JP2000219824A - 光硬化銀塗料とこれが塗工されたシート類 - Google Patents
光硬化銀塗料とこれが塗工されたシート類Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光硬化銀塗料が早期に乾燥できるようにし、光
硬化銀塗料を用いた製品の製造効率を向上させる。 【解決手段】銀粉末と光硬化性樹脂と３００〜４５０ｎ
ｍの波長域に光吸収極大を有する光硬化開始剤あるいは
光増感剤とを必須成分とした。
硬化銀塗料を用いた製品の製造効率を向上させる。 【解決手段】銀粉末と光硬化性樹脂と３００〜４５０ｎ
ｍの波長域に光吸収極大を有する光硬化開始剤あるいは
光増感剤とを必須成分とした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光硬化性の銀塗料と
これが塗工されたシート類に関するものである。
これが塗工されたシート類に関するものである。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】従来から光硬化銀塗料
は、ＩＣカード、磁気カードなどの内層の遮光材、スク
ラッチカードの隠蔽部分の形成、各種セキュリティ印刷
などに使用されている。しかし、この従来の光硬化銀塗
料を用いて所要のパターンや遮光層などを形成する場
合、スクリーン印刷あるいはオフセット印刷の後、オー
ブン内での数１０分以上の溶剤揮発乾燥や、浸透による
数時間単位の乾燥が必要とされていて、この銀塗料を用
いた製品を効率良く製造することができないという問題
があった。そこで本発明は上記事情に鑑み、光硬化銀塗
料が早期に乾燥できるようにすることを課題とし、光硬
化銀塗料を用いた製品の製造効率を向上させることを目
的とする。
は、ＩＣカード、磁気カードなどの内層の遮光材、スク
ラッチカードの隠蔽部分の形成、各種セキュリティ印刷
などに使用されている。しかし、この従来の光硬化銀塗
料を用いて所要のパターンや遮光層などを形成する場
合、スクリーン印刷あるいはオフセット印刷の後、オー
ブン内での数１０分以上の溶剤揮発乾燥や、浸透による
数時間単位の乾燥が必要とされていて、この銀塗料を用
いた製品を効率良く製造することができないという問題
があった。そこで本発明は上記事情に鑑み、光硬化銀塗
料が早期に乾燥できるようにすることを課題とし、光硬
化銀塗料を用いた製品の製造効率を向上させることを目
的とする。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を考慮
してなされたもので、銀粉末と光硬化性樹脂と３００〜
４５０ｎｍの波長域に光吸収極大を有する光硬化開始剤
あるいは光増感剤とを必須成分とすることを特徴とする
光硬化銀塗料を提供して、上記課題を解消するものであ
る。そして、本発明にあっては、光硬化性樹脂が、アク
リレート化合物およびメタクリレート化合物であるもの
とすることが可能であり、また、光硬化性樹脂が、脂環
式エポキシ化合物、オキセタン化合物、アルケンオキシ
ド化合物、グリシジルエーテル化合物、あるいはビニル
エーテル化合物であるものとすることが可能である。ま
た、光硬化開始剤あるいは光増感剤に、［４−（メチル
フェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、エチルア
ントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノ
ン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシナフチ
ル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル
（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン、ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、あるいはペ
リレンを少なくとも一種を用いるものとすることが可能
である。そして、もう一つの発明は、上記光硬化銀塗料
が塗工されていることを特徴とするシート類であり、こ
のシート類を提供して上記課題を解消するものである。
してなされたもので、銀粉末と光硬化性樹脂と３００〜
４５０ｎｍの波長域に光吸収極大を有する光硬化開始剤
あるいは光増感剤とを必須成分とすることを特徴とする
光硬化銀塗料を提供して、上記課題を解消するものであ
る。そして、本発明にあっては、光硬化性樹脂が、アク
リレート化合物およびメタクリレート化合物であるもの
とすることが可能であり、また、光硬化性樹脂が、脂環
式エポキシ化合物、オキセタン化合物、アルケンオキシ
ド化合物、グリシジルエーテル化合物、あるいはビニル
エーテル化合物であるものとすることが可能である。ま
た、光硬化開始剤あるいは光増感剤に、［４−（メチル
フェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、エチルア
ントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノ
ン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシナフチ
ル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル
（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン、ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、あるいはペ
リレンを少なくとも一種を用いるものとすることが可能
である。そして、もう一つの発明は、上記光硬化銀塗料
が塗工されていることを特徴とするシート類であり、こ
のシート類を提供して上記課題を解消するものである。
【０００４】
【作用】本発明の光硬化銀塗料は、銀粉末、光硬化
性樹脂、２７０〜７００ｎｍの波長域において、３０
０〜４５０ｎｍの波長域に光吸収極大を有する光硬化開
始剤あるいは光増感剤を必須成分とする。上記の銀粉
末は、印刷性を良好にコントロールするため平均粒径、
比表面積、タップ密度などの各種形状の異なる粉末を２
種以上混合して用いてもよい。また、粉末のペースト中
の有機組成物との親和性を向上させて、ペースト中での
粉末の分散性を向上させるために、粉末の製造工程中あ
るいは製造後に粉末の表面の処理を行ってもよい。表面
処理剤は、公知のものを用いることができる。上記の
光硬化性樹脂としては、発生したフリーラジカル活性種
あるいはカチオン活性種と反応する官能基を有する反応
性樹脂である。公知のものが使用できるが、フリーラジ
カル種で反応するものとしては、アクリレート化合物お
よびメタクリレート化合物が好ましく、カチオン活性種
