JPS62235506A - 差動平面鏡干渉計システム - Google Patents
差動平面鏡干渉計システムInfo
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- JPS62235506A JPS62235506A JP61301112A JP30111286A JPS62235506A JP S62235506 A JPS62235506 A JP S62235506A JP 61301112 A JP61301112 A JP 61301112A JP 30111286 A JP30111286 A JP 30111286A JP S62235506 A JPS62235506 A JP S62235506A
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- interferometer system
- plane mirror
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- mirror interferometer
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 38
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
- G01B9/02018—Multipass interferometers, e.g. double-pass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02057—Passive reduction of errors by using common path configuration, i.e. reference and object path almost entirely overlapping
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/266—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light by interferometric means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J9/0215—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods by shearing interferometric methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/70—Using polarization in the interferometer
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、２つの平面鏡表面間の光路長変化を測定す
る装置に関する。特に、この発明は、干渉法を使用する
高精度の置換度！ｔｌｌｉ学に有用な光学装置に関する
。
る装置に関する。特に、この発明は、干渉法を使用する
高精度の置換度！ｔｌｌｉ学に有用な光学装置に関する
。
（ロ）従来の技術
干渉計は、膨張計測定法、材料の安定性の研究、機械工
具工業、そして半導体製造工業において、非常に高い精
度の置換測定を行うための基本的な装置である。現在の
最新式の干渉計の凸型の一つのタイプは、２つの外部ミ
ラー間の光路長の変化を測定する差動平面鏡干渉計であ
り、Ｒ，Ｒ，ＢａｌｄｗｉｎとＧ、 Ｊ、 ３ｉｄ
ｄａ１１． “Ａ ｄｏｕｂｌｅ ｐａｓｓ ａｔ
ｔａｃｈｍｅｎｔ ｆｏｒ ｔｈｅ １ｉｎｅａ
ｒ ａｎｄ ｐｌａｎｅ １ｎｔｅｒｆｅｒ。
具工業、そして半導体製造工業において、非常に高い精
度の置換測定を行うための基本的な装置である。現在の
最新式の干渉計の凸型の一つのタイプは、２つの外部ミ
ラー間の光路長の変化を測定する差動平面鏡干渉計であ
り、Ｒ，Ｒ，ＢａｌｄｗｉｎとＧ、 Ｊ、 ３ｉｄ
ｄａ１１． “Ａ ｄｏｕｂｌｅ ｐａｓｓ ａｔ
ｔａｃｈｍｅｎｔ ｆｏｒ ｔｈｅ １ｉｎｅａ
ｒ ａｎｄ ｐｌａｎｅ １ｎｔｅｒｆｅｒ。
ｍｅｔｅｒ ” 、 Ｐｒｏｃ、Ｓ Ｐ Ｉ Ｅ
、ＶＯｌ、４８０．Ｄ、７８−８３（１９８４年５月
）に説明されている。従来の差動平面鏡干渉計は、固定
平面鏡と可動平面鏡とからなり、干渉計空洞と補助光学
要素（逆反射装置、ウニイブプレート、ミラー、ビーム
スプリッタ）を形成する。このタイプの干渉計は、使用
される光の４分の１波の固有の光学的分解能を有し、そ
して、改良された精度のために一層増大する要求に対し
て必要とされる特に高い安定性を備えている。
、ＶＯｌ、４８０．Ｄ、７８−８３（１９８４年５月
）に説明されている。従来の差動平面鏡干渉計は、固定
平面鏡と可動平面鏡とからなり、干渉計空洞と補助光学
要素（逆反射装置、ウニイブプレート、ミラー、ビーム
スプリッタ）を形成する。このタイプの干渉計は、使用
される光の４分の１波の固有の光学的分解能を有し、そ
して、改良された精度のために一層増大する要求に対し
て必要とされる特に高い安定性を備えている。
・従って、それは、平面鏡のどのような傾きや補助光学
要素の動きに対しても、はとんど影響を受けな、い。
要素の動きに対しても、はとんど影響を受けな、い。
しかしながら、従来の差動平面鏡干渉計は、過度に複雑
化され、多くの補助光は要素を必要とし、それによって
測定光を多くの反射に付している。
化され、多くの補助光は要素を必要とし、それによって
測定光を多くの反射に付している。
これらの欠点により、光学的ビーム力の低減と偏光の漏
洩の結果として、測定信号における信号−雑音比をさら
に低下させるため達成しつる精度が最終的に制限される
。
洩の結果として、測定信号における信号−雑音比をさら
に低下させるため達成しつる精度が最終的に制限される
。
この発明は、従来の差動平面鏡の基本的な平面鏡干渉計
のキャビティを保持するが、この発明におけるシャープ
レート（ｓｈｅａｒ ｐｌａｔｅ ）の使用は、光学的
要素の数を減少させるばかりでなく、反射光の数を、約
５０％まで減少させる。この発明の改良は、従って、こ
