JP2000249269A

JP2000249269A - ガス栓

Info

Publication number: JP2000249269A
Application number: JP11051922A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Hoya; 善章宝谷
Original assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Current assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Priority date: 1999-02-26
Filing date: 1999-02-26
Publication date: 2000-09-12

Abstract

(57)【要約】【課題】ソケットを外したときに、栓体を正常な閉弁
位置に移動させてガス漏れを確実に阻止する。【解決手段】ガス栓は、ソケット１を脱着自在に連結
すると共に、ガス流路８を内部に有する本体ケース２
と、本体ケース２のシリンダー部３に往復運動できるよ
うに内蔵される栓体４と、栓体４を弾性的に押圧するベ
ース弾性体５と、栓体４に中間弾性体７を介して連結し
ている弁体６とを備える。ガス栓は、ソケット１を連結
すると、押し棒１９で弁体６が押し込まれ、弁体６が栓
体４を押し込んで開弁状態となる。ソケット１が外され
ると、ベース弾性体５と中間弾性体７が栓体４と弁体６
とを弾性的に押し出して閉弁状態となる。ガス栓は、本
体ケース２のシリンダー部３を摺動する栓体４の摺動面
１４に、硬質炭素被膜又はセラミック膜である無機硬質
被膜１５を形成しており、この無機硬質被膜１５を介し
て栓体４をシリンダー部３の内面に摺動させている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ソケットを介して
ガスホースを脱着できるように連結するガス栓に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】図１の断面図は、ソケット１を脱着でき
るように連結するガス栓を示している。この構造のガス
栓は、本体ケース２に設けたガス流路８に、栓体４と弁
体６とを往復運動できるように内蔵させている。栓体４
は本体ケース２に設けたシリンダー部３に往復運動でき
るように内蔵される。この栓体４は、押しバネであるベ
ース弾性体５を介して、閉弁方向に押圧されている。栓
体４と弁体６との間には中間弾性体７を配設している。
中間弾性体７も押しバネで、弁体６を閉弁方向に押圧し
ている。

【０００３】この構造のガス栓は、図１に示すように、
ソケット１を連結すると、ソケット１の押し棒１９で弁
体６が押し込まれて開弁状態となる。このとき、押し棒
１９で押し込まれる弁体６は、中間弾性体７を介して栓
体４も押し込む。押し込まれた栓体４と弁体６は、ガス
流路８を開弁して、ガスをソケット１に流す状態とす
る。ソケット１が外されると、押し棒１９は弁体６を押
圧しなくなる。この状態になると、ベース弾性体５が栓
体４を押し出し、押し出された栓体４は中間弾性体７を
介して弁体６を押し出す。したがって、栓体４と弁体６
の両方が押し出されて、ガス流路８は完全に閉弁され
る。弁体６は、ガス流路８に設けているテーパー状弁座
１１に密着し、栓体４はシリンダー部３の先端に設けて
いる平面弁座１３に密着して、閉弁状態となる。

【０００４】この構造のガス栓は、栓体と弁体の両方
で、ガス流路を開閉するので、極めて安全に使用できる
特長がある。とくに、ソケットを外した状態で、栓体と
弁体で二重に閉弁するので、ガス漏れを極減できる特長
がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１に
示すガス栓は、ソケット１を外した状態で完全に閉弁す
るためには、栓体４と弁体６が確実に動作する必要があ
る。栓体４と弁体６を確実に動作させるために、シリン
ダー部３と栓体４との間の摺動部２１にグリス等を塗布
している。ソケットを脱着する期間が短いとき、グリス
の潤滑作用で栓体と弁体はスムーズに移動する。しかし
ながら、ソケットを脱着する期間が長くなると、グリス
が硬化して潤滑作用を失い、栓体が正常に移動しなくな
って、ガス漏れの原因となる。ソケットを連結すると
き、ソケットの押し棒は栓体と弁体を強制的に押して移
動させる。しかしながら、ソケットを外したときは、栓
体がベース弾性体で弾性的に押圧される。このとき、グ
リスが硬化していると、栓体がスムーズに移動しなくな
る。ベース弾性体で正常に移動されない栓体はガス漏れ
の原因となる。