で反応するものとしては、脂環式エポキシ化合物、オキ
セタン化合物、アルケンオキシド化合物、グリシジルエ
ーテル化合物、ビニルエーテル化合物が好ましい。速硬
化とするには一分子当たりの平均の反応基数が多い方が
よいが、極度の多官能化は硬化収縮が著しくなり塗膜に
シワが生ずるため、一分子当たり平均４個を上限とする
方が好ましい。また、いずれの場合にも２種以上を混合
して用いてもよい。これらの樹脂全体の粘度は、銀粉と
の混練やペーストの印刷特性を保持するために、２５℃
で１〜５０００ｍＰａ・ｓ（cpoise）が好ましいが、１
０〜２０００ｍＰａ・ｓ（cpoise）がより好ましい。
性樹脂、２７０〜７００ｎｍの波長域において、３０
０〜４５０ｎｍの波長域に光吸収極大を有する光硬化開
始剤あるいは光増感剤を必須成分とする。上記の銀粉
末は、印刷性を良好にコントロールするため平均粒径、
比表面積、タップ密度などの各種形状の異なる粉末を２
種以上混合して用いてもよい。また、粉末のペースト中
の有機組成物との親和性を向上させて、ペースト中での
粉末の分散性を向上させるために、粉末の製造工程中あ
るいは製造後に粉末の表面の処理を行ってもよい。表面
処理剤は、公知のものを用いることができる。上記の
光硬化性樹脂としては、発生したフリーラジカル活性種
あるいはカチオン活性種と反応する官能基を有する反応
性樹脂である。公知のものが使用できるが、フリーラジ
カル種で反応するものとしては、アクリレート化合物お
よびメタクリレート化合物が好ましく、カチオン活性種
で反応するものとしては、脂環式エポキシ化合物、オキ
セタン化合物、アルケンオキシド化合物、グリシジルエ
ーテル化合物、ビニルエーテル化合物が好ましい。速硬
化とするには一分子当たりの平均の反応基数が多い方が
よいが、極度の多官能化は硬化収縮が著しくなり塗膜に
シワが生ずるため、一分子当たり平均４個を上限とする
方が好ましい。また、いずれの場合にも２種以上を混合
して用いてもよい。これらの樹脂全体の粘度は、銀粉と
の混練やペーストの印刷特性を保持するために、２５℃
で１〜５０００ｍＰａ・ｓ（cpoise）が好ましいが、１
０〜２０００ｍＰａ・ｓ（cpoise）がより好ましい。
【０００５】上記について説明すると、銀の反射率
は、理科年表（１９８６年 丸善株式会社）５１１ペー
ジなどに記載されているとおり、３００〜３２０ｎｍに
おいて反射率が２０％以下になる特性を示す（図１参
照）。この波長域では銀が光を吸収し、エネルギー伝達
が起きて近接する他の物質を励起させることが可能にな
る。その際には供与するエネルギーは銀自体が励起され
たエネルギー以下になるため、３００〜３２０ｎｍのみ
ならずそれより長波長側で光吸収する物質であっても励
起エネルギーを受容可能である。そこでこの条件に合う
開始剤あるいは増感剤を用いることで、金属による反射
や遮光により不利と考えられた光硬化が達成される。た
だし、吸収波長が離れすぎると、エネルギー伝達確率が
低くなり好ましくないため、長波長側でも４５０ｎｍ以
下であることが好ましい。ここで２７０〜７００ｎｍの
波長域において、３００〜４５０ｎｍの波長域に光吸収
極大を有する光硬化開始剤あるいは光増感剤は、公知の
ものを用いることが出来る。例示すれば、光硬化開始剤
としては、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フ
ェニルメタノン（例えば、日本化薬株式会社製 商品名
カヤキュアＢＭＳ、吸収極大３１５ｎｍ）、エチルア
ントラキノン（例えば、日本化薬株式会社製 商品名
カヤキュア２−ＥＡＱ、吸収極大３２５ｎｍ）、２，４
−ジエチルチオキサントン（例えば、日本化薬株式会社
製 商品名 カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ、吸収極大３８５
ｎｍ）、２−クロロチオキサントン（例えば、日本化薬
株式会社製 商品名 カヤキュアＣＴＸ、吸収極大３８
５ｎｍ）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン（例え
ば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製 商品名 Ｉ
ｒｇａｃｕｒｅ３６９、吸収極大３２０ｎｍ）、２，４
−トリクロロメチル（４’−メトキシナフチル）−６−
トリアジン（例えば、ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製 商品名
ＴＲＩＡＺＩＮＥ Ｂ、吸収極大３８０ｎｍ）、２，
４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６
−トリアジン（例えば、ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製 商品
名 ＴＲＩＡＺＩＮＥ ＰＭＳ、吸収極大３７５ｎ
ｍ）、などが挙げられ、光増感剤としては、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミルエステル（例えば、日本化
薬株式会社製 商品名 カヤキュアＤＭＢＩ、吸収極大
３１５ｎｍ）、ペリレン（吸収極大４３０ｎｍ）などが
挙げられる。また、以上の内から２種以上を混合して用
いてもよい。なお、吸収極大波長は、紫外線・可視光吸
収スペクトル測定により容易に確認することができる。
また、反応性をコントロールするために、ヒドロキシ化
合物、アミノ化合物などの反応助剤を添加してもよい。
この場合、添加量はの重量に対して、０．０１〜２０
０％が好ましい。
は、理科年表（１９８６年 丸善株式会社）５１１ペー
ジなどに記載されているとおり、３００〜３２０ｎｍに
おいて反射率が２０％以下になる特性を示す（図１参
照）。この波長域では銀が光を吸収し、エネルギー伝達
が起きて近接する他の物質を励起させることが可能にな
る。その際には供与するエネルギーは銀自体が励起され
たエネルギー以下になるため、３００〜３２０ｎｍのみ
ならずそれより長波長側で光吸収する物質であっても励
起エネルギーを受容可能である。そこでこの条件に合う
開始剤あるいは増感剤を用いることで、金属による反射
や遮光により不利と考えられた光硬化が達成される。た
だし、吸収波長が離れすぎると、エネルギー伝達確率が
低くなり好ましくないため、長波長側でも４５０ｎｍ以
下であることが好ましい。ここで２７０〜７００ｎｍの
波長域において、３００〜４５０ｎｍの波長域に光吸収
極大を有する光硬化開始剤あるいは光増感剤は、公知の
ものを用いることが出来る。例示すれば、光硬化開始剤
としては、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フ
ェニルメタノン（例えば、日本化薬株式会社製 商品名
カヤキュアＢＭＳ、吸収極大３１５ｎｍ）、エチルア
ントラキノン（例えば、日本化薬株式会社製 商品名
