JP2002296401A - フッ化物結晶からなる真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材 - Google Patents
フッ化物結晶からなる真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材Info
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 潮解性、劈開性が低く、高エネルギー光を照
射した場合でも、高い耐久性を有する真空紫外領域用光
学部材を提供することを目的とする。また、高い耐久性
と薄膜特有の波長特性を実現できる光学部材用コーティ
ング材を提供すること。 【解決手段】 式ＫＭｇＦ３で表記されるフッ化物結晶
からなる真空紫外領域用光学部材、および、このフッ化
物結晶からなる光学部材用コーティング材を用いる。
射した場合でも、高い耐久性を有する真空紫外領域用光
学部材を提供することを目的とする。また、高い耐久性
と薄膜特有の波長特性を実現できる光学部材用コーティ
ング材を提供すること。 【解決手段】 式ＫＭｇＦ３で表記されるフッ化物結晶
からなる真空紫外領域用光学部材、および、このフッ化
物結晶からなる光学部材用コーティング材を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空紫外領域で使
用可能な光学部材、これを用いたレーザー発振器および
露光装置、ならびに光学部材用コーティング材に関する
ものである。
用可能な光学部材、これを用いたレーザー発振器および
露光装置、ならびに光学部材用コーティング材に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置用のフォトリソグラフィ
ーなどのレーザー加工の分野では、より精密に加工する
必要から、紫外光を利用することが多くなってきてい
る。しかしながら、レンズ、プリズム、ハーフミラー、
窓材等の光学部材に用いられる硝材として従来から使用
されている石英ガラスでは、紫外光に対する内部透過率
が低くなるなどの問題があるため石英ガラス以外の硝材
が望まれるようになってきている。
ーなどのレーザー加工の分野では、より精密に加工する
必要から、紫外光を利用することが多くなってきてい
る。しかしながら、レンズ、プリズム、ハーフミラー、
窓材等の光学部材に用いられる硝材として従来から使用
されている石英ガラスでは、紫外光に対する内部透過率
が低くなるなどの問題があるため石英ガラス以外の硝材
が望まれるようになってきている。
【０００３】こうしたなか、波長が２００ｎｍよりも短
い、いわゆる真空紫外光に対しては石英ガラス以外の硝
材としてフッ化カルシウム（ＣａＦ２）やフッ化リチウ
ム（ＬｉＦ）の使用が検討されている。
い、いわゆる真空紫外光に対しては石英ガラス以外の硝
材としてフッ化カルシウム（ＣａＦ２）やフッ化リチウ
ム（ＬｉＦ）の使用が検討されている。
【０００４】しかしながら、フッ化リチウムは、潮解
性、劈開性が高く、各種光学部材に加工することが難し
い。一方、フッ化カルシウムはフッ化リチウムに比べる
と潮解性はやや低くなるものの、依然として高い潮解性
を持つことに変わりなく、また、劈開性も高いために各
種光学部品への加工は決して容易ではない。
性、劈開性が高く、各種光学部材に加工することが難し
い。一方、フッ化カルシウムはフッ化リチウムに比べる
と潮解性はやや低くなるものの、依然として高い潮解性
を持つことに変わりなく、また、劈開性も高いために各
種光学部品への加工は決して容易ではない。
【０００５】また、これらの硝材は、エキシマレーザー
光などの高エネルギー光を繰り返し照射すると、内部透
過率が減少することがあり、高い耐久が求められる光学
部材として使用するには未だ満足のいくものではない。
光などの高エネルギー光を繰り返し照射すると、内部透
