JP2000206533A - 配向膜印刷装置 - Google Patents

配向膜印刷装置

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振 豪 周
Shunin Tei
洙 任 鄭
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 印刷に使用されずに廃液受けに捨てられる配
向液を再使用することによって原価上昇を抑制し環境汚
染を減少させる。 【解決手段】 （ａ）配向膜原料を供給する原料供給手
段４２、４８、５０、５２と；（ｂ）原料供給手段から
供給された前記原料を対象物に印刷する印刷手段５４，
５６，５８と；（ｃ）印刷手段に供給された前記配向膜
原料のうち印刷に使用されなかった配向膜原料６２を、
原料供給手段４２に送る回収手段７２、７４、７６と；
を含む。供給及び回収される原料は、２０℃以下、好ま
しくは５℃程度の低温に維持し、印刷手段に供給するに
先立ち印刷に適する温度に昇温すると良い。また、回収
した原料の純度に応じて再利用するか否かを決定する
と、配向膜の質の低下を防止することが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は配向膜印刷装置に関
する。さらに詳しくは、配向膜の印刷後に収集された配
向液の廃液を再使用することができるようにする液晶表
示機用配向膜印刷装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶の物性定数は分子の配列状態に依存
するので、電界などの外力に対する応答にも差異が発生
する。従って、液晶分子の配列制御は液晶の物性研究は
勿論、表示素子の構成においても必須の技術である。
【０００３】しかし、液晶物質を単純にガラス基板の間
に満たすことだけでは均一な分子配列を得ることが難し
い。従って、ガラス基板に配向膜を形成するのが普通で
ある。
【０００４】配向膜には材質が無機物が主体であるもの
と有機物が主体であるもの及び両者併用であるものがあ
るが、実際の液晶表示素子の構成材料としては有機物が
主に利用されている。
【０００５】１９７２年にジャニング（Janning）によ
って提案されたＳｉＯの四方蒸着から出発した液晶表示
素子に対する配向制御技術は、表示素子の量産化と共
に、液晶材料に対する特性変化が少なく、また、量産に
適した有機高分子による配向制御技術に発展した。即
ち、回転塗布法または印刷塗布法によって基板上に有機
高分子の薄膜を形成し、硬化した後にラビング法で液晶
分子の配向を制御する。
【０００６】ラビング法は、ガラス基板を布などを使用
して一定方向に擦ると擦った方向に液晶分子の長軸が整
然と配向するという現象が１９１１年マウギン（Maugui
n）によって観察されたことから始まった。その後、多
くの研究者がラビング法に適した基板及び薄膜材料を探
索してきたが、現在も材料の明確な選定基準が確立され
ていない。
【０００７】ツイステッドネマチック型液晶表示素子の
量産開始時点では、加水分解性の高いシーフベース（Sc
hiff base）系液晶を使用していた。そのため、素子の
信頼性を確保することができるガラスフリットシーリン
グ（Frit sealing）が必須であり、高温処理工程で問題
が発生しないポリイミド系材料が用いられた。その後、
印刷性、ラビング性、配向制御能力及び化学的安定性の
側面でもポリイミド系材料が他の有機高分子に比べて優
れていることが確認され、現在も各種の液晶表示素子の
配向膜材料として広く使用されている。
【０００８】一般に、ポリイミド系高分子としては、ジ
アミン（Diamine）及びアシドアンハイドライド（Acid
Anhydride）を溶媒内で反応させてポリアミックアシド
（Polyamic acid）を合成する。印刷用材料はポリアミ