のタイプの干渉計について、達成可能な精度をざらに向
上させる。
のキャビティを保持するが、この発明におけるシャープ
レート（ｓｈｅａｒ ｐｌａｔｅ ）の使用は、光学的
要素の数を減少させるばかりでなく、反射光の数を、約
５０％まで減少させる。この発明の改良は、従って、こ
のタイプの干渉計について、達成可能な精度をざらに向
上させる。
（ハ）発明の概要
この発明によれば、長さの変化や光学的長さへの変化の
いずれをも正確に測定することが可能な差動平面鏡干渉
計システムが提供され、それは、（１）２つの安定化さ
れた光学的周波数であって直交するように偏光された２
つの異なる周波数を有し、しかもその２つの周波数間の
周波数差がｆＯに等しい入力ビーム源、（２）前記ビー
ム源に備えられ、周波数安定化電気発振器又は電気増幅
器付充電ミキサーであって、前記２つの安定化光学的周
波数の間の周波数差ｒＯに対応する電気的参照信号を供
給する手段、（３）最も好ましくは、反射防止領域と偏
光コーティングを有する傾斜したシャープレートである
が、前記入力ビームを２つに分離され直交するように偏
光された平行なビームに変換する手段、（４）最も好ま
しくは、前記の分離されたビームの一方の中に配置され
た半波遅延プレートであるが、前記の２つに分離され直
交するように偏光された平行なビームを、２つに分離さ
れ同方向に偏光された平行なビームに変換する手段、（
５）最も好ましくは、偏光ビームスプリッタと４分の１
波遅延プレートと逆反射装置であるが、前記分離され同
方向に偏光された平行ビームを２つの平面鏡の１つに２
度反射させて、同方向の偏光を有する２つの平行な出力
ビームを発生する手段、（６）最も好ましくは前記分離
された平行出力ビームの一方の中に配置された半波遅延
プレートであるが、前記２つに分離され同方向に偏光さ
れた平行出力ビームを、２つに分離され直交するように
偏光された平行出力ビームに変換する手段、（７）最も
好ましくは、反射防止領域と偏光コーティングを備えた
前述の傾斜プレートであるが、２つに分離され直交する
ように偏光された平行な出力ビームを、周波数成分間の
位相差が２つの平面鏡間の光路長に直接比例する単一の
出力ビームに変換する手段、（８）最も好ましくは、偏
光子であるが、前記単一出力ビームの前記直交成分を混
合する手段、（９）最も好ましくは、充電検出器である
が、電気測定信号を発生する手段、さらに、（１０）最
も好ましくは、フェイズメータ／アキュームレータであ
るが、前記電気参照信号と前記電気測定信号との位相差
、つまり、２つの平面鏡間の光路長変化に比例する位相
差を検出する手段からなるものである。
いずれをも正確に測定することが可能な差動平面鏡干渉
計システムが提供され、それは、（１）２つの安定化さ
れた光学的周波数であって直交するように偏光された２
つの異なる周波数を有し、しかもその２つの周波数間の
周波数差がｆＯに等しい入力ビーム源、（２）前記ビー
ム源に備えられ、周波数安定化電気発振器又は電気増幅
器付充電ミキサーであって、前記２つの安定化光学的周
波数の間の周波数差ｒＯに対応する電気的参照信号を供
給する手段、（３）最も好ましくは、反射防止領域と偏
光コーティングを有する傾斜したシャープレートである
が、前記入力ビームを２つに分離され直交するように偏
光された平行なビームに変換する手段、（４）最も好ま
しくは、前記の分離されたビームの一方の中に配置され
た半波遅延プレートであるが、前記の２つに分離され直
交するように偏光された平行なビームを、２つに分離さ
れ同方向に偏光された平行なビームに変換する手段、（
５）最も好ましくは、偏光ビームスプリッタと４分の１
波遅延プレートと逆反射装置であるが、前記分離され同
方向に偏光された平行ビームを２つの平面鏡の１つに２
度反射させて、同方向の偏光を有する２つの平行な出力
ビームを発生する手段、（６）最も好ましくは前記分離
された平行出力ビームの一方の中に配置された半波遅延
プレートであるが、前記２つに分離され同方向に偏光さ
れた平行出力ビームを、２つに分離され直交するように
偏光された平行出力ビームに変換する手段、（７）最も
好ましくは、反射防止領域と偏光コーティングを備えた
前述の傾斜プレートであるが、２つに分離され直交する
ように偏光された平行な出力ビームを、周波数成分間の
位相差が２つの平面鏡間の光路長に直接比例する単一の
出力ビームに変換する手段、（８）最も好ましくは、偏
光子であるが、前記単一出力ビームの前記直交成分を混
合する手段、（９）最も好ましくは、充電検出器である
が、電気測定信号を発生する手段、さらに、（１０）最
も好ましくは、フェイズメータ／アキュームレータであ
るが、前記電気参照信号と前記電気測定信号との位相差
、つまり、２つの平面鏡間の光路長変化に比例する位相
差を検出する手段からなるものである。
（ニ）実施例
第１図は、すべての光学的ビームが単一平面にある場合
のこの発明の一実施例態様を構成図の形で示している。
のこの発明の一実施例態様を構成図の形で示している。
その装置は広いレンジの放射源に対して適用されるが、
光学的測定システムに関する実施例として次に説明する
。
光学的測定システムに関する実施例として次に説明する
。
光源１０は、レーザを使用することが非常に好ましいが
、点と矢印によって示され直交するように偏光された２
つの安定化周波数成分からなる入力ビーム１２を放射す
る（たとえば、１９６９年１月２６日に発行された３ａ
ｇｌｅｙ他の米国特許第３，４５８．２５９号や、”
Ａ ｐｐａｒａｔｕｓ ｔｏ Ｔ ｒａｎｓｆｏｒｍ
ａｓｉｎｏｌｅ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ、 Ｌ １ｎｅａ
ｒｌｙ Ｐａ１ａｒｉｚｅｄＬａＳｅｒ Ｂｅａｍ
Ｉ ｎｔｏ ａ Ｂｅａｌｌ ｗｉｔｈ Ｔｗ。
、点と矢印によって示され直交するように偏光された２
つの安定化周波数成分からなる入力ビーム１２を放射す
る（たとえば、１９６９年１月２６日に発行された３ａ
ｇｌｅｙ他の米国特許第３，４５８．２５９号や、”
Ａ ｐｐａｒａｔｕｓ ｔｏ Ｔ ｒａｎｓｆｏｒｍ
ａｓｉｎｏｌｅ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ、 Ｌ １ｎｅａ