カヤキュア２−ＥＡＱ、吸収極大３２５ｎｍ）、２，４
−ジエチルチオキサントン（例えば、日本化薬株式会社
製 商品名 カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ、吸収極大３８５
ｎｍ）、２−クロロチオキサントン（例えば、日本化薬
株式会社製 商品名 カヤキュアＣＴＸ、吸収極大３８
５ｎｍ）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン（例え
ば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製 商品名 Ｉ
ｒｇａｃｕｒｅ３６９、吸収極大３２０ｎｍ）、２，４
−トリクロロメチル（４’−メトキシナフチル）−６−
トリアジン（例えば、ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製 商品名
ＴＲＩＡＺＩＮＥ Ｂ、吸収極大３８０ｎｍ）、２，
４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６
−トリアジン（例えば、ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製 商品
名 ＴＲＩＡＺＩＮＥ ＰＭＳ、吸収極大３７５ｎ
ｍ）、などが挙げられ、光増感剤としては、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミルエステル（例えば、日本化
薬株式会社製 商品名 カヤキュアＤＭＢＩ、吸収極大
３１５ｎｍ）、ペリレン（吸収極大４３０ｎｍ）などが
挙げられる。また、以上の内から２種以上を混合して用
いてもよい。なお、吸収極大波長は、紫外線・可視光吸
収スペクトル測定により容易に確認することができる。
また、反応性をコントロールするために、ヒドロキシ化
合物、アミノ化合物などの反応助剤を添加してもよい。
この場合、添加量はの重量に対して、０．０１〜２０
０％が好ましい。
【０００６】上記銀粉末と光硬化性樹脂組成物の重
量比は特に限定されるものではないが、１０／９０〜９
５／５が好ましく、より好ましくは３０／７０〜９０／
１０である。さらに、本発明の効果を損なわないような
範囲で、公知の、シリカ、アルミナ、マイカ、炭素粉、
顔料、染料、重合禁止剤、増粘剤、チキソトロピー剤、
沈殿防止剤、酸化防止剤、分散剤、各種樹脂、各種有機
溶媒などを加えてもよい。これらの添加量の総和は、
銀粉末と光硬化性樹脂の重量和に対して５０％以下が
好ましい。
量比は特に限定されるものではないが、１０／９０〜９
５／５が好ましく、より好ましくは３０／７０〜９０／
１０である。さらに、本発明の効果を損なわないような
範囲で、公知の、シリカ、アルミナ、マイカ、炭素粉、
顔料、染料、重合禁止剤、増粘剤、チキソトロピー剤、
沈殿防止剤、酸化防止剤、分散剤、各種樹脂、各種有機
溶媒などを加えてもよい。これらの添加量の総和は、
銀粉末と光硬化性樹脂の重量和に対して５０％以下が
好ましい。
【０００７】本発明の塗料に添加できる樹脂として公知
のものが使用可能である。例えば、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、キシレン樹
脂、アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂、フラン樹脂、ウレタン樹脂な
どの熱硬化樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルアルコール、ポリアセタール、ポリカーボネー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレー卜、ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォ
ン、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレ
ート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ４フッ化エチ
レン、シリコーン樹脂などが挙げられ、一種または二種
以上の組み合わせも可能である。本発明の塗料に添加で
きる溶剤は、公知のものが使用可能である。ただし硬化
反応の後に系内への残存を避けるため、沸点は２５０℃
以下が好ましい。例えば、トルエン、シクロへキサン、
メチルシクロへキサン、ｎ−へキサン、ペンタンなどの
炭化水素溶媒、イソプロピルアルコール、ブチルアルコ
ールなどのアルコール類、シクロへキサノン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケト
ン、イソホロンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシ−３−メチルブチ
ルなどのエステル類、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、などのグリコ
ールモノエーテル類およびそれらのアセテート化物、さ
らに以上挙げた溶剤の一種ないしは二種以上の混合系が
用いられる。
のものが使用可能である。例えば、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、キシレン樹
脂、アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂、フラン樹脂、ウレタン樹脂な
どの熱硬化樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルアルコール、ポリアセタール、ポリカーボネー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレー卜、ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォ
ン、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレ
ート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ４フッ化エチ
レン、シリコーン樹脂などが挙げられ、一種または二種
以上の組み合わせも可能である。本発明の塗料に添加で
きる溶剤は、公知のものが使用可能である。ただし硬化
反応の後に系内への残存を避けるため、沸点は２５０℃
以下が好ましい。例えば、トルエン、シクロへキサン、
メチルシクロへキサン、ｎ−へキサン、ペンタンなどの
炭化水素溶媒、イソプロピルアルコール、ブチルアルコ
ールなどのアルコール類、シクロへキサノン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケト
ン、イソホロンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシ−３−メチルブチ
ルなどのエステル類、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、などのグリコ
ールモノエーテル類およびそれらのアセテート化物、さ
らに以上挙げた溶剤の一種ないしは二種以上の混合系が
用いられる。
【０００８】本発明の光硬化銀塗料の作製方法は、上記
の混合物をホモジナイザーなどの撹拌機で均質に撹拌混
合した後、３本ロールあるいはニーダーなどの混練機で
さらに均質に分散する方法が挙げられるがこれに限定さ
れない。本発明の塗料の粘度は、塗布性および塗布後の
印刷厚みを適当なものとするためには１０〜１００万ｍ
Ｐａ・ｓが好ましく、より好ましくは１０００〜３０万
ｍＰａ・ｓである。本発明の光硬化銀塗料を用いてスク
リーン印刷、オフセット印刷、あるいはコーターを用い
るなど公知の方法にてパターンを形成する基材として
は、セラミックおよびガラスをはじめ、無機繊維あるい
は有機繊維の織物あるいは不織布、紙、それらと熱硬化
性樹脂あるいは熱可塑性樹脂との複合材、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リイミド、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリ塩化ビニル、シリコーンなどに代表される
プラスチックなどの公知ものを使用することが出来る。
またこれらの基材の表面には、塗布性や定着性を改善す
るために、カップリング剤処理やプライマー処理などの
化学的処理や、コロナ放電処理、研磨処理などの物理的
処理を施してもよい。
の混合物をホモジナイザーなどの撹拌機で均質に撹拌混
合した後、３本ロールあるいはニーダーなどの混練機で
さらに均質に分散する方法が挙げられるがこれに限定さ
れない。本発明の塗料の粘度は、塗布性および塗布後の
印刷厚みを適当なものとするためには１０〜１００万ｍ
Ｐａ・ｓが好ましく、より好ましくは１０００〜３０万
ｍＰａ・ｓである。本発明の光硬化銀塗料を用いてスク
リーン印刷、オフセット印刷、あるいはコーターを用い
るなど公知の方法にてパターンを形成する基材として
は、セラミックおよびガラスをはじめ、無機繊維あるい
は有機繊維の織物あるいは不織布、紙、それらと熱硬化
性樹脂あるいは熱可塑性樹脂との複合材、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リイミド、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリ塩化ビニル、シリコーンなどに代表される
プラスチックなどの公知ものを使用することが出来る。
またこれらの基材の表面には、塗布性や定着性を改善す
るために、カップリング剤処理やプライマー処理などの
化学的処理や、コロナ放電処理、研磨処理などの物理的
処理を施してもよい。
【０００９】本発明の光硬化銀塗料を硬化する光源とし
ては、高庄水銀灯、超高圧水銀灯、無電極放電ランプ、
エキシマランプ、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ、各種レーザー、半導体レーザーなど公知ものを使用
することが出来るが、３００〜４５０ｎｍの波長域に比
較的多くエネルギー強度分布を持つ高圧水銀灯およびメ
タルハライドランプが特に好ましい。硬化後の特性をさ
らに向上するために、光照射前、光照射後あるいは光照
射と同時に、基材が、着色、熱収縮、軟化、脆化、炭化
などの著しい劣化をしない限りにおいて、オーブン内加
熱、熱風吹きつけ、赤外線あるいはマイクロ波照射など
を利用して、加熱処理を併用しても構わない。本発明の
メリットを損なわないために、加熱温度は、１００℃以
下が好ましく、加熱時間は１０分以内が好ましい。
ては、高庄水銀灯、超高圧水銀灯、無電極放電ランプ、
エキシマランプ、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ、各種レーザー、半導体レーザーなど公知ものを使用
することが出来るが、３００〜４５０ｎｍの波長域に比
較的多くエネルギー強度分布を持つ高圧水銀灯およびメ
タルハライドランプが特に好ましい。硬化後の特性をさ
らに向上するために、光照射前、光照射後あるいは光照
射と同時に、基材が、着色、熱収縮、軟化、脆化、炭化
などの著しい劣化をしない限りにおいて、オーブン内加
熱、熱風吹きつけ、赤外線あるいはマイクロ波照射など
を利用して、加熱処理を併用しても構わない。本発明の
メリットを損なわないために、加熱温度は、１００℃以
下が好ましく、加熱時間は１０分以内が好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の光硬化銀塗料の作
製、およびそれらを用いて印刷し、光硬化を行う実施例
について説明する。ただしこれらの実施例に本発明の範
囲が限定されるものではない。 光硬化銀塗料の作製 実施例１〜１２ 表１に示したような配合で混合し、ニーダーで撹拌混合
の後、三本ロールにより均質化して、本発明の銀塗料を
得る。上記の銀塗料を用いて、１８０メッシュ乳剤厚１
５μｍのスクリーン版で１ｍｍ幅×１ｍ長のパターンを
基材上に、スクリーン印刷を行ってシートを得た。印刷
層の厚みは約１５μｍであった。基材としては、紙は、
日本製紙株式会社製ＮＰＩ−５５、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルムは、東レ株式会社製ルミラ
ーＳを用いた。硬化反応は、８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力
の高圧水銀灯、または８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力のメタ
ルハライドを光源として用いて、コンベア式照射装置で
光照射した。硬化に要した光エネルギーおよび硬化後の
表面の鉛筆強度を表１に示す。
製、およびそれらを用いて印刷し、光硬化を行う実施例
について説明する。ただしこれらの実施例に本発明の範
囲が限定されるものではない。 光硬化銀塗料の作製 実施例１〜１２ 表１に示したような配合で混合し、ニーダーで撹拌混合
の後、三本ロールにより均質化して、本発明の銀塗料を
得る。上記の銀塗料を用いて、１８０メッシュ乳剤厚１
５μｍのスクリーン版で１ｍｍ幅×１ｍ長のパターンを
基材上に、スクリーン印刷を行ってシートを得た。印刷
層の厚みは約１５μｍであった。基材としては、紙は、
日本製紙株式会社製ＮＰＩ−５５、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルムは、東レ株式会社製ルミラ
ーＳを用いた。硬化反応は、８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力