ックアシドであり、印刷後に乾燥、加熱硬化の工程を経
てポリイミドになる。
【０００９】このようなポリイミドを利用して配向膜を
形成する方法にはスピン、スプレイ、ディップ及び印刷
方式などの多様な方式があり、量産性を考慮して現在は
印刷法を主に使用している。
【００１０】図１は印刷法を用いた配向膜塗布装置の概
略的構成図であって、まず、塗布に必要な配向膜原料は
配向膜原料供給部２から供給管３を経由し、シリンジ
（Syringe）４によって回転しているドクタロール（Doc
tor roll）８とアニロックスロール（Anilox roll）６
との間に滴下供給される。供給された配向膜原料は２つ
のロール６、８の間で練られ、その結果、アニロックス
ロール６の表面上には均一な液膜が形成される。銅板１
０はアニロックスロール６によって均一になった液膜を
受け取り、移送プレート１６上に安置されて移送された
基板１８上に液膜を転写する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかし、アニロックス
ロール６に滴下されたポリイミド溶液は約３０％のみが
ガラス基板の印刷に使用され、残りの７０％はアニロッ
クスロール６上で揺れるドクタロール８に押されてアニ
ロックスロール６の端から廃液受け１２に落ちる。廃液
受け１２に溜まった廃液１４は廃液チューブ２０を通し
て廃液筒２２に捨てられる。
【００１２】このように、従来の配向膜印刷装置では、
供給された配向膜原料の約７０％の溶液が配向膜印刷に
使用されずに浪費され、材料費増加による製造原価の上
昇が誘発される。さらに、配向液の廃液が特別な処理を
行わずに捨てられると、環境汚染を誘発するおそれがあ
る。
【００１３】本発明は、前記従来の技術の問題点を解決
するためのものであって、印刷に使用されずに廃液受け
に捨てられた配向液の廃液を再使用することによって原
価上昇を抑制し、環境汚染を減少させる配向膜印刷装置
を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、（ａ）配向膜原料を供給する原料供給手
段と；（ｂ）前記原料供給手段から供給された前記原料
を対象物に印刷する印刷手段と；（ｃ）前記印刷手段に
供給された前記配向膜原料のうち印刷に使用なかった配
向膜原料を前記原料供給手段に送る回収手段と；を含む
配向膜印刷装置を提供する。
【００１５】また、本発明は、（ａ）低温維持装置によ
って２０℃以下の低温に維持されて配向膜原料溶液が入
っている原料供給容器と、前記原料供給容器と一端が連
結され他端はシリンジと連結されて配向膜原料をシリン
ジに移送する原料供給管と、前記原料供給管の所定の部
分に設置されて配向膜原料の温度を印刷に適した温度に
昇温させるエージングユニットと、前記エージングユニ
ットに供給される配向膜原料の供給時点及び供給量を調
節するためのバルブと、前記原料供給管を通して移送さ
れた原料を印刷手段に供給するシリンジとを含む原料供
給手段と；（ｂ）前記原料供給手段から供給される原料
を対象物の表面に印刷する印刷手段と；（ｃ）前記印刷
に使用されなかった配向膜原料を収納する集液容器と、
前記集液容器の一端に連結され他端は原料供給手段に連
結されて前記集液容器に収集された配向膜原料を前記原
料供給手段に送り低温維持装置によって２０℃以下の低
温に維持される循環管と、前記循環管の所定の部分に設
置されて前記集液容器から前記原料供給手段に移送され
る廃液原料の移送時点及び移送量を自動で調節する自動
バルブとを含む回収手段と；を含むことを特徴とする配
向膜印刷装置を提供する。
【００１６】また、本発明は、（ａ）低温維持装置によ
って２０℃以下の低温に維持されて配向膜原料溶液が入
っている原料供給容器と、前記原料供給容器内に配向膜
原料及び不活性ガスを供給するためのガス供給装置と、
前記原料供給容器と一端が連結され他端はシリンジと連
