JP2000242926A - 光ディスクの真贋判定方法 - Google Patents
光ディスクの真贋判定方法Info
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- JP2000242926A JP2000242926A JP11041251A JP4125199A JP2000242926A JP 2000242926 A JP2000242926 A JP 2000242926A JP 11041251 A JP11041251 A JP 11041251A JP 4125199 A JP4125199 A JP 4125199A JP 2000242926 A JP2000242926 A JP 2000242926A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ホログラムが形成された光ディスクの真贋を
判定可能にする。 【解決手段】 ピット領域１１とホログラム領域１２の
間に段差１３やバリ１５ａ、１５ｂを形成する。光ピッ
クアップＰＵが光ディスクの内側に移動してピット領域
１１、鏡面領域１４、段差１３、ホログラム領域１２を
順次読み取ると、読み取り信号のレベルは、ピット領域
１１ではピットｐに応じた波形となり、続く鏡面領域１
４では最大レベルとなる。続く段差１３では急峻に立ち
下がってホログラム領域１２に移行するとフォーカスサ
ーボによりすぐに最大レベルまで立ち上がり、続くホロ
グラム領域１２ではホログラムＨに応じた波形となる。
段差１３を読み取ったときの信号レベルが閾値レベル以
下の場合には「真」、閾値レベル以下でない場合には
「偽」と判定する。
判定可能にする。 【解決手段】 ピット領域１１とホログラム領域１２の
間に段差１３やバリ１５ａ、１５ｂを形成する。光ピッ
クアップＰＵが光ディスクの内側に移動してピット領域
１１、鏡面領域１４、段差１３、ホログラム領域１２を
順次読み取ると、読み取り信号のレベルは、ピット領域
１１ではピットｐに応じた波形となり、続く鏡面領域１
４では最大レベルとなる。続く段差１３では急峻に立ち
下がってホログラム領域１２に移行するとフォーカスサ
ーボによりすぐに最大レベルまで立ち上がり、続くホロ
グラム領域１２ではホログラムＨに応じた波形となる。
段差１３を読み取ったときの信号レベルが閾値レベル以
下の場合には「真」、閾値レベル以下でない場合には
「偽」と判定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ホログラムが記録
された光ディスクの真贋判定方法に関する。
された光ディスクの真贋判定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光ディスクは同一ソフトの大量
の複製を射出成型技術を用いて製造可能であるので、広
く普及している。これは大量の複製を製造可能であるの
で安価であることから好ましい反面、大量の偽造品が出
回ったり、また、例えばディスクをユーザに無料で配布
し、ディスクのソフトを利用するユーザから料金を徴収
するようなシステムには利用することができないとい
う、好ましくない側面もある。この問題点を解決する方
法として、例えばＤＶＤの場合、ディスク１枚毎にディ
スク作成後に情報記録領域の内周側に高出力レーザによ
りバーコード状のディスク識別情報を付加することによ
り、ディスク１枚毎に管理を行う方法がＢＣＡ（バース
ト・カッティング・エリア）規格として知られている。
の複製を射出成型技術を用いて製造可能であるので、広
く普及している。これは大量の複製を製造可能であるの
で安価であることから好ましい反面、大量の偽造品が出
回ったり、また、例えばディスクをユーザに無料で配布
し、ディスクのソフトを利用するユーザから料金を徴収
するようなシステムには利用することができないとい
う、好ましくない側面もある。この問題点を解決する方
法として、例えばＤＶＤの場合、ディスク１枚毎にディ
スク作成後に情報記録領域の内周側に高出力レーザによ
りバーコード状のディスク識別情報を付加することによ
り、ディスク１枚毎に管理を行う方法がＢＣＡ（バース
ト・カッティング・エリア）規格として知られている。