【０００６】ガス栓は、必ずしもソケットを一定の時間
で脱着する用途に使用されるとは限らない。使用状態に
よっては、何年もソケットを外さないことがある。この
とき、栓体がスムーズに移動しなくなって、ソケットを
外した状態でガス漏れしやすくなる。とくに、栓体の摺
動部に塗布しているグリスは、ガスに晒されて硬化しや
すい環境となる。さらに、ここに塗布されたグリスを交
換するメンテナンスは、実際には行われない。したがっ
て、栓体を潤滑させるグリスは、経時的に劣化する環境
にあって、長い年月にわたって、正常な状態で栓体をス
ムーズに移動させるのが難しい。

【０００７】本発明は、この欠点を解決することを目的
に開発されたものである。本発明の重要な目的は、ソケ
ットを外したときにベース弾性体で栓体を押圧して正常
な閉弁位置に移動させてガス漏れを確実に阻止できるガ
ス栓を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明のガス栓は、ソケ
ット１を脱着できるように連結する共に、ガス流路８を
内部に有する本体ケース２と、この本体ケース２に設け
ているシリンダー部３に軸方向に摺動して往復運動でき
るように内蔵されてなる栓体４と、この栓体４を弾性的
に押圧しているベース弾性体５と、栓体４に中間弾性体
７を介して連結している弁体６とを備える。

【０００９】このガス栓は、本体ケース２にソケット１
を連結すると、ソケット１の押し棒１９で弁体６が押し
込まれ、押し込まれた弁体６が中間弾性体７を介して栓
体４を押し込んで開弁状態となる。ソケット１が本体ケ
ース２から外されると、ベース弾性体５と中間弾性体７
とで栓体４と弁体６とが弾性的に押し出されて、閉弁状
態となる。

【００１０】さらに、請求項１のガス栓は、本体ケース
２のシリンダー部３を摺動する栓体４の摺動面１４に、
硬質炭素被膜又はセラミック膜である無機硬質被膜１５
を形成している。栓体４は、無機硬質被膜１５を摺動面
１４として、シリンダー部３の内面を摺動する。

【００１１】本発明の請求項２のガス栓は、無機硬質被
膜１５を、ダイヤモンドコーティング膜とし、本発明の
請求項３のガス栓は、ダイヤモンドコーティング膜を、
気相合成ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素、ｉ−カー
ボンのいずれかとしている。

【００１２】本発明の請求項４のガス栓は、栓体４の摺
動面１４に設けているセラミック膜を、ＴｉＣ、Ｔｉ
Ｎ、ＴｉＣＮ、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｒＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ
_３Ｎ_４、ＮｉＢ、ＦｅＢ／Ｆｅ_２Ｂのいずれかとしてい
る。

【００１３】本発明の請求項５のガス栓は、無機硬質被
膜１５を、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング
法、イオンビーム法のいずれかの方法で摺動面１４に付
着している。

【００１４】本発明の請求項６のガス栓は、無機硬質被
膜１５の膜厚を、０．０５〜１５μｍとしている。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明
の技術思想を具体化するためのガス栓を例示するもので
あって、本発明はガス栓を以下のものに特定しない。

【００１６】さらに、この明細書は、特許請求の範囲を
理解しやすいように、実施例に示される部材に対応する
番号を、「特許請求の範囲の欄」、および「課題を解決
するための手段の欄」に示される部材に付記している。
ただ、特許請求の範囲に示される部材を、実施例の部材
に特定するものでは決してない。

【００１７】図２と図３に示すガス栓は、ソケット１を
脱着自在に連結する本体ケース２と、この本体ケース２
に設けているシリンダー部３に軸方向に摺動して往復運
動できるように内蔵している栓体４と、栓体４を弾性的
に押圧しているベース弾性体５と、栓体４に中間弾性体
７を介して連結している弁体６とを備える。