結されて配向膜原料をシリンジに移送する原料供給管
と、前記原料供給管の所定の部分に設置されて配向膜原
料の温度を印刷に適した温度に昇温させるエージングユ
ニットと、前記エージングユニットに供給される配向膜
原料の供給時点及び供給量を調節するためのバルブと、
前記原料供給管を通して移送された原料を印刷手段に供
給するシリンジとを含む原料供給手段と；（ｂ）前記原
料供給手段から供給される原料を対象物の表面に印刷す
る印刷手段と；（ｃ）前記印刷に使用されなかった配向
膜原料を収納する集液容器と、前記集液容器の一端に連
結され他端は原料供給手段に連結されて前記集液容器に
収集された配向膜原料を前記原料供給手段に送り低温維
持装置によって２０℃以下の低温に維持される循環管
と、前記循環管の所定の部分に設置されて前記集液容器
から前記原料供給手段に移送される廃液原料の移送時点
及び移送量を自動で調節する自動バルブとを含む回収手
段と；を含むことを特徴とする配向膜印刷装置を提供す
る。
【００１７】また、本発明は、（ａ）低温維持装置によ
って２０℃以下の低温に維持されて配向膜原料溶液が入
っている原料供給容器と、前記原料供給容器内に配向膜
原料及び不活性ガスを供給するためのガス供給装置と、
前記原料供給容器内に存在するガスの排出のためのガス
排出管と、前記排出管の所定の部分に設置されて排出さ
れるガスの排出時点及び排出量を調節するバルブと、前
記原料供給容器と一端が連結され他端はシリンジと連結
されて配向膜原料をシリンジに移送する原料供給管と、
前記原料供給管の所定の部分に設置されて配向膜原料の
温度を印刷に適した温度に昇温させるエージングユニッ
トと、前記エージングユニットに供給される配向膜原料
の供給時点及び供給量を調節するためのバルブと、前記
原料供給管を通して移送された原料を印刷手段に供給す
るシリンジとを含む原料供給手段と；（ｂ）前記原料供
給手段から供給される原料を対象物の表面に印刷する印
刷手段と；（ｃ）前記印刷に使用されなかった配向膜原
料を収納する集液容器と、前記集液容器の一端に連結さ
れ他端は原料供給手段に連結されて前記集液容器に収集
された配向膜原料を前記原料供給手段に送り低温維持装
置によって２０℃以下の低温に維持される循環管と、前
記循環管の所定の部分に設置されて前記集液容器から前
記原料供給手段に移送される廃液原料の移送時点及び移
送量を自動で調節する自動バルブとを含む回収手段と；
を含むことを特徴とする配向膜印刷装置を提供する。
【００１８】また、本発明は、（ａ）配向膜原料が入っ
ている原料供給容器と；（ｂ）一端は前記原料供給容器
と連結され他端はシリンジと連結されて配向膜原料をシ
リンジに移送する原料供給管と；（ｃ）前記原料供給管
を通して移送された原料を印刷手段に供給するシリンジ
と；（ｄ）前記原料供給手段から供給される原料を対象
物の表面に印刷する印刷手段と；（ｅ）前記印刷に使用
されなかった配向液の廃液を収集する第１集液容器と；
（ｆ）前記第１集液容器内に設置されて収集された配向
液の廃液の純度を検知する第１配向液純度測定手段と；
（ｇ）前記第１集液容器から排出された配向液の廃液を
フィルタリングするフィルタと；（ｈ）前記フィルタを
通過した配向液を収集する第２集液容器と；（ｉ）前記
第２集液容器内に設置されてフィルタリングされた配向
液の純度を検知する第２配向液純度測定手段と；（ｊ）
前記第１、第２配向液純度測定手段から入力された配向
液の純度値によって前記第１、第２集液容器に入れられ
た配向液の廃液を再使用するかまたは廃棄するかを制御
する制御手段と；（ｋ）前記制御手段の制御信号によっ
て前記第１、第２集液容器から前記原料供給容器に前記
配向液の廃液を移送する移送手段と；を含むことを特徴
とする配向膜印刷装置を提供する。
【００１９】以下、本発明を詳しく説明する。本発明の
配向膜印刷装置は、配向膜原料を供給する原料供給手段