過率が減少することがあり、高い耐久が求められる光学
部材として使用するには未だ満足のいくものではない。
【０００６】また、フッ化カルシウムの結晶を成長させ
るには、原料を入れたるつぼを１４００℃まで加熱・融
解させる必要があり、そのため莫大なエネルギーが消費
される。
るには、原料を入れたるつぼを１４００℃まで加熱・融
解させる必要があり、そのため莫大なエネルギーが消費
される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の技術
的な課題は、上記問題点を解決するために、潮解性、劈
開性が低く、高エネルギー光を繰り返し照射した場合で
も、高い耐久性を有する真空紫外領域用光学部材を提供
することを目的とする。また、上記真空紫外領域用光学
部材を用いたレーザー発振器および露光装置を提供する
ことを目的とする。さらに、この光学部材の耐久性を向
上させると共に、薄膜特有の波長特性を実現することが
できる光学部材用コーティング材を提供することを目的
とする。
的な課題は、上記問題点を解決するために、潮解性、劈
開性が低く、高エネルギー光を繰り返し照射した場合で
も、高い耐久性を有する真空紫外領域用光学部材を提供
することを目的とする。また、上記真空紫外領域用光学
部材を用いたレーザー発振器および露光装置を提供する
ことを目的とする。さらに、この光学部材の耐久性を向
上させると共に、薄膜特有の波長特性を実現することが
できる光学部材用コーティング材を提供することを目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる真空紫外
領域用光学部材は、式ＫＭｇＦ３で表記される結晶から
なることを特徴とする。本発明にかかる色消し光学系
は、上記真空紫外領域用光学部材を有することを特徴と
する。ここでいう色消し光学系とは、一般には本発明に
かかる結晶と、この結晶とは分散の異なる結晶またはガ
ラスでそれぞれ凸レンズと凹レンズ（もしくは凹レンズ
と凸レンズ）を作成し、それらを組み合わせて色収差を
取り除いた光学系をいう。
領域用光学部材は、式ＫＭｇＦ３で表記される結晶から
なることを特徴とする。本発明にかかる色消し光学系
は、上記真空紫外領域用光学部材を有することを特徴と
する。ここでいう色消し光学系とは、一般には本発明に
かかる結晶と、この結晶とは分散の異なる結晶またはガ
ラスでそれぞれ凸レンズと凹レンズ（もしくは凹レンズ
と凸レンズ）を作成し、それらを組み合わせて色収差を
取り除いた光学系をいう。
【０００９】本発明のレーザー発振器は、上記真空紫外
領域用光学部材を窓材として含むことを特徴とする。
領域用光学部材を窓材として含むことを特徴とする。
【００１０】本発明の露光装置は、上記レーザー発振器
と光学系とを含むことを特徴とする。さらに、本発明の
露光装置は上記真空紫外領域用光学部材を有する光学
系、レーザー発振器およびワークを保持するための保持
手段を有することを特徴とする。
と光学系とを含むことを特徴とする。さらに、本発明の
露光装置は上記真空紫外領域用光学部材を有する光学
系、レーザー発振器およびワークを保持するための保持
手段を有することを特徴とする。
【００１１】以下に、本発明の完成に至った経緯を、本
発明者等が行った実験等を参照しつつ説明する。
発明者等が行った実験等を参照しつつ説明する。
【００１２】（実験例）粉末状のフッ化カリウム（Ｋ
Ｆ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）をKFの蒸発を考
慮して、ＫＦｘ（ＭｇＦ２）（１−ｘ）において、０.
５２＜ｘ＜０.６５のモル比で混合し、白金製のるつぼ
に収容した。るつぼを１１００℃まで加熱、昇温させ
て、上記２種のフッ化物を融解させた。
Ｆ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）をKFの蒸発を考
慮して、ＫＦｘ（ＭｇＦ２）（１−ｘ）において、０.
