JP2001202659A

JP2001202659A - 記録型の光ディスク及びその製造方法

Info

Publication number: JP2001202659A
Application number: JP2000012318A
Authority: JP
Inventors: Akira Nishizawa; 昭西澤; Hirotoshi Ono; 浩利大野; Kiyoshi Manaka; 清間仲; Hiroyoshi Yoshikawa; 博芳吉川
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 2000-01-20
Filing date: 2000-01-20
Publication date: 2001-07-27

Abstract

(57)【要約】【課題】同一光ディスク内に異なった深さのピットや
案内溝を有する光ディスクを提供する。【解決手段】記録用の案内溝４が形成されたディスク
基板２を有する光ディスクにおいて、前記案内溝がとぎ
れたところに、情報用のピット列６が形成され、前記ピ
ットの深さは前記案内溝の深さよりも深く形成され、前
記案内溝にはリムが無く、前記ピットの周囲にはリム１
２が形成されている。これにより、同一光ディスク内に
異なった深さのピットや案内溝を有する光ディスクを提
供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録型の光ディス
ク及びその製造方法に係り、記録用の案内溝と、再生用
のピットとが存在するものに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクにおいて、記録型の光ディス
クは一般的に記録を行う部分はそれ以外の部分よりも形
状が一段高くなっていたり、或いは低くなっている溝の
部分が存在する。この溝は光ディスクに情報を記録する
ときに、情報がしかるべき位置に記録できるようにする
ための案内溝の役目をしており、周囲よりも溝が低くな
っているときはその溝をグルーブと呼び、逆に高くなっ
ているときをランドと呼んでいる。情報を記録するとき
は、記録用光学ヘッドはこの溝から得られるトラッキン
グ信号を頼りに、溝の中に情報を記録して行く。また、
ある種の方式では、溝が周囲より高くなっているランド
と呼ばれる所に記録がなされるものもあり、またある種
のものは、ランドとグルーブとの両方に記録がされるも
のもある。

【０００３】このような記録型の光ディスクはその使用
方法から、光ディスク上に普遍的な情報を挿入しておく
場合があり、この場合には、ピット（ピット列）を利用
して普遍的情報が記録されている。この普遍的情報は、
案内溝のアドレス情報であったり、記録型の光ディスク
の種類や製造メーカーを示すための情報であったりす
る。又最近では、不法な複製を防止するためのディスク
管理情報であったりもする。このようなピットを用いた
普遍的情報を記録型の光ディスクに記録するためには、
一般的に下記に示すような製造工程を経ることになる。

【０００４】まず、製造されるべき光ディスクより大き
な直径を有する、表面が平滑なガラス盤上に、レジスト
を塗布する。このレジストの厚さは光ディスクの案内溝
の深さと略同様な厚さである。レジストが塗布されたガ
ラス盤上に、レーザ光を用いたカッティングマシンと呼
ばれる記録機で、螺旋状の、或いは同心円状の案内溝を
高精度なトラックピッチで記録する。上記普遍的情報は
カッティングマシンでの案内溝の記録を停止し、代わり
にレーザ光を断続的に照射させ、ピット列からなる情報
ピットを記録する。記録後のガラス盤上のレジストは現
像され、これによりガラス盤の表面に凸凹形状の案内溝
とピットとが形成される。その後このガラス盤を用いて
メタル原盤が作成され、更にこのメタル原盤を用いて射
出成形にてディスク基板が製造される。そして、このデ
ィスク基板の表面に複数の所定の成膜を行なって記録型
の光ディスクが製造される。このような工程を経て製造
された光ディスクは自ずと案内溝の深さと、ピット列の
深さは同一のものとなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な工程を経て作成される光ディスクにおいては、前述の
ように案内溝は記録時に光学ヘッドがこの案内溝を正確
に追跡するためのトラッキング情報を与えるために存在
しており、情報が記録された後は、記録されたマークと
呼ばれる情報列を頼りにトラッキングを取るために、上
記案内溝の深さは、記録前にトラッキングが取りやす
く、且つ記録後は記録マークに影響を与えない深さとさ
れる。また、ランドグルーブ記録方式の場合には、ラン
ドに記録がなされたとき、隣接のグルーブからの信号の
影響が少なくなる事も考慮して案内溝の深さが設定され
る。このように設定された案内溝の深さを用いて、ピッ
ト情報も記録がされる。記録されたマークは一般的に、
マークとそうでないところとの反射率差を用いて検出さ
れるため、案内溝はこのマーク出力が良好となることも
考慮して案内溝の深さが設定される。

