JP2000210792A - 金属溶接管製造用ガスシ―ルド装置 - Google Patents
金属溶接管製造用ガスシ―ルド装置Info
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- JP2000210792A JP2000210792A JP11015412A JP1541299A JP2000210792A JP 2000210792 A JP2000210792 A JP 2000210792A JP 11015412 A JP11015412 A JP 11015412A JP 1541299 A JP1541299 A JP 1541299A JP 2000210792 A JP2000210792 A JP 2000210792A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶接空間を段階的に外気から遮断し、酸化，
窒化等のない健全な溶接部をもつ金属溶接管を製造す
る。 【構成】 円筒状に曲げ加工した金属帯Ｓを、シール材
２６ａを備えた予備室２０に送り込み、更にシール材１
６ａを備えた主室１０に送り込む。主室１０には、成形
スタンド３１，３２，３３，ガイドスタンド３４，溶接
スタンド３５，サイドロールスタンド３６が配置されて
いる。溶接スタンド３５のスクイズロール３５ａ及びサ
イドロールスタンド３６のサイドロール３６ａは更に局
部シールドボックス４０で取り囲まれており、酸化領域
以下の温度に降温するまで溶接部をガスシールドする。 【効果】 溶接空間Ｗへの外気の侵入が大幅に抑制され
るため、酸化，窒化等のない健全な溶接部が形成され
る。
窒化等のない健全な溶接部をもつ金属溶接管を製造す
る。 【構成】 円筒状に曲げ加工した金属帯Ｓを、シール材
２６ａを備えた予備室２０に送り込み、更にシール材１
６ａを備えた主室１０に送り込む。主室１０には、成形
スタンド３１，３２，３３，ガイドスタンド３４，溶接
スタンド３５，サイドロールスタンド３６が配置されて
いる。溶接スタンド３５のスクイズロール３５ａ及びサ
イドロールスタンド３６のサイドロール３６ａは更に局
部シールドボックス４０で取り囲まれており、酸化領域
以下の温度に降温するまで溶接部をガスシールドする。 【効果】 溶接空間Ｗへの外気の侵入が大幅に抑制され
るため、酸化，窒化等のない健全な溶接部が形成され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属溶接管の製造に使
用されるガスシールド装置に関する。
用されるガスシールド装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属帯を連続的に幅方向に円筒状に曲げ
加工した後、幅方向両端部を溶接して金属溶接管を製造
する際、溶接部の内外面が酸化すると溶接部の特性が劣
化することがある。特性劣化は、特に耐食性，耐候性，
加工性，靭性，意匠性等の特性を付与した材質の金属帯
を使用する場合に問題となる。
加工した後、幅方向両端部を溶接して金属溶接管を製造
する際、溶接部の内外面が酸化すると溶接部の特性が劣
化することがある。特性劣化は、特に耐食性，耐候性，
加工性，靭性，意匠性等の特性を付与した材質の金属帯
を使用する場合に問題となる。
【０００３】ＴＩＧ，レーザ溶接等の溶融溶接で金属溶
接管を製造する場合、溶接部の外側表面は、溶接トー
チ，ノズル等から供給される不活性ガスによりある程度
シールされる。溶接トーチ，ノズル等からの不活性ガス
に加えて溶接部をシールドする場合、溶接点近傍を取り
囲むアフターシールドカバー１（図１）や溶接位置周辺
を可能な限り密閉する箱状のシールドボックス２（図
２）が特開平９−７６０９４号公報で紹介されている。
アフターシールドカバー１又はシールドボックス２の内
部に開口するガス供給管３からＡｒ等の不活性ガスを送
り込むことにより、アフターシールドカバー１又はシー
ルドボックス２の内部が不活性雰囲気に維持される。不
活性雰囲気下、円筒状に成形した金属帯Ｓをスクイズロ
ール４で拘束し、金属帯Ｓの幅方向両端部を溶接装置５