５２＜ｘ＜０.６５のモル比で混合し、白金製のるつぼ
に収容した。るつぼを１１００℃まで加熱、昇温させ
て、上記２種のフッ化物を融解させた。
【００１３】次に、るつぼ内の融解した原料にＫＭｇＦ
３の種結晶を接触させ、この種結晶を徐々に引き上げる
ことによりＫＭｇＦ３単結晶を成長させた。
３の種結晶を接触させ、この種結晶を徐々に引き上げる
ことによりＫＭｇＦ３単結晶を成長させた。
【００１４】（内部透過率と吸収端の評価）ＣａＦ２な
らびに得られたＫＭｇＦ３の結晶から内部透過率測定用
サンプルとして直径１０ｍｍ、厚さ３ｍｍの円盤状の試
料を作製した。次に、この試料の内部透過率を測定し
た。その結果を図１に示す。ここで注目すべきは、Ｃａ
Ｆ２およびＫＭｇＦ３の内部透過率特性で、ほぼ同じ特
性を示している。
らびに得られたＫＭｇＦ３の結晶から内部透過率測定用
サンプルとして直径１０ｍｍ、厚さ３ｍｍの円盤状の試
料を作製した。次に、この試料の内部透過率を測定し
た。その結果を図１に示す。ここで注目すべきは、Ｃａ
Ｆ２およびＫＭｇＦ３の内部透過率特性で、ほぼ同じ特
性を示している。
【００１５】ここにあげたデータでは、内部透過率の値
そのものは十分ではないが、図１に示した結晶は、不純
物のコンタミネーションを積極的に防止することなく作
製したものなので、結晶成長環境を最適化すれば、内部
透過率はさらに高くなる潜在能力を有するものと予想さ
せる。
そのものは十分ではないが、図１に示した結晶は、不純
物のコンタミネーションを積極的に防止することなく作
製したものなので、結晶成長環境を最適化すれば、内部
透過率はさらに高くなる潜在能力を有するものと予想さ
せる。
【００１６】さらに、ここで注目すべきは、溶融温度で
あり、ＣａＦ２を溶融し結晶を成長させるには１４００
℃まで加熱・昇温させる必要があるが、ＫＭｇＦ３では
大幅に温度を低くできる。
あり、ＣａＦ２を溶融し結晶を成長させるには１４００
℃まで加熱・昇温させる必要があるが、ＫＭｇＦ３では
大幅に温度を低くできる。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を具体
例を挙げて説明する。
例を挙げて説明する。
【００１８】本発明にかかるＫＭｇＦ３は、粉末状のフ
ッ化カリウム（ＫＦ）とフッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ２）を所望のモル比で混合し、１１００℃の温度条件
で融解させることによって新しい固溶体として作製する
ことができる。
ッ化カリウム（ＫＦ）とフッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ２）を所望のモル比で混合し、１１００℃の温度条件
で融解させることによって新しい固溶体として作製する
ことができる。
【００１９】こうして得られた結晶をレンズとして仕上
げ、このレンズを各種組み合わせれば、エキシマレーザ
ー、特にＡｒＦエキシマレーザーやＦ２エキシマレーザ
ーに適した光学系を構成できる。さらに、エキシマレー
ザー光源と前記光学系と、被露光体（ワーク）としての
基板を移動させ得るステージとを組み合わせて、露光装
置を構成できる。
げ、このレンズを各種組み合わせれば、エキシマレーザ
ー、特にＡｒＦエキシマレーザーやＦ２エキシマレーザ
ーに適した光学系を構成できる。さらに、エキシマレー
ザー光源と前記光学系と、被露光体（ワーク）としての
基板を移動させ得るステージとを組み合わせて、露光装
置を構成できる。
【００２０】また、上記のようにして得られた結晶を、
蒸着装置を用いて蒸発させてレンズ等の光学部材に付着
させることにより、光学部材用のコーティング材とする
ことができる。本発明にかかる結晶を光学部材にコーテ
ィングする方法を、図２に示した蒸発装置２０１を使っ
て説明する。なお、この装置は従来から使用されている
ものである。真空槽２０２中の蒸発光源２０６上にフッ
化物結晶２０５を載置し、コーティングさせる光学部材
２０４をその上方に配置する。真空槽２０２の真空度
は、約１×１０−５ｔｏｒｒに調整する。
蒸着装置を用いて蒸発させてレンズ等の光学部材に付着
させることにより、光学部材用のコーティング材とする
ことができる。本発明にかかる結晶を光学部材にコーテ
ィングする方法を、図２に示した蒸発装置２０１を使っ
て説明する。なお、この装置は従来から使用されている