【００１８】本体ケース２は、内部にガス流路８を有す
る。ガス流路８の排出側に、ソケット１を連結する連結
部９を設けている。連結部９は円筒状で、外周にソケッ
ト１の係止溝１０を設けている。ガス流路８は、内部で
直角に曲がったＬ字状で、栓体４を往復運動させるシリ
ンダー部３と、弁体６を密着して閉弁するテーパー状弁
座１１を設けている。シリンダー部３は円柱状で、ガス
を流入させる流入口１２を側部に開口している。シリン
ダー部３は、先端部を細く絞って段差面を設け、段差面
である先端面を平面弁座１３としている。平面弁座１３
は、栓体４を密着させる。テーパー状弁座１１は、ガス
の流動方向に向かって内径を細くするテーパー状で、内
面に弁体６を密着させて、ガス流路８を閉弁する。

【００１９】本体ケース２は、金属製あるいはプラスチ
ック製で、シリンダー部３の内面を、高い精度で円柱状
に切削加工している。シリンダー部３の内面は、平滑に
研磨し、あるいはメッキをして表面仕上げしている。シ
リンダー部３の内面のメッキは、ハードクロームメッキ
が適している。耐久性があって、栓体４を長期間にわた
ってスムーズに摺動できるからである。

【００２０】栓体４は、金属またはセラミックで製作し
ている。金属製の栓体は、黄銅を切削加工して製作され
る。黄銅の栓体は容易に加工できる特長がある。ただ
し、金属製の栓体を、ステンレス製、鉄製、鉄合金等の
金属製として製作することもできる。鉄や鉄合金の栓体
は、安価に多量生産できる特長がある。鉄や鉄合金の栓
体は、表面をメッキして錆を防止できる。この栓体は、
メッキ層の表面に無機硬質被膜を付着する。

【００２１】栓体４は、図４の拡大断面図に示すよう
に、本体ケース２のシリンダー部３を摺動して往復運動
する円柱部４Ａと、弁体６に連結されるロッド部４Ｂを
有する。円柱部４Ａは、シリンダー部３の内径にほぼ等
しい外径の円柱状に正確に加工されて、円柱部４Ａの外
周面をシリンダー部３の内面を摺動する摺動面１４とし
ている。円柱部４Ａの背面には、ベース弾性体５の一端
を案内する凹部１５を設けている。

【００２２】栓体４の摺動面１４は、シリンダー部３の
内面を、常にスムーズに摺動できるように、無機硬質被
膜１５を付着している。無機硬質被膜は、摺動面のみで
なく、栓体の全面ないしほぼ全面に設けることもでき
る。無機硬質被膜１５は、栓体４である金属やセラミッ
クの表面に他の元素を拡散侵入させて形成された硬質層
である。無機硬質被膜１５は、ダイヤモンドコーティン
グ膜又はセラミック膜である。ダイヤモンドコーティン
グ膜は、気相合成ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素、
ｉ−カーボンの薄膜である。セラミックの無機硬質被膜
は、ＣＶＤ法で栓体の表面に設けられるＴｉＣ、Ｔｉ
Ｎ、ＴｉＣＮ、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｒＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ
_３Ｎ_４、ＮｉＢ、ＦｅＢ／Ｆｅ_２Ｂ等のセラミック薄膜
である。

【００２３】ダイヤモンド状炭素やｉ−カーボンは、硬
度が１５００〜５０００Ｈｖと極めて硬く、優れた耐摩
耗性がある。気相合成ダイヤモンドのダイヤモンドコー
ティング膜は、さらに硬度が高いのでより優れた耐摩耗
性がある。