で溶接する。溶接部の温度が酸化領域以下に低下するま
で不活性ガス雰囲気で溶接部をシールドするとき、酸化
が抑制された溶接部をもつ金属溶接管が得られる。
接管を製造する場合、溶接部の外側表面は、溶接トー
チ，ノズル等から供給される不活性ガスによりある程度
シールされる。溶接トーチ，ノズル等からの不活性ガス
に加えて溶接部をシールドする場合、溶接点近傍を取り
囲むアフターシールドカバー１（図１）や溶接位置周辺
を可能な限り密閉する箱状のシールドボックス２（図
２）が特開平９−７６０９４号公報で紹介されている。
アフターシールドカバー１又はシールドボックス２の内
部に開口するガス供給管３からＡｒ等の不活性ガスを送
り込むことにより、アフターシールドカバー１又はシー
ルドボックス２の内部が不活性雰囲気に維持される。不
活性雰囲気下、円筒状に成形した金属帯Ｓをスクイズロ
ール４で拘束し、金属帯Ｓの幅方向両端部を溶接装置５
で溶接する。溶接部の温度が酸化領域以下に低下するま
で不活性ガス雰囲気で溶接部をシールドするとき、酸化
が抑制された溶接部をもつ金属溶接管が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】溶接される金属帯Ｓ
は、数ｍ〜数十ｍ／分の走行速度でアフターシールドカ
バー１又はシールドボックス２を通過する。そのため、
金属帯Ｓに随伴してアフターシールドカバー１又はシー
ルドボックス２の内部に外気が流入することが避けられ
ない。また、成形ロール，溶接トーチ等を調整するため
に必要とされる隙間からの外気の侵入もある。その結
果、アフターシールドカバー１又はシールドボックス２
内の酸素分圧や窒素分圧が上昇し、溶接ビードに酸化，
窒化等が生じることがある。
は、数ｍ〜数十ｍ／分の走行速度でアフターシールドカ
バー１又はシールドボックス２を通過する。そのため、
金属帯Ｓに随伴してアフターシールドカバー１又はシー
ルドボックス２の内部に外気が流入することが避けられ
ない。また、成形ロール，溶接トーチ等を調整するため
に必要とされる隙間からの外気の侵入もある。その結
果、アフターシールドカバー１又はシールドボックス２
内の酸素分圧や窒素分圧が上昇し、溶接ビードに酸化，
窒化等が生じることがある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、保護雰囲気を多
段に設けることにより、溶接空間への外気の侵入を効果
的に防止し、健全な溶接部をもつ金属溶接管を製造する
ことを目的とする。本発明の金属溶接管製造用ガスシー
ルド装置は、その目的を達成するため、円筒状に曲げ加
工した金属帯の幅方向両端部を溶接して金属溶接管を製
造する金属帯及び金属溶接管の走行方向に沿って配置さ
れた主室と、主室の入側及び出側に形成された開口部に
金属帯及び金属溶接管との隙間を狭くするシール材と、
主室内部に設けられた複数の成形ロール及びシームガイ
ドロールと、主室内部に設けられ、スクイズロール及び
サイドロールを取り囲み、溶接装置が臨む局部シールド
ボックスとを備えており、局部シールドボックス及び主
室に不活性ガスが送り込まれることを特徴とする。
題を解消すべく案出されたものであり、保護雰囲気を多
段に設けることにより、溶接空間への外気の侵入を効果
的に防止し、健全な溶接部をもつ金属溶接管を製造する
ことを目的とする。本発明の金属溶接管製造用ガスシー
ルド装置は、その目的を達成するため、円筒状に曲げ加
工した金属帯の幅方向両端部を溶接して金属溶接管を製
造する金属帯及び金属溶接管の走行方向に沿って配置さ
れた主室と、主室の入側及び出側に形成された開口部に
金属帯及び金属溶接管との隙間を狭くするシール材と、
主室内部に設けられた複数の成形ロール及びシームガイ
ドロールと、主室内部に設けられ、スクイズロール及び
サイドロールを取り囲み、溶接装置が臨む局部シールド
ボックスとを備えており、局部シールドボックス及び主
室に不活性ガスが送り込まれることを特徴とする。
【０００６】主室の入側に予備室を連接し、主室と予備
室との間の開口部にシール材を設けるとき、主室への外
気の侵入が効率よく抑制される。主室内に配置される局
部シールドボックスは、溶接部が酸化領域以下の温度に