と、前記原料供給手段から供給された前記原料を対象物
に印刷する印刷手段と、前記印刷手段に供給された前記
配向膜原料のうちの印刷に使用されずに捨てられる配向
膜原料を前記原料供給手段に送る回収手段とを含む。本
発明において前記原料供給手段は配向膜原料を供給する
手段である。具体的には、原料供給手段は、印刷装置に
原料を供給するために、液状の配向膜原料が入れられて
いる原料供給容器と、原料供給容器と連結された原料供
給管を通して移送された原料を印刷装置に供給するシリ
ンジと、原料供給容器に供給される配向膜原料及び不活
性ガスの供給時点及び供給量を調節する自動調節バルブ
とを含む。前記原料供給容器は低温維持装置によって配
向膜原液を２０℃以下に維持するのが好ましく、５℃以
下に維持することがより好ましい。図２は、配向膜原料
の温度及び保管日数による粘度の変化を示したものであ
る。配向膜原液の粘度は印刷率に大きく影響を及ぼす。
図２は、２０℃以下に温度を維持することが配向膜原液
の変質を防止し、５℃以下である場合には配向膜原液の
変質がほぼないということを示す。
【００２０】前記低温維持装置としては、冷却ジャケッ
ト（cooling jacket）を用いることが通常であるが、必
ずしもこれに限定されるのではない。低温維持装置によ
って原料供給容器が低温に維持される場合には、配向膜
原液の温度を２０℃以下の低温から印刷に適した温度
に、エージングユニット（aging unit）を用いて昇温さ
せる。前記エージングユニットへの配向膜原液の供給時
点及び供給量を調節するために自動調節バルブを使用す
るのが好ましい。
【００２１】また、本発明の原料供給手段はガス排出管
をさらに含むのが好ましい。前記ガス排出管は原料供給
容器内に存在するガスの排出のための装置である。前記
排出されるガスは空気または窒素ガスである。空気は水
分を含有しているため、配向膜原料の加水分解を誘発さ
せて変質を引き起こすので、原料供給容器内に存在する
のは好ましくない。
【００２２】前記空気排出管はチェックバルブ（check
valve）の形態を有することによって内部から空気を排
出することはできるが外部から空気が流入することはで
きないように形成されるのが好ましい。より好ましく
は、前記空気排出管上の所定の部分に、排出されるガス
の排出時点及び排出量を調節する自動調節バルブを含
む。
【００２３】本発明の前記印刷手段は、前記原料供給手
段から供給される原料を表面に塗布する第１ロールと、
前記第１ロールに塗布された原料が前記第１ロールの表
面に均一に付着されるように制御する第２ロールと、前
記第２ロールに塗布された原料を配向膜が塗布される対
象物の表面に印刷する第３ロールとから構成される。
【００２４】本発明の前記回収手段は、印刷装置に供給
されても印刷に使用されずに落下する原料を収集する集
液容器と、集液容器及び原料供給容器に連結される循環
管と、前記循環管の所定の位置に設置されて前記集液容
器に収集された廃液の供給時点及び供給量を調節する自
動調節バルブとを含む。前記循環管の温度を低温維持装
置によって２０℃以下の恒温に維持することで配向膜廃
液の変質を防止することが好ましく、５℃以下に維持す
るのがより好ましい。前記低温維持装置としては通常冷
却ジャケットが用いられるが、必ずしもこれに限定され
ない。
【００２５】また、前記回収手段は、前記集液容器内に
設置されて収集された配向液廃液の純度を検知する配向
液純度測定手段と、前記配向液純度測定手段から入力さ
れた配向液の純度値によって前記配向液の廃液を集液容
器に送るか原料供給容器に送るかを決定する制御手段と
をさらに含むことができる。前記純度測定手段及び制御
手段を含む場合には、汚染または変質の著しい配向液の
廃液を原料供給容器に送るのを未然に防止して配向液の
汚染または変質を防止することができる。この場合にも
配向液廃液を原料供給容器に移送する循環管は２０℃以