【０００６】ところが、普遍的情報を記録するためのピ
ットはその検出が、ピットとそうでないところとの位相
差を使用して検出するため、ピットからの良好な信号出
力を得るためには案内溝よりも段差のある形状にしなく
てはならない欠点を有している。最近発売されたＤＶＤ
−ＲＡＭにおいてはピット、ランド、グルーブの各々の
光学的バランスを取ったピット深さ（溝深さ）となって
いる。またＤＶＤ−ＲＷディスクにおいては、案内溝の
深さができるだけ記録マークの信号出力に影響を与えな
いようにしたために、案内溝の深さは非常に浅くなり、
普遍的情報のピットを記録してもピットの深さが浅くな
り、ピット情報を再生するための十分な位相差を得るこ
とができなくなってしまっている。

【０００７】このように、案内溝と普遍的情報（ピッ
ト）とを両者が独立して最高性能が得られるようにする
ためには、前述したレジスト塗布からカッティングに至
るまでの工程を見直さなくてはならなくなり、例えば特
開平９−３５３３４公報に述べられているように、一度
カッティングして現像したレジスト面を更にエッチング
してガラス面上に凸凹を作成し、その上に再度レジスト
を塗布してカッティングするようにした方法で、案内溝
とピット列が異なる深さにしようと試みている。しかし
ながら、この方法の場合には、１枚の原盤を作成するの
に、カッティング、現像、エッチングという一連の工程
を２回も行なわなくてはならず、非常に工数がかかり、
コストも高くなるという問題を有している。また、普変
情報をロット毎に変更したり、客先毎の特有情報を入れ
たりするときは、カッティングからやり直さなくてはな
らず、今までの原盤が使用できなくなってしまうという
欠点があった。本発明は、以上のような問題点に着目
し、これを有効に解決すべく創案されたものであり、そ
の目的は同一光ディスク内に異なった深さのピットや案
内溝を有する光ディスク及びその製造方法を提供するこ
とにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に規定する発明
は、記録用の案内溝が形成されたディスク基板を有する
光ディスクにおいて、前記案内溝がとぎれたところに、
情報用のピット列が形成され、前記ピットの深さは前記
案内溝の深さよりも深く形成され、前記案内溝にはリム
が無く、前記ピットの周囲にはリムが形成されているこ
とを特徴とする記録型の光ディスクである。請求項２に
規定する発明は、記録用の案内溝が形成されたディスク
基板を有する光ディスクにおいて、前記案内溝の中に情
報用のピット列が形成され、前記ピットの深さは、前記
案内溝の深さよりも深く形成され、前記案内溝にはリム
が無く、前記ピットの周囲にはリムが形成されているこ
とを特徴とする記録型の光ディスクである。

【０００９】請求項３に規定する発明は、記録型の光デ
ィスクの製造方法であって、ガラス盤上にレジストを塗
布してなるレジスト盤上に案内溝をカッティングした後
のマザー原盤製造工程において、前記マザー原盤にマザ
ーカット用レーザ光を照射してピット列を形成するよう
にしたことを特徴とする記録型の光ディスクの製造方法
である。この場合、請求項４に規定するように、前記マ
ザー原盤は、金属または樹脂よりなる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に、本発明にかかる記録型の
光ディスク及びその製造方法の一実施例を添付図面に基
づいて詳述する。図１は本発明の光ディスクに用いられ
るディスク基板の一例を示す拡大断面図、図２は本発明
の光ディスクの製造方法を説明するための説明図であ
る。図１に示すように、本発明の記録型の光ディスクに
用いるディスク基板２は例えばポリカーボネート樹脂よ
りなり、その一方の表面側には、螺旋状或いは同心円状
に形成された案内溝４が形成され、この案内溝４の特定
部分、例えばリードイン側或いは内周側に情報用のピッ
ト６が形成され、複数のピット６でピット列をなしてい
る。図示例では、この案内溝４が形成されている面とは
反対側の面がディスク読取面８となっており、このディ
スク読取面８側に光学ヘッド１０から記録・再生用のレ
ーザ光Ｌ１を照射するようになっている。