低下するまで溶接部を取り囲む長さをもつことが好まし
い。成形ロールを支持する成形スタンド，スクイズロー
ルを支持する溶接スタンド及び溶接直後の金属溶接管を
保持するサイドロールスタンドを金属帯の幅方向に位置
調節可能に設けるとき、各種サイズの金属溶接管を製造
できる。
室との間の開口部にシール材を設けるとき、主室への外
気の侵入が効率よく抑制される。主室内に配置される局
部シールドボックスは、溶接部が酸化領域以下の温度に
低下するまで溶接部を取り囲む長さをもつことが好まし
い。成形ロールを支持する成形スタンド，スクイズロー
ルを支持する溶接スタンド及び溶接直後の金属溶接管を
保持するサイドロールスタンドを金属帯の幅方向に位置
調節可能に設けるとき、各種サイズの金属溶接管を製造
できる。
【０００７】
【実施の形態】本発明に従ったガスシールド装置は、た
とえば図３〜６に示すように主室１０及び予備室２０を
備え、主室１０の内部に更に局部シールドボックス４０
が配置されている。主室１０は、側壁１１ａ〜１１ｄ，
底板１２及び天板１３ａ，１３ｂで区画される。主室１
０の入側に設けられている予備室２０は、側壁２１ａ〜
２１ｃ，底板１２及び天板２３で区画される。主室１０
は、金属帯Ｓの入口及び金属溶接管Ｐの出口を除き、ほ
ぼ密閉された空間Ｖを形成する。底板１２は、成形スタ
ンド３１〜３３，３６，ガイドスタンド３４及び溶接ス
タンド３５のコモンヘッドとして兼用するため各スタン
ド３１〜３６を位置決めするキー１２ａを備え、キー溝
１４を介して溶接管製造装置のベースに取り付けられ、
ボルト１７ａ〜１７ｆで固定される。底板１２の取付け
に際しては、不活性ガスの漏洩を防止するため、シール
材，メクラネジ孔等が使用される。
とえば図３〜６に示すように主室１０及び予備室２０を
備え、主室１０の内部に更に局部シールドボックス４０
が配置されている。主室１０は、側壁１１ａ〜１１ｄ，
底板１２及び天板１３ａ，１３ｂで区画される。主室１
０の入側に設けられている予備室２０は、側壁２１ａ〜
２１ｃ，底板１２及び天板２３で区画される。主室１０
は、金属帯Ｓの入口及び金属溶接管Ｐの出口を除き、ほ
ぼ密閉された空間Ｖを形成する。底板１２は、成形スタ
ンド３１〜３３，３６，ガイドスタンド３４及び溶接ス
タンド３５のコモンヘッドとして兼用するため各スタン
ド３１〜３６を位置決めするキー１２ａを備え、キー溝
１４を介して溶接管製造装置のベースに取り付けられ、
ボルト１７ａ〜１７ｆで固定される。底板１２の取付け
に際しては、不活性ガスの漏洩を防止するため、シール
材，メクラネジ孔等が使用される。
【０００８】側壁１１ａ，２１ａには金属帯Ｓを通過さ
せる開口部が形成され、それぞれ一対の押え板１５ａ，
１５ａ及び２５ａ，２５ａが開口部に取り付けられ、押
え板１５ａ，１５ａ及び２５ａ，２５ａの間にシール材
１６ａ及び２６ａが狭持されている。出側の側壁１１ｂ
には金属溶接管Ｐを通過させる開口部が形成されてお
り、同様に一対の押え板１５ｂ，１５ｂが開口部に取り
付けられ、押え板１５ｂ，１５ｂでシール材１６ｂを狭
持している。主室１０の内部には、金属帯Ｓを順次幅方
向に曲げ加工する成形スタンド３１〜３３，筒状に成形
された金属帯のシームを一定位置関係に維持するガイド
スタンド３４，幅方向両端部を溶接するスタンド３５，
溶接直後の金属溶接管Ｐを保持するサイドロールスタン
ド３６が順次配列されている。図示の例では、金属帯Ｓ
を筒状に曲げ加工する全ての成形スタンド３１〜３３を
主室１０の内部に配置しているが、上段側スタンドの幾
つかを主室１０及び予備室２０の外部に配置しても良
い。
せる開口部が形成され、それぞれ一対の押え板１５ａ，
１５ａ及び２５ａ，２５ａが開口部に取り付けられ、押
え板１５ａ，１５ａ及び２５ａ，２５ａの間にシール材
１６ａ及び２６ａが狭持されている。出側の側壁１１ｂ
には金属溶接管Ｐを通過させる開口部が形成されてお
り、同様に一対の押え板１５ｂ，１５ｂが開口部に取り
付けられ、押え板１５ｂ，１５ｂでシール材１６ｂを狭
持している。主室１０の内部には、金属帯Ｓを順次幅方
向に曲げ加工する成形スタンド３１〜３３，筒状に成形
された金属帯のシームを一定位置関係に維持するガイド
