雷射干涉儀定位系統 - Google Patents

Abstract

一種雷射干涉儀定位系統，適用在一定位平台，包含一雷射光源、一分光單元、二干涉模組單元，及二訊號擷取模組單元。該分光單元設置在該定位平台上，且該定位平台為閉迴路控制系統，用以將該雷射光源分成二分別沿一第一方向及一垂直該第一方向的第二方向行進的次光路，並以該分光單元將該雷射光源分成該等次光路的一分光點作為該定位平台的定位零點。該等干涉模組單元分別包括一設置在第一方向的第一干涉模組與一設置在第二方向的第二干涉模組。該訊號擷取模組單元包括一用以接收來自該第一干涉模組的該次光路的第一訊號擷取模組，及一用以接收來自該第二干涉模組的第二次光路的第二訊號擷取模組，將該等訊號擷取模組的訊號用於定位平台閉迴路回授訊號，即可達到定位平台幾何誤差減免的目的。

Description

雷射干涉儀定位系統

本發明是有關於一種定位系統，特別是指一種雷射干涉儀定位系統。

精密定位量測技術為精密機械及半導體產業的基石，因此，定位系統的穩定性與各軸向幾何誤差減免機制的設計遂成為影響系統性能成敗的關鍵。

目前的精密定位量測技術中，一部分的定位系統以光學尺或編碼器為回授訊號，再以雷射干涉儀進行誤差校正補償至控制器，此種定位系統受限於光學尺性能，及整體定位系統的機構的垂直度難以確立。

另一部分的定位系統則直接使用雷射干涉儀作為其定位的回授訊號，再輔以例如阿貝誤差(Abbe' Error)減免機制以減免各項幾何誤差，藉此達到高精度的定位能力。阿貝誤差減免機制目的是使得各量測光軸的延伸線產生共點，並定義此共點為量測與加工的基準點，以將阿貝誤差方程式E _Abbe =L．tan(θ)中的L極小化，進而 減免阿貝誤差的影響。

參閱圖1，當要定位一平台10時，會先在該平台10的兩垂直方向上分別設置平面鏡11、12，再於該平台10外之相對該等平面鏡11、12處的X方向與Y方向上分別設置雷射干涉儀13、14，透過該等雷射干涉儀13、14將光源發射至該等平面鏡11、12進行反射，並讓其虛擬延伸線15、16於該定位平台10上交會於一點O，然而，要使該等虛擬延伸線15、16交會於該點O時，在調整上有一定的難度而容易產生垂直度誤差，因此讓光軸對準的技術門檻相對提高。

因此，本發明的目的，即在提供一種雷射干涉儀定位系統。

於是，本發明雷射干涉儀定位系統，適用在一定位平台，包含一雷射光源、一分光單元、一干涉模組單元，及一訊號擷取模組單元。

該分光單元設置在該定位平台上，用以將該雷射光源分成二分別沿一第一方向及一垂直該第一方向的第二方向行進的次光路。

該干涉模組單元包括一設置在其中一該次光路的光路徑 上的第一干涉模組，用以產生該定位平台在該第一方向的移動量的一干涉訊號。

該訊號擷取模組單元包括一用以接收來自該第一干涉模組的該次光路的第一訊號擷取模組。

本發明的功效在於，藉由分光單元將該雷射光源分成兩道垂直的該次光路，且該分光單元為固定端，不隨著該定位平台移動，以讓該分光單元的分光點是作為定位平台的定位零點，有效減低阿貝誤差，由於該雷射光源經該分光單元分光成的該第一方向的該次光路與該第二方向的該次光路具有高垂直度的特性，將此訊號用於定位平台迴授控制可有效減免垂直度誤差，又因為設置在該第一方向的該次光路與該第二方向的該次光路的干涉模組可互相量測出另一方的垂直度，經由定位平台閉迴路控制，可有效減免直線度誤差。