の高圧水銀灯、または８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力のメタ
ルハライドを光源として用いて、コンベア式照射装置で
光照射した。硬化に要した光エネルギーおよび硬化後の
表面の鉛筆強度を表１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】光反応性樹脂／ Ｍ−２４０：東亞合成株式会社製アロニックスＭ−２４
０（ポリエチレングリコールジアクリレート）、 Ｍ−３６０：東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３６
０（トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ
アクリレート）、 Ｍ−４０８：東亞合成株式会社製アロニックスＭ−４０
８（ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート） ＫＳ−８００：旭電化工業株式会社製アデカオプトマー
ＫＳ−８００（エポキシ樹脂と芳香族スルホニウム塩化
合物との混合物）、 ＵＶＲ−６１０５：ユニオンカーバイド社製ＣＹＲＡＣ
ＵＲＥ ＵＶＲ−６１０５（３，４−エポキシシクロへ
キシルメチル−３，４−エポキシシクロへキシルカルボ
キシレート）、 リモネンジオキシド：Ｅｌｆ Ａｔｏｃｈｅｍ社製リモ
ネンジオキシド（１−メチル−４−（２−メチルオキシ
ラニル）−７−オキサビシクロ［４，１，０］へプタ
ン）、 光開始剤（光硬化開始剤）／ ＢＭＳ：日本化薬株式会社製カヤキュアＢＭＳ（[４−
（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノ
ン）、 ２−ＥＡＱ：日本化薬株式会社製カヤキュア２−ＥＡＱ
（エチルアントラキノン）、 トリアジンＡ：ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製ＴＲＩＡＺＩＮ
Ｅ Ｂ（２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシナ
フチル）−６−トリアジン）、 トリアジンＰＭＳ：ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製ＴＲＩＡＺ
ＩＮＥ ＰＭＳ（２，４−トリクロロメチル（４’−メ
トキシスチリル）−６−トリアジン）、 ＤＥＴＸ−Ｓ：日本化薬株式会社製カヤキュアＤＥＴＸ
−Ｓ（２，４−ジエチルチオキサントン）、 ＣＴＸ：日本化薬株式会社製カヤキュアＣＴＸ（２−ク
ロロチオキサントン）、 Ｉ−３６９：Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ社製Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９（２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）−１−ブタノン）、 ＳＰ−１７０：旭電化工業株式会社製アデカオプトマー
ＳＰ−１７０（芳香族スルホニウム塩化合物）、 ＣＰ−６６：旭電化工業株式会社製アデカオプトンＣＰ
−６６（芳香族スルホニウム塩化合物） 光増感剤／ ＤＭＢＩ：日本化薬株式会社製カヤキュアＤＭＢＩ（ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル） 銀粉／ Ｅ−２０：株式会社徳力本店製シルベストＥ−２０、 Ｇ−１２：同和鉱業株式会社製Ｇ−１２、 ＴＣＧ−１：株式会社徳力本店製シルベストＴＣＧ−１ 光源／ Ｈｇ：８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力の高圧水銀灯、 ＭＨ：８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力のメタルハライドラン
プ 硬化エネルギー／ 塗膜がタックフリーになり基材に定着するのに要した光
照射エネルギーで、３２０〜３９０ｎｍの波長域で、米
国ＥＩＴ ＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｔｉｏｎＥｑｕｉｐ
ｍｅｎｔｓ社ＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫを用いて測定
したもの。
０（ポリエチレングリコールジアクリレート）、 Ｍ−３６０：東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３６
０（トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ
アクリレート）、 Ｍ−４０８：東亞合成株式会社製アロニックスＭ−４０
８（ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート） ＫＳ−８００：旭電化工業株式会社製アデカオプトマー
ＫＳ−８００（エポキシ樹脂と芳香族スルホニウム塩化
合物との混合物）、 ＵＶＲ−６１０５：ユニオンカーバイド社製ＣＹＲＡＣ
ＵＲＥ ＵＶＲ−６１０５（３，４−エポキシシクロへ
キシルメチル−３，４−エポキシシクロへキシルカルボ
キシレート）、 リモネンジオキシド：Ｅｌｆ Ａｔｏｃｈｅｍ社製リモ
ネンジオキシド（１−メチル−４−（２−メチルオキシ
ラニル）−７−オキサビシクロ［４，１，０］へプタ
ン）、 光開始剤（光硬化開始剤）／ ＢＭＳ：日本化薬株式会社製カヤキュアＢＭＳ（[４−
（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノ
ン）、 ２−ＥＡＱ：日本化薬株式会社製カヤキュア２−ＥＡＱ
（エチルアントラキノン）、 トリアジンＡ：ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製ＴＲＩＡＺＩＮ
Ｅ Ｂ（２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシナ
フチル）−６−トリアジン）、 トリアジンＰＭＳ：ＰＡＮＣＨＩＭ ＳＡ製ＴＲＩＡＺ
ＩＮＥ ＰＭＳ（２，４−トリクロロメチル（４’−メ
トキシスチリル）−６−トリアジン）、 ＤＥＴＸ−Ｓ：日本化薬株式会社製カヤキュアＤＥＴＸ
−Ｓ（２，４−ジエチルチオキサントン）、 ＣＴＸ：日本化薬株式会社製カヤキュアＣＴＸ（２−ク
ロロチオキサントン）、 Ｉ−３６９：Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ社製Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９（２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）−１−ブタノン）、 ＳＰ−１７０：旭電化工業株式会社製アデカオプトマー