スタンド３４，幅方向両端部を溶接するスタンド３５，
溶接直後の金属溶接管Ｐを保持するサイドロールスタン
ド３６が順次配列されている。図示の例では、金属帯Ｓ
を筒状に曲げ加工する全ての成形スタンド３１〜３３を
主室１０の内部に配置しているが、上段側スタンドの幾
つかを主室１０及び予備室２０の外部に配置しても良
い。
【０００９】溶接スタンド３５は、レーザ溶接ノズル，
ＴＩＧ溶接トーチ等の溶接装置３９が設けられており、
スクイズロール３５ａ，３５ａで円筒形状に保持された
金属帯Ｓの幅方向両端部が溶接される。溶接スタンド３
５の側方には、図５に示すように調整用シャフト３５ｂ
が突出している。調整用シャフト３５ｂは、側壁１１ｄ
に軸受３５ｃを介して装着されたロール調整用回転軸３
５ｄに嵌め込まれている。回転軸３５ｄを回転させるこ
とにより、側壁１１ｄに関して溶接スタンド３５が前後
進し、左右のスクイズロール３５ａ，３５ａ間のロール
ギャップが製造しようとする金属溶接管Ｐのサイズに合
った間隙に調整される。ロール調整用回転軸３５ｄと軸
受３５ｃとの間にＯリング３５ｅ，３５ｆ、軸受３５ｃ
と側壁１１ｄとの間にＯリング３５ｇが介装され、側壁
１１ｄとロール調整用回転軸３５ｄ，軸受３５ｃとの隙
間から主室１０の内部に外気が侵入することが防止され
る。
ＴＩＧ溶接トーチ等の溶接装置３９が設けられており、
スクイズロール３５ａ，３５ａで円筒形状に保持された
金属帯Ｓの幅方向両端部が溶接される。溶接スタンド３
５の側方には、図５に示すように調整用シャフト３５ｂ
が突出している。調整用シャフト３５ｂは、側壁１１ｄ
に軸受３５ｃを介して装着されたロール調整用回転軸３
５ｄに嵌め込まれている。回転軸３５ｄを回転させるこ
とにより、側壁１１ｄに関して溶接スタンド３５が前後
進し、左右のスクイズロール３５ａ，３５ａ間のロール
ギャップが製造しようとする金属溶接管Ｐのサイズに合
った間隙に調整される。ロール調整用回転軸３５ｄと軸
受３５ｃとの間にＯリング３５ｅ，３５ｆ、軸受３５ｃ
と側壁１１ｄとの間にＯリング３５ｇが介装され、側壁
１１ｄとロール調整用回転軸３５ｄ，軸受３５ｃとの隙
間から主室１０の内部に外気が侵入することが防止され
る。
【００１０】成形スタンド３１〜３３も、側方から調整
用シャフト３１ｂ，３２ｂ，３３ｂが突出している。調
整用シャフト３１ｂ，３２ｂ，３３ｂは、シールリング
３１ｅ，３２ｅ，３３ｅを介して側壁１１ｄに装着され
た調整用アダプタ３１ｄ，３２ｄ，３３ｄに嵌め込まれ
ている。成形スタンド３１〜３３は、調整用アダプタ３
１ｄ，３２ｄ，３３ｄの回転により側壁１１ｄに関して
前後進し、左右の成形ロール３１ａと３１ａ，３２ａと
３２ａ，３３ａと３３ａ間のロールギャップを調整す
る。ガイドスタンド３４は、金属溶接管Ｐのサイズに拘
わらず幅方向両端部が一定の走行軌跡を採るため、固定
配置されている。ガイドスタンド３４には、上下一対の
シームガイドロール３４ａ，３４ａが回転可能に設けら
れている。シームガイドロール３４ａを圧下スクリュー
３４ｂで昇降することにより、シームガイドロール３４
ａ，３４ａ間のロールギャップが調整される。上側のシ
ームガイドロール３４ａの周面にガイドフィン３４ｃが
形成されており、ガイドフィン３４ｃが金属帯Ｓの幅方
向両端部の間に嵌まり込んで金属帯Ｓを送ることによ
り、所定の位置関係で金属帯Ｓが溶接スタンド３５に送
り込まれる。
用シャフト３１ｂ，３２ｂ，３３ｂが突出している。調
整用シャフト３１ｂ，３２ｂ，３３ｂは、シールリング
３１ｅ，３２ｅ，３３ｅを介して側壁１１ｄに装着され
た調整用アダプタ３１ｄ，３２ｄ，３３ｄに嵌め込まれ
ている。成形スタンド３１〜３３は、調整用アダプタ３
１ｄ，３２ｄ，３３ｄの回転により側壁１１ｄに関して
前後進し、左右の成形ロール３１ａと３１ａ，３２ａと
３２ａ，３３ａと３３ａ間のロールギャップを調整す
る。ガイドスタンド３４は、金属溶接管Ｐのサイズに拘
わらず幅方向両端部が一定の走行軌跡を採るため、固定
配置されている。ガイドスタンド３４には、上下一対の
シームガイドロール３４ａ，３４ａが回転可能に設けら
れている。シームガイドロール３４ａを圧下スクリュー