100:定位平台

2:雷射光源

20:光隔離器

21:次光路

212:第一反射光路

213:第二反射光路

3:分光單元

31:分光件

4:干涉模組單元

424:第二相位延遲片

425:第二參考鏡

426:第二分光鏡

5:訊號擷取模組單元

50:分量光路

51:第一訊號擷取模組

511:第一偏振分光鏡

512:第一光檢測器

513:子光路

41:第一干涉模組

411:第一量測鏡

412:第一環境補償模組

413:第一環境感測器

414:第一相位延遲片

415:第一參考鏡

416:第一分光鏡

42:第二干涉腔模組

421:第二量測鏡

422:第二環境補償模組

423:第二環境感測器

52:第二訊號擷取模組

521:第二偏振分光鏡

522:第二光檢測器

523:子光路

53:分光鏡

54:偏振分光鏡

55:光檢測器

P:定位點

X:第一方向

Y:第二方向

本發明的其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一示意圖，說明現有技術使用雷射干涉儀進行平台定位；圖2是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第一實 施例；圖3是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第二實施例；圖4是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第三實施例；圖5是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第四實施例；圖6是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一訊號擷取模組單元；圖7是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第五實施例；圖8是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第六實施例；圖9是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第七實施例；及圖10是一示意圖，說明本發明雷射干涉儀定位系統的一第八實施例。

在本發明被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容 中，類似的元件是以相同的編號來表示。

參閱圖2，本發明雷射干涉儀定位系統的一第一實施例屬於Fabry-Perot干涉儀架構，適用在一定位平台100，包含一雷射光源2、一光隔離器20、一分光單元3、一干涉模組單元4，及一訊號擷取模組單元5。其中，該定位平台100為一閉迴路控制系統。

具體地說，該分光單元3為非固定地設置在該定位平台100上，用以將該雷射光源2分成二分別沿一第一方向X及一垂直該第一方向X的第二方向Y行進的次光路21，並以該分光單元3將該雷射光源2分成該等次光路21的一分光點作為該定位平台的定位零點P，而將該光隔離器20設置在該雷射光源2與該分光單元3之間，用以降低逆回光對雷射光源2的影響。要說明的是，於該第一實施例中，該分光單元3是以單一個五角分光稜鏡為例作說明，但分光單元3的態樣並沒有特別限制，只要是具有能將光源進行分光的分光元件即可。

該干涉模組單元4包括一設置在該第一方向X上的第一干涉模組41。該第一干涉模組41用以產生該定位平台100在該第一方向X的移動量的一干涉訊號，且該第一干涉模組41具有一沿該次光路21行進方向設置的第一量測鏡411，及一第一環境補償模組412，透過加入該第一環境補償模組412，用以補正該次光路21的波長。其中，該第一環境補償模組412具有一設置在該次光路21一 側的第一環境感測器413，及沿該次光路21行進方向設置的一第一相位延遲片414與一第一參考鏡415。

該訊號擷取模組單元5包括一用以接收來自經該第一干涉模組41的該次光路21(即該干涉訊號)的第一訊號擷取模組51。該第一訊號擷取模組51具有一第一偏振分光鏡511，及二第一光檢測器512，該第一偏振分光鏡511用以將通過該第一參考鏡415的該次光路21分光成二分別沿該第一方向X與該第二方向Y行進的子光路513，用以得到該第一方向X的正交訊號(該等子光路513)，並透過該等第一光檢測器512分別接收該第一方向X與該第二方向Y的子光路513。

詳細地說，透過該第一量測鏡411、該第一參考鏡415，及該第一相位延遲片414用以產生該干涉訊號，再透過該第一訊號擷取模組51接收該干涉訊號後，將擷取結果用作量測或回授控制之用。本發明雷射干涉儀定位系統適用於精密定位工作中，有較佳的性能表現、測量精準，藉由分光單元3將該雷射光源2分成兩道分別由該第一方向X與該第二方向Y行進而相互垂直的該次光路21，減少成本及光源波長修正問題，且可提供垂直的光學系統，降低平台機構軸調整時垂直度誤差所帶來的影響，且讓該分光單元3為固定端，不隨著該定位平台100移動，也就是讓該分光單元3的分光點是作為定位平台的定位零點P，進而有效減低阿貝誤差，而該訊號 擷取模組單元5則能精準量測垂直度並予以補償，有效減免直線度誤差。此外，在該雷射光源2前設置光隔離器20，更能降低逆回光對該雷射光源2的影響。