【０００３】しかしながら、上記のＢＣＡ規格による方
法では、バーコードの形状が線状であるので、その複製
すなわち偽造が簡単である。そこで、ＢＣＡの代わり
に、ホログラムの凹凸パターンをリードインエリアの内
側に形成することが考えられる。また、この種の従来例
としては、例えば特開平２−５６７５０号公報、特開平
６−２０３４１２号公報、米国特許第５，４００，３１
９号、特開平８−１２４２１９号公報、ＷＯ９６／１６
４０１号などに示されている。
法では、バーコードの形状が線状であるので、その複製
すなわち偽造が簡単である。そこで、ＢＣＡの代わり
に、ホログラムの凹凸パターンをリードインエリアの内
側に形成することが考えられる。また、この種の従来例
としては、例えば特開平２−５６７５０号公報、特開平
６−２０３４１２号公報、米国特許第５，４００，３１
９号、特開平８−１２４２１９号公報、ＷＯ９６／１６
４０１号などに示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ホログ
ラムを光ディスク面に形成しても、このホログラムはピ
ットや溝と同様な凹凸パターンであるので、ディスク基
板の上に形成されているピット及びホログラムを露出す
るためにその上の反射膜や保護膜を剥離されると、ピッ
トや溝及びホログラムの凹凸パターンが簡単に転写され
て大量の複製が偽造されるという問題点がある。
ラムを光ディスク面に形成しても、このホログラムはピ
ットや溝と同様な凹凸パターンであるので、ディスク基
板の上に形成されているピット及びホログラムを露出す
るためにその上の反射膜や保護膜を剥離されると、ピッ
トや溝及びホログラムの凹凸パターンが簡単に転写され
て大量の複製が偽造されるという問題点がある。
【０００５】本発明は上記の問題点に鑑み、ホログラム
が形成された光ディスクの真贋を判定することができる
光ディスクの真贋判定方法を提供することを目的とす
る。
が形成された光ディスクの真贋を判定することができる
光ディスクの真贋判定方法を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが
記録される面とホログラムの凹凸パターンが記録される
面の間に高さが異なる部分を形成して、この読み取り信
号レベルに基づいて光ディスクの真贋を判定するように
したものである。すなわち本発明によれば、光ディスク
の主情報を示す凹凸パターンが記録される面とホログラ
ムの凹凸パターンが記録される面の間に高さが異なる部
分を形成し、この高さが異なる部分を読み取った信号レ
ベルに基づいて光ディスクの真贋を判定することを特徴
とする光ディスクの真贋判定方法が提供される。
するために、光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが
記録される面とホログラムの凹凸パターンが記録される
面の間に高さが異なる部分を形成して、この読み取り信
号レベルに基づいて光ディスクの真贋を判定するように
したものである。すなわち本発明によれば、光ディスク
の主情報を示す凹凸パターンが記録される面とホログラ
ムの凹凸パターンが記録される面の間に高さが異なる部
分を形成し、この高さが異なる部分を読み取った信号レ
ベルに基づいて光ディスクの真贋を判定することを特徴
とする光ディスクの真贋判定方法が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明に係る光ディスクの
真贋判定方法の第１の実施形態を示す説明図である。
施の形態を説明する。図１は本発明に係る光ディスクの
真贋判定方法の第１の実施形態を示す説明図である。
【０００８】図１（ａ）はディスク基板１の側面断面図
を示し、図１（ｂ）は図１（ａ）のディスク基板の読み
取り信号を示している。図１（ａ）において、ディスク
基板１の上面には、ディスク情報を表すピットや溝の凹
凸パターン（以下、総称してピットｐという）が形成さ
れ、さらに、このピット領域１１の内側の鏡面部には、
ホログラムの凹凸パターン（以下、単にホログラムとも
言う）Ｈが形成されている。そして、ピット領域１１と
ホログラムパターン領域１２（以下、単にホログラム領
