JP2000216459A - 真空紫外光用の光学部品 - Google Patents
真空紫外光用の光学部品Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 潮解性、へき開性がなく加工が容易であり、
しかも高耐久な真空紫外光用の光学部品を作る。 【解決手段】 ＬｉＣａＡｌＦ6又はＬｉＳｒＡｌＦ6か
らなる結晶で真空紫外光用の光学部品を作る。
しかも高耐久な真空紫外光用の光学部品を作る。 【解決手段】 ＬｉＣａＡｌＦ6又はＬｉＳｒＡｌＦ6か
らなる結晶で真空紫外光用の光学部品を作る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空紫外光用の光
学部品に関し、マイクロプロセッサ、メモリ、システム
ＬＳＩ、イメージセンサ、発光素子、表示素子等の半導
体装置の作製に用いられるレーザー発振器及び露光装置
用の光学部品に関するものである。
学部品に関し、マイクロプロセッサ、メモリ、システム
ＬＳＩ、イメージセンサ、発光素子、表示素子等の半導
体装置の作製に用いられるレーザー発振器及び露光装置
用の光学部品に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置作製用のホトリソグラフィー
などレーザー加工の分野では、紫外光を利用することが
多くなってきている。それに伴ない、レンズ、プリズ
ム、ハーフミラー、窓材等の光学部品に用いられる硝材
においても、石英ガラス以外の硝材が望まれるようにな
ってきている。
などレーザー加工の分野では、紫外光を利用することが
多くなってきている。それに伴ない、レンズ、プリズ
ム、ハーフミラー、窓材等の光学部品に用いられる硝材
においても、石英ガラス以外の硝材が望まれるようにな
ってきている。
【０００３】波長が０．２ｎｍ〜２００ｎｍの光、所謂
真空紫外光に対しては、石英ガラス以外の光学部品硝材
として、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）やフッ化リチウ
ム（ＬｉＦ）が知られている。
真空紫外光に対しては、石英ガラス以外の光学部品硝材
として、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）やフッ化リチウ
ム（ＬｉＦ）が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フッ化
リチウムは潮解性、へき開性が高く、各種光学部品に加
工することが難しい。
リチウムは潮解性、へき開性が高く、各種光学部品に加
工することが難しい。
【０００５】一方、フッ化カルシウムは潮解性がやや低
くなるものの依然として高い潮解性をもつことにかわり
なく、又へき開性も高い為に、各種光学部品に加工する
ことが決して容易ではない。
くなるものの依然として高い潮解性をもつことにかわり
なく、又へき開性も高い為に、各種光学部品に加工する
ことが決して容易ではない。
【０００６】又、これらの硝材は、エキシマレーザー光
等の高エネルギー光を繰返し照射すると、内部透過率が
減少してしまうことがあり、高耐久の光学部品にするに
は未だ改善すべき点が多い。
等の高エネルギー光を繰返し照射すると、内部透過率が
減少してしまうことがあり、高耐久の光学部品にするに
は未だ改善すべき点が多い。
【０００７】以上のとおりフッ化リチウムやフッ化カル
シウムといった硝材を加工して得られた光学部品は潮解
性、へき開性、耐久性の点で未だ十分なものとはいえな
いのが現実である。
シウムといった硝材を加工して得られた光学部品は潮解
性、へき開性、耐久性の点で未だ十分なものとはいえな
いのが現実である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、潮解
性、へき開性がなく、加工が容易な真空紫外光用の光学
部品を提供することにある。
性、へき開性がなく、加工が容易な真空紫外光用の光学
部品を提供することにある。
【０００９】本発明の別の目的は、高い耐久性を呈する
真空紫外光用の光学部品、レーザー発振器、露光装置を
提供することにある。
真空紫外光用の光学部品、レーザー発振器、露光装置を
提供することにある。