參閱圖3，本發明雷射干涉儀定位系統的一第二實施例屬於Fabry-Perot干涉儀架構，大致相同該第一實施例，不同處在於，該第二實施例的該干涉模組單元4還包括一第二干涉模組42，該訊號擷取模組單元5還包括一第二訊號擷取模組52。

具體地說，該第二干涉模組42設置在該第二方向Y上，用以供第二方向Y上的該次光路21通過。該第二干涉模組42具有一沿該第二方向Y設置的第二量測鏡421，及一第二環境補償組422，透過加入該第二環境補償模組422，用以補正該次光路21的波長。其中，該第二環境補償組422具有一設置在該次光路21一側的第二環境感測器423，及沿該次光路21行進方向設置的一第二相位延遲片424與一第二參考鏡425。

該第二訊號擷取模組52用以接收來自該第二干涉模組42的該次光路21。該第二訊號擷取模組52具有一第二偏振分光鏡521，及二第二光檢測器522，該第二偏振分光鏡521用以將通過該第二參考鏡425的該次光路21分光成二分別沿該第一方向X與該第二方向Y行進的子光路523，用以得到該第二方向Y的正交訊號(該等子光路523)，並透過該等第二光檢測器522分別接收該第一方向 X與該第二方向Y的子光路523。

詳細地說，該第二實施例可用以量測該第一方向X與該第二方向Y的軸向位移，由於該雷射光源2經該分光單元3分光成的該第一方向X的該次光路21與該第二方向Y的該次光路21具有高垂直度的特性，將此訊號用於定位平台100迴授控制可有效減免垂直度誤差，又因為設置在該第一方向X的該次光路21與該第二方向Y的該次光路22的該第一干涉模組41與該第二干涉模組42可互相量測出另一方的垂直度，經由定位平台100閉迴路控制，可有效減免直線度誤差。

待該定位平台100的定位零點P確定後，往該第一方向X移動時產生的該第二方向Y的分量(直線度)可立即被該第二訊號擷取模組52量測並傳送回該定位平台100經閉迴路控制補償，有效減免直線度誤差。

參閱圖4，本發明雷射干涉儀定位系統的一第三實施例屬於Fabry-Perot干涉儀架構，大致相同該第二實施例，不同處在於，該第三實施例屬於多維度定位系統，因此，該分光單元3、該干涉模組單元4，及該訊號擷取模組單元5的結構不同。

具體地說，該分光單元3包括三個分別沿該第一方向X及該第二方向Y設置在該定位平台100上的該分光件31，該等分光件31共同將該雷射光源2分別分成二沿該第一方向X行進的次光路 21，及二沿該第二方向Y行進的次光路21。詳細地說，於本實施例中，該等分光件31是呈L型的垂直方式排列，使得該雷射光源2入射至位於中間位置的該分光件31在分光至其他另兩個該等分光件31，從而使單一雷射光源2分光成四道該次光路21。

該第三實施例的該干涉模組單元4的該第一干涉模組41與該第二干涉模組42是分別具有二個對應該第一方向X與該第二方向Y設置在該等次光路21行進方向上的第一相位延遲片414、第二相位延遲片424，及第一參考鏡415與第二參考鏡425。詳細地說，該第一干涉模組41的其中一該第一相位延遲片414與其中一第一參考鏡415共同構成該第一環境補償模組412，該第二干涉模組42的其中一該第二相位延遲片424與其中一該第二參考鏡425是共同構成該第二環境補償模組422，使得該第一干涉模組41與該第二干涉模組42分別具有二組的該第一環境補償模組412與二組第二環境補償模組422，而分別對應讓各方向的兩個該次光路21通過。

該第三實施例的該訊號擷取模組單元5的該第一訊號擷取模組51及該第二訊號擷取模組52分別具有多個第一偏振分光鏡511、第二偏振分光鏡521、第一光檢測器512，及第二光檢測器522，該等第一偏振分光鏡511與該等第二偏振分光鏡521分別用以將該等次光路21分成二分別沿該第一方向X與該第二方向Y行進的子光路513、523，該等第一光檢測器512與該等第二光檢測器522 分別接收該第一方向X與該第二方向Y的子光路513、523。詳細地說，於第三實施例中，該第一訊號擷取模組51是以一個第一偏振分光鏡511與兩個第一光檢測器512對應其中一組第一環境補償模組412，該第二訊號擷取模組52的配置亦同而對應該等第二環境補償模組422。