【００１１】上記各情報用のピット６の周囲には、これ
を囲むようにして僅かな高さだけ凸状に突出したリム１
２が形成されている。また、各情報用のピット６の深さ
Ｈ１は、上記案内溝４の深さＨ２よりも深く設定されて
いる。このように形成されたディスク基板２の案内溝４
側の表面に、図示しない周知の記録層や誘電体層や保護
層や反射層等を順次形成することによって、光ディスク
が製造されることになる。

【００１２】次に、上述のような光ディスクを製造する
ための製造工程について説明する。ディスク基板を作成
するまでの大略について説明すると、まず、ガラス盤上
にレジストを塗布し、このレジストをカッティングマシ
ンでカッティングをし、レジストを現像した後にレジス
ト表面に導電膜を施し、更にニッケル電鋳をしてメタル
マスターを作成する工程の後、樹脂成形機に装着するメ
タルスタンパーを形成するためのマザー原盤を作成する
途中段階において、マザー原盤上にマザーカット用レー
ザ光を用いてピットを形成するようになっている。

【００１３】以下に、図２を参照してその製造方法につ
いて具体的に説明する。まず、作成する光ディスクより
直径が大きな円板状のガラス盤１４を用意する。このガ
ラス盤１４の表面はレジストを塗布するために、前もっ
て、酸化セリウムなどの研磨剤を用いて表面を平滑に研
磨する。研磨後に表面に付着している研磨剤、研磨され
たガラス片を純水洗浄により除去する。純水洗浄で清浄
にされたガラス盤１４の表面に光ディスク用のレジスト
１６を塗布する（図２（Ａ）参照）。このレジスト１６
の塗布厚さは、製造される光ディスクの案内溝の深さと
略同一の厚さである。このレジスト１６をガラス盤１４
に塗布することによって製造されたレジスト盤１８は、
このレジスト１６中の有機溶剤を除去するために、乾燥
機に通されて加熱乾燥する。

【００１４】レジスト１６が乾燥されたレジスト盤１８
は、次にカッティングマシンに運ばれる。このカッティ
ングマシンでは、レジスト盤１８はターンテーブル上に
載せられて回転され、この回転しているレジスト盤１８
上に、カッティングマシン２０からのカッティング用レ
ーザ光Ｌ２が照射され、カッティングが実行される（図
２（Ｂ）参照）。このカッティングに用いるレーザ光Ｌ
２は、所望の案内溝が形成されるような光ビーム形状を
しており、このレーザ光Ｌ２は微少に左右に振れ、ウォ
ブル溝と呼ばれる僅かに螺旋状にうねった溝を形成する
こともある。また、案内溝中に番地の為のピットを刻ん
だり、セクターを形成させたりするために、時々レーザ
光Ｌ２が断続するように制御されることもある。また、
本発明で開示するピットを形成するための領域は、レー
ザ光Ｌ２を照射させた状態で形成する。

【００１５】このようにしてカッティングされたレジス
ト盤は、次に現像機に運ばれ、現像液により、レジスト
１６内に潜像で形成されている案内溝を形状変化として
形成させる（図２（Ｃ）参照）。この現像後、レジスト
盤１８は乾燥され、レジスト１６上に非常に薄い導電膜
を形成する工程に運ばれる。この導電膜は例えば真空ス
パッタ装置内で、ニッケルの薄膜を形成させることで行
なう。導電膜が形成されたレジスト盤１８はニッケル電
鋳装置に運ばれ、厚さが０．３mm程になるようにニッケ
ルを電鋳により被着させてニッケル盤２２を形成する
（図２（Ｄ）参照）。その後、このニッケル盤２２をガ
ラス盤１４側から剥がし、ニッケル盤２２上に付着して
いるレジスト１６を除去し、ニッケル盤２２よりなるメ
タルマスター２４を作成する（図２（Ｅ）参照）。