ｒｌｙ Ｐａ１ａｒｉｚｅｄＬａＳｅｒ Ｂｅａｍ
Ｉ ｎｔｏ ａ Ｂｅａｌｌ ｗｉｔｈ Ｔｗ。
０ｒｔｈｏａｏｎａｌｌｙＰｏｌａｒｉｚｅｄ Ｆｒ
ｅｑｕｅｎｃｉｅｓ”との名称で１９８５年３月１２日
に出願された共通所有で出願中の米国特許出願筒７１０
，８５９号、ＨｅｔｅｒＯｄＶｎｅ Ｉ ｎｔｅｒｒｅ
ｒｏｍｅｔｅｒ ｓｙｓｔｅｍ”との名称で１９８５年
３月１２日に出願された第７１０，９４７号、そして、
“Ａ Ｉ）Ｉ）ａｒａｔｔｌｓ ｔｏ Ｔ ｒａｎｓｆ
ｏｒｌｌ ａ３ ｉｎｇｌｅ Ｆ ｒｅＱｕ１３ｎｃｙ
、 Ｌ １ｎｅａｒｌｙ ｐｏｌａｒｉｚｅｄｌａｓｅ
ｒ Ｂｅａｍｗｉｔｈ Ｔｗｏ Ｑｒｔｈｏｇｏ
ｎａｌｌｙＰ ｏｌａｒｉｚｅｄ Ｆ ｒｅｑｕｅｎ
ｃｉｅｓ”との名称で１９８５年３月１２日に出願され
た第７１０，９２７号を参照。なお、これらのすべては
、その全体の内容をここに参考として入れる）。光源１
０は、２つの安定化周波数間の周波数の差に対応する電
気参照信号を供給する。
ｅｑｕｅｎｃｉｅｓ”との名称で１９８５年３月１２日
に出願された共通所有で出願中の米国特許出願筒７１０
，８５９号、ＨｅｔｅｒＯｄＶｎｅ Ｉ ｎｔｅｒｒｅ
ｒｏｍｅｔｅｒ ｓｙｓｔｅｍ”との名称で１９８５年
３月１２日に出願された第７１０，９４７号、そして、
“Ａ Ｉ）Ｉ）ａｒａｔｔｌｓ ｔｏ Ｔ ｒａｎｓｆ
ｏｒｌｌ ａ３ ｉｎｇｌｅ Ｆ ｒｅＱｕ１３ｎｃｙ
、 Ｌ １ｎｅａｒｌｙ ｐｏｌａｒｉｚｅｄｌａｓｅ
ｒ Ｂｅａｍｗｉｔｈ Ｔｗｏ Ｑｒｔｈｏｇｏ
ｎａｌｌｙＰ ｏｌａｒｉｚｅｄ Ｆ ｒｅｑｕｅｎ
ｃｉｅｓ”との名称で１９８５年３月１２日に出願され
た第７１０，９２７号を参照。なお、これらのすべては
、その全体の内容をここに参考として入れる）。光源１
０は、２つの安定化周波数間の周波数の差に対応する電
気参照信号を供給する。
ビーム１２は、互いに平行な光学的平面１７と１８を有
する傾斜ガラス基板であるシャープレート１６の上に入
射する。シャープレート１６の機能は、従来の偏光技術
を使用して２つの周波数成分を空間的に分離することで
ある。ビーム１２は、表面１７を通過して、ビーム１２
と同じ偏光をもつビーム１３になる。表面１７は、ビー
ム１２が通過する領域全体に反射防止コーティング２１
Ａを有する。表面１８の偏光コーティング２３Ａは、一
方の偏光された周波数成分がビーム３０として伝導され
、他方の直角方向に変更された周波数成分がビーム１４
として反射されるように、ビーム１３を分配する。ビー
ム１４は、すべて表面１７上の反射コーティング２５Ａ
から反射されてビーム１５となる。ビーム１５は表面１
８を通過して、ビーム１５と同じ偏光を有するビーム３
１になる。
する傾斜ガラス基板であるシャープレート１６の上に入
射する。シャープレート１６の機能は、従来の偏光技術
を使用して２つの周波数成分を空間的に分離することで
ある。ビーム１２は、表面１７を通過して、ビーム１２
と同じ偏光をもつビーム１３になる。表面１７は、ビー
ム１２が通過する領域全体に反射防止コーティング２１
Ａを有する。表面１８の偏光コーティング２３Ａは、一
方の偏光された周波数成分がビーム３０として伝導され
、他方の直角方向に変更された周波数成分がビーム１４
として反射されるように、ビーム１３を分配する。ビー
ム１４は、すべて表面１７上の反射コーティング２５Ａ
から反射されてビーム１５となる。ビーム１５は表面１
８を通過して、ビーム１５と同じ偏光を有するビーム３
１になる。
表面１８は、ビーム１５が通過する領域全体に反射防止
コーティング２７Ａを有する。
コーティング２７Ａを有する。
ビーム３１は、９０１までビーム３１の直線偏光を回転
させる半波遅延プレート２９Ａを通過し、結果として生
ずるビーム３３はビーム３０と同じ偏光（異なる周波数
のま）であるが）を有する。
させる半波遅延プレート２９Ａを通過し、結果として生
ずるビーム３３はビーム３０と同じ偏光（異なる周波数
のま）であるが）を有する。
ビーム３０と３３は、偏光コーティング４２を備えた偏
光ビームスプリッタ４０に入射し、そして、各々ビーム
３４と３５として伝導される。ビーム３４と３５は４分
の１波遅延プレート４４を通過し、各々、円偏光ビーム
５０と５１に変換される。
光ビームスプリッタ４０に入射し、そして、各々ビーム
３４と３５として伝導される。ビーム３４と３５は４分
の１波遅延プレート４４を通過し、各々、円偏光ビーム
５０と５１に変換される。
相対的な位置が測定されつつあるステージに添加された
可動ミラー７０からビーム５０が反射されてビーム５０
Ａになる間に、固定参照ミラー７１からビーム５１が反
射されてビーム５１Ａになる。
可動ミラー７０からビーム５０が反射されてビーム５０
Ａになる間に、固定参照ミラー７１からビーム５１が反
射されてビーム５１Ａになる。
ビーム５０Ａと５１Ａは４分の１波遅延プレート４４を
逆に通過して、当初の入射ビーム３４と３５に対して直
交するように偏光された直線偏光ビームに逆変換される
。ビーム５０Ａと５１Ａは偏光コーティング４２によっ
て反射されビーム５２と５３になる。ビーム５２と５３
は、逆反射器４５に反射されてビーム５４と５５になる
。ビーム５４と５５は偏光コーティング４２によって反
射されビーム５６と５７になる。ビーム５６と５７は４
分の１波遅延プレート４４を通過して、円偏光ビーム５
８と５９に変換される。
逆に通過して、当初の入射ビーム３４と３５に対して直
交するように偏光された直線偏光ビームに逆変換される
。ビーム５０Ａと５１Ａは偏光コーティング４２によっ
て反射されビーム５２と５３になる。ビーム５２と５３
は、逆反射器４５に反射されてビーム５４と５５になる
。ビーム５４と５５は偏光コーティング４２によって反
射されビーム５６と５７になる。ビーム５６と５７は４
分の１波遅延プレート４４を通過して、円偏光ビーム５
８と５９に変換される。
ビーム５８が可動ミラー７０から反射されてビーム５８
Ａになる間に、ビーム５９は固定参照ミラー７１から反
射されビーム５９Ａになる。ビーム５８Ａと５９Ａは４
分の１波遅延プレート４４を逆に通過し、当初の入射ビ
ーム３４と３５と同方向に偏光された直線偏光ビームに
逆変換される。