透過該第一訊號擷取模組51與該第二訊號擷取模組52接收到的訊號作為該定位平台100閉迴路回授訊號的輸入，用以作為定位。該第三實施例的架構較該第二實施例複雜，除了能量測該第一方向X與該第二方向Y的軸向位移之外，還能進一步對旋轉角度進行量測。

參閱圖5與圖6，本發明雷射干涉儀定位系統的一第四實施例屬於Fabry-Perot干涉儀架構，大致相同該第一實施例，不同處在於，該第一參考鏡415與該訊號擷取模組單元5。

具體地說，該第四實施例與該第一實施例不同在於，該第一訊號擷取模組51設置在該分光單元3與該第一干涉模組41之間，且該第一參考鏡415為稜鏡，也就是說，該第一參考鏡415是用以反射該次光路21至該第一訊號擷取模組51中。此外，該訊號擷取模組單元5的結構也不同於該第一實施例，如圖6所示，該訊號擷取模組單元5包括一分光鏡53、一與該分光鏡53相鄰而沿相同方向設置的偏振分光鏡54，及三個光檢測器55，該分光鏡53與該偏 振分光鏡54用以將來自該干涉模組單元4的光分光成多個沿該第一方向X與該第二方向Y的分量光路50，其中一該光檢測器55用以接收該分光鏡53產生的該分量光路50，其中另兩該光檢測器55用以接收該偏振分光鏡54產生的該等分量光路50。

參閱圖6與圖7，本發明雷射干涉儀定位系統的一第五實施例屬於Fabry-Perot干涉儀架構，大致相同該第四實施例，不同處在於，該干涉模組單元4還包括一設置在該第二方向Y上的第二干涉模組42，及該訊號擷取模組單元5還包括一第二訊號擷取模組52，用以量測雙軸定位。

具體地說，該第五實施例為該第二實施例的變形態樣，該第二干涉模組42具有一沿該第二方向Y設置的第二量測鏡421，及一第二環境補償組422，該第二環境補償組422具有一設置在該次光路21一側的第二環境感測器423，及沿該次光路21行進方向設置的一第二相位延遲片424與一第二參考鏡425，且該第二參考鏡425是用以反射該次光路21至該第二訊號擷取模組52，其中，該第二訊號擷取模組52的結構與該第四實施例相同(如圖6所示)，並設置在該分光單元3與該第二干涉模組42之間。

參閱圖6與圖8，本發明雷射干涉儀定位系統的一第六實施例屬於Fabry-Perot干涉儀架構，大致相同該第二實施例(如圖4所示)，均屬於多維度定位系統，不同處在於，該第六實施例的第 一參考鏡415與該第二參考鏡425的態樣，及該該訊號擷取模組單元5的結構與設置位置不同。

具體地說，該第六實施例為該第三實施例的變形態樣，於該第六實施例中，該第一參考鏡415與該第二參考鏡425是用以讓該等次光路21反射，與該第二實施例用以讓該等次光路21通過不同；而該訊號擷取模組單元5的該等第一訊號擷取模組51與該等第二訊號擷取模組52則是設置在該定位平台100上，並分別為在在該分光單元3、該第一干涉模組41與該第二干涉模組42之間，且分別用以接收該等第一參考鏡415與該等第二參考鏡425反射的該等次光路21。其中，該等第一訊號擷取模組51與該等第二訊號擷取模組52的結構與該第四實施例相同(如圖6所示)。

參閱圖6與圖9，本發明雷射干涉儀定位系統的一第七實施例屬於Michelson干涉儀架構，該干涉模組單元4包括一第一干涉模組41與一第二干涉模組42。該第一干涉模組41具有一設置在該第一方向X上的第一量測鏡411，及一第一環境補償組412，該第一環境補償組412具有一用以將該第一方向X的該次光路21分光成二分別沿該第一方向X與該第二方向Y行進的子光路513的第一分光鏡416、一對應該第二方向Y上的該子光路513設置的第一參考鏡415，及一設置在該第二方向Y上的該子光路513一側的第一環境感測器413。