【００１０】本発明は、ＬｉＣａＡｌＦ6（ＬｉＣＡＦ
と呼ぶこともある）又はＬｉＳｒＡｌＦ6（ＬｉＳＡＦ
と呼ぶこともある）からなる結晶を母材とする真空紫外
光用の光学部品に特徴がある。
と呼ぶこともある）又はＬｉＳｒＡｌＦ6（ＬｉＳＡＦ
と呼ぶこともある）からなる結晶を母材とする真空紫外
光用の光学部品に特徴がある。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は、化学合成したＬｉＣａＡ
ｌＦ6及びＬｉＳｒＡｌＦ6の結晶の内部透過率特性とＬ
ｉＦの内部透過率特性とを示す。注目すべきはＬｉＣａ
ＡｌＦ6及びＬｉＳｒＡｌＦ6の吸収端である。ＬｉＳｒ
ＡｌＦ6の透過率が激減する波長（吸収端）は約１１６
ｎｍであり、ＬｉＣａＡｌＦ6では約１１２ｎｍであ
る。ここに挙げたデータでは、１５０ｎｍ〜２００ｎｍ
の真空紫外光に対する内部透過率は十分な値ではない
が、ＬｉＦの吸収端が約１３８ｎｍであることから考え
ると、ＬｉＣａＡｌＦ6及びＬｉＳｒＡｌＦ6は潜在的に
真空紫外域においてＬｉＦよりも内部透過率が高くなる
潜在能力を有するものと予測できる。
ｌＦ6及びＬｉＳｒＡｌＦ6の結晶の内部透過率特性とＬ
ｉＦの内部透過率特性とを示す。注目すべきはＬｉＣａ
ＡｌＦ6及びＬｉＳｒＡｌＦ6の吸収端である。ＬｉＳｒ
ＡｌＦ6の透過率が激減する波長（吸収端）は約１１６
ｎｍであり、ＬｉＣａＡｌＦ6では約１１２ｎｍであ
る。ここに挙げたデータでは、１５０ｎｍ〜２００ｎｍ
の真空紫外光に対する内部透過率は十分な値ではない
が、ＬｉＦの吸収端が約１３８ｎｍであることから考え
ると、ＬｉＣａＡｌＦ6及びＬｉＳｒＡｌＦ6は潜在的に
真空紫外域においてＬｉＦよりも内部透過率が高くなる
潜在能力を有するものと予測できる。
【００１２】しかも、図１に示した結晶は、不純物のコ
ンタミネーションを積極的に防止することなく作製した
ものなので、結晶成長環境を最適化すれば１５０ｎｍ〜
２０００ｎｍの吸収はより一層減るであろう。
ンタミネーションを積極的に防止することなく作製した
ものなので、結晶成長環境を最適化すれば１５０ｎｍ〜
２０００ｎｍの吸収はより一層減るであろう。
【００１３】ＬｉＣａＡｌＦ6結晶は、同組成の天然鉱
物がコルキライト（Ｃｏｌｑｕｉｒｉｉｔｅ）として知
られるものである。
物がコルキライト（Ｃｏｌｑｕｉｒｉｉｔｅ）として知
られるものである。
【００１４】ＬｉＣａＡｌＦ6結晶にＣｒやＣｅをドー
プしたものは、発振波長が真空紫外域より十分に長い波
長の光を放出する固体レーザーのレーザー媒質として使
用されている。詳しくは、第２９回結晶成長国内会議第
２５巻第３号（１９９８年７月）第Ａ１３１頁、第４５
回応用物理学関係連合講演会講演予稿集（１９９８年３
月）３０Ａ−ＹＮ−４、オプティックスレターズ第２２
巻第１３号（１９９７年７月１日）第９９４−９９６頁
（ＯＰＴＩＣＳ ＬＥＴＴＥＲＳ／Ｖｏｌ．２２，Ｎ
ｏ．１３／Ｊｕｌｙ１，１９９７，ｐｐ９９４−９９
６）や特許第２６９０８１５号公報や特開平９−５９０
９２号公報や米国特許４８１１３４９号公報を参照され
たい。
プしたものは、発振波長が真空紫外域より十分に長い波
長の光を放出する固体レーザーのレーザー媒質として使
用されている。詳しくは、第２９回結晶成長国内会議第
２５巻第３号（１９９８年７月）第Ａ１３１頁、第４５
回応用物理学関係連合講演会講演予稿集（１９９８年３
月）３０Ａ−ＹＮ−４、オプティックスレターズ第２２
巻第１３号（１９９７年７月１日）第９９４−９９６頁
（ＯＰＴＩＣＳ ＬＥＴＴＥＲＳ／Ｖｏｌ．２２，Ｎ
ｏ．１３／Ｊｕｌｙ１，１９９７，ｐｐ９９４−９９
６）や特許第２６９０８１５号公報や特開平９−５９０
９２号公報や米国特許４８１１３４９号公報を参照され
たい。
【００１５】本発明においては、ＬｉＣａＡｌＦ6及び
ＬｉＳｒＡｌＦ6結晶を用いて、真空紫外光用で非固体
レーザー媒質の光学部品を作製するものである。特に、
固体レーザーのレーザー媒質とは異なりＣｅやＣｒをド
ープすることなく合成した結晶を用いることが好ましい
ものである。
ＬｉＳｒＡｌＦ6結晶を用いて、真空紫外光用で非固体
レーザー媒質の光学部品を作製するものである。特に、
固体レーザーのレーザー媒質とは異なりＣｅやＣｒをド