【００１６】一般的に、記録型の光ディスクの場合に
は、光ディスクにより、ディスク内の情報が変わること
が少ないので、１回のカッティングで多量の原盤を作成
することが行われる。この方法は、上述のように作成し
たメタルマスターを母型にし、メッキにより凸凹が反転
した複製金属原盤（メタルマザ−）を作成し、更にメタ
ルマザ−から同一手法により複製金属原盤（メタルスタ
ンパー）を作成することにより行なわれる。このメタル
スタンパーを所望する大きさに切断し、光ディスク成型
用金型内に装着して射出成形機などにより、大量にディ
スク基板を製造する。一般に１枚のメタルマスターから
は１０枚ほどのメタルマザ−を作ることができ、この１
枚のメタルマザ−からは１０枚ほどのメタルスタンパー
が得られるので、１回のカッティングから得られるメタ
ルスタンパーは１００枚ほどになり、効率的な成形が行
われ、大量の光ディスクを製造することができる。

【００１７】本発明の趣旨である、案内溝の深さと異な
る深さのピット列を形成するには、一つの方法として、
上記複製金属原盤製造過程で得られる、メタルマザ−ま
たはメタルスタンパーに対して、高出力レーザ光を照射
し、メタルマザーまたはメタルスタンパーの所望の位置
に、ピット列を形成するようにすればよい。もう一つの
方法としては、上記複製金属原盤を作成する工程で、例
えば、メタルマザ−製造工程を、プラスチックを用いた
複製樹脂原盤工程とし、できあがったプラスチックマザ
−の所望の位置に、高出力レーザ光を用いてピット列を
形成するようにすればよい。または、少量でよい場合に
は、メタルスタンパー工程で形成させても良い。このよ
うにすることで少ロット毎に情報を異ならせることがで
きる。どちらの工程を行なっても、ピット列を形成する
とき、ピットには微少のリムが生じるのが特徴である。
このようなピット周りにリムが生じることで、成形され
たディスク基板周りにもリムが存在することになる。こ
のリムは、信号再生時に、主信号に先行する微小な信号
変化として検出することが可能なため、信号処理回路の
工夫により、信号情報に隠れた信号として使用すること
が可能なため、再生機側でこの情報を取り出すことで、
正規なディスクか否かを判別するディスク偽造防止手段
として用いることが可能である。また、通常に記録され
たピットに比べ、その断面形状も異なるため、形状変化
によるピット干渉光の違いから、ディスク内に隠れた視
覚情報としての電子透かしをなすことが可能となり、同
様に偽造防止手段として使用ができる。しかし、このリ
ムは、光ディスクから再生させる信号品質に与える影響
は少ない。

【００１８】ここではマザー原盤製造工程としてプラス
チックを用いた複製樹脂工程を行なう場合について説明
する。まず、前述のように作成したメタルマスター２４
を図２（Ｆ）に示すようにスピナーの回転テーブル２６
に装着し、スピナーを回転させながらメタルマスター２
４上に紫外線硬化樹脂２８を滴下する。この紫外線硬化
樹脂２８には、後でピット列が形成されやすいように、
ピット形成用の高出力レーザ光の波長帯域に吸収のある
色素を溶解させておくと、ピット形成時にピット形成用
レーザ光の出力を少なくでき都合がよい。例えば８００
nmの半導体レーザ光を用いてピットを形成する場合に
は、例えばメチン系色素、シアニン系色素、ナフタロシ
アニン系色素などの中から７５０〜８５０nmの波長に吸
収のある色素を紫外線硬化樹脂２８に０．１から１０重
量％程度混入すると良い。図３はこの時のレーザ光の波
長と光学濃度（光吸収量）との関係の一例を示すグラフ
であり、７５０〜８５０ｎｍの範囲で大きな光学濃度を
示している。