該第二干涉模組42具有一設置在該第二方向Y上的第二量測鏡421，及一第二環境補償組422，該第二環境補償組422具有一用以將該第二方向Y的該次光路21分成二分別沿該第一方向X與該第二方向Y行進的子光路523的第二分光鏡426、一對應該第一方向X上的該子光路523設置的第二參考鏡425，及一設置在該第一方向X上的該子光路523一側的第二環境感測器423。

該訊號擷取模組單元5包括一用以接收經該第一分光鏡416往該第二方向Y的子光路513的第一訊號擷取模組51，及一用以接收經該第二分光鏡426往該第一方向X的子光路523的第二訊號擷取模組52。其中，該等第一訊號擷取模組51與該等第二訊號擷取模組52的結構與該第四實施例相同(如圖6所示)。

參閱圖6與圖10，本發明雷射干涉儀定位系統的一第八實施例屬於Michelson干涉儀架構，該干涉模組單元4包括一第一干涉模組41與一第二干涉模組42。該第一干涉模組41具有一設置在該第一方向X上的第一環境補償組412，該第一環境補償組412具有二第一分光鏡416、二第一參考鏡415，及一第一環境感測器413，該等第一分光鏡416相鄰排列用以將該第一方向X的該次光路21分光成多個分別沿該第一方向X與該第二方向Y行進的子光路513，該等第一參考鏡415分別對應該等第一分光鏡416設置而用以將該第一方向X上的該等子光路513反射並形成一第一反射光路 212，該第一環境感測器413設置在該第一方向X上的該子光路513一側。

該第二干涉模組42具有一設置在該第二方向Y上的第二環境補償組422，該第二環境補償模組422具有二第二分光鏡426、二第二參考鏡425，及一第二環境感測器423，該第二分光鏡426相鄰排列用以將該第二方向X的該次光路21分成多個分別沿該第一方向X與該第二方向Y行進的子光路523，該等第二參考鏡425對應該等第二分光鏡426設置而用以將該第二方向Y上的該等子光路523反射並形成一第二反射光路213，該第二環境感測器423設置在該第二方向Y上的該子光路523一側。

該訊號擷取模組單元5包括一用以接收該第一反射光路212的第一訊號擷取模組51，及一用以接收該第二反射光路213的第二訊號擷取模組52。其中，該等第一訊號擷取模組51與該等第二訊號擷取模組52的結構與該第四實施例相同(如圖6所示)。

綜上所述，本發明雷射干涉儀定位系統，藉由分光單元3將該雷射光源2分成兩道分別由該第一方向X與該第二方向Y行進而相互垂直的該次光路21，減少成本及光源波長修正問題，且可提供垂直的光學系統，降低平台機構軸調整時垂直度誤差所帶來的影響，且讓該分光單元3為固定端，不隨著該定位平台100移動，也就是讓該分光單元3的分光點是作為定位平台的定位零點P，進而有 效減低阿貝誤差，而該訊號擷取模組單元5則能精準量測垂直度並予以補償，有效減免直線度誤差。此外，在該雷射光源2前設置光隔離器20，更能降低逆回光對該雷射光源2的影響，透過上述創新結構，達到測量性能佳、測量精準，可減少誤差之優異功效，對於精密機械及半導體產業之應用有相當大的助益，故確實能達成本發明的目的。

惟以上所述者，僅為本發明的實施例而已，當不能以此限定本發明實施的範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋的範圍內。

100:定位平台

2:雷射光源

20:光隔離器

21:次光路

3:分光單元

414:第一相位延遲片

415:第一參考鏡

5:訊號擷取模組單元

51:第一訊號擷取模組

511:第一偏振分光鏡

4:干涉模組單元

41:第一干涉模組

411:第一量測鏡

412:第一環境補償模組

413:第一環境感測器

512:第一光檢測器

513:子光路

P:定位點

X:第一方向

Y:第二方向

Claims (14)