ープすることなく合成した結晶を用いることが好ましい
ものである。
【００１６】こうして得られたレンズを各種組み合わせ
れば、エキシマレーザー、特にＡｒＦエキシマレーザー
に適した光学系を構成できる。特に、エキシマレーザー
光源とフッ化物結晶からなるレンズを有する光学系と、
被露光体（ワーク）としての基板を移動させ得るステー
ジとを組み合わせて、露光装置を構成できる。
れば、エキシマレーザー、特にＡｒＦエキシマレーザー
に適した光学系を構成できる。特に、エキシマレーザー
光源とフッ化物結晶からなるレンズを有する光学系と、
被露光体（ワーク）としての基板を移動させ得るステー
ジとを組み合わせて、露光装置を構成できる。
【００１７】（露光装置）以下では、本発明の光学物品
が用いられた露光装置について説明する。
が用いられた露光装置について説明する。
【００１８】露光装置としては、レンズ光学系を用いた
縮小投影露光装置、レンズ式等倍投影露光装置が挙げら
れる。
縮小投影露光装置、レンズ式等倍投影露光装置が挙げら
れる。
【００１９】特に、ウエハー全面を露光するために、ウ
エハーの１小区画（フィールド）を露光してはウエハー
を１ステップ移動させて隣の１フィールドを露光する、
ステップ・アンド・リピート方式を採用したステッパー
が望ましい。勿論、マイクロスキャン方式の露光装置に
も好適に用いられる。
エハーの１小区画（フィールド）を露光してはウエハー
を１ステップ移動させて隣の１フィールドを露光する、
ステップ・アンド・リピート方式を採用したステッパー
が望ましい。勿論、マイクロスキャン方式の露光装置に
も好適に用いられる。
【００２０】図２に本発明の露光装置の構成概略図を示
す。同図において２１は照明光源部であり、２２は露光
機構部であり、２１，２２は別個独立に構成されてい
る。即ち両者は物理的に分離状態にある。２３は照明光
源で、例えばエキシマレーザのような高出力の大型光源
である。２４はミラーであり、２５は凹レンズ、２６は
凸レンズであり、２５，２６はビームエキスパンダーと
しての役割を持っており、レーザのビーム径をおおよそ
オプティカルインテグレータの大きさに拡げるものであ
る。２７はミラーであり、２８はレチクル上を均一に照
明するためのオプティカルインテグレータである。照明
光源部２１はレーザ２３からオプティカルインテグレー
タ２８までで構成されている。２９はミラーであり、３
０はコンデンサレンズでオプティカルインテグレータ２
８を発した光束をコリメートする。３１は回路パターン
が描かれているレチクル、３１ａはレチクルを吸着保持
するレチクルホルダ、３２はレチクルのパターンを投影
する投影光学系、３３は投影レンズ３２においてレチク
ル３１のパターンが焼付けられるウエハである。３４は
ＸＹステージでありウエハ３３を吸着保持し、かつステ
ップアンドリピートで焼付けを行う際にＸＹ方向に移動
する。３５は露光装置の定盤である。
す。同図において２１は照明光源部であり、２２は露光
機構部であり、２１，２２は別個独立に構成されてい
る。即ち両者は物理的に分離状態にある。２３は照明光
源で、例えばエキシマレーザのような高出力の大型光源
である。２４はミラーであり、２５は凹レンズ、２６は
凸レンズであり、２５，２６はビームエキスパンダーと
しての役割を持っており、レーザのビーム径をおおよそ
オプティカルインテグレータの大きさに拡げるものであ
る。２７はミラーであり、２８はレチクル上を均一に照
明するためのオプティカルインテグレータである。照明
光源部２１はレーザ２３からオプティカルインテグレー
タ２８までで構成されている。２９はミラーであり、３
０はコンデンサレンズでオプティカルインテグレータ２
８を発した光束をコリメートする。３１は回路パターン
が描かれているレチクル、３１ａはレチクルを吸着保持
するレチクルホルダ、３２はレチクルのパターンを投影
する投影光学系、３３は投影レンズ３２においてレチク
ル３１のパターンが焼付けられるウエハである。３４は
ＸＹステージでありウエハ３３を吸着保持し、かつステ
ップアンドリピートで焼付けを行う際にＸＹ方向に移動
する。３５は露光装置の定盤である。
【００２１】露光機構部２２は、照明光学系の一部であ
るミラー２９から定盤３５までで構成されている。３６