ＳＰ−１７０（芳香族スルホニウム塩化合物）、 ＣＰ−６６：旭電化工業株式会社製アデカオプトンＣＰ
−６６（芳香族スルホニウム塩化合物） 光増感剤／ ＤＭＢＩ：日本化薬株式会社製カヤキュアＤＭＢＩ（ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル） 銀粉／ Ｅ−２０：株式会社徳力本店製シルベストＥ−２０、 Ｇ−１２：同和鉱業株式会社製Ｇ−１２、 ＴＣＧ−１：株式会社徳力本店製シルベストＴＣＧ−１ 光源／ Ｈｇ：８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力の高圧水銀灯、 ＭＨ：８０ｗ／ｃｍの４ｋｗ出力のメタルハライドラン
プ 硬化エネルギー／ 塗膜がタックフリーになり基材に定着するのに要した光
照射エネルギーで、３２０〜３９０ｎｍの波長域で、米
国ＥＩＴ ＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｔｉｏｎＥｑｕｉｐ
ｍｅｎｔｓ社ＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫを用いて測定
したもの。
【００１３】比較実施例１〜５ ２７０〜７００ｎｍの波長域において、３００〜４５０
ｎｍの波長域に光吸収極大を有しない光硬化開始剤ある
いは光増感剤を用いた比較実施例である。表２に示した
ような配合で混合し、実施例１〜２と同様にして銀塗料
を得、同じ基材上にスクリーン印刷を行った。また実施
例１〜１２と同じ装置を用いて光硬化反応を行った。硬
化に要した光エネルギーおよび硬化後の表面の鉛筆強度
を表２に示す。全てにおいてタックフリーに至らず、鉛
筆強度測定は出来なかった。なお、ここで用いた開始剤
のベンゾフェノンの吸収極大は２５５ｎｍである。
ｎｍの波長域に光吸収極大を有しない光硬化開始剤ある
いは光増感剤を用いた比較実施例である。表２に示した
ような配合で混合し、実施例１〜２と同様にして銀塗料
を得、同じ基材上にスクリーン印刷を行った。また実施
例１〜１２と同じ装置を用いて光硬化反応を行った。硬
化に要した光エネルギーおよび硬化後の表面の鉛筆強度
を表２に示す。全てにおいてタックフリーに至らず、鉛
筆強度測定は出来なかった。なお、ここで用いた開始剤
のベンゾフェノンの吸収極大は２５５ｎｍである。
【００１４】
【表２】
【００１５】
【発明の効果】以上説明した本発明により、従来では熱
硬化が不可欠であった銀をフィラーとする塗料を、光照
射だけで硬化させることができる。そして、熱硬化型で
は１００℃以上数１０分以上必要としていた処理時間
が、光照射により数秒から数分のオーダーまで短縮する
ことができるため、この光硬化銀塗料を用いたシート類
の量産性が上がり、低コストのものとなるなど、実用性
に優れた効果を奏するものである。
硬化が不可欠であった銀をフィラーとする塗料を、光照
射だけで硬化させることができる。そして、熱硬化型で
は１００℃以上数１０分以上必要としていた処理時間
が、光照射により数秒から数分のオーダーまで短縮する
ことができるため、この光硬化銀塗料を用いたシート類
の量産性が上がり、低コストのものとなるなど、実用性
に優れた効果を奏するものである。
【図１】銀蒸着面の各波長における反射率をグラフにて
示す説明図である。
示す説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J038 DB021 DB261 FA061 FA111 HA066 JA33 JB35 JC08 KA03 NA19 PA17 PC03 PC08 PC10 4J039 AD21 AE05 AE07 BA06 BA39 BC05 BC16 BC17 BC20 BC33 BC52 BC53 BC54 BC55 BC65 BC68 BC69 BC73 BE01 BE27 CA07 EA05 EA10 EA21 GA02 GA10 GA11
Claims (5)
- 【請求項１】銀粉末と光硬化性樹脂と３００〜４５０ｎ
ｍの波長域に光吸収極大を有する光硬化開始剤あるいは
光増感剤とを必須成分とすることを特徴とする光硬化銀
塗料。 - 【請求項２】光硬化性樹脂が、アクリレート化合物およ
びメタクリレート化合物である請求項１記載の光硬化銀
塗料。 - 【請求項３】光硬化性樹脂が、脂環式エポキシ化合物、
オキセタン化合物、アルケンオキシド化合物、グリシジ
ルエーテル化合物、あるいはビニルエーテル化合物であ
る請求項１に記載の光硬化銀塗料。 - 【請求項４】光硬化開始剤あるいは光増感剤に、［４−
（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、
エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２−クロロチオキサントン、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１
−ブタノン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキ
シナフチル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメ
チル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、あるい
はペリレンを少なくとも一種を用いる請求項１から３の
何れか一項に記載の光硬化銀塗料。 - 【請求項５】請求項１から４の何れか一項に記載の光硬
化銀塗料が塗工されていることを特徴とするシート類。
Priority Applications (22)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2313399A JP2000219824A (ja) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | 光硬化銀塗料とこれが塗工されたシート類 |
| TW88116370A TW460560B (en) | 1998-09-30 | 1999-09-23 | Electric conductive past and method for hardening for electric conductive past and method for forming antenna for contactless receiving-transmitting data device using electric-conductivity past and contactless receiving-transmitting data device |
