JP2000223409A - 荷電ビーム描画方法及びその装置 - Google Patents
荷電ビーム描画方法及びその装置Info
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- JP2000223409A JP2000223409A JP11025901A JP2590199A JP2000223409A JP 2000223409 A JP2000223409 A JP 2000223409A JP 11025901 A JP11025901 A JP 11025901A JP 2590199 A JP2590199 A JP 2590199A JP 2000223409 A JP2000223409 A JP 2000223409A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＤＡコンバータの精度を高めることなく、ま
た、パターンデータ及びその変換処理を複雑化すること
なく、効率的に高精度なパターンを描画可能にする。 【解決手段】 ホスト計算機２１から送られるパターン
データに基づいてパターンデータ発生回路２２から主偏
向・副偏向制御回路２３を介して主・副偏向ＤＡコンバ
ータ２４、２５へ送られる主・副偏向データに、加算回
路３２と減算回路３３を用いて、レジスタ３１にセット
された付加偏向データを与えることにより、描画位置を
変えずに主・副偏向ＤＡコンバータ２４、２５の偏向位
置を変え、この偏向位置の変化量を順次変化させて多重
描画する。この多重描画により、各ＤＡコンバータのラ
ンダムな誤差が平均化され、実質的に各ＤＡコンバータ
の精度が向上したことになる。
た、パターンデータ及びその変換処理を複雑化すること
なく、効率的に高精度なパターンを描画可能にする。 【解決手段】 ホスト計算機２１から送られるパターン
データに基づいてパターンデータ発生回路２２から主偏
向・副偏向制御回路２３を介して主・副偏向ＤＡコンバ
ータ２４、２５へ送られる主・副偏向データに、加算回
路３２と減算回路３３を用いて、レジスタ３１にセット
された付加偏向データを与えることにより、描画位置を
変えずに主・副偏向ＤＡコンバータ２４、２５の偏向位
置を変え、この偏向位置の変化量を順次変化させて多重
描画する。この多重描画により、各ＤＡコンバータのラ
ンダムな誤差が平均化され、実質的に各ＤＡコンバータ
の精度が向上したことになる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームやイオ
ンビームなどの荷電ビームを走査して、試料面上に図形
を描画する荷電ビーム描画方法及びその装置に係り、特
にビーム自身の形状と寸法とを可変にする可変成形ビー
ム描画方法及びその装置の改良に関する。
ンビームなどの荷電ビームを走査して、試料面上に図形
を描画する荷電ビーム描画方法及びその装置に係り、特
にビーム自身の形状と寸法とを可変にする可変成形ビー
ム描画方法及びその装置の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積装置の大規模化のためにその
パターンの微細化と高密度化が推進されており、高密度
パターンの生成には電子ビーム描画装置などの荷電ビー
ム描画装置が利用されている。
パターンの微細化と高密度化が推進されており、高密度
パターンの生成には電子ビーム描画装置などの荷電ビー
ム描画装置が利用されている。
【０００３】電子ビーム描画装置においては、処理速度
を向上させるために、いわゆる可変成形ビーム描画方式
が主流となっている。この方式は、電子ビームなどの荷
電ビームを、複数の成形アパーチャを使用して矩形、三
角形などの形状に成形し、所定領域のパターンを一括し
て描画する方式である。
を向上させるために、いわゆる可変成形ビーム描画方式
が主流となっている。この方式は、電子ビームなどの荷
電ビームを、複数の成形アパーチャを使用して矩形、三
角形などの形状に成形し、所定領域のパターンを一括し
て描画する方式である。
【０００４】成形された電子ビームを試料面上の所望の
位置に導くためには、偏向器を使って電子の軌道を制御
する必要がある。この場合、なるべく広い領域を描画す
るためには、ビット数の多いＤＡコンバータを使用する
ことが望ましい。しかし、ビット数の多いＤＡコンバー