域とも言う）は面一ではなく、その境界には段差１３が
形成されている。また、図示省略されているが、ピット
領域１１の上には反射膜、保護膜が形成されている。ま
た、ホログラムパターン領域１２については、反射方式
で読み取る場合には同じく反射膜、保護膜が形成される
が、透過方式で読み取る場合には反射膜は形成されな
い。
を示し、図１（ｂ）は図１（ａ）のディスク基板の読み
取り信号を示している。図１（ａ）において、ディスク
基板１の上面には、ディスク情報を表すピットや溝の凹
凸パターン（以下、総称してピットｐという）が形成さ
れ、さらに、このピット領域１１の内側の鏡面部には、
ホログラムの凹凸パターン（以下、単にホログラムとも
言う）Ｈが形成されている。そして、ピット領域１１と
ホログラムパターン領域１２（以下、単にホログラム領
域とも言う）は面一ではなく、その境界には段差１３が
形成されている。また、図示省略されているが、ピット
領域１１の上には反射膜、保護膜が形成されている。ま
た、ホログラムパターン領域１２については、反射方式
で読み取る場合には同じく反射膜、保護膜が形成される
が、透過方式で読み取る場合には反射膜は形成されな
い。
【０００９】ここで、ピットｐはディスク基板１の円周
方向、すなわちスパイラル状に形成されるので、通常の
光ディスクを製造する場合には、ガラス基板を回転させ
ながらガラス基板上にピットｐの凹凸パターンを形成
し、このガラス基板に基づいてマスタ、マザー、スタン
パを順次作成し、スタンパに基づいてディスク基板１を
作成する。これに対し、ホログラムパターンＨは二次元
に形成されるので、ガラス基板を固定してフォトマスク
を介して一括露光したり、電子ビームにより描画する必
要があり、このためピット形成工程では形成することが
できない。
方向、すなわちスパイラル状に形成されるので、通常の
光ディスクを製造する場合には、ガラス基板を回転させ
ながらガラス基板上にピットｐの凹凸パターンを形成
し、このガラス基板に基づいてマスタ、マザー、スタン
パを順次作成し、スタンパに基づいてディスク基板１を
作成する。これに対し、ホログラムパターンＨは二次元
に形成されるので、ガラス基板を固定してフォトマスク
を介して一括露光したり、電子ビームにより描画する必
要があり、このためピット形成工程では形成することが
できない。
【００１０】詳しく説明すると、ホログラムＨは回折格
子を利用しているので、照射レーザ光の波長に応じた深
さを有する凹凸パターンを光ディスク基板１上に形成し
なければならない。また、透過光方式と、アルミニウム
などの反射膜により被った反射光方式では凹凸パターン
の好ましい深さが異なり、透過光方式の深さは照射レー
ザ光の波長の１／４の奇数倍が好ましく、反射光方式の
深さは照射レーザ光の波長の１／２の奇数倍が好まし
い。例えばプラスチック基板（屈折率＝約１．５）上に
ホログラムパターンを刻印する場合、照射レーザ光の波
長を赤色の６５０ｎｍとすると、最も浅い反射光を利用
するときには１１０ｎｍの深さとなり、最も浅い透過光
を利用するときには２２０ｎｍの深さとなる。
子を利用しているので、照射レーザ光の波長に応じた深
さを有する凹凸パターンを光ディスク基板１上に形成し
なければならない。また、透過光方式と、アルミニウム
などの反射膜により被った反射光方式では凹凸パターン
の好ましい深さが異なり、透過光方式の深さは照射レー
ザ光の波長の１／４の奇数倍が好ましく、反射光方式の
深さは照射レーザ光の波長の１／２の奇数倍が好まし
い。例えばプラスチック基板（屈折率＝約１．５）上に
ホログラムパターンを刻印する場合、照射レーザ光の波
長を赤色の６５０ｎｍとすると、最も浅い反射光を利用
するときには１１０ｎｍの深さとなり、最も浅い透過光
を利用するときには２２０ｎｍの深さとなる。
【００１１】ディスク基板１を作成する工程について詳
しく説明する。まず、ディスク基板１の原盤として、鏡
面研磨したガラス円盤の表面に必要な厚さのフォトレジ
ストを滴下、スピンすることにより塗布した後、このガ
ラス円盤を回転させながら短波長レーザを間欠的にフォ
トレジスト上に照射することにより、光ディスクの主情
報を表す細かなピット又は溝の潜像を形成し、次いでこ
の潜像を現像する。