| KR1019990041444A KR100629923B1 (ko) | 1998-09-30 | 1999-09-28 | 도전성페이스트와 도전성페이스트의 경화방법, 및 도전성페이스트를 이용한 비접촉형 데이터송수신체용 안테나의 형성방법과, 비접촉형 데이터송수신체 |
| EP04017379A EP1484714A1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Conductive paste and method of forming antenna for transponder |
| EP04017374A EP1484713B1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Conductive paste and method of forming an antenna for transponder |
| DE69935021T DE69935021T2 (de) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Verfahren zum Härten von leitfähiger Paste und Verfahren zur Herstellung einer Transponderantenne |
| CA002628782A CA2628782C (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Method of forming antenna for radio frequency identification medium employing conductive paste, and method for mounting ic chip onto circuit on substrate |
| EP04017380A EP1486912A1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Conductive paste and method of forming antenna for transponder |
| EP04017373A EP1475743B1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Method of curing conductive paste and method of forming antenna for transponder |
| US09/408,231 US6165386A (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Photosetting conductive paste |
| EP99119436A EP0991014B1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Conductive paste and method of forming an antenna for a transponder |
| DE69935022T DE69935022T2 (de) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Leitfähige Paste und Verfahren zur Herstellung einer Transpondersantenne |
| CA002284978A CA2284978C (en) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Conductive paste |
| DE69928346T DE69928346T2 (de) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | Leitfähige Paste und Verfahren zur Herstellung einer Transponderantenne |
| SG1999004861A SG74754A1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-30 | Conductive paste and conductive paste curing method method of forming antenna for radio frequency identification medium employing conductive paste and radio frequency identification medium |
| SG200200081A SG105526A1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-30 | Conductive paste and conductive paste curing method, method of forming antenna for radio frequency identificaition medium employing conductive paste, and radio frequency identification medium |
| SG200200080A SG115440A1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-30 | Conductive paste and conductive paste curing method, method of forming antenna for radio frequency identification medium employing conductive paste, and radio frequency identification medium |
| CNB991224639A CN1184266C (zh) | 1998-09-30 | 1999-09-30 | 光固化型导电性糊 |
| HK00105666A HK1026967A1 (en) | 1998-09-30 | 2000-09-08 | Conductive paste and method of forming an antenna for a transponder |
| HK04109657A HK1067437A1 (en) | 1998-09-30 | 2004-12-07 | Method of curing conductive paste and method of forming antenna for transponder |