タは、セトリング時間が長いために、処理速度を低下さ
せる。
位置に導くためには、偏向器を使って電子の軌道を制御
する必要がある。この場合、なるべく広い領域を描画す
るためには、ビット数の多いＤＡコンバータを使用する
ことが望ましい。しかし、ビット数の多いＤＡコンバー
タは、セトリング時間が長いために、処理速度を低下さ
せる。
【０００５】他方、ビット数の少ないＤＡコンバータで
は、一度に描画できる領域が狭いために、完全なパター
ンを描画するのに多くのステージ移動を必要とし、やは
り処理速度が低下する。
は、一度に描画できる領域が狭いために、完全なパター
ンを描画するのに多くのステージ移動を必要とし、やは
り処理速度が低下する。
【０００６】そこで、処理速度の向上を図ると共に一度
に描画できる領域を広げる方式として、セトリング時間
は長いがビット数の多いＤＡコンバータと、セトリング
時間は短いがビット数の少ないＤＡコンバータとを、そ
れぞれ主偏向用、副偏向用として、異なる偏向器に接続
し、それぞれの偏向量の合成位置を描画位置とする制御
方式がある。なお、この方式においては、パターンデー
タは主偏向位置と主偏向内のショット位置（副偏向位
置）とにより定義されている。
に描画できる領域を広げる方式として、セトリング時間
は長いがビット数の多いＤＡコンバータと、セトリング
時間は短いがビット数の少ないＤＡコンバータとを、そ
れぞれ主偏向用、副偏向用として、異なる偏向器に接続
し、それぞれの偏向量の合成位置を描画位置とする制御
方式がある。なお、この方式においては、パターンデー
タは主偏向位置と主偏向内のショット位置（副偏向位
置）とにより定義されている。
【０００７】図３に、この方式の電子ビーム描画装置
の、特に主・副偏向に関する部分の構成を示す。この図
３において、２０は電子銃、２１はホスト計算機、２２
はパターンデータ発生回路であり、このパターンデータ
発生回路２２はホスト計算機２１から送られるパターン
データから主偏向データと副偏向データを発生させる。
２３は主偏向・副偏向制御回路で、上記主偏向データと
副偏向データに従ってディジタルな偏向制御信号を主偏
向ＤＡＣ（ＤＡコンバータ）・アンプ２４及び、副偏向
ＤＡＣ・アンプ２５へ与え、両ＤＡＣ・アンプすなわち
ＤＡコンバータ２４、２５から主偏向器２６と副偏向器
２７へそれぞれ主・副偏向制御電圧を与えるようになっ
ており、主・副偏向器２６、２７により電子銃２０から
の電子ビームＢを主偏向データと副偏向データに従って
偏向させ、この電子ビームＢを試料ステージ２８上の所
定位置に導いて描画するようになっている。なお、２９
はレーザー測長器で、試料ステージ２８の位置を測定
し、その位置に応じて主偏向・副偏向制御回路２３を制
御し、試料ステージ２８の位置と電子ビームＢの偏向位
置との対応を取るようになっている。
の、特に主・副偏向に関する部分の構成を示す。この図
３において、２０は電子銃、２１はホスト計算機、２２
はパターンデータ発生回路であり、このパターンデータ
発生回路２２はホスト計算機２１から送られるパターン
データから主偏向データと副偏向データを発生させる。
２３は主偏向・副偏向制御回路で、上記主偏向データと
副偏向データに従ってディジタルな偏向制御信号を主偏
向ＤＡＣ（ＤＡコンバータ）・アンプ２４及び、副偏向
ＤＡＣ・アンプ２５へ与え、両ＤＡＣ・アンプすなわち
ＤＡコンバータ２４、２５から主偏向器２６と副偏向器
２７へそれぞれ主・副偏向制御電圧を与えるようになっ
ており、主・副偏向器２６、２７により電子銃２０から
の電子ビームＢを主偏向データと副偏向データに従って
偏向させ、この電子ビームＢを試料ステージ２８上の所
定位置に導いて描画するようになっている。なお、２９
はレーザー測長器で、試料ステージ２８の位置を測定
し、その位置に応じて主偏向・副偏向制御回路２３を制
御し、試料ステージ２８の位置と電子ビームＢの偏向位
置との対応を取るようになっている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】このようにＤＡコンバ
ータにより描画位置を制御する方式では、ＤＡコンバー
タの誤差が描画位置に反映する。ＤＡコンバータが発生
する電圧すなわち偏向電圧には、偏向制御信号としてデ
ィジタルデータで指定された理想電圧からの誤差が存在