Ａになる間に、ビーム５９は固定参照ミラー７１から反
射されビーム５９Ａになる。ビーム５８Ａと５９Ａは４
分の１波遅延プレート４４を逆に通過し、当初の入射ビ
ーム３４と３５と同方向に偏光された直線偏光ビームに
逆変換される。
ビーム５８Ａと５９Ａは偏光コーティング４２によって
伝導され、ビーム６ｏおよび６３として偏光ビームスプ
リッタ４０から出て行く。ビーム６０と６３は、逆反ｇ
Ｆｌ器４５の固有の光学的な特性によって互に平行とな
り、ミラー７０と７１の間に存在するかも知れないいか
なる傾きにも影響されない。ビーム６０は９０′″まで
ビーム６０の直線偏光を回転させる半波遅延プレート２
９Ｂを通過し、結果として生ずるビーム６２はビーム６
３に直交する直ａＶ；Ｓ光を有する。
伝導され、ビーム６ｏおよび６３として偏光ビームスプ
リッタ４０から出て行く。ビーム６０と６３は、逆反ｇ
Ｆｌ器４５の固有の光学的な特性によって互に平行とな
り、ミラー７０と７１の間に存在するかも知れないいか
なる傾きにも影響されない。ビーム６０は９０′″まで
ビーム６０の直線偏光を回転させる半波遅延プレート２
９Ｂを通過し、結果として生ずるビーム６２はビーム６
３に直交する直ａＶ；Ｓ光を有する。
ビーム６２は表面１８を通過して、ビーム６２と同方向
の偏光を有するビーム６４になる。表面１８は、ビーム
６２が通過する領域全体に反射防止コーティング２７Ｂ
を有する。ビーム６４はすべて反射コーティング２５Ｂ
から反射されてビーム６５になる。表面１８は、ビーム
６４が交差する領域全体に反射コーティング２５Ｂを有
する。
の偏光を有するビーム６４になる。表面１８は、ビーム
６２が通過する領域全体に反射防止コーティング２７Ｂ
を有する。ビーム６４はすべて反射コーティング２５Ｂ
から反射されてビーム６５になる。表面１８は、ビーム
６４が交差する領域全体に反射コーティング２５Ｂを有
する。
ビーム６５と６３は偏光コーティング２３Ｂによって再
結合され、ビーム６６を形成する。表面１８は、ビーム
６５と６３が交差する領域全体に偏光コーティング２３
Ｂを有する。ビーム６６は表面１７を通過してビーム８
０になる。表面１７はビーム６６が通過する領域全体に
反射防止コーティング２１Ｂを有する。
結合され、ビーム６６を形成する。表面１８は、ビーム
６５と６３が交差する領域全体に偏光コーティング２３
Ｂを有する。ビーム６６は表面１７を通過してビーム８
０になる。表面１７はビーム６６が通過する領域全体に
反射防止コーティング２１Ｂを有する。
ビーム８０は、入力ビーム１２のように、直交するよう
に偏光された２つの周波数成分を有する。
に偏光された２つの周波数成分を有する。
ｎがミラー７０と７１間の媒体の屈曲率で、Ωがミラー
７０と７１の間の距離である場合に、各周波数成分は、
ミラー７０と７１との間の光路長ｎｇを省く同一の光路
長を（空気とガラスを介して）正確に通過する。この距
離Ωに対応する光路長は、ビーム８０の２つの周波数成
分の位相差に帰着する。ミラー７０の動きは、この位相
差を変化させる。この位相の変化は、ｎが一定の時には
ミラー７０によって動かされる距１１１Ｌに直接比例す
るので、各偏光成分に対して４５６の傾斜を有しビーム
８０の中の２つの直交する偏光周波数成分を混合してビ
ーム８２を生ずる偏光子８１に、ビーム８０を通過させ
ることによって測定される。同様に、ρが固定されｎが
変化する場合には、位相変化はｎの変化に直接比例する
。２つの周波数成分間の干渉は、ビーム１２の２成分間
の差の周波数に等しい周波数を有する正弦波状の強度変
化として光学検出器８３に検出される。正弦波状電気出
力８５と正弦波状電気参照信号１１は、例えば、前述の
共通所有の出願中の米国特許出願筒７１０，９２８号に
見られるように、ミラー７０と７１の間の光路長におけ
る変化に直接比例する出力９２を供給するフェイズメー
タ／アキュームレータ９０によって測定される。他の光
学的要素における変化、つまり構造的に又は熱的に引起
こされるような変化は、両方の周波数成分に等しく作用
し、従って、測定される位相変化９２には全く影響しな
いので、この光学的な配置は、測定誤差に対して非常に
影響を受けにくい。ざらに、空気の屈折率の変化のよう
な環境の影響は、ミラー７０に接近してミラー７１を設
置し２つの周波数成分の間の光路長差を縮小することに
より最小にすることができる。。
７０と７１の間の距離である場合に、各周波数成分は、
ミラー７０と７１との間の光路長ｎｇを省く同一の光路
長を（空気とガラスを介して）正確に通過する。この距
離Ωに対応する光路長は、ビーム８０の２つの周波数成
分の位相差に帰着する。ミラー７０の動きは、この位相
差を変化させる。この位相の変化は、ｎが一定の時には
ミラー７０によって動かされる距１１１Ｌに直接比例す
るので、各偏光成分に対して４５６の傾斜を有しビーム
８０の中の２つの直交する偏光周波数成分を混合してビ
ーム８２を生ずる偏光子８１に、ビーム８０を通過させ
ることによって測定される。同様に、ρが固定されｎが
変化する場合には、位相変化はｎの変化に直接比例する
。２つの周波数成分間の干渉は、ビーム１２の２成分間
の差の周波数に等しい周波数を有する正弦波状の強度変
化として光学検出器８３に検出される。正弦波状電気出
力８５と正弦波状電気参照信号１１は、例えば、前述の
共通所有の出願中の米国特許出願筒７１０，９２８号に
見られるように、ミラー７０と７１の間の光路長におけ
る変化に直接比例する出力９２を供給するフェイズメー
タ／アキュームレータ９０によって測定される。他の光
学的要素における変化、つまり構造的に又は熱的に引起
こされるような変化は、両方の周波数成分に等しく作用
し、従って、測定される位相変化９２には全く影響しな
いので、この光学的な配置は、測定誤差に対して非常に
影響を受けにくい。ざらに、空気の屈折率の変化のよう
な環境の影響は、ミラー７０に接近してミラー７１を設
置し２つの周波数成分の間の光路長差を縮小することに
より最小にすることができる。。
半波遅延プレート２９Ａと２９Ｂは、ビーム６３が変化
を受けずに通過できる一つの穴を備えた単体要素とする
ことが可能であるということに留意すべきである。
を受けずに通過できる一つの穴を備えた単体要素とする