下の低温に維持するのが好ましく、５℃以下に維持する
のがより好ましい。
【００２６】また、前記回収手段は、前記印刷手段の第
２ロールから下部に滴下される配向液の廃液を収集する
第１集液容器と、前記第１集液容器内に設置されて収集
された配向液の廃液の純度を検知する第１配向液純度測
定手段と、前記第１集液容器から排出された配向液の廃
液をフィルタリングするフィルタと、前記フィルタを通
過した配向液を収集する第２集液容器と、前記第２集液
容器内に設置されてフィルタリングされた配向液の純度
を検知する第２配向液純度測定手段と、前記第１、第２
配向液純度測定手段から入力された配向液の純度値によ
って前記第１、第２集液容器から配向液供給容器または
集液容器のいずれに送るかを制御する制御手段とを含む
こともできる。前記回収手段を使用する場合には、原料
供給容器の配向液の変質を防止すると共に多量の配向液
を得ることができる長所がある。この場合にも配向液の
廃液を原料供給容器に送る循環管は２０℃以下の低温を
維持するのが好ましく、５℃以下に維持するのがより好
ましい。
【００２７】また、印刷方式を用いた配向膜形成方法
は、配向膜の塗布、予備乾燥及び硬化過程からなり、場
合に応じて配向膜の塗布過程の前に基板をローディング
する過程と、基板を洗浄する過程とが追加され得、硬化
過程の後に基板を硬化炉から分離するアンローディング
過程が追加され得る。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の好ましい実施形態例を説明する。しかし、下記の実施
形態例は本発明を例示するものであって、本発明は下記
の実施形態例に限定されない。
【００２９】＜第１実施形態例＞図３は、本発明の第１
実施形態例による配向膜印刷装置の概略的構成図であっ
て、フレクソ（FLEXO）印刷方式を応用したものであ
る。前記フレクソ印刷方式という用語は、フレキシブル
板（Flexo板）を利用したことから由来している。
【００３０】図３を参照すると、配向膜印刷装置は印刷
に使用されずに廃液受け６０に捨てられる配向膜原料を
収集するための集液容器７２と、集液容器７２に一端が
連結され他端が原料供給容器４２に連結されて集液容器
７２に収集された配向膜原料を原料供給容器４２に再移
送するための循環管７４と、循環管７４の所定の位置に
設置されて循環管７４を通して移送される廃液の移送時
点及び移送量を自動で調節する自動バルブ７６とを含
む。
【００３１】原料供給容器４２にはポリイミドを原料と
する配向膜原料が入れられている。原料供給管４６は、
その一端が、配向膜原料が入れられている原料供給容器
４２に入っている。原料供給容器４２に入れられている
配向膜原料溶液を移送するためである。また、原料供給
管４６の他端には、原料供給容器４２から原料供給管４
６を通して移送された液体状態の配向膜原料を注射する
ためのシリンジ４８が連結されている。
【００３２】原料供給容器４２に入っている配向膜原料
が原料供給管４６を通して移送されるようにするため
に、供給ガスを原料供給容器４２に吹き込む。これによ
って、高純度の窒素（Ｎ2）ガスが窒素ガス供給部（図
示しない）からガス供給管４３を通して原料供給容器４
２に供給される。窒素ガスが原料供給容器４２に供給さ
れると、配向膜原料は原料供給管４６を通して移送され
る。
【００３３】また、配向膜印刷は対象物が装着された間
にのみ遂行されるので、ガス供給管４３の所定の位置に
はガスの供給時点及び供給量を調節するための自動バル
ブ（以下、第１自動バルブと称する）４４が設置され
る。
【００３４】シリンジ４８から注射される配向膜原料
は、多数の回転するロールから構成された印刷装置によ
って基板に印刷される。即ち、ロールの表面に１次とし
て配向膜原料が均一に塗布され、ロールの下部に移送さ
れてきたガラス基板の表面に２次として配向膜原料が印
刷される。