は、ＴＴＬアライメントに用いられるアライメント手段
である。通常露光装置は、この他にオートフォーカス機
構、ウエハー搬送機構等々によって構成されこれらも露
光機構部２２に含まれる。
るミラー２９から定盤３５までで構成されている。３６
は、ＴＴＬアライメントに用いられるアライメント手段
である。通常露光装置は、この他にオートフォーカス機
構、ウエハー搬送機構等々によって構成されこれらも露
光機構部２２に含まれる。
【００２２】図３は、本発明の露光装置に用いられる光
学物品の一例であり、図８に示す露光装置の投影光学系
に用いられるレンズである。このレンズアセンブリはＬ
1〜Ｌ11の１１枚のレンズをお互いに接着することなく
組みあわせて構成されている。そして、本発明の光学物
品は、図２、図３に示すレンズやミラーとして、或いは
不図示ではあるが、ミラー式露光装置のミラーやレンズ
として用いられる。より好ましくは、レンズ又はミラー
の表面に反射防止膜または増反射膜を設けるとよい。
学物品の一例であり、図８に示す露光装置の投影光学系
に用いられるレンズである。このレンズアセンブリはＬ
1〜Ｌ11の１１枚のレンズをお互いに接着することなく
組みあわせて構成されている。そして、本発明の光学物
品は、図２、図３に示すレンズやミラーとして、或いは
不図示ではあるが、ミラー式露光装置のミラーやレンズ
として用いられる。より好ましくは、レンズ又はミラー
の表面に反射防止膜または増反射膜を設けるとよい。
【００２３】また本発明のフッ化物結晶からなる光学部
品は、プリズムやエタロンとして使用することが出来
る。
品は、プリズムやエタロンとして使用することが出来
る。
【００２４】図４（ａ）と（ｂ）は本発明の光学部晶を
用いたエキシマレーザー発振器の構成を模式的に表した
図である。
用いたエキシマレーザー発振器の構成を模式的に表した
図である。
【００２５】図４（ａ）が示すエキシマレーザー発振器
は、エキシマレーザーを発光させ共振させるための２つ
の窓材を有する共振器８３と、該共振器８３から出たエ
キシマレーザーを絞る絞り穴８２と、エキシマレーザー
の波長を単波長化させるためのプリズム８４と、エキシ
マレーザーを反射させるための反射鏡８１とから構成さ
れる。
は、エキシマレーザーを発光させ共振させるための２つ
の窓材を有する共振器８３と、該共振器８３から出たエ
キシマレーザーを絞る絞り穴８２と、エキシマレーザー
の波長を単波長化させるためのプリズム８４と、エキシ
マレーザーを反射させるための反射鏡８１とから構成さ
れる。
【００２６】また図４（ｂ）が示すエキシマレーザー発
振器は、エキシマレーザーを発光させ共振させるための
共振器８３と、該共振器８３から出たエキシマレーザー
を絞る絞り穴８２と、エキシマレーザーの波長を単波長
化させるためのエタロン８５と、エキシマレーザー光を
反射させるための反射鏡８１とから構成される。
振器は、エキシマレーザーを発光させ共振させるための
共振器８３と、該共振器８３から出たエキシマレーザー
を絞る絞り穴８２と、エキシマレーザーの波長を単波長
化させるためのエタロン８５と、エキシマレーザー光を
反射させるための反射鏡８１とから構成される。
【００２７】本発明のフッ化物結晶からなる光学物晶を
プリズムやエタロンとして装置内に設けたエキシマレー
ザ光発振器は前記プリズムやエタロンを介してエキシマ
レーザーの波長をより狭くすることが出来、言い換えれ
ばエキシマレーザーを単波長化することが出来る。この
時結晶のＣ軸をレーザーの光軸と一致させるとよい。
プリズムやエタロンとして装置内に設けたエキシマレー
ザ光発振器は前記プリズムやエタロンを介してエキシマ
レーザーの波長をより狭くすることが出来、言い換えれ
ばエキシマレーザーを単波長化することが出来る。この
時結晶のＣ軸をレーザーの光軸と一致させるとよい。
【００２８】この露光装置を用いて、エキシマレーザー
光をレチクルのパターンを介して基板上の光増感型レジ
ストに照射すれば、形成すべきパターンに対応した潜像
が形成できる。
光をレチクルのパターンを介して基板上の光増感型レジ
ストに照射すれば、形成すべきパターンに対応した潜像
が形成できる。
【００２９】図５に本発明による汎用的な形状の光学部
品１を示す。
品１を示す。