ことが可能であるということに留意すべきである。
第２図は、光学ビームが単一平面にない場合のこの発明
の第２の実施態様を構成図の形で示している。この配置
は、さらにコンパクトな光学システムを可能にする。こ
の図の説明は、第１図と同等であり、対応させて番号が
付けられている。わずかの違いであるが、第１図におけ
るコーティング２１Ａと２１８．２３Ａと２３Ｂ、２５
Ａと２５８、および２７Ａと２７８が、各々コーティン
グ２１．２３．２５および２７になり、第１図の半波遅
延プレート２９Ａと２９Ｂが単一の半波遅延プレート２
９になっている。
の第２の実施態様を構成図の形で示している。この配置
は、さらにコンパクトな光学システムを可能にする。こ
の図の説明は、第１図と同等であり、対応させて番号が
付けられている。わずかの違いであるが、第１図におけ
るコーティング２１Ａと２１８．２３Ａと２３Ｂ、２５
Ａと２５８、および２７Ａと２７８が、各々コーティン
グ２１．２３．２５および２７になり、第１図の半波遅
延プレート２９Ａと２９Ｂが単一の半波遅延プレート２
９になっている。
このように、第２図において、光Ｍ１０は、前述のよう
にレーザを使用することが非常に好ましいが、２本の矢
印によって示され直交するように偏光された２つの安定
化周波数成分からなる入力ビーム１２を放射する。光源
１０は、その２つの周波数成分間の周波数の差異に再び
対応する電気参照信号１１をも供給する。ビーム１２は
、互いに平行な光学的平面１７と１８を備えた傾斜ガラ
ス基板であるシャープレート１６に入射する。シャープ
レート１６の機能は、従来の偏光技術を用いて２つの周
波数成分を空間的に分離することである。第２図の実施
態様において、このビーム１２は、反射防止コーティン
グ２１と２７、偏光コーティング２３そして反射コーテ
ィング２５の補助手段を備えたシャープレート１６によ
って分割されて、垂直偏光ビーム３０と水平偏光ビーム
３１とになる。ビーム３１は、９０６までビーム３１の
直線偏光を回転させる単一の半波遅延プレート２９を通
過し、その結果生ずるビーム３３はビーム３０と同方向
の偏光（興なる周波数であるが）を有する。ビーム３０
と３３は偏光コーティング４２を備えた偏光ビームスプ
リッタ４０に入射し、各々ビーム３４と３５として伝導
される。ビーム３４と３５は４分の１波遅延プレート４
４を通過し、円偏光ビーム５０と５１に各々変換される
。
にレーザを使用することが非常に好ましいが、２本の矢
印によって示され直交するように偏光された２つの安定
化周波数成分からなる入力ビーム１２を放射する。光源
１０は、その２つの周波数成分間の周波数の差異に再び
対応する電気参照信号１１をも供給する。ビーム１２は
、互いに平行な光学的平面１７と１８を備えた傾斜ガラ
ス基板であるシャープレート１６に入射する。シャープ
レート１６の機能は、従来の偏光技術を用いて２つの周
波数成分を空間的に分離することである。第２図の実施
態様において、このビーム１２は、反射防止コーティン
グ２１と２７、偏光コーティング２３そして反射コーテ
ィング２５の補助手段を備えたシャープレート１６によ
って分割されて、垂直偏光ビーム３０と水平偏光ビーム
３１とになる。ビーム３１は、９０６までビーム３１の
直線偏光を回転させる単一の半波遅延プレート２９を通
過し、その結果生ずるビーム３３はビーム３０と同方向
の偏光（興なる周波数であるが）を有する。ビーム３０
と３３は偏光コーティング４２を備えた偏光ビームスプ
リッタ４０に入射し、各々ビーム３４と３５として伝導
される。ビーム３４と３５は４分の１波遅延プレート４
４を通過し、円偏光ビーム５０と５１に各々変換される
。
相対的位置が測定されつつあるステージに添付された可
動ミラー７０からビーム５０が反射されてビーム５０Ａ
になる間に、固定参照ミラー７１からビーム５１が反射
されビーム５１Ａになる。ビーム５０Ａと５１Ａは４分
の１波遅延プレート４４を逆に通過して、当初の入射ビ
ーム３４と３５に対して直交するように偏光された直線
偏光ビームに逆変換される。ビーム５０Ａと５１Ａは偏
光コーティング４２によって反射され、ビーム５２と５
３になる。ビーム５２と５３は逆反射器４５によって反
射され、ビーム５４と５５になる。ビーム５４と５５は
偏光コーティング４２によって反射され、ビーム５６と
５７になる。ビーム５６と５７は４分の１波遅延プレー
ト４４を通過して、円偏光ビーム５８と５９に変換され
る。ビーム５゛８が可動ミラー７０から反射されてビー
ム５８Ａになる間に、ビーム５９は固定参照ミラー７１
から反射されてビーム５９Ａになる。ビーム５８Ａと５
９Ａは４分の１波遅延プレート４４を逆に通過して、当
初の入射ビーム３４と３５と同方向に偏光された直線偏
光ビームに逆変換される。ビーム５８Ａと５９Ａは偏光
コーティング４２によって伝導され、ビーム６０と６３
として偏光ビームスプリッタ４０から出て行く。ビーム
６０と６３は、逆反射器４５の固有の光学的特性によっ
て互に平行となるので、ミラー７０と７１の間に存在す
るかも知れないいかなる傾竺にも影響されない・ビーム
６０は、９０″だけビーム６０の直線偏光を回転させる
単一の半波遅延プレート２９を通過し、その結果として
生ずるビーム６２は、ビーム６３に直交する直線偏光を
有する。ビーム６２と６３は、反射防止コーティング２
１と２７、偏光コーティング２３、および反射コーティ
ング２５を備えたシャープレート１６によって結合され
、ビーム８０になる。
動ミラー７０からビーム５０が反射されてビーム５０Ａ
になる間に、固定参照ミラー７１からビーム５１が反射
されビーム５１Ａになる。ビーム５０Ａと５１Ａは４分
の１波遅延プレート４４を逆に通過して、当初の入射ビ
ーム３４と３５に対して直交するように偏光された直線
偏光ビームに逆変換される。ビーム５０Ａと５１Ａは偏
光コーティング４２によって反射され、ビーム５２と５
３になる。ビーム５２と５３は逆反射器４５によって反
射され、ビーム５４と５５になる。ビーム５４と５５は
偏光コーティング４２によって反射され、ビーム５６と
５７になる。ビーム５６と５７は４分の１波遅延プレー
ト４４を通過して、円偏光ビーム５８と５９に変換され
る。ビーム５゛８が可動ミラー７０から反射されてビー