３４ｂで昇降することにより、シームガイドロール３４
ａ，３４ａ間のロールギャップが調整される。上側のシ
ームガイドロール３４ａの周面にガイドフィン３４ｃが
形成されており、ガイドフィン３４ｃが金属帯Ｓの幅方
向両端部の間に嵌まり込んで金属帯Ｓを送ることによ
り、所定の位置関係で金属帯Ｓが溶接スタンド３５に送
り込まれる。
【００１１】サイドロールスタンド３６は、成形スタン
ド３１〜３３と同様に調整用アダプタ３６ｄの回転によ
り側壁１１ｄに関して前後進し、左右のサイドロール３
６ａ，３６ａ間のロールギャップを所定間隙に調整され
る。スクイズロール３５ａ及びサイドロール３６ａは、
主室１０の内部で更に局部シールドボックス４０に収容
されている。局部シールドボックス４０は、溶接直後の
溶接部が酸化領域の温度以下（具体的には、４００℃以
下）に降温するまで金属溶接管Ｐをガスシールドする長
さをもち、内部が溶接空間Ｗとなる。溶接空間Ｗは、入
側シール４１及び出側シール４２で閉鎖空間Ｖから隔離
されている。溶接装置３９は、溶接空間Ｗに臨み、Ａｒ
等の不活性ガスを溶接空間Ｗに送り込むシールド機構を
備えている。
ド３１〜３３と同様に調整用アダプタ３６ｄの回転によ
り側壁１１ｄに関して前後進し、左右のサイドロール３
６ａ，３６ａ間のロールギャップを所定間隙に調整され
る。スクイズロール３５ａ及びサイドロール３６ａは、
主室１０の内部で更に局部シールドボックス４０に収容
されている。局部シールドボックス４０は、溶接直後の
溶接部が酸化領域の温度以下（具体的には、４００℃以
下）に降温するまで金属溶接管Ｐをガスシールドする長
さをもち、内部が溶接空間Ｗとなる。溶接空間Ｗは、入
側シール４１及び出側シール４２で閉鎖空間Ｖから隔離
されている。溶接装置３９は、溶接空間Ｗに臨み、Ａｒ
等の不活性ガスを溶接空間Ｗに送り込むシールド機構を
備えている。
【００１２】不活性ガスは、適宜の配管（図示せず）を
介して主室１０及び必要に応じて予備室２０にも送り込
まれる。これにより、主室１０及び予備室２０の酸素分
圧及び窒素分圧が低く抑えられ、主室１０から局部シー
ルドボックス４０に流入する酸素，窒素等の有害ガス成
分が大幅に少なくなる。雰囲気を予備室２０，主室１
０，局部シールドボックス４０と段階的に外気から遮断
することは、不活性ガスの使用量を節減する上でも有利
である。すなわち、主室１０から流入する酸素，窒素等
が抑えられているため、不活性ガスの少ない供給量で溶
接空間Ｗが低酸素分圧，低窒素分圧の雰囲気に維持され
る。比重が大きいＡｒを不活性ガスとして使用すると
き、ガスの散逸がないので主室１０，予備室２０の上部
を特に気密構造にする必要はない。この点、天板１３
ａ，１３ｂ，２３は、ガスの対流を抑制するだけで十分
である。
介して主室１０及び必要に応じて予備室２０にも送り込
まれる。これにより、主室１０及び予備室２０の酸素分
圧及び窒素分圧が低く抑えられ、主室１０から局部シー
ルドボックス４０に流入する酸素，窒素等の有害ガス成
分が大幅に少なくなる。雰囲気を予備室２０，主室１
０，局部シールドボックス４０と段階的に外気から遮断
することは、不活性ガスの使用量を節減する上でも有利
である。すなわち、主室１０から流入する酸素，窒素等
が抑えられているため、不活性ガスの少ない供給量で溶
接空間Ｗが低酸素分圧，低窒素分圧の雰囲気に維持され
る。比重が大きいＡｒを不活性ガスとして使用すると
き、ガスの散逸がないので主室１０，予備室２０の上部
を特に気密構造にする必要はない。この点、天板１３
ａ，１３ｂ，２３は、ガスの対流を抑制するだけで十分
である。
【００１３】溶接される金属帯Ｓは、シール材２６ａで
側壁２１ａとの間隙が狭められた状態で予備室２０に送
り込まれる。そのため、金属帯Ｓに随伴して予備室２０
に流入する外気が少なくなる。予備室２０を経て主室１
０に金属帯Ｓが送り込まれるため、主室１０に流入する
外気が一層少なくなり、閉鎖空間Ｖの酸素分圧及び窒素
分圧が大幅に低下する。この閉鎖空間Ｖに更に局部シー
ルドボックス４０が設けられているので、溶接空間Ｗは
良好なシールド雰囲気に維持される。酸素分圧，窒素分
圧の低い溶接空間Ｗで金属帯Ｓが溶接されるため、酸