【００１９】更に、上記紫外線硬化樹脂２８のみの層で
は樹脂原盤としたときに強度が不足するのでメタルマス
ター２４上に紫外線硬化樹脂２８を滴下した後、例えば
ポリカーボネート盤よりなる透明プラスチック盤３０を
上記紫外線硬化樹脂２８上に装着し、スピナーを回転さ
せることで、メタルマスター２４と透明プラスチック盤
３０との間に紫外線硬化樹脂２８が適度な厚さに展開さ
れる。展開後、透明プラスチック盤３０側より紫外線Ｕ
Ｖを照射してこの紫外線硬化樹脂２８を硬化させる（図
２（Ｇ）参照）。このようにして、紫外線硬化樹脂２８
が硬化した後、樹脂側をメタルマスターより剥離するこ
とでプラスチック製のマザー原盤３２を得ることができ
る（図２（Ｈ）参照）。

【００２０】このようにして得られたプラスチック製の
マザー原盤３２はマザーカット用レーザ光Ｌ３を用いた
ピット記録機３４に運ばれる（図２（Ｉ）参照）。この
ピット記録機３４ではプラスチック製のマザー原盤３２
を回転させるための回転機構と、光学ヘッドなど、通常
の光記録機と同様な機能が備わっている。ピット記録機
３４ではプラスチック製のマザー原盤３２を回転させつ
つ、光学ヘッドを用いてマザー原盤３２の表面の案内溝
３６をフォーカス制御及びトラッキング制御しつつ追従
し、マザー原盤３２の所望の位置の案内溝上に情報用の
ピット（ピット列）３８を記録する。このようにして記
録されるピット列３８は、案内溝３６と異なる深さ、す
なわちより深く形成され、ピット再生状態が良好となる
ような深さで記録されているため、再生時には良好な信
号特性を得ることができる。このようにピット列３８が
形成されたプラスチック製のマザー原盤３２には、再び
導電膜が被覆され、更に電鋳によりニッケル盤４０を形
成する（図２（Ｊ）参照）。そして、このニッケル盤４
０をマザー原盤３２から剥がすことにより、すなわち先
のメタルマスター２４を製造するときと同様な工程を通
り、メタルスタンパー４２が製造される（図２（Ｋ）参
照）。ここで記録されたピット（ピット列）は案内溝に
比べて深さが十分に深いため、ピット（ピット列）でト
ラッキング信号が得られる。また、案内溝でトラッキン
グをかけておく方式であってもピットの間に残っている
案内溝によりトラッキング信号を得ることが可能とな
る。

【００２１】以後は、このメタルスタンパー４２を用い
て樹脂を射出成形等することにより、図１に示したよう
なディスク基板２を得ることができる。このように、マ
ザー原盤３２の製造工程でピット３８を付与するように
しているので、１回のレジスト盤１８のカッティング
で、例えば１０枚のマザー原盤３２を製造でき、製造さ
れたマザー原盤３２の一枚一枚に異なるピット情報を記
録することができる効果が生じる。このように案内溝の
ある特定部分にピット列を形成させるのが必要な場所は
例えば次のような場所がある。

【００２２】ＤＶＤディスク規格書内に記載のあるＢ
ＣＡ領域に施す。このＢＣＡ領域はトラック方向に長さ
１０μｍの低反射領域を形成させるものである。光学ヘ
ッドからの入射光を反射しその反射強度変化を情報信号
とする場合において、反射光強度変化を、光学反射面の
凸凹で達成しようとした場合には、反射率は凸凹の高さ
が使用する光の波長の４分の１の深さであって、トラッ
ク方向における凸凹の幅が、光学ヘッドからの入射スポ
ット径の２分の１の時に最小となる。このような幅と深
さを持ち、長さが１０μｍほどの細長いピットを形成し
て、そのピットの位置がディスクの直径方向に揃うよう
に形成するとＢＣＡ規格に準拠するような信号を得るこ
とができる。この場合ピットの信号挿入位置はディスク
の最内周からリードインエリアにかける範囲となる。