【００３０】（ａ）の場合、光の出／入射の光軸を本発
明のフッ化物結晶Ｃ軸と一致させるように、Ｃ軸を法線
とする平面２をもつ円盤状に光学部品が加工されてい
る。レーザー発振器の窓材として用いる場合（ｂ）に
は、平面３の法線とＣ軸とのなす角をブリュースター角
に合わせてずらせばよい。
明のフッ化物結晶Ｃ軸と一致させるように、Ｃ軸を法線
とする平面２をもつ円盤状に光学部品が加工されてい
る。レーザー発振器の窓材として用いる場合（ｂ）に
は、平面３の法線とＣ軸とのなす角をブリュースター角
に合わせてずらせばよい。
【００３１】
【実施例】粉末状のフッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化
カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化アルミニウム（Ａｌ
Ｆ3）を同じモル比で混合し、白金製のるつぼに収容し
た。
カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化アルミニウム（Ａｌ
Ｆ3）を同じモル比で混合し、白金製のるつぼに収容し
た。
【００３２】るつぼを１０００℃まで加熱・昇温させ
て、上記３種のフッ化物を融解させた。
て、上記３種のフッ化物を融解させた。
【００３３】るつぼ内の融解した原料にＬｉＣａＡｌＦ
6の種結晶を接触させ、該種結晶を徐々に引き上げるこ
とによりＬｉＣａＡｌＦ6単結晶を成長させた。
6の種結晶を接触させ、該種結晶を徐々に引き上げるこ
とによりＬｉＣａＡｌＦ6単結晶を成長させた。
【００３４】成長したＬｉＣａＡｌＦ6結晶のインゴッ
ドをスライス、研磨して、Ｃ軸が法線になるような平面
をもつ円盤状の物品を得た。
ドをスライス、研磨して、Ｃ軸が法線になるような平面
をもつ円盤状の物品を得た。
【００３５】同様に上記インゴッドから内部透過率測定
用のサンプル）２０ｍｍ径８０ｍｍ厚さの試料を作製し
た。
用のサンプル）２０ｍｍ径８０ｍｍ厚さの試料を作製し
た。
【００３６】該試料の内部透過率を測定した後、その試
料にガンマ線を線量１×１０5Ｒ／時間で１時間照射し
た後再び内部透過率を測定した。これらの結果を図６に
示す。又、ＡｒＦエキシマレーザー光を照射しても劣化
することはなく、好適な透過特性を示した。
料にガンマ線を線量１×１０5Ｒ／時間で１時間照射し
た後再び内部透過率を測定した。これらの結果を図６に
示す。又、ＡｒＦエキシマレーザー光を照射しても劣化
することはなく、好適な透過特性を示した。
【００３７】（比較例）フッ化カルシウム粉末をカーボ
ンるつぼに収容し、融解させたフッ化カルシウム原料に
フッ化カルシウム種結晶を接触させ、引き上げることに
よりフッ化カルシウム結晶インゴッドを得た。
ンるつぼに収容し、融解させたフッ化カルシウム原料に
フッ化カルシウム種結晶を接触させ、引き上げることに
よりフッ化カルシウム結晶インゴッドを得た。
【００３８】インゴッドから上記実施例同様に内部透過
率測定用の試料（比較試料）を作製し、内部透過率を測
定した。その後、ガンマ線を同線量１時間照射した後、
内部透過率を測定したその結果を図６に併せて示す。
率測定用の試料（比較試料）を作製し、内部透過率を測
定した。その後、ガンマ線を同線量１時間照射した後、
内部透過率を測定したその結果を図６に併せて示す。
【００３９】ガンマ線照射による内部透過率の減少が激
しい硝材は、ＡｒＦエキシマレーザー光を繰返し照射し
た場合にも内部透過率低下が激しい。よってこれらの相
関より、ガンマ線の照射による耐久加速試験によって、
耐久性の評価が可能である。
しい硝材は、ＡｒＦエキシマレーザー光を繰返し照射し
た場合にも内部透過率低下が激しい。よってこれらの相
関より、ガンマ線の照射による耐久加速試験によって、
耐久性の評価が可能である。
【００４０】不図示ではあるが、ふっ化カルシウムのガ
ンマ線照射前の内部透過率は実施例のＬｉＣａＡｌＦ6
結晶とほぼ似た特性を示していたので、本実施例により
ＬｉＣａＡｌＦ6結晶は耐久性に優れた硝材であると言
える。
ンマ線照射前の内部透過率は実施例のＬｉＣａＡｌＦ6
結晶とほぼ似た特性を示していたので、本実施例により
ＬｉＣａＡｌＦ6結晶は耐久性に優れた硝材であると言
える。
【００４１】