化，窒化等の欠陥がない溶接部が形成される。溶接直後
の金属溶接管Ｐを保持するサイドロール３６ａも局部シ
ールドボックス４０に収容されているので、酸化領域の
温度以下に降温するまで溶接部がガスシールドされる。
したがって、溶接後も酸化，窒化が確実に防止され、良
好な品質の溶接部をもつ金属溶接管が製造される。
側壁２１ａとの間隙が狭められた状態で予備室２０に送
り込まれる。そのため、金属帯Ｓに随伴して予備室２０
に流入する外気が少なくなる。予備室２０を経て主室１
０に金属帯Ｓが送り込まれるため、主室１０に流入する
外気が一層少なくなり、閉鎖空間Ｖの酸素分圧及び窒素
分圧が大幅に低下する。この閉鎖空間Ｖに更に局部シー
ルドボックス４０が設けられているので、溶接空間Ｗは
良好なシールド雰囲気に維持される。酸素分圧，窒素分
圧の低い溶接空間Ｗで金属帯Ｓが溶接されるため、酸
化，窒化等の欠陥がない溶接部が形成される。溶接直後
の金属溶接管Ｐを保持するサイドロール３６ａも局部シ
ールドボックス４０に収容されているので、酸化領域の
温度以下に降温するまで溶接部がガスシールドされる。
したがって、溶接後も酸化，窒化が確実に防止され、良
好な品質の溶接部をもつ金属溶接管が製造される。
【００１４】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の金属溶
接管製造用ガスシールド装置は、主室，局部シールドボ
ックスで雰囲気の酸素分圧及び窒素分圧を段階的に下
げ、局部シールドボックス内を良好な保護雰囲気に維持
し、溶接部の酸化や窒化を効率よく防止している。その
ため、得られた金属溶接管は、健全な溶接部及び表面性
状をもち、高品質の製品溶接管として使用される。予備
室，主室，局部シールドボックスの多段配置は、少ない
供給量の不活性ガスで溶接部を酸化，窒化等から保護す
ることにも有効である。
接管製造用ガスシールド装置は、主室，局部シールドボ
ックスで雰囲気の酸素分圧及び窒素分圧を段階的に下
げ、局部シールドボックス内を良好な保護雰囲気に維持
し、溶接部の酸化や窒化を効率よく防止している。その
ため、得られた金属溶接管は、健全な溶接部及び表面性
状をもち、高品質の製品溶接管として使用される。予備
室，主室，局部シールドボックスの多段配置は、少ない
供給量の不活性ガスで溶接部を酸化，窒化等から保護す
ることにも有効である。
【図１】 本出願人が先に紹介したアフターシールドカ
バーを用いて金属溶接管を製造している状態
バーを用いて金属溶接管を製造している状態
【図２】 本出願人が先に紹介したシールドボックスを
用いて金属溶接管を製造している状態
用いて金属溶接管を製造している状態
【図３】 本発明に従った金属溶接管製造用ガスシール
ド装置の概略側面図
ド装置の概略側面図
【図４】 本発明に従った金属溶接管製造用ガスシール
ド装置の概略平面図
ド装置の概略平面図
【図５】 金属帯又は金属溶接管の走行方向からみた溶
接スタンドの側断面図
接スタンドの側断面図
【図６】 本発明に従った金属溶接管製造用ガスシール
ド装置の概略斜視図
ド装置の概略斜視図
１０：主室 １６ａ，１６ｂ：シール材 ２０：予備室 ２６ａ：シール材 ３１〜３３：成形スタンド ３４：ガイドスタンド
３５：溶接スタンド ３６：サイドロールスタンド ３１ａ，３２ａ，３３
ａ：成形ロール ３４ａ：シームガイドロール ３
５ａ：スクイズロール ３６ａ：サイドロール ４０：局部シールドボックス ４１：入側シール
４２：出側シール Ｓ：金属帯 Ｐ：金属溶接管 Ｖ：閉鎖空間
Ｗ：溶接空間
３５：溶接スタンド ３６：サイドロールスタンド ３１ａ，３２ａ，３３
ａ：成形ロール ３４ａ：シームガイドロール ３
５ａ：スクイズロール ３６ａ：サイドロール ４０：局部シールドボックス ４１：入側シール
４２：出側シール Ｓ：金属帯 Ｐ：金属溶接管 Ｖ：閉鎖空間
Ｗ：溶接空間
フロントページの続き (72)発明者 桜田 康弘 兵庫県尼崎市鶴町１番地 日新製鋼株式会 社技術研究所内 Ｆターム(参考） 4E001 BB06 DD01 4E028 CA02 CA13 4E068 CJ01
Claims (4)