ものである。真空槽２０２中の蒸発光源２０６上にフッ
化物結晶２０５を載置し、コーティングさせる光学部材
２０４をその上方に配置する。真空槽２０２の真空度
は、約１×１０−５ｔｏｒｒに調整する。
【００２１】次に、蒸発源２０６を８００〜１４００℃
に加熱し、フッ化物結晶２０５を蒸発させ、基板加熱ヒ
ーター２０３により１００〜２００℃に加熱した光学部
材２０４の表面に薄膜を形成する。これにより光学部材
が、本発明にかかるフッ化物結晶によりコーティングさ
れる。
に加熱し、フッ化物結晶２０５を蒸発させ、基板加熱ヒ
ーター２０３により１００〜２００℃に加熱した光学部
材２０４の表面に薄膜を形成する。これにより光学部材
が、本発明にかかるフッ化物結晶によりコーティングさ
れる。
【００２２】（露光装置）以下では、本発明の結晶から
なる光学部材またはこの結晶でコーティングした光学部
材が用いられた露光装置について説明する。露光装置と
しては、レンズ光学系を用いた縮小投影露光装置、レン
ズ式等倍投影露光装置が挙げられる。特に、ウエハー全
面を露光するために、ウエハーの１小区画（フィール
ド）を露光してはウエハーを１ステップ移動させて隣の
１フィールドを露光する、ステップ・アンド・リピート
方式を採用したステッパーが望ましい。マイクロスキャ
ン方式の露光装置にも好適に用いられることはいうまで
もない。
なる光学部材またはこの結晶でコーティングした光学部
材が用いられた露光装置について説明する。露光装置と
しては、レンズ光学系を用いた縮小投影露光装置、レン
ズ式等倍投影露光装置が挙げられる。特に、ウエハー全
面を露光するために、ウエハーの１小区画（フィール
ド）を露光してはウエハーを１ステップ移動させて隣の
１フィールドを露光する、ステップ・アンド・リピート
方式を採用したステッパーが望ましい。マイクロスキャ
ン方式の露光装置にも好適に用いられることはいうまで
もない。
【００２３】図３に、本発明の露光装置の構成概略図を
示す。同図において、３０１は照明光源部であり、３０
２は露光機構部であり、それぞれ別個独立に構成されて
いる。すなわち、両者は物理的に分離状態にある。３０
３は照明光源で、たとえば、エキシマレーザーのような
高出力の大型光源である。３０４はミラーであり、３０
５は凹レンズ、３０６は凸レンズであり、３０５、３０
６はビームエキスパンダーとしての役割を持っており、
レーザーのビーム径を、おおよそオプティカルインテグ
レーターの大きさに拡げるものである。３０７はミラー
であり、３０８はルチクル上を均一に照明するためのオ
プティカルインテグレーターである。
示す。同図において、３０１は照明光源部であり、３０
２は露光機構部であり、それぞれ別個独立に構成されて
いる。すなわち、両者は物理的に分離状態にある。３０
３は照明光源で、たとえば、エキシマレーザーのような
高出力の大型光源である。３０４はミラーであり、３０
５は凹レンズ、３０６は凸レンズであり、３０５、３０
６はビームエキスパンダーとしての役割を持っており、
レーザーのビーム径を、おおよそオプティカルインテグ
レーターの大きさに拡げるものである。３０７はミラー
であり、３０８はルチクル上を均一に照明するためのオ
プティカルインテグレーターである。
【００２４】照明光源部３０１は、照明光源３０３から
オプティカルインテグレーター３０８までで構成されて
いる。３０９はミラーであり、３１０はコンデンサレン
ズでオプティカルインテグレータ３０８を発した光束を
コリメートする。３１１は回路パターンが描かれている
ルチクル、３１２はルチクルを吸着保持するルチクルホ
ルダ、３１３はルチクルのパターンを投影する投影光学
系、３１４は投影レンズ３１３におけるルチクル３１１
のパターンが焼き付けられるウエハーである。
オプティカルインテグレーター３０８までで構成されて
いる。３０９はミラーであり、３１０はコンデンサレン
ズでオプティカルインテグレータ３０８を発した光束を
コリメートする。３１１は回路パターンが描かれている
ルチクル、３１２はルチクルを吸着保持するルチクルホ
ルダ、３１３はルチクルのパターンを投影する投影光学
系、３１４は投影レンズ３１３におけるルチクル３１１
のパターンが焼き付けられるウエハーである。
【００２５】３１５はＸＹステージであり、ウエハー３
１４を吸着保持し、かつ、ステップアンドリピートで焼
き付けを行う際にＸＹ方向に移動する。３１６は露光装
置の定盤である。露光機構部３０２は、照明光学系の一