ム５８Ａになる間に、ビーム５９は固定参照ミラー７１
から反射されてビーム５９Ａになる。ビーム５８Ａと５
９Ａは４分の１波遅延プレート４４を逆に通過して、当
初の入射ビーム３４と３５と同方向に偏光された直線偏
光ビームに逆変換される。ビーム５８Ａと５９Ａは偏光
コーティング４２によって伝導され、ビーム６０と６３
として偏光ビームスプリッタ４０から出て行く。ビーム
６０と６３は、逆反射器４５の固有の光学的特性によっ
て互に平行となるので、ミラー７０と７１の間に存在す
るかも知れないいかなる傾竺にも影響されない・ビーム
６０は、９０″だけビーム６０の直線偏光を回転させる
単一の半波遅延プレート２９を通過し、その結果として
生ずるビーム６２は、ビーム６３に直交する直線偏光を
有する。ビーム６２と６３は、反射防止コーティング２
１と２７、偏光コーティング２３、および反射コーティ
ング２５を備えたシャープレート１６によって結合され
、ビーム８０になる。
第２図の実ｊｉ！！様において、再びビーム８０は、入
力ビーム１２のように、直交するように偏光された２つ
の周波数成分を有する。第１図の実施態様と全く同様に
、ｎがミラー７０と７１間の媒体の屈折率で、ｇがミラ
ー７０と７１間の距離とするとき、各周波数成分は、ミ
ラー７０と７１間の光路ｎＱを省いた同一光路長を（空
気とガラスを介して）正確に通過する。この距離ｇに対
応する光路長は、ビーム８０の２つの周波数成分間の位
相差に帰着する。ミラー７０の動作は、この位相差を変
化させる。この位相変化は、ｎが一定の時にはミラー７
０によって変化する距離りに直接比例するので、６＋ｃ
光成分に対して４５６の傾きをもちビーム８０の２つの
直交した偏光周波数成分を混合してビーム８２を生ずる
偏光子８１に、ビーム８０を通過させることによって測
定される。
力ビーム１２のように、直交するように偏光された２つ
の周波数成分を有する。第１図の実施態様と全く同様に
、ｎがミラー７０と７１間の媒体の屈折率で、ｇがミラ
ー７０と７１間の距離とするとき、各周波数成分は、ミ
ラー７０と７１間の光路ｎＱを省いた同一光路長を（空
気とガラスを介して）正確に通過する。この距離ｇに対
応する光路長は、ビーム８０の２つの周波数成分間の位
相差に帰着する。ミラー７０の動作は、この位相差を変
化させる。この位相変化は、ｎが一定の時にはミラー７
０によって変化する距離りに直接比例するので、６＋ｃ
光成分に対して４５６の傾きをもちビーム８０の２つの
直交した偏光周波数成分を混合してビーム８２を生ずる
偏光子８１に、ビーム８０を通過させることによって測
定される。
同様に、（Ｉｓ固定されｎが変化する場合には、位相変
化はｎの変化に直接比例する。第１図の実施態様と全く
同様に、２つの周波数成分間の干渉は、ビーム１２の２
つの成分間の差の周波数に等しい周波数をもつ正弦波状
の強度変化として、光検出器８３によって検出される。
化はｎの変化に直接比例する。第１図の実施態様と全く
同様に、２つの周波数成分間の干渉は、ビーム１２の２
つの成分間の差の周波数に等しい周波数をもつ正弦波状
の強度変化として、光検出器８３によって検出される。
正弦波状電気出力８５と正弦波状電気参照信号１１間の
位相の変化は、第１図の実施態様ですでに述べたように
、ミラー７０と７１間の光路長ｎＱの変化に直接比例す
る出力９２を供給するフェイズメータ／アキュームレー
タ９０によって測定される。このように、第１図および
第２図の両方の実ａｍ様は、構造的に、また熱的に引起
こされるような他の光学的要素の変化が両方の周波数成
分に同じように作用し、従って、測定される位相変化９
２に全く影響を与えることがないので、測定誤差に対し
て影響されることが非常に少ない光学的配置を採用して
いる。
位相の変化は、第１図の実施態様ですでに述べたように
、ミラー７０と７１間の光路長ｎＱの変化に直接比例す
る出力９２を供給するフェイズメータ／アキュームレー
タ９０によって測定される。このように、第１図および
第２図の両方の実ａｍ様は、構造的に、また熱的に引起
こされるような他の光学的要素の変化が両方の周波数成
分に同じように作用し、従って、測定される位相変化９
２に全く影響を与えることがないので、測定誤差に対し
て影響されることが非常に少ない光学的配置を採用して
いる。
ざらに、第１図の実施態様ですでに述べたが、空気の屈
折率の変化のような環境の影響は、ミラー７０にミラー
７１を近づけて設置して２つの周波数成分間の光路長差
減少することによって最小に押えることができる。
折率の変化のような環境の影響は、ミラー７０にミラー
７１を近づけて設置して２つの周波数成分間の光路長差
減少することによって最小に押えることができる。
（本）発明の効果
この発明の主な利点は、（１）さらに少ない数の光学構
成要素、（２）さらに単純なビーム路、（３）さらに少
ない反射、（４）ざらに高い光の作業効率、（５）ざら
に低い波形歪み、（６）減少された光の漏洩、（７）減
少された非直線誤差、モして（８）低価格である。
成要素、（２）さらに単純なビーム路、（３）さらに少
ない反射、（４）ざらに高い光の作業効率、（５）ざら
に低い波形歪み、（６）減少された光の漏洩、（７）減
少された非直線誤差、モして（８）低価格である。
第１図は、すべての光学的ビームが単一平面にある場合
のこの発明の一実施例態様を示す構成説明図、第２図は
、光学的ビームが単一平面にない場合のこの発明の第２
の実Ｍ態様を示す構成説明図である。 １０・・・・・・光源、１６・・・シャープレート、２
．１Ａ、２１Ｂ、２７Ａ、２７Ｂ ・・・・・・反射防止コーティング、 ２３Ａ、２３Ｂ・・・・・・偏光コーティング、２５Ａ
、２５Ｂ・・・・・・反射コーティング、２９Ａ、２９
Ｂ・・・・・・半波遅延プレート、４０・・・・・・偏
光ビームスプリッタ、４２・・・・・・偏光コーティン
グ、 ４４・・・・・・４分の１波遅延プレート、４５・・・
・・・逆反射器、７０・・・・・・可動ミラー、７１・
・・・−・固定参照ミラー、８１・・・・・・偏光子、
８３・・・・・・光学検出器、 ９０・・・・・・フェイズメータ／アキュームレータ。
のこの発明の一実施例態様を示す構成説明図、第２図は
、光学的ビームが単一平面にない場合のこの発明の第２