する。この誤差は、各ＤＡコンバータの最小ビット単位
よりも小さいが、一定の規則性がなく、ランダムであ
る。従って、描画されたパターンにもランダムな位置誤
差が発生し、それ以上の精度向上を図ることはできず、
誤差精度を向上させるためにはＤＡコンバータの精度を
高める必要がある。
ータにより描画位置を制御する方式では、ＤＡコンバー
タの誤差が描画位置に反映する。ＤＡコンバータが発生
する電圧すなわち偏向電圧には、偏向制御信号としてデ
ィジタルデータで指定された理想電圧からの誤差が存在
する。この誤差は、各ＤＡコンバータの最小ビット単位
よりも小さいが、一定の規則性がなく、ランダムであ
る。従って、描画されたパターンにもランダムな位置誤
差が発生し、それ以上の精度向上を図ることはできず、
誤差精度を向上させるためにはＤＡコンバータの精度を
高める必要がある。
【０００９】ＤＡコンバータの精度を高めることなく、
高精度パターン描画を実現する方法として、主偏向ＤＡ
コンバータについては同じパターンをｎ回多重描画する
方法がある。通常、主偏向コンバータに入力されるデー
タは、パターンデータ位置と描画する際のステージ位置
との差であるため、毎描画時に異なる値が使われて平均
化されるためである。しかしながら副偏向ＤＡコンバー
タに入力されるデータは、毎描画時とも同一であるた
め、平均化効果はない。
高精度パターン描画を実現する方法として、主偏向ＤＡ
コンバータについては同じパターンをｎ回多重描画する
方法がある。通常、主偏向コンバータに入力されるデー
タは、パターンデータ位置と描画する際のステージ位置
との差であるため、毎描画時に異なる値が使われて平均
化されるためである。しかしながら副偏向ＤＡコンバー
タに入力されるデータは、毎描画時とも同一であるた
め、平均化効果はない。
【００１０】なお、ＤＡコンバータの精度を高めること
なく、高精度パターン描画を実現する方法として、副偏
向領域を１／ｎずつずらしながら主偏向領域を変化させ
て同一位置へｎ回多重描画する方法がある。この方法に
よれば、主偏向・副偏向の両ＤＡコンバータについて誤
差の平均化効果が得られるが、この方法は、パターンデ
ータの副偏向領域への切り出しを変更する必要があり、
データ変換処理に時間が掛かる。また、それぞれ切り出
し方を変えたパターンデータを複数用意する必要があ
り、パターンデータ量が増大するという問題があった。
なく、高精度パターン描画を実現する方法として、副偏
向領域を１／ｎずつずらしながら主偏向領域を変化させ
て同一位置へｎ回多重描画する方法がある。この方法に
よれば、主偏向・副偏向の両ＤＡコンバータについて誤
差の平均化効果が得られるが、この方法は、パターンデ
ータの副偏向領域への切り出しを変更する必要があり、
データ変換処理に時間が掛かる。また、それぞれ切り出
し方を変えたパターンデータを複数用意する必要があ
り、パターンデータ量が増大するという問題があった。
【００１１】本発明は、副偏向ＤＡコンバータの精度を
高めることなく、また、パターンデータ及びその変換処
理を複雑化することなく、効率的に高精度なパターンを
描画することができる荷電ビーム描画方法及びその装置
を提供することを目的としている。
高めることなく、また、パターンデータ及びその変換処
理を複雑化することなく、効率的に高精度なパターンを
描画することができる荷電ビーム描画方法及びその装置
を提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明による荷電ビーム描画方法は、可変成形された
荷電ビームを、ＤＡコンバータによって偏向量が制御さ
れる主偏向器及び副偏向器により、試料面上の所望位置
に導いて図形を描画する荷電ビーム描画方法において、
描画のためのパターンデータに基づいて前記主偏向器と
副偏向器の各ＤＡコンバータに与えられる主偏向制御信
号及び副偏向制御信号とは別に、前記両ＤＡコンバータ
に対し、パターンデータ上では前記試料面上における荷
電ビームの照射位置が変化しないようにそれぞれ逆方向
に所定量の偏向制御信号を与え、かつその偏向制御信号
の絶対値を順次変化させて前記パターンデータ上におけ
る同一位置に複数回荷電ビームを照射して描画すること
にある。
の本発明による荷電ビーム描画方法は、可変成形された
荷電ビームを、ＤＡコンバータによって偏向量が制御さ