| HK04109838A HK1067754A1 (en) | 1998-09-30 | 2004-12-13 | Conductive paste and method of forming an antenna for transponder |
| KR1020060034659A KR100692926B1 (ko) | 1998-09-30 | 2006-04-17 | 도전성페이스트와 도전성페이스트의 경화방법, 및도전성페이스트를 이용한 비접촉형 데이터송수신체용안테나의 형성방법과, 비접촉형 데이터송수신체 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2313399A JP2000219824A (ja) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | 光硬化銀塗料とこれが塗工されたシート類 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000219824A true JP2000219824A (ja) | 2000-08-08 |
Family
ID=12102046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2313399A Pending JP2000219824A (ja) | 1998-09-30 | 1999-01-29 | 光硬化銀塗料とこれが塗工されたシート類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000219824A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007091829A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | The Inctec Inc | 隠蔽性スクラッチ層形成用インキ、隠蔽性スクラッチ印刷物およびその製造方法 |
| JP2007513206A (ja) * | 2003-05-21 | 2007-05-24 | イクシス、プリント、ゾルツィオーンズ、ドイチュラント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 金属粉インキ及び金属粉インキを印刷物の仕上げに使用する方法 |
| JP2009221250A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Az Electronic Materials Kk | 高精細印刷用インキ組成物およびそれを用いた高精細パターンの形成方法 |
| WO2015137008A1 (ja) * | 2014-03-11 | 2015-09-17 | デクセリアルズ株式会社 | 異方性導電接着剤、接続体の製造方法及び電子部品の接続方法 |
| US9927635B2 (en) | 2006-03-20 | 2018-03-27 | High Performance Optics, Inc. | High performance selective light wavelength filtering providing improved contrast sensitivity |
| US11701315B2 (en) | 2006-03-20 | 2023-07-18 | High Performance Optics, Inc. | High energy visible light filter systems with yellowness index values |
-
1999
- 1999-01-29 JP JP2313399A patent/JP2000219824A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007513206A (ja) * | 2003-05-21 | 2007-05-24 | イクシス、プリント、ゾルツィオーンズ、ドイチュラント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 金属粉インキ及び金属粉インキを印刷物の仕上げに使用する方法 |
| JP2007091829A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | The Inctec Inc | 隠蔽性スクラッチ層形成用インキ、隠蔽性スクラッチ印刷物およびその製造方法 |
| US9927635B2 (en) | 2006-03-20 | 2018-03-27 | High Performance Optics, Inc. | High performance selective light wavelength filtering providing improved contrast sensitivity |
| US10551637B2 (en) | 2006-03-20 | 2020-02-04 | High Performance Optics, Inc. | High performance selective light wavelength filtering providing improved contrast sensitivity |
| US11701315B2 (en) | 2006-03-20 | 2023-07-18 | High Performance Optics, Inc. | High energy visible light filter systems with yellowness index values |
| US11774783B2 (en) | 2006-03-20 | 2023-10-03 | High Performance Optics, Inc. | High performance selective light wavelength filtering providing improved contrast sensitivity |
| JP2009221250A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Az Electronic Materials Kk | 高精細印刷用インキ組成物およびそれを用いた高精細パターンの形成方法 |
| WO2015137008A1 (ja) * | 2014-03-11 | 2015-09-17 | デクセリアルズ株式会社 | 異方性導電接着剤、接続体の製造方法及び電子部品の接続方法 |
| JP2015172109A (ja) * | 2014-03-11 | 2015-10-01 | デクセリアルズ株式会社 | 異方性導電接着剤、接続体の製造方法及び電子部品の接続方法 |
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