【００２３】再生専用機で再生されたことを想定し、
記録型の光ディスクの低い反射率であっても、反射率の
位相差を利用することで大きな再生信号を得るために
は、ディスクのリードイン部分に記録型の光ディスクで
あることを示す情報をピット列で挿入しておくことが望
ましい。この場合はピットからできるだけ大きなレベル
の信号を得るためには、記録部分の案内溝の深さでは満
足な信号出力が出ないため、本発明を利用して、案内溝
の深さと異なる深さのピット列を作成することで、再生
専用機に誤って光ディスクを挿入したとしても正常な動
作を再生機に行わせることができるようになる。この場
合のピット列の挿入位置は前記と同様に、光ディスクの
リードイン領域、及び／またはリードイン近接領域であ
る。この他にも案内溝のアドレス、複製防止用専用ピッ
ト形成領域などが考えられる。

【００２４】図４は光ディスクのリードイン部４４に本
発明の特徴とする大きな情報用のピット６を形成した時
の部分平面図を示しており、ここでは深さの浅い案内溝
上に深さの深いピットにより、バーコード状に情報用の
ピット６が列状に配列されている。また、この部分を拡
大すると図５に表すように示されている。ここでは図５
に示すように、案内溝４内に情報用のピット６が間欠的
に配列されている。

【００２５】次に、以上説明したような製造方法により
具体的に光ディスクを製造したので、評価結果について
説明する。＜実施例１＞まず、作成する光ディスクよりも大きな直
径を有するガラス盤１４に３０nmの厚さにレジスト１６
を塗布してレジスト盤１８を作成した。このレジスト盤
１８をカッティングマシンに装着し、トラックピッチ
０．７４μｍ、溝幅０．３５μｍの案内溝を、レジスト
盤１８の直径４５mmから１１８mmまで作成した。案内溝
には微少な正弦揺らぎ（ウォブル）を施した。カッティ
ング終了後現像を行い、潜像を形状の変化として析出さ
せた。現像後にレジスト盤１８の表面に１００nmの厚さ
に、ニッケル薄膜を真空スパッタ装置を用いて成膜し
た。ニッケル薄膜に覆われたレジスト盤１８はニッケル
電鋳装置に装着され、厚さ０．３mmまでニッケルを電鋳
してニッケル盤２２を形成した。電鋳終了後、レジスト
盤１８を電鋳槽から取り出し、これを水洗し、ニッケル
盤２２をレジスト盤１８より剥がした。

【００２６】剥がされたニッケル盤２２は表面に付着し
ているレジストを有機溶剤を用いて除去し、乾燥させて
メタルマスター２４を得た。このメタルマスター２４の
中心部に直径８mmの穴をあけた。そして、スピナーのタ
ーンテーブル上のセンター穴クランプを利用し、上記メ
タルマスター２４の中心穴を挿入し、メタルマスター２
４をスピナーの回転テーブル２６上に、表面の案内溝を
上向きにして装着した。装着されたメタルマスター２４
の上にスポイトを用いて紫外線硬化樹脂２８を滴下し
た。この紫外線硬化樹脂２８内にはナフタロシアニン系
色素が溶解しており、膜厚２０μｍで成膜したときの８
００nmでの光学濃度が０．５位となるように調整した。
この紫外線硬化樹脂２８をスポイトで滴下した後、メタ
ルマスター２４と同じ直径を有し、且つ中心部に直径８
mmの穴が空いており、板厚１．２mmの透明なポリカーボ
ネート製のプラスチック盤３０を紫外線硬化樹脂２８の
上に静置した。

【００２７】そして、スピナーを１００rpmで回転さ
せ、メタルマスター２４とプラスチック盤３０との間に
ある紫外線硬化樹脂２８を延伸した。この紫外線硬化樹
脂２８が延伸し、内損気泡もないことを確認後、スピナ
ーより取り出し、紫外線照射装置に導き、紫外線ＵＶを
照射して紫外線硬化樹脂２８を硬化させた。硬化後、メ
タルマスター２４より、プラスチック盤３０と紫外線硬
化樹脂２８とが接着した基板を剥離した。この剥離され
た基板がプラスチック製のマザー原盤３２である。この
プラスチック製のマザー原盤３２をピット記録機３４に
装着した。このピット記録機３４はマザー原盤３２を置
くためのターンテーブルと、記録用光学ヘッド（対物レ
ンズ開口数０．９）、マザーカット用レーザ光Ｌ３（波
長８００nm、最大出力２００ｍＷ）を出力するレーザ素
子、このレーザ素子に信号を供給するための信号源等が
備わっている。ターンテーブルを回転させ、最内周から
規定回転数でマザー原盤３２を回転させ、マザーカット
用レーザ光Ｌ３のシーケンスを適切なシーケンスとし、
情報ピット３８を案内溝中に形成した。