しく説明する。まず、ディスク基板１の原盤として、鏡
面研磨したガラス円盤の表面に必要な厚さのフォトレジ
ストを滴下、スピンすることにより塗布した後、このガ
ラス円盤を回転させながら短波長レーザを間欠的にフォ
トレジスト上に照射することにより、光ディスクの主情
報を表す細かなピット又は溝の潜像を形成し、次いでこ
の潜像を現像する。
【００１２】次に、ガラス円盤の表面に必要な厚さのフ
ォトレジストを塗布した後、光ディスク情報リードイン
エリアより内周側に対して、ホログラムＨの２次元パタ
ーンが形成されたフォトマスクを介してフォトレジスト
を露光し、これを現像する。次いでエッチング法を用い
て、レジストが被われている基板面を浸食させて段差１
３を形成する。
ォトレジストを塗布した後、光ディスク情報リードイン
エリアより内周側に対して、ホログラムＨの２次元パタ
ーンが形成されたフォトマスクを介してフォトレジスト
を露光し、これを現像する。次いでエッチング法を用い
て、レジストが被われている基板面を浸食させて段差１
３を形成する。
【００１３】次いでこの原盤上の凹凸パターンをメタル
マスタに転写し、次いでこのメタルマスタ上の凹凸パタ
ーンをマザーに転写し、次いでこのマザー上の凹凸パタ
ーンをスタンパに転写し、次いでこのスタンパ上の凹凸
パターンに基づいてプラスチック成型用の射出成型機に
より大量のプラスチック成型品（基板１）を作成する。
このプラスチック成型品１にはガラス円盤のピットｐと
ホログラムＨの凹凸パターンが転写されており、その上
に金属反射膜や機能性薄膜を成膜することにより最終的
なディスクが作成される。ここで、光ディスクの面の変
動分（そり）の許容量（フォーカス制御可能な高さ誤
差）は、ＣＤの場合には±０．４ｍｍ以下、ＤＶＤの場
合には±０．２５ｍｍ以下であるので、段差１３の高さ
はこの数値以下である。
マスタに転写し、次いでこのメタルマスタ上の凹凸パタ
ーンをマザーに転写し、次いでこのマザー上の凹凸パタ
ーンをスタンパに転写し、次いでこのスタンパ上の凹凸
パターンに基づいてプラスチック成型用の射出成型機に
より大量のプラスチック成型品（基板１）を作成する。
このプラスチック成型品１にはガラス円盤のピットｐと
ホログラムＨの凹凸パターンが転写されており、その上
に金属反射膜や機能性薄膜を成膜することにより最終的
なディスクが作成される。ここで、光ディスクの面の変
動分（そり）の許容量（フォーカス制御可能な高さ誤
差）は、ＣＤの場合には±０．４ｍｍ以下、ＤＶＤの場
合には±０．２５ｍｍ以下であるので、段差１３の高さ
はこの数値以下である。
【００１４】次にこのような光ディスクの真贋判定方法
について説明する。図１において、光ピックアップＰＵ
が光ディスクの内側に移動してピット領域１１、鏡面領
域１４、段差１３、ホログラム領域１２を順次読み取る
と、読み取り信号のレベルは、ピット領域１１ではピッ
トｐに応じた波形となり、続く鏡面領域１４では最大レ
ベルとなる。続く段差１３では急峻に立ち下がってホロ
グラム領域１２に移行するとフォーカスサーボによりす
ぐに最大レベルまで立ち上がり、続くホログラム領域１
２ではホログラムＨに応じた波形となる。
について説明する。図１において、光ピックアップＰＵ
が光ディスクの内側に移動してピット領域１１、鏡面領
域１４、段差１３、ホログラム領域１２を順次読み取る
と、読み取り信号のレベルは、ピット領域１１ではピッ
トｐに応じた波形となり、続く鏡面領域１４では最大レ
ベルとなる。続く段差１３では急峻に立ち下がってホロ
グラム領域１２に移行するとフォーカスサーボによりす
ぐに最大レベルまで立ち上がり、続くホログラム領域１
２ではホログラムＨに応じた波形となる。
【００１５】ここで、光ディスクが偽造された場合、偽
造者が「段差１３のある光ディスクが「真」であるこ
と」を知らない場合、偽造過程でピット領域１１とホロ
グラム領域１２が同一の高さとなることが考えられる。
そこで、段差１３を読み取ったときの信号レベルが閾値
レベル以下の場合には「真」、閾値レベル以下でない場
合には「偽」と判定することができる。
造者が「段差１３のある光ディスクが「真」であるこ
と」を知らない場合、偽造過程でピット領域１１とホロ
グラム領域１２が同一の高さとなることが考えられる。