【００２４】黄銅製の栓体は、黄銅を軟化させない低い
温度で、ダイヤモンドコーティング膜を付着する。この
方法として以下の方法がある。加熱用の高周波の周波数
を３０ＭＨｚ以下とし、反応ガスをＣＨ_４−Ｈ_２とし、
容器内の圧力を１０〜２０ＰａとするプラズマＣＶＤ法
で、黄銅の栓体を常温付近として、ダイヤモンドや黒鉛
状炭素のダイヤモンドコーティング膜を付着する。ま
た、反応ガスをＣ_６Ｈ_６−Ａｒとし、容器内の圧力を
１．３３Ｐａとする直流放電によるイオンプレーティン
グＣＶＤ法も、栓体を常温付近として、ｉ−カーボン薄
膜を成形できる。さらにまた、反応ガスをＣＨ_４又はＣ
_２Ｈ_６、Ｃ_３Ｈ_８とし、容器内の圧力を１．３３Ｐａと
する１３．５６ＭＨｚの高周波によるイオンプレーティ
ングＣＶＤ法においても、栓体を常温付近として、ｉ−
カーボン薄膜を成形できる。また、Ｃ^＋を４０ｅＶで加
速し、容器内の圧力を１．３３×１０^−４Ｐａとするイ
オンビーム蒸着によるＣＶＤ法においても、栓体を常温
付近として、ダイヤモンド状炭素の薄膜を形成できる。

【００２５】耐熱性に優れるＷＣ−Ｃｏの超鋼材で製作
している栓体は、以下のようにしてＴｉＣのセラミック
膜を蒸着できる。ＴｉＣｌ_４４％のトルエンを添加した
ベーパーソースを３３０Ｋに保ち、Ｈ_２を８ｃｍ^３／ｍ
ｉｎ、栓体温度を１３００Ｋに保持すると、ＴｉＣの被
膜が成形できる。このセラミック膜の硬さは３０００Ｈ
ｖである。

【００２６】さらに、耐熱金属製あるいはセラミック製
の栓体は、図５に示す装置を使用して、ダイヤモンド状
炭素の被膜を成長させる。この図の装置は、ダイヤモン
ド状炭素を形成するためのＥＣＲプラズマＣＶＤ装置の
一例を示す概略断面図である。この図において、真空チ
ャンバー３０には、プラズマ発生室１７が設けられてい
る。プラズマ発生室１７には、導波管２２の一端が取り
付けられており、導波管２２の他端には、マイクロ波供
給手段２３が設けられている。マイクロ波供給手段２３
で発生したマイクロ波は、導波管２２およびマイクロ波
導入窓２４を通って、プラズマ発生室１７に導かれる。
プラズマ発生室１７には、プラズマ発生室１７内にアル
ゴン（Ａｒ）ガスなどの放電ガスを導入させるためのガ
ス導入管２５が設けられている。また、プラズマ発生室
１７の周囲には、プラズマ磁界発生装置２６が設けられ
ている。マイクロ波による高周波磁界と、プラズマ磁界
発生装置２６からの磁界を作用させることにより、プラ
ズマ発生室１７内に高密度のＥＣＲプラズマが形成され
る。

【００２７】真空チャンバー１６内には、ホルダー２７
が設けられている。ホルダー２７の上に、ダイヤモンド
状炭素の被膜を形成する栓体４を装着している。ホルダ
ー２７には、高周波電源２８を接続している。この高周
波電源２８から、高周波電力をホルダー２７に与えるこ
とにより、栓体４に自己バイアス電圧を発生させること
ができる。真空チャンバー１６内には、メタン（Ｃ
Ｈ_４）および水素（Ｈ_２）などの原料ガスを導入させる
ための原料ガス導入管２９を設けている。この原料ガス
導入管２９から導入された原料ガスが、プラズマ発生室
１７から引き出されたプラズマで分解されることによ
り、栓体４の摺動面にダイヤモンド状炭素を成長させ
る。

【００２８】薄膜形成条件としては、Ａｒガス分圧５．
７×１０^−４Ｔｏｒｒ、ＣＨ_４ガス分圧１．３×１０
^−３Ｔｏｒｒ、マイクロ波周波数２．４５ＧＨｚ、マイ
クロ波電力１００Ｗとした。なお、高周波電源２８から
は、１３．５６ＭＨｚの高周波電力を調整して印加し
た。