【００３５】印刷用ロールはシリンジ４８から注射され
る配向膜原料を表面に塗布するアニロックスロール（第
１ロール）５４と、アニロックスロール５４に塗布され
た原料がアニロックスロール５４の表面に均一に付着す
るようにアニロックスロール５４と微細な間隔をおいて
回転するドクタロール（第２ロール） ５６と、アニロ
ックスロール５４及びドクタロール５６の相互回転によ
ってアニロックスロール５４の表面に均一に塗布された
原料を受けて配向膜が塗布される対象物、即ち、液晶表
示器用ガラス基板の表面に印刷する印刷ロール（第３ロ
ール）５８とを含む。
【００３６】アニロックスロール５４の表面には、供給
された液膜を保有するために、凹溝が形成されている。
【００３７】印刷する間にアニロックスロール５４から
印刷ロール５８に供給されなかった配向膜原料は、アニ
ロックスロール５４の下側端から落下する。従って、ア
ニロックスロール５４の下部端には集液容器７２が配設
されている。集液容器７２に収集された廃液を原料供給
容器４２に移送するための循環管７４が集液容器７２及
び原料供給容器４２に連結されている。循環管７４を通
して原料供給容器４２に移送される配向膜原料の移送時
点及び移送量を調節するための自動バルブ（以下、第２
自動バルブと称する）７６が、循環管７４の所定の位置
に設置される。
【００３８】また、集液容器７２の下部には、集液容器
７２から溢れた廃液やアニロックスロール５４から集液
容器７２を外れて落下する廃液を収集する廃液受け６０
が配置されている。廃液受け６０は、廃液チューブ６８
を通して廃液筒７０に連結されている。
【００３９】前記のように構成される配向膜印刷装置の
印刷過程を図３に基づいて説明する。
【００４０】まず、移送プレート６４に安置された配向
膜印刷のための対象物６６、例えば薄膜トランジスタ基
板またはカラー基板が印刷ロール５８の下部に整列され
る。
【００４１】第１自動バルブ４４が開き、窒素ガスがガ
ス供給管４３を通して原料供給容器４２に供給される
と、液体状態の配向膜原料は配向膜原料供給容器４２か
ら供給管４６を経由してシリンジ４８のニードル５０を
通して回転しているドクタロール５６とアニロックスロ
ール５４との間に供給される。ここで、第１自動バルブ
４４が開いている間は第２自動バルブ７６は閉じた状態
である。
【００４２】塗布液は２つのロール５６、５４の間で練
られてアニロックスロール５４の表面上に均一な液膜を
形成する。
【００４３】均一な液膜を形成する方法としては、ドク
タロール５６によってアニロックスロール５４の表面の
液膜を写し取るブレード方式と、ドクタロールによって
アニロックスロールの表面の液膜を練って入れる方式と
の２つが挙げられる。
【００４４】アニロックスロール５４に均一に塗布され
た液膜は、印刷ロール５８に転写される。印刷ロール５
８は、アニロックスロール５４からの転写を受けた液膜
を基板６６の表面に印刷する。
【００４５】前記過程で１回のディスペンシングが完了
すると、第１自動バルブ４４は閉じられ、第２自動バル
ブ７６が開かれる。これによって、アニロックスロール
５４から印刷ロール５８に転写されずに集液容器７２に
落下した液膜は循環管７４及び第２自動バルブ７６を通
して原料供給容器４２に回収される。
【００４６】前記第１実施形態例によると、印刷のため
にアニロックスロール５４に供給されても印刷に使用さ
れなかった配向膜原料が収集されて再使用されるので配
向膜原料の浪費が実質的に防止される。
【００４７】また、印刷に使用されずに廃液筒７０に捨
てられる原料の量がほとんどなくなるので、廃液の処理
に所要される時間及び費用を節減することができると共
に廃配向膜によって発生する環境汚染を防止することが
できる。
【００４８】＜第２実施形態例＞一方、第１実施形態例
で提示された装置は、再収集される配向膜原料の純度
が、収集される過程で変質または汚染して配向膜原料の