部であるミラーか３０９から定盤３１６までで構成され
ている。３１７、ＴＴＬアライメントに用いられるアラ
イメント手段である。通常、露光装置は、この他に、オ
ートフォーカス機構、ウエハー搬送機構等によって構成
され、これらも露光機構部３０２に含まれる。
１４を吸着保持し、かつ、ステップアンドリピートで焼
き付けを行う際にＸＹ方向に移動する。３１６は露光装
置の定盤である。露光機構部３０２は、照明光学系の一
部であるミラーか３０９から定盤３１６までで構成され
ている。３１７、ＴＴＬアライメントに用いられるアラ
イメント手段である。通常、露光装置は、この他に、オ
ートフォーカス機構、ウエハー搬送機構等によって構成
され、これらも露光機構部３０２に含まれる。
【００２６】図４は、本発明の露光装置に用いられる光
学部材の一例であり、露光装置の投影光学系に用いられ
るレンズである。このレンズアセンブリは、４０１〜４
１１の１１枚のレンズをお互いに接着することなく組み
合わせて構成されている。そして、本発明の光学部材
は、図３や図４に示すレンズやミラーとして、あるい
は、図示していないが、ミラー式露光装置のミラーやレ
ンズとして用いられる。レンズまたはミラーの表面に、
反射防止膜または増反射膜を設けることがより好まし
い。また、本発明のフッ化物結晶からなる光学部材は、
プリズムやエタロンとして使用することができる。
学部材の一例であり、露光装置の投影光学系に用いられ
るレンズである。このレンズアセンブリは、４０１〜４
１１の１１枚のレンズをお互いに接着することなく組み
合わせて構成されている。そして、本発明の光学部材
は、図３や図４に示すレンズやミラーとして、あるい
は、図示していないが、ミラー式露光装置のミラーやレ
ンズとして用いられる。レンズまたはミラーの表面に、
反射防止膜または増反射膜を設けることがより好まし
い。また、本発明のフッ化物結晶からなる光学部材は、
プリズムやエタロンとして使用することができる。
【００２７】図５（ａ）と図５（ｂ）は、本発明の光学
部材を用いたエキシマレーザー発振器の構成を模式的に
表した図である。図５（ａ）が示すエキシマレーザー発
振器は、エキシマレーザーを発光させ共振させる装置
で、２つの窓材５０１を有するプラズマチューブ５０４
と、このプラズマチューブ５０４から出たエキシマレー
ザーを絞る絞り穴５０３と、エキシマレーザーの波長を
単波長化させるためのプリズム５０５と、エキシマレー
ザーを反射させるための反射鏡５０２とから構成され
る。
部材を用いたエキシマレーザー発振器の構成を模式的に
表した図である。図５（ａ）が示すエキシマレーザー発
振器は、エキシマレーザーを発光させ共振させる装置
で、２つの窓材５０１を有するプラズマチューブ５０４
と、このプラズマチューブ５０４から出たエキシマレー
ザーを絞る絞り穴５０３と、エキシマレーザーの波長を
単波長化させるためのプリズム５０５と、エキシマレー
ザーを反射させるための反射鏡５０２とから構成され
る。
【００２８】また、図５（ｂ）が示すエキシマレーザー
発振器は、別のエキシマレーザーを発光させ共振させる
装置で、２つの窓材５０１を有するプラズマチューブ５
０４と、このプラズマチューブ５０４から出たエキシマ
レーザーを絞る絞り穴５０３と、エキシマレーザーの波
長を単波長化させるためのエタロン５０６と、エキシマ
レーザーを反射させるための反射鏡５０２とから構成さ
れる。
発振器は、別のエキシマレーザーを発光させ共振させる
装置で、２つの窓材５０１を有するプラズマチューブ５
０４と、このプラズマチューブ５０４から出たエキシマ
レーザーを絞る絞り穴５０３と、エキシマレーザーの波
長を単波長化させるためのエタロン５０６と、エキシマ
レーザーを反射させるための反射鏡５０２とから構成さ
れる。
【００２９】本発明のフッ化物結晶からなる光学部材を
プリズムやエタロンとして装置内に設けたエキシマレー
ザー光発振器は、前記プリズムやエタロンを介してエキ
シマレーザーの波長をより狭くすることができ、言い換
えれば、エキシマレーザーを単波長化することができ
る。この露光装置を用いて、エキシマレーザーをレクチ
ルのパターンを介して基板上の光増感型レジストに照射
すれば、形成すべきパターンに対応した潜像が形成でき
る。
プリズムやエタロンとして装置内に設けたエキシマレー
ザー光発振器は、前記プリズムやエタロンを介してエキ