【００２９】図６は、ＺｒＮ薄膜を形成するための真空
蒸着およびイオン注入装置を示している。真空チャンバ
ー３０内には、図示する矢印の方向に１０〜２０ｒｐｍ
の速度で回転可能なホルダー３１を設けている。このホ
ルダー３１の上に、栓体４を取り付けている。真空チャ
ンバー３０には、電子ビームによってジルコニウム（Ｚ
ｒ）原子を蒸発させ、栓体４の摺動面に向かって放射す
るための蒸発源３２が取り付けられている。また、栓体
４の方向に窒素イオン（Ｎ^＋）を放射するか、あるいは
窒素ガス（Ｎ_２）を供給するかの何れかを行うことがで
きるアシストイオンガン３３が取り付けられている。な
お、このイオンガン３３によってＮ^＋イオンを放射して
いる間、イオンになり損ねた窒素原子（Ｎ）が少数では
あるが同時に放射される。

【００３０】真空チャンバー３０内を１０^−５〜１０
^−７Ｔｏｒｒに排気し、アシストイオンガン３３にＮ
_２ガスを供給し、Ｎ^＋イオンを放射せしめて、これを
栓体の表面に照射する。このときのＮ^＋イオンの加速
電圧は７００ｅＶ、イオン電流密度は０．３８Ａ／ｃｍ
^２に設定した。

【００３１】一方、Ｎ^＋イオンの照射と同時に、蒸発源
３２を駆動し、Ｚｒ原子を蒸発させて、栓体４の表面に
放射する。このときのＺｒの蒸発速度は、栓体の摺動面
での成膜速度に換算して６５０オングストローム／分と
なるように設定した。

【００３２】さらに、栓体の表面に形成されるダイヤモ
ンドコーティング膜は、プラズマＣＶＤ法、イオンプレ
ーティング法、イオンビーム蒸着法等の方法で栓体の表
面に成長できる。ブラズマＣＶＤ法は、気相合成ダイヤ
モンド膜や黒鉛状炭素膜を形成できる。イオンプレーテ
ィング法はｉ−カーボン膜を成長できる。イオンビーム
法は、ダイヤモンド状炭素やｉ−カーボン膜を成長でき
る。

【００３３】栓体４は、摺動面１４のみに無機硬質被膜
１５を付着することもできるが、好ましくは全体を無機
硬質被膜１５で被覆する。ただし、栓体４を無機硬質被
膜１５を成長させる容器に配設するときに、栓体４を支
持する面は、無機硬質被膜１５が付着されない。栓体４
の無機硬質被膜１５を付着しない面は、ロッド部４Ｂの
先端部、あるいは、円柱部４Ａの底面とする。さらに、
栓体は、表面にＳｉなどの中間層を設けて、この中間層
の表面に無機硬質被膜を付着することもできる。栓体４
の表面に設けられる無機硬質被膜１５は、好ましくは約
０．５〜３μｍとする。ただし、無機硬質被膜１５は、
０．０５〜１５μｍとすることもできる。

【００３４】弁体６は、栓体４のロッド部４Ｂを挿入し
て連結する凹部６ａを背面に有し、先端部を多少太くし
て、中間弾性体７を連結する鍔６ｂを外周に突出させて
いる。さらに、先端面をテーパー状弁座１１に密着させ
るテーパー状の円錐面１８としている。この形状の弁体
６は、栓体４と同じように、金属を切削加工して製作さ
れる。また、セラミックを成形、焼成して製作すること
もできる。

【００３５】弁体６は、円錐面１８をテーパー状弁座１
１の内面に密着させて、ガス漏れしない状態で閉弁す
る。したがって、弁体６の円錐面１８は、特に高い精度
の真円度と平面度に仕上げている。弁体６の円錐面１８
は、摩擦抵抗の小さいプラスチック被膜を付着する。こ
のプラスチック被膜は、フッ素樹脂、ポリパラキシリレ
ン、ポリイミド樹脂である。