の実Ｍ態様を示す構成説明図である。 １０・・・・・・光源、１６・・・シャープレート、２
．１Ａ、２１Ｂ、２７Ａ、２７Ｂ ・・・・・・反射防止コーティング、 ２３Ａ、２３Ｂ・・・・・・偏光コーティング、２５Ａ
、２５Ｂ・・・・・・反射コーティング、２９Ａ、２９
Ｂ・・・・・・半波遅延プレート、４０・・・・・・偏
光ビームスプリッタ、４２・・・・・・偏光コーティン
グ、 ４４・・・・・・４分の１波遅延プレート、４５・・・
・・・逆反射器、７０・・・・・・可動ミラー、７１・
・・・−・固定参照ミラー、８１・・・・・・偏光子、
８３・・・・・・光学検出器、 ９０・・・・・・フェイズメータ／アキュームレータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、可変光路長により分離することが可能な一対の平面
鏡；周波数に差を有する２つの安定化され直交するよう
に偏光された光学的周波数からなる入力ビームを放射す
る光源手段；前記光源手段にさらに備えられ、前記２つ
の安定化された光学的周波数間の前記周波数差に対応す
る電気参照信号を供給する手段；前記入力ビームに光学
的に結合され、前記入力ビームを、２つに分離され直交
するように偏光された平行なビームに変換するシャープ
レート手段；前記２つに分離され直交するように偏光さ
れた平行なビームの内の１つの光路中に光学的に配置さ
れ、前記２つに分離され直交するように偏光された平行
なビームを、２つに分離され同方向に偏光された平行な
ビームに変換する手段；前記２つに分離され同方向に偏
光された平行なビームに光学的に結合され、前記の分離
され同方向に偏光された平行なビームの各々を、前記１
対の平面鏡の一つに２回反射させて、同方向の偏光を有
する２つの平行な出力ビームを作り出す手段；前記２つ
に分離され同方向に偏光された平行なビームの内の１つ
の光路中に光学的に配置され、前記２つに分離され同方
向に偏光された平行な出力ビームを、２つに分離され直
交するように偏光された平行な出力ビームに変換する手
段；前記２つに分離され直交するように偏光された平行
な出力ビームに光学的に結合され、前記２つに分離され
直交するように偏光された平行な出力ビームを、前記一
対の平面鏡間の前記可変光路長に直接比例する位相差を
伴った一対の直交偏光周波数成分を有する単一の信号出
力ビームに変換する手段；前記単一出力ビームに光学的
に結合され、前記直交偏光成分を混合して電気測定信号
を作り出す手段；そして、前記電気測定信号と前記電気
参照信号とに作動的に接続され、前記一対の平面鏡間の
前記可変光路長に比例する、前記電気参照信号と前記電
気測定信号との位相差を検出する手段からなり、それに
よって、測定誤差と誤調整に対して非常に影響をうけに
くい光学的配置が提供される差動平面鏡干渉計システム
。 ２、電気参照信号を供給する前記手段が周波数安定化電
気発振器からなる特許請求の範囲第１項記載の差動平面
鏡干渉計システム。 ３、電気参照信号を供給する前記手段が、光電ミキサー
と電気増幅手段とからなる特許請求の範囲第１項記載の
差動平面鏡干渉計システム。 ４、前記入力ビームを、２つに分離され直交するように
偏光された平行なビームに変換する前記手段が、傾斜し
たシャープレート手段からなる特許請求の範囲第１項記
載の差動平面鏡干渉計システム。 ５、前記の傾斜したシャープレート手段が、反射防止領
域と偏光コーティングとの１の組合せを備え、２つに分
離され直交するように偏光された平行な前記出力ビーム
を前記単一出力ビームに変換する前記手段が、領域とコ
ーティングとの前記第１の組合せを前記の傾斜したシャ
ープレート手段の上に備え、前記の傾斜したシャープレ
ート手段は、さらに、反射防止領域と偏光コーティング
との第２の組合せを備え、領域とコーティングとの前記
第２の組合せが前記入力ビーム変換手段を備えてなる特
許請求の範囲第４項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ６、前記２つに分離され直交するように偏光された平行
なビームを前記の２つに分離され同方向に偏光された平
行なビームに変換する前記手段が、半波遅延プレート手
段からなる特許請求の範囲第１項記載の差動平面鏡干渉
計システム。 ７、前記の分離され同方向に偏光された平行なビームの
各々を前記一対の平面鏡の一つによって２回反射させる
前記手段が、偏光ビームスプリッタと逆反射器手段とか
らなる特許請求の範囲第１項記載の差動平面鏡干渉計シ
ステム。 ８、前記の分離され同方向に偏光された平行なビームの
各々を前記一対の平面鏡の一つによって２回反射させる
前記手段が、４分の１波遅延プレート手段からなる特許
請求の範囲第７項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ９、前記の２つに分離され同方向に偏光された平行な出
力ビームを前記の２つに分離され直交するように偏光さ
れた平行な出力ビームに変換する前記手段が、半波遅延
プレート手段からなる特許請求の範囲第１項記載の差動
平面鏡干渉計システム。 １０、前記電気測定信号を発生する電気手段が、前記単
一出力ビームの直交成分を混合る偏光子手段からなる特
許請求の範囲第１項記載の差動平面鏡干渉計システム。 １１、前記電気測定信号を出力する前記手段が、さらに
、光電検出器を備えてなる特許請求の範囲第１０項記載
の差動平面鏡干渉計システム。 １２、前記電気測定信号を発生する前記手段が、光電検
出器を備えてなる特許請求の範囲第１項記載の差動平面
鏡干渉計システム。 １３、前記位相差検出手段が、フェイズメータ／アキュ
ームレータ手段を構成する特許請求の範囲第１項記載の
差動平面鏡干渉計システム。 １４、前記の２つに分離され直交するように偏光された
平行なビームを前記の２つに分離され同方向に偏光され
た平行なビームに変換する前記手段が、半波遅延プレー
ト手段からなる特許請求の範囲第５項記載の差動平面鏡
干渉計システム。 １５、前記の分離され同方向に偏光された平行なビーム
を前記一対の平面鏡の一つによって２回反射させる前記
手段が、偏光ビームスプリッタと逆反射器手段からなる
特許請求の範囲第５項記載の差動平面鏡干渉計システム
。 １６、前記手段が４分の１波遅延プレート手段を備えて