【発明の効果】以上詳述したとおり、本発明によれば、
加工が容易で高耐久性の真空紫外光用の光学部品、レー
ザー発振器、露光装置を提供することができる。
加工が容易で高耐久性の真空紫外光用の光学部品、レー
ザー発振器、露光装置を提供することができる。
【図１】ＬｉＣａＡｌＦ6、ＬｉＳｒＡｌＦ6、ＬｉＦの
分光特性を示す図。
分光特性を示す図。
【図２】本発明の光学部品を用いた露光装置を示す模式
図。
図。
【図３】本発明の光学部品を用いた光学系を示す摸式
図。
図。
【図４】本発明の光学部品を用いたレーザー発振器を示
す摸式図。
す摸式図。
【図５】本発明の光学部品を示す図。
【図６】ガンマ線照射前後のＬｉＣａＡｌＦ6結晶の分
光特性を示す図。
光特性を示す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｓ 3/225 Ｈ０１Ｓ 3/223 Ｅ (72)発明者 宮澤 良和 茨城県取手市白山７丁目５番16号株式会社 オプトロン内 Ｆターム(参考） 2H097 BA02 BA10 CA13 LA10 4G077 AA02 AB04 BE02 GA06 HA01 5F046 BA03 CA04 CA08 CB02 CB12 CB23 CB25 DA01 5F071 AA06 FF07 JJ03
Claims (9)
- 【請求項１】 ＬｉＣａＡｌＦ6又はＬｉＳｒＡｌＦ6か
らなる結晶を母材とする真空紫外光用の光学部品。 - 【請求項２】 前記結晶は、ノンドープのＬｉＣａＡｌ
Ｆ6又はＬｉＳｒＡｌＦ6からなる請求項１記載の真空紫
外光用の光学部品。 - 【請求項３】 前記母材は、前記結晶のＣ軸を法線とす
る平面又は、使用時の光軸がＣ軸と一致するように形成
された平面を有する請求項１記載の真空紫外光用の光学
部品。 - 【請求項４】 前記結晶の吸収端は１２０ｎｍ以下であ
る請求項１記載の真空紫外光用の光学部品。 - 【請求項５】 前記光学部品は、レンズ、プリズム、ハ
ーフミラー、窓材から選択されるいずれか一つである請
求項１記載の光学部品。 - 【請求項６】 請求項１記載の光学部品を窓材として用
いたレーザー発振器。 - 【請求項７】 前記レーザー発振器は、ＡｒＦエキシマ
レーザー発振器又はＦ２エキシマレーザー発振器である
請求項６記載のレーザー発振器。 - 【請求項８】 前記レーザー発振器と光学系とを有する
露光装置。 - 【請求項９】 請求項１記載の光学部品を有する光学系
と、レーザー発振器と、ワークを保持する保持手段と、
を具備する露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11015485A JP2000216459A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 真空紫外光用の光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11015485A JP2000216459A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 真空紫外光用の光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000216459A true JP2000216459A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=11890109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11015485A Pending JP2000216459A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 真空紫外光用の光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000216459A (ja) |
-
1999
- 1999-01-25 JP JP11015485A patent/JP2000216459A/ja active Pending
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