シマレーザーの波長をより狭くすることができ、言い換
えれば、エキシマレーザーを単波長化することができ
る。この露光装置を用いて、エキシマレーザーをレクチ
ルのパターンを介して基板上の光増感型レジストに照射
すれば、形成すべきパターンに対応した潜像が形成でき
る。
【００３０】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明にかかる
結晶からなる真空紫外領域用光学部材は、潮解性、劈開
性が低く、高エネルギー光を繰り返し照射した場合で
も、高い耐久性を有する。また、本発明にかかる真空紫
外領域用光学部材を用いたレーザー発振器および露光装
置も高い耐久性を有する。
結晶からなる真空紫外領域用光学部材は、潮解性、劈開
性が低く、高エネルギー光を繰り返し照射した場合で
も、高い耐久性を有する。また、本発明にかかる真空紫
外領域用光学部材を用いたレーザー発振器および露光装
置も高い耐久性を有する。
【００３１】さらに、本発明にかかる結晶からなるコー
ティング材で光学部材をコーティングすれば、形成した
膜により表面の耐久性が向上し、真空紫外領域において
も膜における吸収が少なく、薄膜特有の波長特性を実現
することができる。
ティング材で光学部材をコーティングすれば、形成した
膜により表面の耐久性が向上し、真空紫外領域において
も膜における吸収が少なく、薄膜特有の波長特性を実現
することができる。
【００３２】さらにＣａＦ２に比べて大幅な節電が可能
で、エネルギー資源の削減につながるといった絶大な効
果が期待できる。
で、エネルギー資源の削減につながるといった絶大な効
果が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＫＭｇ３、ＣａＦ２の分光特性を示す図。
【図２】本発明にかかるコーティング材を形成するため
の従来の蒸着装置の概略図。
の従来の蒸着装置の概略図。
【図３】本発明の光学部材を用いた露光装置を示す模式
図。
図。
【図４】本発明の光学部材を用いた光学系を示す模式
図。
図。
【図５】本発明の光学部材を用いたレーザー発振器を示
す模式図。図５（ａ）と図５（ｂ）は、本発明の光学部
材を用いたエキシマレーザー発振器の構成を模式的に表
した図。
す模式図。図５（ａ）と図５（ｂ）は、本発明の光学部
材を用いたエキシマレーザー発振器の構成を模式的に表
した図。
２０１ 蒸着装置 ２０２ 真空槽 ２０３ 基板加熱ヒーター ２０４ 光学部材 ２０５ フッ化物結晶 ２０６ 蒸発源 ３０１ 照明光源部 ３０２ 露光機構部 ３０３ 照明光源 ３０４ ミラー ３０５ 凹レンズ ３０６ 凸レンズ ３０７ ミラー ３０８ オプティカルインテグレーター ３０９ ミラー ３１０ コンデンサレンズ ３１１ レクチル ３１２ レクチルホルダ ３１３ 投影光学系 ３１２ ウエハー ３１５ ＸＹステージ ３１６ 露光装置の定盤 ３１７ アライメント手段 ４０１〜４１１ レンズ ５０１ 窓材 ５０２ 反射鏡 ５０３ 絞り穴 ５０４ プラズマチューブ ５０５ プリズム ５０６ エタロン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｓ 3/225 Ｈ０１Ｓ 3/223 Ｅ (72)発明者 福田 承生 宮城県仙台市泉区虹ノ丘２丁目６番７号 (72)発明者 猿倉 信彦 愛知県岡崎市竜美南２丁目３番１号 明大 寺社宅６−403 Ｆターム(参考） 2K009 AA15 CC12 DD03 4G077 AA02 BE02 CF10 FJ06 HA01 5F046 CA04 CB05 CB07 CB10 CB12 5F071 AA06 FF07 JJ03
Claims (9)
- 【請求項１】 式ＫＭｇＦ３で表記される結晶からなる
ことを特徴とする真空紫外領域用光学部材。 - 【請求項２】 アンドープのＫＭｇＦ３からなることを
特徴とする請求項１に記載の真空紫外領域用光学部材。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２のいずれかに記
載の真空紫外領域用光学部材を含むことを特徴とする色
消し光学系。 - 【請求項４】 真空紫外領域用光学部材が、レンズ、プ
リズム、ハーフミラーまたは窓材であることを特徴とす
る請求項１記載または請求項２のいずれかに記載の真空
紫外領域用光学部材。 - 【請求項５】 請求項１または請求項２のいずれかに記