質的低下をもたらすおそれがある。従って、第２実施形
態例では、循環管及び原料供給容器を冷却ジャケットを
用いて５℃に維持し、原料供給容器内部の水分を含有し
た空気をガス排出管を通して原料供給容器の外に排出
し、低温の配向膜原料を印刷装置に供給する時には印刷
に適した温度に昇温させるエージングユニットを備える
ことによって、配向膜原料の変質及び汚染を防止するこ
とができる装置が設置された配向膜印刷装置を開示す
る。
【００４９】図４は、本発明の第２実施形態例にかかる
配向膜印刷装置の概略的構成図であって、図３の配向膜
印刷装置と同一な構成要素を一部省略して示した図面で
ある。
【００５０】図４を参照すると、配向膜印刷装置は、印
刷に使用されずに廃液受け６０に捨てられる配向膜原料
を収集するための集液容器７２と、集液容器７２に一端
が連結され他端が原料供給容器４２に連結されて冷却ジ
ャケットによって５℃の恒温に維持され、集液容器７２
に収集された配向膜原料を原料供給容器４２に再移送す
るための循環管７４と、循環管７４の所定の位置に設置
されて循環管７４を通して移送された廃液の移送時点及
び移送量を自動で調節する第２自動バルブ７６とを含
む。
【００５１】原料供給容器４２は冷却ジャケットによっ
て５℃の恒温に維持される。原料供給容器４２に入れら
れた配向膜原料溶液を移送するために、原料供給管４６
の一側端は配向膜原料が入れられている原料供給容器４
２に入っている。原料供給管４６の他端には原料供給容
器４２から原料供給管４６を通して移送された液状の配
向膜原料を注射するためのシリンジ４８が連結されてい
る。原料供給管４６の一端には低温の配向膜原料を印刷
に適した温度に昇温させるためのエージングユニット４
７とエージングユニット４７への配向膜原料の供給時点
及び供給量を調節する第３自動調節バルブ４５とが設置
されている。
【００５２】また、チェックバルブ形態の空気排出管４
０が設置されている。原料供給容器４２には水分を含有
した空気が存在するので、空気を原料供給容器４２の外
部に排出させるためである。排出ガス調節のために、第
４自動調節バルブ４１が設置されている。
【００５３】原料供給容器４２に入れられた配向膜原料
が原料供給管４６を通して移送されるようにするため
に、供給ガスを原料供給容器４２に吹き込む。このため
に高純度の窒素（Ｎ2）ガスが窒素ガス供給部（図示し
ない）からガス供給管４３を通して原料供給容器４２に
供給される。窒素ガスが原料供給容器４２に供給される
時に配向膜原料は原料供給管４６を通して移送される。
【００５４】また、配向膜印刷は対象物が装着されてい
る間にのみ遂行されるので、ガス供給管４３の所定の位
置にはガスの供給時点及び供給量を調節するための第１
自動バルブ４４が設置される。
【００５５】シリンジ４８から注射される配向膜原料は
回転するロールから構成される印刷装置によって基板に
印刷される。即ち、多数のロールの表面に１次として配
向膜原料が均一に塗布され、ロールの下部に移送されて
きたガラス基板の表面に２次として印刷される。
【００５６】印刷用ロールは、シリンジ４８から注射さ
れる配向膜原料を表面に塗布するアニロックスロール５
４と、アニロックスロール５４に塗布された原料がアニ
ロックスロール５４の表面に均一に付着するようにアニ
ロックスロール５４と微細な間隔をおいて回転するドク
タロール５６と、アニロックスロール５４及びドクタロ
ール５６の相互回転によってアニロックスロール５４の
表面に均一に塗布された原料を受けて配向膜が塗布され
る対象物、即ち液晶表示器用ガラス基板の表面に印刷す
る印刷ロール５８とを含む。
【００５７】アニロックスロール５４の表面には供給さ
れた液膜を保有するための凹溝が形成されている。
【００５８】印刷する間にアニロックスロール５４から
印刷ロール５８に供給されなかった配向膜原料は、アニ