れる主偏向器及び副偏向器により、試料面上の所望位置
に導いて図形を描画する荷電ビーム描画方法において、
描画のためのパターンデータに基づいて前記主偏向器と
副偏向器の各ＤＡコンバータに与えられる主偏向制御信
号及び副偏向制御信号とは別に、前記両ＤＡコンバータ
に対し、パターンデータ上では前記試料面上における荷
電ビームの照射位置が変化しないようにそれぞれ逆方向
に所定量の偏向制御信号を与え、かつその偏向制御信号
の絶対値を順次変化させて前記パターンデータ上におけ
る同一位置に複数回荷電ビームを照射して描画すること
にある。
【００１３】この方法によれば、描画のためのパターン
データに基づく主偏向制御信号及び副偏向制御信号とは
別に、主偏向器用及び副偏向器用の各ＤＡコンバータに
対し、前記偏向制御信号を与えるため、一般的なパター
ンデータを使用して描画を行うことができると共に、各
ＤＡコンバータに与える前記偏向制御信号は、絶対値が
順次変化（段階的または連続的のいずれでもよい）する
ため、各ＤＡコンバータのランダムな誤差が平均化さ
れ、実質的に各ＤＡコンバータの精度が向上したことに
なる。なお、この偏向制御信号は、レジスタや加・減算
回路などを使用することにより高速で行うことができ
る。
データに基づく主偏向制御信号及び副偏向制御信号とは
別に、主偏向器用及び副偏向器用の各ＤＡコンバータに
対し、前記偏向制御信号を与えるため、一般的なパター
ンデータを使用して描画を行うことができると共に、各
ＤＡコンバータに与える前記偏向制御信号は、絶対値が
順次変化（段階的または連続的のいずれでもよい）する
ため、各ＤＡコンバータのランダムな誤差が平均化さ
れ、実質的に各ＤＡコンバータの精度が向上したことに
なる。なお、この偏向制御信号は、レジスタや加・減算
回路などを使用することにより高速で行うことができ
る。
【００１４】上記目的を達成するための本発明による荷
電ビーム描画装置は、可変成形された荷電ビームを、Ｄ
Ａコンバータによって偏向量を制御される主偏向器及び
副偏向器により、試料面上の所望位置に導いて図形を描
画する荷電ビーム描画装置において、描画のためのパタ
ーンデータに基づいて前記主偏向器と副偏向器の各ＤＡ
コンバータに与えられる主偏向制御信号及び副偏向制御
信号とは別に、前記ＤＡコンバータに対し、パターンデ
ータ上では前記試料面上における荷電ビームの照射位置
が変化しないようにそれぞれ逆方向に所定量の偏向制御
信号を与えると共に、その偏向制御信号の絶対値を順次
変化させるようにした付加偏向制御手段を備えたもので
ある。
電ビーム描画装置は、可変成形された荷電ビームを、Ｄ
Ａコンバータによって偏向量を制御される主偏向器及び
副偏向器により、試料面上の所望位置に導いて図形を描
画する荷電ビーム描画装置において、描画のためのパタ
ーンデータに基づいて前記主偏向器と副偏向器の各ＤＡ
コンバータに与えられる主偏向制御信号及び副偏向制御
信号とは別に、前記ＤＡコンバータに対し、パターンデ
ータ上では前記試料面上における荷電ビームの照射位置
が変化しないようにそれぞれ逆方向に所定量の偏向制御
信号を与えると共に、その偏向制御信号の絶対値を順次
変化させるようにした付加偏向制御手段を備えたもので
ある。
【００１５】この装置では、主偏向器用及び副偏向器用
の各ＤＡコンバータには、描画のためのパターンデータ
に基づく主偏向制御信号及び副偏向制御信号とは別に、
付加偏向制御手段から前述したように各ＤＡコンバータ
のランダムな誤差を平均化するための偏向制御信号を与
える。この付加偏向制御手段としては、パターンデータ
に基づいて前記ＤＡコンバータを制御する偏向制御回路
に入力される主偏向データ及び副偏向データの一方に対
する加算回路及び他方に対する減算回路と、付加偏向の
ための偏向データを蓄え描画動作に同期して前記加算回
路及び減算回路に該付加偏向データを与えるレジスタと
からなるものが望ましい。
の各ＤＡコンバータには、描画のためのパターンデータ
に基づく主偏向制御信号及び副偏向制御信号とは別に、
付加偏向制御手段から前述したように各ＤＡコンバータ
のランダムな誤差を平均化するための偏向制御信号を与
える。この付加偏向制御手段としては、パターンデータ
に基づいて前記ＤＡコンバータを制御する偏向制御回路
に入力される主偏向データ及び副偏向データの一方に対