載の真空紫外領域用光学部材を窓材として含むことを特
徴とするレーザー発振器。 - 【請求項６】 レーザー発振器がＡｒＦエキシマレーザ
ー発振器またはＦ２エキシマレーザー発振器であること
を特徴とする請求項５記載のレーザー発振器。 - 【請求項７】 請求項５または請求項６のいずれかに記
載のレーザー発振器と光学系とを有することを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項８】 請求項１または請求項２のいずれかに記
載の真空紫外領域用光学部材を有する光学系、レーザー
発振器及びワークを保持するための保持手段を有するこ
とを特徴とする露光装置。 - 【請求項９】 式ＫＭｇＦ３で表記される結晶からなる
ことを特徴とするコーティング材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001102296A JP2002296401A (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | フッ化物結晶からなる真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001102296A JP2002296401A (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | フッ化物結晶からなる真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002296401A true JP2002296401A (ja) | 2002-10-09 |
Family
ID=18955512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001102296A Pending JP2002296401A (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | フッ化物結晶からなる真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002296401A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105642320A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-06-08 | 河海大学 | 一种钐掺杂KMgF3钙钛矿型可见光响应催化剂及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000281493A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-10 | Canon Inc | 結晶処理方法および結晶並びに光学部品及び露光装置 |
| JP2001108801A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Tsuguo Fukuda | 真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材 |
-
2001
- 2001-03-30 JP JP2001102296A patent/JP2002296401A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000281493A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-10 | Canon Inc | 結晶処理方法および結晶並びに光学部品及び露光装置 |
| JP2001108801A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Tsuguo Fukuda | 真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105642320A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-06-08 | 河海大学 | 一种钐掺杂KMgF3钙钛矿型可见光响应催化剂及其制备方法 |
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