そこで、段差１３を読み取ったときの信号レベルが閾値
レベル以下の場合には「真」、閾値レベル以下でない場
合には「偽」と判定することができる。
【００１６】次に段差１３の他の作成方法について説明
する。まず、ホログラムパターンＨのために、円盤状の
ガラス基板上にフォトレジストを塗布した後、電子ビー
ムやフォトマスクによりホログラムパターンをフォトレ
ジスト上に描画し、次いでエッチング法によりガラス基
板上にホログラムの凹凸パターンを形成する。次いでこ
のガラス基板を洗浄した後、ホログラムの凹凸パターン
上に例えば塩化ビニル樹脂をシクロヘキサノンに溶解し
た塗料を塗布し、次いでシクロヘキサノンを揮発させて
ホログラムの凹凸パターンを被う。次いでこのガラス基
板上にフォトレジストを再度塗布して上記と同様にディ
スク情報（ピットｐ）を形成し、次いでホログラムの凹
凸パターン上の被膜を除去すると、段差１３を有する光
ディスク成型用母型が作成される。
する。まず、ホログラムパターンＨのために、円盤状の
ガラス基板上にフォトレジストを塗布した後、電子ビー
ムやフォトマスクによりホログラムパターンをフォトレ
ジスト上に描画し、次いでエッチング法によりガラス基
板上にホログラムの凹凸パターンを形成する。次いでこ
のガラス基板を洗浄した後、ホログラムの凹凸パターン
上に例えば塩化ビニル樹脂をシクロヘキサノンに溶解し
た塗料を塗布し、次いでシクロヘキサノンを揮発させて
ホログラムの凹凸パターンを被う。次いでこのガラス基
板上にフォトレジストを再度塗布して上記と同様にディ
スク情報（ピットｐ）を形成し、次いでホログラムの凹
凸パターン上の被膜を除去すると、段差１３を有する光
ディスク成型用母型が作成される。
【００１７】段差１３のさらに他の作成方法について説
明する。まず、ガラス基板に基づいて電鋳工程で１回目
の複製（マスタ）を作成した後、このガラス基板を再利
用するためにガラス基板上の残留フォトレジストをアセ
トンなどのフォトレジスト溶解用の溶剤を用いて除去
し、次いでホログラムパターンＨ上に例えば塩化ビニル
樹脂をシクロヘキサノンに溶解した塗料を塗布する。次
いでピット領域１１の平滑性を確保するためにガラス基
板の研磨と洗浄を行い、このガラス基板に基づいて２回
目の複製を作成すると段差１３が形成される。また、こ
れを３回目、４回目のように繰り返すと、より大きな段
差１３が形成される。
明する。まず、ガラス基板に基づいて電鋳工程で１回目
の複製（マスタ）を作成した後、このガラス基板を再利
用するためにガラス基板上の残留フォトレジストをアセ
トンなどのフォトレジスト溶解用の溶剤を用いて除去
し、次いでホログラムパターンＨ上に例えば塩化ビニル
樹脂をシクロヘキサノンに溶解した塗料を塗布する。次
いでピット領域１１の平滑性を確保するためにガラス基
板の研磨と洗浄を行い、このガラス基板に基づいて２回
目の複製を作成すると段差１３が形成される。また、こ
れを３回目、４回目のように繰り返すと、より大きな段
差１３が形成される。
【００１８】次に図２を参照して第２の実施形態につい
て説明する。この第２の実施形態では、ホログラム領域
１２の回りにバリ１５ａ、１５ｂが形成されている。こ
のバリ１５ａ、１５ｂは、前述したようにピットｐとホ
ログラムＨの形成工程が異なるので必然的に形成される
が、除去しないでそのまま残して光ディスクを作成し、
バリ１５ａ、１５ｂが形成されている光ディスクを
「真」とする。したがって、このことを偽造者が知らな
い場合、偽造過程でバリ１５ａ、１５ｂが除去されるこ
とが考えられる。そこで、バリ１５ａ、１５ｂを読み取
ったときの信号レベルが閾値レベル以下の場合には
「真」、閾値レベル以下でない場合には「偽」と判定す
ることができる。
て説明する。この第２の実施形態では、ホログラム領域
１２の回りにバリ１５ａ、１５ｂが形成されている。こ
のバリ１５ａ、１５ｂは、前述したようにピットｐとホ
ログラムＨの形成工程が異なるので必然的に形成される
が、除去しないでそのまま残して光ディスクを作成し、
バリ１５ａ、１５ｂが形成されている光ディスクを
「真」とする。したがって、このことを偽造者が知らな
い場合、偽造過程でバリ１５ａ、１５ｂが除去されるこ