【００２８】このピット３８の幅は０．４μｍ、最短ピ
ット長さは０．４μｍ、ピット深さは１００nmであっ
た。ピット３８の周りには微少なリム４８が存在してい
た。このマザー原盤３２上に、真空スパッタ装置を用い
て、ニッケル薄膜を１００nm成膜し、ニッケル電鋳槽で
更にニッケルを０．３mm堆積してニッケル盤４０を形成
し、これを取り出した後、プラスチック製のマザー原盤
３２から電鋳ニッケル盤４０を剥がした。この電鋳ニッ
ケル盤４０の表面をきれいに洗浄しメタルスタンパー４
２を得た。このメタルスタンパー４２の内周と外周を成
型用金型に装着できる直径に切断し、成型用金型に装着
し、ポリカーボネート樹脂を射出成形法で、直径１２０
mm内径１５mm板厚０．６mmのディスク基板を成形した。
そして、図１に示すようなディスク基板の案内溝４側の
表面に相変化型記録膜を成膜し、同じ大きさを有するダ
ミーディスクを用い記録膜が内側となるように貼り合わ
せ、更に相変化膜の初期化処理を施してＤＶＤ−ＲＷデ
ィスクを作成した。このＤＶＤ−ＲＯＭディスクドライ
ブに装着して再生したところ、内周部のリードイン領域
から、リードイン用信号が再生でき、このドライブでは
再生できないことが判断され、ドライブから排出され
た。

【００２９】＜実施例２＞この実施例２の場合は、メタ
ルマスター２４を作成するまでの工程は、上記実施例１
の場合と同様な工程なので、その説明を省略する。実施
例１の場合と同様な方法でメタルマスター２４を形成し
たならば、次にこのメタルマスター２４上に剥離処理を
施し、メタルマスター２４の案内溝上にニッケル電鋳を
行った。電鋳終了後メタルマスターより電鋳ニッケル盤
を剥がした。剥がした電鋳ニッケル盤を洗浄し、メタル
製のマザー原盤となった。このメタル製のマザー原盤を
ピット記録機３２に装着した。ピット記録機３２はマザ
ー原盤を置くためのターンテーブルと、記録用光学ヘッ
ド（対物レンズ開口数０．９）、マザーカット用レーザ
光Ｌ３（波長１μｍ、最大出力１０Ｗ）を出力するレー
ザ素子、このレーザ素子に信号を供給するための信号源
等が備わっている。

【００３０】尚、この場合、実施例１ではプラスチック
材をカッティングするのに対して、この実施例２ではニ
ッケル材をカッティングするので、実施例１の場合より
もレーザ素子の出力を遥かに大きく、例えば１０Ｗに設
定している。ターンテーブルを回転させ、最内周から規
定回転数でメタル製のマザー原盤を回転させ、マザーカ
ット用レーザ光Ｌ３のシーケンスを適切なシーケンスと
し、情報ピットを案内溝中に形成した。ピットの幅は
０．４μｍ、最短ピット長さは０．４μｍ、ピット深さ
は１００nmであった。ピットの周りには微少なリムが存
在していた。このメタル製のマザー原盤上に剥離処理を
施し、ニッケル電鋳槽で更にニッケルを０．３mm形成
し、これを取り出し後、マザー原盤から電鋳ニッケル盤
を剥がした。この電鋳ニッケル盤の表面をきれいに洗浄
しメタルスタンパーを得た。