する加算回路及び他方に対する減算回路と、付加偏向の
ための偏向データを蓄え描画動作に同期して前記加算回
路及び減算回路に該付加偏向データを与えるレジスタと
からなるものが望ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の一形態につ
いて図１ないし図２を参照して説明する。なお、図１に
おいて、図３と同一部分には同一符号を付して説明を省
略する。
いて図１ないし図２を参照して説明する。なお、図１に
おいて、図３と同一部分には同一符号を付して説明を省
略する。
【００１７】３１はレジスタ、３２は加算回路、３３は
減算回路である。レジスタ３１は、１〜ｎの値を順次セ
ットされ、この値を、順次、加算回路３２と減算回路３
３へ同時に与えるようになっている。加算回路３２は、
パターンデータ発生回路２２から主偏向・副偏向制御回
路２３へ送られる主偏向データにレジスタ３１から与え
られる値を加算するようになっており、減算回路３３
は、同じくパターンデータ発生回路２２から主偏向・副
偏向制御回路２３へ送られる副偏向データからレジスタ
３１で与えられる値を減算するようになっている。その
他は、図３と同一の構成である。
減算回路である。レジスタ３１は、１〜ｎの値を順次セ
ットされ、この値を、順次、加算回路３２と減算回路３
３へ同時に与えるようになっている。加算回路３２は、
パターンデータ発生回路２２から主偏向・副偏向制御回
路２３へ送られる主偏向データにレジスタ３１から与え
られる値を加算するようになっており、減算回路３３
は、同じくパターンデータ発生回路２２から主偏向・副
偏向制御回路２３へ送られる副偏向データからレジスタ
３１で与えられる値を減算するようになっている。その
他は、図３と同一の構成である。
【００１８】次いで、この装置によりパターンを描画す
る様子を図２を参照して説明する。まず、レジスタ３１
に「０」をセットした状態で、ホスト計算機２１から送
られるパターンデータに基づきパターンデータ発生回路
２２から主・副偏向データを主偏向・副偏向制御回路２
３へ供給して描画すると、加算回路３２及び減算回路３
３による主・副偏向データの変化はなく、図２に示す基
本主偏向フィールド１１内の所定位置に描画図形１４が
描画される。
る様子を図２を参照して説明する。まず、レジスタ３１
に「０」をセットした状態で、ホスト計算機２１から送
られるパターンデータに基づきパターンデータ発生回路
２２から主・副偏向データを主偏向・副偏向制御回路２
３へ供給して描画すると、加算回路３２及び減算回路３
３による主・副偏向データの変化はなく、図２に示す基
本主偏向フィールド１１内の所定位置に描画図形１４が
描画される。
【００１９】次ぎに、レジスタ３１に「１」をセット
し、主・副偏向データを主・副偏向制御回路２３へ送る
直前に、加算回路３２と減算回路３３とにより主偏向デ
ータに「１」を加えると共に副偏向データから「１」を
減じる。こうして描画すると、主偏向フィールドは、図
２に符号１２で示す位置に変化するが、描画図形１４は
この主偏向フィールド１２内で逆方向に同量だけ移動す
るため、データ上では最初に描画した位置と同じ位置に
描画されることになる。
し、主・副偏向データを主・副偏向制御回路２３へ送る
直前に、加算回路３２と減算回路３３とにより主偏向デ
ータに「１」を加えると共に副偏向データから「１」を
減じる。こうして描画すると、主偏向フィールドは、図
２に符号１２で示す位置に変化するが、描画図形１４は
この主偏向フィールド１２内で逆方向に同量だけ移動す
るため、データ上では最初に描画した位置と同じ位置に
描画されることになる。
【００２０】さらに、レジスタ３１に「２」をセットし
て、同様に描画すると、主偏向フィールドは、符号１３
で示す位置に移動するが、描画図形１４の位置は、デー
タ上では変化せず、同じ位置に描画されることになる。
て、同様に描画すると、主偏向フィールドは、符号１３
で示す位置に移動するが、描画図形１４の位置は、デー
タ上では変化せず、同じ位置に描画されることになる。
【００２１】このようにして何回か多重描画を行うこと
により、最終的描画パターンが得られるが、それぞれの
描画における主偏向ＤＡＣ・アンプ（主偏向ＤＡコンバ
ータ）２４、副偏向ＤＡＣ・アンプ（副偏向ＤＡコンバ
ータ）２５の誤差に起因して、描画図形１４の実際の描