とが考えられる。そこで、バリ１５ａ、１５ｂを読み取
ったときの信号レベルが閾値レベル以下の場合には
「真」、閾値レベル以下でない場合には「偽」と判定す
ることができる。
【００１９】バリ１５ａ、１５ｂの作成方法について説
明する。あらかじめ別工程でホログラムの母型のみを作
成するとともに、光ディスクの母型のみを作成する。光
ディスクの母型の作成方法は、例えば株式会社オーム社
の「図解コンパクトディスク作成読本」の第９０ページ
「ディスクの作り方」に示されている。そして、光ディ
スクの母型のホログラム領域に相当する部分を打ち抜い
て、その打ち抜き部分にホログラムの母型をはめ込むこ
とにより本発明の光ディスク成型用母型を作成する。次
いでこの光ディスク成型用母型に基づいて光ディスクを
作成すると、図２（ａ）に示すようにピット領域１１と
ホログラム領域１２の境界には、バリ１５ａ、１５ｂが
形成される。もちろん、このバリ１５ａ、１５ｂの高さ
は、ＣＤやＤＶＤの規格が許容する高さ以下である。
明する。あらかじめ別工程でホログラムの母型のみを作
成するとともに、光ディスクの母型のみを作成する。光
ディスクの母型の作成方法は、例えば株式会社オーム社
の「図解コンパクトディスク作成読本」の第９０ページ
「ディスクの作り方」に示されている。そして、光ディ
スクの母型のホログラム領域に相当する部分を打ち抜い
て、その打ち抜き部分にホログラムの母型をはめ込むこ
とにより本発明の光ディスク成型用母型を作成する。次
いでこの光ディスク成型用母型に基づいて光ディスクを
作成すると、図２（ａ）に示すようにピット領域１１と
ホログラム領域１２の境界には、バリ１５ａ、１５ｂが
形成される。もちろん、このバリ１５ａ、１５ｂの高さ
は、ＣＤやＤＶＤの規格が許容する高さ以下である。
【００２０】本発明によれば、請求項に記載された発明
の他に、次のような発明が提供される。 （１）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
に段差を形成し、この段差を読み取った信号レベルに基
づいて光ディスクの真贋を判定することを特徴とする光
ディスクの真贋判定方法。 （２）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
にバリを形成し、このバリを読み取った信号レベルに基
づいて光ディスクの真贋を判定することを特徴とする光
ディスクの真贋判定方法。 （３）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
に高さが異なる部分が形成された光ディスク。 （４）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
に高さが異なる部分が形成された光ディスクの真贋判定
装置であって、前記高さが異なる部分を読み取った信号
レベルに基づいて光ディスクの真贋を判定する手段を、
備えた光ディスクの真贋判定装置。
の他に、次のような発明が提供される。 （１）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
に段差を形成し、この段差を読み取った信号レベルに基
づいて光ディスクの真贋を判定することを特徴とする光
ディスクの真贋判定方法。 （２）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
にバリを形成し、このバリを読み取った信号レベルに基
づいて光ディスクの真贋を判定することを特徴とする光
ディスクの真贋判定方法。 （３）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
に高さが異なる部分が形成された光ディスク。 （４）光ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録さ
れる面とホログラムの凹凸パターンが記録される面の間
に高さが異なる部分が形成された光ディスクの真贋判定
装置であって、前記高さが異なる部分を読み取った信号
レベルに基づいて光ディスクの真贋を判定する手段を、
備えた光ディスクの真贋判定装置。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録される面と