【００３６】さらに、弁体の円錐面は、栓体と同じよう
にして、無機硬質被膜を付着することもできる。この弁
体は、栓体と同じ金属製あるいはセラミック製として、
同じ方法で無機硬質被膜を付着する。弁体と栓体の両方
の表面に無機硬質被膜を付着しているガス栓は、とくに
信頼性を高くできる特長がある。

【００３７】ベース弾性体５と中間弾性体７は、弾性金
属線を螺旋状に卷いたコイルバネである。これ等の弾性
体は、押しバネで、弾性的に栓体４や弁体６を押圧して
いる。ベース弾性体５は、栓体４を弾性的に押圧し、中
間弾性体７は弁体６を弾性的に押圧する。ベース弾性体
５は栓体４の背面に設けている凹部４ａに入れられる円
柱状に卷かれている。中間弾性体７は、弁体６の外周に
挿入できる内径に卷かれている。

【００３８】図２に示すガス栓は、ソケット１を連結し
た状態を示している。図３に示すガス栓は、ソケット１
を外した状態を示している。ガス栓は、本体ケース２に
ソケット１を連結すると、ソケット１の押し棒１９で弁
体６が押し込まれる。弁体６は栓体４を押し込んで、ガ
ス栓を開弁状態とする。ソケット１の内面は、本体ケー
ス２の連結部９の先端に密着するパッキン２０を内蔵し
ている。パッキン２０が連結部９の先端に密着して、ソ
ケット１はガス漏れしない状態で本体ケース２に連結さ
れる。この状態で、ガス流路８を通過したガスは、ソケ
ット１に流入する。

【００３９】ソケット１が外されると、ベース弾性体５
が栓体４を押し出して、栓体４を平面弁座１３に密着さ
せる。さらに、栓体４と中間弾性体７とが弁体６を押し
出して、弁体６の円錐面１８をガス流路８のテーパー状
弁座１１に密着させる。ベース弾性体５に押される栓体
４は、摺動面１４に無機硬質被膜１５を設けているの
で、この無機硬質被膜１５を滑動層として、シリンダー
部３の内面に付着することなく、シリンダー部３の内面
を摺動して、ベース弾性体５に押されて確実に押し出さ
れる。このため、弁体６の円錐面１８は確実にテーパー
状弁座１１に密着して閉弁する。

【００４０】

【発明の効果】本発明のガス栓は、ソケットを外したと
きに、ベース弾性体で栓体を押圧して、正常な閉弁位置
に移動させてガス漏れを確実に阻止できる特長がある。
それは、本発明のガス栓が、本体ケースのシリンダー部
を摺動する栓体の摺動面に、硬質炭素被膜又はセラミッ
ク膜である無機硬質被膜を形成しており、この無機硬質
被膜を摺動面として、栓体をシリンダー部の内面で摺動
させているからである。ガス栓は、ソケットを本体ケー
スから外すとき、ベース弾性体と中間弾性体とが、栓体
と弁体とを弾性的に押し出して閉弁状態としている。本
発明のガス栓は、ベース弾性体で押される栓体の摺動面
に無機硬質被膜を設けているので、この無機硬質被膜を
滑動層として、栓体をシリンダー部の内面でスムーズに
摺動させて、ベース弾性体で確実に押し出すことができ
る。とくに、硬質炭素被膜やセラミック膜で形成される
無機硬質被膜は、高硬度で摩擦係数が低く、耐久性に優
れた特性を有する。このため、本発明のガス栓は、ベー
ス弾性体で栓体を正常な閉弁位置にスムーズに移動させ
てガス漏れを確実に阻止できる特長が実現できる。しか
も、本発明のガス栓は、無機硬質被膜が経時的に劣化す
ることもないので、長期間にわたって正常な状態で栓体
をスムーズに移動できる特長も備える。