【００３１】このメタルスタンパーの内周と外周を成型
用金型に装着できる直径に切断し、成型用金型の装着
し、ポリカーボネート樹脂を射出成形法で、直径１２０
mm内径１５mm板厚０．６mmのディスク基板を成形した。
そして、案内溝側の表面上に相変化型記録膜を成膜し、
同じ大きさを有するダミーディスクを用い記録膜が内側
となるように貼り合わせ、更に相変化膜の初期化処理を
施してＤＶＤ−ＲＷディスクを作成した。このＤＶＤ−
ＲＯＭディスクドライブに装着して再生したところ、内
周部のリードイン領域からリードイン用信号が再生で
き、このドライブでは再生できないことが判断され、ド
ライブから排出された。

【００３２】本発明に示すように、光ディスクのプラス
チック製の、或いはメタル製のマザー原盤の製造工程
で、原盤の情報記録面上に新たな情報を記録すること
で、通常の工程では困難な、ピット深さが異なる情報を
記録することができる。また、このマザー原盤の製造工
程における記録条件を変えることで各種のピット深さを
有するマザー原盤が製造できる長所を有する。また、本
発明ではマザー原盤の製造工程でピットを形成すること
を説明したが、同様な工程であれば、マスター工程、ス
タンパー工程で用いても良い。また、本発明ではピット
形成法を説明したが、ピット列中のピットやピット列の
中での溝形成であっても良いのはもちろんである。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の記録型の
光ディスク及びその製造方法によれば、次のように優れ
た作用効果を発揮することができる。一回の原盤カッテ
ィングを行なうだけで、同一ディスク内に異なる深さの
ピットを有するマザー原盤を作成でき、しかもマザー原
盤の製造工程で各種の異なる情報を付与することができ
るために、ディスク製造に於いて、多種少量生産などに
適した製造方法を与える効果を奏するのみならず、形成
されたピットの周囲にはリムを有していることから、再
生または視認により、リムの有無を確認することで、デ
ィスクの真贋を判定することができる新たな効果も生ぜ
しめることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ディスクに用いられるディスク基板
の一例を示す拡大断面図である。

【図２】本発明の光ディスクの製造方法を説明するため
の説明図である。

【図３】レーザ光の波長と光学濃度（光吸収量）との関
係の一例を示すグラフである。

【図４】光ディスクのリードイン部に本発明の特徴とす
る大きな情報用のピットを形成した時の状態を示す部分
平面図である。

【図５】バーコード状に情報用のピットが列状に配列さ
れている状態を示す図である。

【符号の説明】

２…ディスク基板、４…案内溝、６…情報用のピット、
１２…リム、１４…ガラス盤、１８…レジスト盤、２４
…メタルマスター、３２…マザー原盤、４２…メタルス
タンパー。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者間仲清神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12番地日本ビクター株式会社内 (72)発明者吉川博芳神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12番地日本ビクター株式会社内Ｆターム(参考） 5D029 WA29 WA31 WB17 WC10 WD11 5D090 AA01 BB03 BB04 CC14 DD05 EE02 FF24 GG09 GG22 GG27 GG32 GG36 5D121 CA03 CA06 CB03 CB08 GG02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録用の案内溝が形成されたディスク基
板を有する光ディスクにおいて、前記案内溝がとぎれた
ところに、情報用のピット列が形成され、前記ピットの
深さは前記案内溝の深さよりも深く形成され、前記案内
溝にはリムが無く、前記ピットの周囲にはリムが形成さ
れていることを特徴とする記録型の光ディスク。
【請求項２】記録用の案内溝が形成されたディスク基
板を有する光ディスクにおいて、前記案内溝の中に情報
用のピット列が形成され、前記ピットの深さは、前記案
内溝の深さよりも深く形成され、前記案内溝にはリムが
無く、前記ピットの周囲にはリムが形成されていること
を特徴とする記録型の光ディスク。
【請求項３】記録型の光ディスクの製造方法であっ
て、ガラス盤上にレジストを塗布してなるレジスト盤上
に案内溝をカッティングした後のマザー原盤製造工程に
おいて、前記マザー原盤にマザーカット用レーザ光を照
射してピット列を形成するようにしたことを特徴とする
記録型の光ディスクの製造方法。
【請求項４】前記マザー原盤は、金属または樹脂より
なることを特徴とする請求項３記載の記録型の光ディス
クの製造方法。