ホログラムの凹凸パターンが記録される面の間に高さが
異なる部分を形成し、この高さが異なる部分を読み取っ
た信号レベルに基づいて光ディスクの真贋を判定するよ
うにしたので、ホログラムが形成された光ディスクの真
贋を判定することができる。
ディスクの主情報を示す凹凸パターンが記録される面と
ホログラムの凹凸パターンが記録される面の間に高さが
異なる部分を形成し、この高さが異なる部分を読み取っ
た信号レベルに基づいて光ディスクの真贋を判定するよ
うにしたので、ホログラムが形成された光ディスクの真
贋を判定することができる。
【図１】本発明に係る光ディスクの真贋判定方法の第１
の実施形態を示す説明図である。
の実施形態を示す説明図である。
【図２】本発明に係る光ディスクの真贋判定方法の第２
の実施形態を示す説明図である。
の実施形態を示す説明図である。
１１ ピット領域 １２ ホログラムパターン領域 （ホログラム領域） １３ 段差 １５ａ，１５ｂ バリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA61 BB02 BB05 CC03 FF44 GG12 HH04 JJ01 MM04 MM07 PP02 PP13 PP22 QQ25 5D090 AA01 CC04 CC14 CC18 DD03 DD05 EE16 FF09 GG09 GG33 HH01
Claims (1)
- 【請求項１】 光ディスクの主情報を示す凹凸パターン
が記録される面とホログラムの凹凸パターンが記録され
る面の間に高さが異なる部分を形成し、この高さが異な
る部分を読み取った信号レベルに基づいて光ディスクの
真贋を判定することを特徴とする光ディスクの真贋判定
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11041251A JP2000242926A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 光ディスクの真贋判定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11041251A JP2000242926A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 光ディスクの真贋判定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000242926A true JP2000242926A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12603230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11041251A Withdrawn JP2000242926A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 光ディスクの真贋判定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000242926A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009525559A (ja) * | 2006-01-30 | 2009-07-09 | スリーディーシーディー，エルエルシー | 光学的に可変なデバイスをマスタリングするシステム、該システムを用いて物を真正認証する方法、及び結果物 |
-
1999
- 1999-02-19 JP JP11041251A patent/JP2000242926A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009525559A (ja) * | 2006-01-30 | 2009-07-09 | スリーディーシーディー，エルエルシー | 光学的に可変なデバイスをマスタリングするシステム、該システムを用いて物を真正認証する方法、及び結果物 |
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