画位置はわずかながら異なる。
により、最終的描画パターンが得られるが、それぞれの
描画における主偏向ＤＡＣ・アンプ（主偏向ＤＡコンバ
ータ）２４、副偏向ＤＡＣ・アンプ（副偏向ＤＡコンバ
ータ）２５の誤差に起因して、描画図形１４の実際の描
画位置はわずかながら異なる。
【００２２】しかしながら描画図形１４の描画は多重描
画によって達成されるため、ＤＡコンバータのランダム
な誤差が低減されて描画される。これは、それぞれの描
画で生ずるＤＡコンバータの位置誤差には相関がないた
めに、多重度をＮとすれば、確率論により誤差の分散値
は１／・Ｎとなるためである。
画によって達成されるため、ＤＡコンバータのランダム
な誤差が低減されて描画される。これは、それぞれの描
画で生ずるＤＡコンバータの位置誤差には相関がないた
めに、多重度をＮとすれば、確率論により誤差の分散値
は１／・Ｎとなるためである。
【００２３】なお、上記主偏向フィールドの移動量及び
この主偏向フィールド内における描画図形１４の移動量
は微小であり、副偏向ＤＡコンバータ２５の偏向領域は
多少の余裕が存在するので、パターンデータを変更する
必要はない。
この主偏向フィールド内における描画図形１４の移動量
は微小であり、副偏向ＤＡコンバータ２５の偏向領域は
多少の余裕が存在するので、パターンデータを変更する
必要はない。
【００２４】前述した実施の形態では、パターンデータ
発生回路２２から主偏向・副偏向制御回路２３へ送られ
る主・副偏向データに、レジスタ３１から付加偏向制御
信号を与えるようにした例を示したが、本発明はこれに
限定されず、主偏向・副偏向制御回路２３から主・副偏
向ＤＡコンバータ２４、２５へそれぞれ送られる主・副
偏向制御信号に対して直接付加偏向制御信号を与えるよ
うにしてもよく、それを与える手段も種々変形実施可能
であることは言うまでもない。
発生回路２２から主偏向・副偏向制御回路２３へ送られ
る主・副偏向データに、レジスタ３１から付加偏向制御
信号を与えるようにした例を示したが、本発明はこれに
限定されず、主偏向・副偏向制御回路２３から主・副偏
向ＤＡコンバータ２４、２５へそれぞれ送られる主・副
偏向制御信号に対して直接付加偏向制御信号を与えるよ
うにしてもよく、それを与える手段も種々変形実施可能
であることは言うまでもない。
【００２５】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、ＤＡ
コンバータのランダムな誤差が統計的に平均化され、実
質的にＤＡコンバータの精度が向上したことになり、こ
のためＤＡコンバータの精度を高めることなく、安価な
ＤＡコンバータを使用しても高精度な描画を行うことが
でき、また、パターンデータ及びその変換処理は一般的
な描画と同じでよく、さらに、付加偏向制御も高速で行
うことができるため、効率的に高精度なパターンを描画
することができる。
コンバータのランダムな誤差が統計的に平均化され、実
質的にＤＡコンバータの精度が向上したことになり、こ
のためＤＡコンバータの精度を高めることなく、安価な
ＤＡコンバータを使用しても高精度な描画を行うことが
でき、また、パターンデータ及びその変換処理は一般的
な描画と同じでよく、さらに、付加偏向制御も高速で行
うことができるため、効率的に高精度なパターンを描画
することができる。
【図１】本発明による荷電ビーム描画装置の実施の一形
態の要部構成を示す図。
態の要部構成を示す図。
【図２】本発明による描画原理を示す図。
【図３】従来の荷電ビーム描画装置の要部構成を示す
図。
図。
１１ 基本主偏向フィールド １２、１３ 主偏向フィールド １４ 描画図形 ２０ 電子銃 ２１ ホスト計算機 ２２ パターンデータ発生回路 ２３ 主偏向・副偏向制御回路 ２４ 主偏向ＤＡＣ・アンプ（主偏向ＤＡコンバータ） ２５ 副偏向ＤＡＣ・アンプ（副偏向ＤＡコンバータ） ２６ 主偏向器 ２７ 副偏向器 ２８ 試料ステージ ２９ レーザー測長器 ３１ レジスタ ３２ 加算回路 ３３ 減算回路 Ｂ 電子ビーム
Claims (3)
- 【請求項１】 可変成形された荷電ビームを、ＤＡコン
バータによって偏向量が制御される主偏向器及び副偏向
器により、試料面上の所望位置に導いて図形を描画する
荷電ビーム描画方法において、描画のためのパターンデ
ータに基づいて前記主偏向器と副偏向器の各ＤＡコンバ