【００４１】さらに、本発明のガス栓は、栓体の摺動面
に形成される無機硬質被膜を、硬質炭素被膜又はセラミ
ック膜としているので、均一な薄膜に形成できる特長が
ある。このため、栓体は、正確な真円度を維持でき、真
円度を出すための切削加工等が不要になる。したがっ
て、本発明のガス栓は、これらの工程にかかる手間や時
間を削減し、トータルコストを低減して能率よく安価に
多量生産できる特長もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来のガス栓の断面図

【図２】本発明の実施例のガス栓の断面図

【図３】図２に示すガス栓の分解断面図

【図４】図２に示すガス栓の栓体の拡大断面図

【図５】栓体に無機硬質被膜を形成する装置の一例を示
す概略断面図

【図６】栓体に無機硬質被膜を形成する他の装置を示す
概略断面図

【符号の説明】

１…ソケット２…本体ケース３…シリンダー部４…栓体４Ａ…円柱部４
Ｂ…ロッド部４ａ…凹部５…ベース弾性体６…弁体６ａ…凹部６
ｂ…鍔７…中間弾性体８…ガス流路９…連結部１０…係止溝１１…テーパー状弁座１２…流入口１３…平面弁座１４…摺動面１５…無機硬質被膜１６…真空チャンバー１７…プラズマ発生室１８…円錐面１９…押し棒２０…パッキン２１…摺動部２２…導波管２３…マイクロ波供給手段２４…マイクロ波導入窓２５…ガス導入管２６…プラズマ磁界発生装置２７…ホルダー２８…高周波電源２９…原料ガス導入管３０…真空チャンバー３１…ホルダー３２…蒸発源３３…アシストイオンガン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ソケット(1)が脱着自在に連結される共
に、ガス流路(8)を内部に有する本体ケース(2)と、この
本体ケース(2)に設けているシリンダー部(3)に軸方向に
摺動して往復運動できるように内蔵されてなる栓体(4)
と、この栓体(4)を弾性的に押圧しているベース弾性体
(5)と、栓体(4)に中間弾性体(7)を介して連結している
弁体(6)とを備え、本体ケース(2)にソケット(1)が連結されると、ソケット
(1)の押し棒(19)で弁体(6)が押し込まれ、押し込まれた
弁体(6)が中間弾性体(7)を介して栓体(4)を押し込んで
開弁状態となり、ソケット(1)が本体ケース(2)から外さ
れると、ベース弾性体(5)と中間弾性体(7)とで栓体(4)
と弁体(6)とが弾性的に押し出されて、閉弁状態となる
ように構成されてなるガス栓において、本体ケース(2)のシリンダー部(3)を摺動する栓体(4)の
摺動面(14)に、硬質炭素被膜又はセラミック膜である無
機硬質被膜(15)を形成しており、この無機硬質被膜(15)
を介して栓体(4)をシリンダー部(3)の内面に摺動させる
ようにしてなることを特徴とするガス栓。
【請求項２】無機硬質被膜(15)が、ダイヤモンドコー
ティング膜である請求項１に記載されるガス栓。
【請求項３】ダイヤモンドコーティング膜が、気相合
成ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素、ｉ−カーボンの
無機硬質被膜(15)である請求項２に記載されるガス栓。
【請求項４】セラミック膜が、ＴｉＣ、ＴｉＮ、Ｔｉ
ＣＮ、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｒＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ_３Ｎ_４、
ＮｉＢ、ＦｅＢ／Ｆｅ_２Ｂのいずれかである請求項１に
記載されるガス栓。
【請求項５】無機硬質被膜(15)が、プラズマＣＶＤ
法、イオンプレーティング法、イオンビーム法のいずれ
かの方法で栓体(4)の摺動面(14)に付着されてなる請求
項１に記載されるガス栓。
【請求項６】無機硬質被膜(15)の膜厚が０．０５〜１
５μｍである請求項１に記載されるガス栓。