なる特許請求の範囲第１５項記載の差動平面鏡干渉計シ
ステム。 １７、前記の２つに分離され同方向に偏光された平行な
出力ビームを前記の２つに分離され直交するように偏光
された平行な出力ビームに変換する前記手段が、第２の
半波遅延プレート手段を備えてなる特許請求の範囲第１
６項記載の差動平面鏡干渉計システム。 １８、前記電気測定信号を発生する前記手段が、前記単
一出力ビームの直交成分を混合する偏光子手段からなる
特許請求の範囲第１７項記載の差動平面鏡干渉計システ
ム。 １９、前記電気測定信号を発生する前記手段が、さらに
、光電検出器を備えてなる特許請求の範囲第１８項記載
の差動平面鏡干渉計システム。 ２０、前記位相差検出手段がフェイズメータ／アキュム
レータ手段からなる特許請求の範囲第１９項記載の差動
平面鏡干渉計システム。 ２１、傾斜したシャープレートが、領域とコーティング
との前記第１および第２の組合せを備えてなる特許請求
の範囲第５項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ２２、前記光源手段がレーザからなる特許請求の範囲第
１項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ２３、前記光源手段がレーザからなる特許請求の範囲第
１９項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ２４、前記の傾斜したシャープレート手段が互に平行な
光学的平面を有する傾斜したガラス基板からなり、領域
とコーティングとの前記組合せが前記光学的平面上に配
置されてなる特許請求の範囲第２１項記載の差動平面鏡
干渉計システム。 ２５、前記の傾斜したシャープレート手段が互に平行な
光学的平面を有する傾斜したガラス基板からなり、領域
とコーティングとの前記組合せが前記光学的平面上に配
置されてなる特許請求の範囲第５項記載の差動平面鏡干
渉計システム。 ２６、前記傾斜したシャープレート手段が互に平行な光
学的平面を有する傾斜したガラス基板からなる特許請求
の範囲第４項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ２７、前記傾斜したシャープレート手段が、互に平行な
光学的平面を有する傾斜したガラス基板からなり、領域
とコーティングの前記組合せが前記光学的平面上に配置
されてなる特許請求の範囲第２０項記載の差動平面鏡干
渉計システム。 ２８、前記傾斜したシャープレート手段が、領域とコー
ティングとの前記第１および第２の組合せの両方を備え
た共通の傾斜したシャープレートからなる特許請求の範
囲第２７項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ２９、前記光源手段がレーザである特許請求の範囲第２
８項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３０、前記一対の平面鏡の一方が固定されて参照ミラー
を含み、前記一対の平面鏡の他方が前記一対の分離可能
な平面鏡間の前記可変距離を与えるために可動である特
許請求の範囲第１項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３１、前記一対の平面鏡の一方が固定されると共に参照
ミラーを含み、前記一対の平面鏡の他方が前記一対の分
離可能な平面鏡間の前記可変距離を与えるために可動で
ある特許請求の範囲第１９項記載の差動平面鏡干渉計シ
ステム。 ３２、前記光源手段がレーザである特許請求の範囲第３
１項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３３、前記ビームのすべてが単一平面内にある特許請求
の範囲第１項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３４、前記光源手段がレーザである特許請求の範囲第３
３項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３５、前記ビームのすべてが光学的ビームであり、前記
光学的ビームのすべてが単一平面内にある特許請求の範
囲第２０項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３６、前記光源手段がレーザである特許請求の範囲第３
５項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３７、前記ビームのすべてが光学的ビームであり、前記
光学的ビームが与えられた一平面内にある特許請求の範
囲第１項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３８、光源手段がレーザである特許請求の範囲第３７項
記載の差動平面鏡干渉計システム。 ３９、前記ビームのすべてが光学的ビームであり、前記
光学的ビームが複数平面内にあって、一つの与えられた
光学的ビームが一つの与えられた平面内にある特許請求
の範囲第２０項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ４０、前記光源手段がレーザからなる特許請求の範囲第
３９項記載の差動平面鏡干渉計システム。 ４１、前記一対の平面鏡間の距離が前記一対の平面鏡間
の媒体の屈折率の変化を規定するために固定されてなる
特許請求の範囲第１項記載の差動平面鏡干渉計システム
。 ４２、前記一対の平面鏡が屈折率の変化を規定するため
に固定されてなる特許請求の範囲第１９項記載の差動平
面鏡干渉計システム。
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|---|---|---|---|
| US810999 | 1985-12-19 | ||
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| JPH0715363B2 JPH0715363B2 (ja) | 1995-02-22 |
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