1. 一種雷射干涉儀定位系統，適用在一定位平台，包含：一雷射光源；一分光單元，設置在該定位平台上，用以將該雷射光源分成二分別沿一第一方向及一垂直該第一方向的第二方向行進的次光路；一干涉模組單元，包括一設置在其中一該次光路的光路徑上的第一干涉模組，用以產生該定位平台在該第一方向的移動量的一干涉訊號；及一訊號擷取模組單元，包括一用以接收來自該第一干涉模組的該次光路的第一訊號擷取模組。
2. 如請求項1所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該干涉模組單元還包括一設置在該第二方向上用以供其中另一該次光路通過的第二干涉模組，該訊號擷取模組單元還包括一用以接收來自該第二干涉模組的該次光路的第二訊號擷取模組。
3. 如請求項1所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該第一干涉模組設置在該第一方向上，並具有一沿該次光路行進方向設置的第一量測鏡，及一第一環境補償組，該第一環境補償組具有一設置在該次光路一側的第一環境感測器，及沿該次光路行進方向設置的一第一相位延遲片與一第一參考鏡。
4. 如請求項3所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該第一訊號擷取模組具有一第一偏振分光鏡，及二第一光檢測器， 該第一偏振分光鏡用以將通過該第一參考鏡的該次光路分光成二分別沿該第一方向與該第二方向行進的子光路，該等第一光檢測器分別接收該第一方向與該第二方向的子光路。
5. 如請求項2所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該第二干涉模組具有一沿該第二方向設置的第二量測鏡，及一第二環境補償組，該第二環境補償組具有一設置在該次光路一側的第二環境感測器，及沿該次光路行進方向設置的一第二相位延遲片與一第二參考鏡。
6. 如請求項5所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該第二訊號擷取模組具有一第二偏振分光鏡，及二第二光檢測器，該第二偏振分光鏡用以將通過該第二參考鏡的該次光路分光成二分別沿該第一方向與該第二方向行進的子光路，該等第二光檢測器分別接收該第一方向與該第二方向的子光路。
7. 如請求項1所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該分光單元包括三個分別沿該第一方向及該第二方向設置在該定位平台上的該分光件，該等分光件共同將該雷射光源分別分成二沿該第一方向行進的次光路，及二沿該第二方向行進的次光路，該第一干涉模組設置在該第一方向，該干涉模組單元還包括一設置在該第二方向的第二干涉模組，該第一干涉模組與該第二干涉模組分別具有設置在該第一方向上的第一量測鏡與設置在第二方向上的第二量測鏡、多個對應各方向設置在該等次光路行進方向上的第一 相位延遲片、第二相位延遲片、第一參考鏡與第二參考鏡，及分別設置在該第一方向的其中一該次光路一側的第一環境感測器，與設置在第二方向的其中一該次光路一側的第二環境感測器，該第一訊號擷取模組設置在該第一方向上，該訊號擷取模組單元還包括一設置在該第二方向上的第二訊號擷取模組，該第一訊號擷取模組及該第二訊號擷取模組分別具有多個對應各方向設置的第一偏振分光鏡、第二偏振分光鏡、第一光檢測器，及第二光檢測器，該等第一偏振分光鏡與該等第二偏振分光鏡分別用以將該等次光路分成二分別沿該第一方向與該第二方向行進的子光路，該等第一光檢測器與該等第二光檢測器分別接收該第一方向與該第二方向的子光路。
8. 如請求項1所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該第一訊號擷取模組設置在該分光單元與該第一干涉模組之間，該第一干涉模組設置在該第一方向上，且具有一沿該次光路行進方向設置的第一量測鏡，及一第一環境補償組，該第一環境補償組具有一設置在該次光路一側的第一環境感測器，及沿該次光路行進方向設置的一第一相位延遲片與一第一參考鏡，該第一參考鏡能反射該次光路至該第一訊號擷取模組。