ータに与えられる主偏向制御信号及び副偏向制御信号と
は別に、前記両ＤＡコンバータに対し、パターンデータ
上では前記試料面上における荷電ビームの照射位置が変
化しないようにそれぞれ逆方向に所定量の偏向制御信号
を与え、かつその偏向制御信号の絶対値を順次変化させ
て前記パターンデータ上における同一位置に複数回荷電
ビームを照射して描画することを特徴とする荷電ビーム
描画方法。 - 【請求項２】 可変成形された荷電ビームを、ＤＡコン
バータによって偏向量を制御される主偏向器及び副偏向
器により、試料面上の所望位置に導いて図形を描画する
荷電ビーム描画装置において、描画のためのパターンデ
ータに基づいて前記主偏向器と副偏向器の各ＤＡコンバ
ータに与えられる主偏向制御信号及び副偏向制御信号と
は別に、前記ＤＡコンバータに対し、パターンデータ上
では前記試料面上における荷電ビームの照射位置が変化
しないようにそれぞれ逆方向に所定量の偏向制御信号を
与えると共に、その偏向制御信号の絶対値を順次変化さ
せるようにした付加偏向制御手段を備えたことを特徴と
する荷電ビーム描画装置。 - 【請求項３】 前記付加偏向制御手段は、パターンデー
タに基づいて前記ＤＡコンバータを制御する偏向制御回
路に入力される主偏向データ及び副偏向データの一方に
対する加算回路及び他方に対する減算回路と、付加偏向
のための偏向データを蓄え描画動作に同期して前記加算
回路及び減算回路に付加偏向データを与えるレジスタと
からなることを特徴とする請求項２記載の荷電ビーム描
画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02590199A JP3584962B2 (ja) | 1999-02-03 | 1999-02-03 | 荷電ビーム描画方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02590199A JP3584962B2 (ja) | 1999-02-03 | 1999-02-03 | 荷電ビーム描画方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000223409A true JP2000223409A (ja) | 2000-08-11 |
| JP3584962B2 JP3584962B2 (ja) | 2004-11-04 |
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ID=12178702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02590199A Expired - Fee Related JP3584962B2 (ja) | 1999-02-03 | 1999-02-03 | 荷電ビーム描画方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3584962B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100866203B1 (ko) | 2006-03-31 | 2008-10-30 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 하전 입자 빔 장치, ｄａ 변환 장치의 이상 검출 방법,하전 입자 빔 묘화 방법 및 마스크 |
-
1999
- 1999-02-03 JP JP02590199A patent/JP3584962B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100866203B1 (ko) | 2006-03-31 | 2008-10-30 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 하전 입자 빔 장치, ｄａ 변환 장치의 이상 검출 방법,하전 입자 빔 묘화 방법 및 마스크 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3584962B2 (ja) | 2004-11-04 |
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