- 【請求項１】 円筒状に曲げ加工した金属帯の幅方向両
端部を溶接して金属溶接管を製造する金属帯及び金属溶
接管の走行方向に沿って配置された主室と、主室の入側
及び出側に形成された開口部に金属帯及び金属溶接管と
の隙間を狭くするシール材と、主室内部に設けられた複
数の成形ロール及びシームガイドロールと、主室内部に
設けられ、スクイズロール及びサイドロールを取り囲
み、溶接装置が臨む局部シールドボックスとを備えてお
り、局部シールドボックス及び主室に不活性ガスが送り
込まれる金属溶接管製造用ガスシールド装置。 - 【請求項２】 主室の入側に予備室が連接され、主室と
予備室との間の開口部にシール材が設けられている請求
項１記載の金属溶接管製造用ガスシールド装置。 - 【請求項３】 溶接部が酸化領域以下の温度に低下する
まで溶接部を取り囲む長さをもつ請求項１又は２記載の
金属溶接管製造用ガスシールド装置。 - 【請求項４】 成形ロールを支持する成形スタンド，ス
クイズロールを支持する溶接スタンド及び溶接直後の金
属溶接管を保持するサイドロールスタンドが金属帯の幅
方向に位置調節可能に設けられている請求項１〜３の何
れかに記載の金属溶接管製造用ガスシールド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11015412A JP2000210792A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 金属溶接管製造用ガスシ―ルド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11015412A JP2000210792A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 金属溶接管製造用ガスシ―ルド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000210792A true JP2000210792A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=11888038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11015412A Withdrawn JP2000210792A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 金属溶接管製造用ガスシ―ルド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000210792A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111618351A (zh) * | 2020-05-27 | 2020-09-04 | 河南工学院 | 一种用于空气中易氧化工件加工的铣床 |
| KR20220169818A (ko) * | 2021-06-21 | 2022-12-28 | (주)뉴아세아 | 파이프 조관 장치 |
-
1999
- 1999-01-25 JP JP11015412A patent/JP2000210792A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111618351A (zh) * | 2020-05-27 | 2020-09-04 | 河南工学院 | 一种用于空气中易氧化工件加工的铣床 |
| CN111618351B (zh) * | 2020-05-27 | 2021-06-18 | 河南工学院 | 一种用于空气中易氧化工件加工的铣床 |
| KR20220169818A (ko) * | 2021-06-21 | 2022-12-28 | (주)뉴아세아 | 파이프 조관 장치 |
| KR102573054B1 (ko) * | 2021-06-21 | 2023-08-31 | (주)뉴아세아 | 파이프 조관 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060404 |