9. 如請求項8所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該干涉模組單元還包括一設置在該第二方向上用以供其中另一該次光路通過的第二干涉模組，該訊號擷取模組單元還包括一設置在該分光單元與該第二干涉模組之間的第二訊號 擷取模組，該第二干涉模組具有一沿該第二方向設置的第二量測鏡，及一第二環境補償組，該第二環境補償組具有一設置在該次光路一側的第二環境感測器，及沿該次光路行進方向設置的一第二相位延遲片與一第二參考鏡，該第二參考鏡能反射該次光路至該第二訊號擷取模組。
10. 如請求項1所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該分光單元包括三個分別沿該第一方向及該第二方向設置在該定位平台上的該分光件，該等分光件共同將該雷射光源分別分成二沿該第一方向行進的次光路，及二沿該第二方向行進的次光路，該第一干涉模組設置在該第一方向，該干涉模組單元還包括一設置在該第二方向的第二干涉模組，該第一干涉模組與該第二干涉模組分別具有設置在第一方向上的第一量測鏡與設置在第二方向上的第二量測鏡、多個對應各方向設置在該等次光路行進方向上的第一相位延遲片、第二相位延遲片、第一參考鏡與第二參考鏡，及分別設置在該第一方向的其中一該次光路一側的第一環境感測器，與設置在第二方向的其中一該次光路一側的第二環境感測器，該訊號擷取模組單元設置在該定位平台上，並包括二分別上用以接收該第一參考鏡反射的該等次光路的第一訊號擷取模組，及二分別用以接收該第二參考鏡反射該等次光路的第二訊號擷取模組。
11. 如請求項1所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該第一干涉模組具有一設置在該第一方向上的第一量測鏡，及一第一環境補償組，該第一環境補償組具有一用以將該第一方 向的該次光路分光成二分別沿該第一方向與該第二方向行進的子光路的第一分光鏡、一對應該第二方向上的該子光路設置的第一參考鏡，及一設置在該第二方向上的該子光路一側的第一環境感測器，該干涉模組單元還包括一第二干涉模組，該第二干涉模組具有一設置在該第二方向上的第二量測鏡，及一第二環境補償組，該第二環境補償組具有一用以將該第二方向的該次光路分成二分別沿該第一方向與該第二方向行進的子光路的第二分光鏡、一對應該第一方向上的該子光路設置的第二參考鏡，及一設置在該第一方向上的該子光路一側的第二環境感測器，該訊號擷取模組單元包括一用以接收經該第一分光鏡往該第二方向的子光路的第一訊號擷取模組，及一用以接收經該第二分光鏡往該第一方向的子光路的第二訊號擷取模組。
12. 如請求項1所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該第一干涉模組具有一設置在該第一方向上的第一環境補償組，該第一環境補償組具有二第一分光鏡、二第一參考鏡，及一第一環境感測器，該等第一分光鏡相鄰排列用以將該第一方向的該次光路分光成多個分別沿該第一方向與該第二方向行進的子光路，該等第一參考鏡分別對應該等第一分光鏡設置而用以將該第一方向上的該等子光路反射並形成一第一反射光路，該第一環境感測器設置在該第一方向上的該子光路一側，該干涉模組單元還包括一第二干涉模組，該第二干涉模組具有一第二環境補償組，該第二環境補償模組具有二第二分光鏡、二第二參考鏡，及一第二環 境感測器，該第二分光鏡相鄰排列用以將該第二方向的該次光路分成多個分別沿該第一方向與該第二方向行進的子光路，該等第二參考鏡對應該等第二分光鏡設置而用以將該第二方向上的該等子光路反射並形成一第二反射光路，該第二環境感測器設置在該第二方向上的該子光路一側，該訊號擷取模組單元包括一用以接收該第一反射光路的第一訊號擷取模組，及一用以接收該第二反射光路的第二訊號擷取模組。
13. 如請求項8至12任一項所述的雷射干涉儀定位系統，其中，該訊號擷取模組單元包括一分光鏡、一與該分光鏡相鄰而沿相同方向設置的偏振分光鏡，及三個光檢測器，該分光鏡與該偏振分光鏡用以將來自該干涉模組單元的光分光成多個沿該第一方向與該第二方向的分量光路，其中一該光檢測器用以接收該分光鏡產生的該分量光路，其中另兩該光檢測器用以接收該偏振分光鏡產生的該等分量光路。
14. 如請求項1至12任一項所述的雷射干涉儀定位系統，還包含一設置在該雷射光源與該分光單元之間的光隔離器。

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