ロックスロール５４の下側端から落下する。このため、
アニロックスロール５４の下部端には集液容器７２が配
設されている。集液容器７２に収集された廃液を原料供
給容器４２に移送するための循環管７４が、集液容器７
２及び原料供給容器４２に連結されている。循環管７４
は、５℃に維持され、恒温維持のために冷却ジャケット
で包み込まれている。循環管７４を通して原料供給容器
４２に移送される配向膜原料の移送時点及び移送量を調
節するための第２自動バルブ７６が、循環管７４の所定
の位置に設置される。
【００５９】また、集液容器７２の下部には、集液容器
７２から溢れた廃液やアニロックスロール５４から集液
容器７２を外れて落下する廃液を収集する廃液受け６０
が配置されている。廃液受け６０は、廃液チューブ６８
を通して廃液筒７０に連結される。
【００６０】前記のように構成される配向膜印刷装置の
印刷過程を図４に基づいて説明する。まず、移送プレー
ト６４に安置された配向膜の印刷のための対象物６６、
例えば薄膜トランジスタ基板またはカラーフィルタ基板
が、印刷ロール５８の下部に整列される。
【００６１】第１自動バルブ４４が開いて窒素ガスがガ
ス供給管４３を通して原料供給容器４２に供給される
と、液体状態の配向膜原料は、配向膜原料供給容器４２
から原料供給管４６を経由し、第３自動調節バルブ４５
を経てエージングユニット４７で印刷に適した温度に昇
温される。昇温された配向膜原料は原料供給管４６に沿
ってシリンジ４８に伝達され、シリンジ４８のニードル
５０によって回転しているドクタロール５６とアニロッ
クスロール５４との間に滴下供給される。ここで、第１
自動バルブ４４及び第３自動調節バルブ４５が開いてい
る間は第２自動バルブ７６及び第４自動調節バルブ４１
は閉じた状態である。
【００６２】塗布液は２つのロール５６、５４の間で練
られてアニロックスロール５４の表面上に均一な液膜を
形成する。
【００６３】アニロックスロール５４に均一に塗布され
た液膜は、印刷ロール５８に転写され、印刷ロール５８
はアニロックスロール５４から転写された液膜を基板６
６の表面に印刷する。
【００６４】前記過程で１回のディスペンシングが完了
すると、第３自動バルブ４４は閉じ、第２自動バルブ７
６及び第４自動調節バルブ４１は開く。これによって、
アニロックスロール５４から印刷ロール５８に転写され
ずに集液容器７２に落下した液膜は循環管７４及び第２
自動バルブ７６を通して原料供給容器４２に回収され
る。この時、第４自動調節バルブ４１は原料供給容器４
２内の空気を除去するために開かれた状態である。
【００６５】前記第２実施形態例によると、印刷に使用
されずに収集される廃配向膜原料の変質及び汚染を防止
することができると共に廃配向膜によって発生する環境
汚染が防止される。
【００６６】＜第３実施形態例＞一方、第１実施形態例
で提示された装置は、再収集される配向膜原料の純度を
確認することができないので、原料供給容器に最初に入
れられた原料と使用後に収集された原料との混合によっ
て供給原料の純度が低下するおそれがある。従って、第
３実施形態例では、集液容器に収集された配向膜の純度
を確認することができる装置が設置された配向膜印刷装
置を開示する。
【００６７】図５は、本発明の第３実施形態例による配
向膜印刷装置の概略的構成図であって、図３または４の
配向膜印刷装置と同一な構成要素を一部省略して示した
図面である。
【００６８】図５を参照すると、配向膜印刷装置は、印
刷に使用されずに廃液受け６０に捨てられる配向膜原料
を収集するための集液容器７２内に設置されて収集され
た液状原料の純度を確認するための純度測定センサ８２
を含む。純度測定センサ８２は、集液容器７２に収集さ
れた配向膜原料を廃液筒７０に送るか原料供給容器４２
に送るかを、入力された配向膜の純度値に基づいて判断
する制御手段であるマイクロプロセッサ８４に連結され
る。集液容器７２の一端には分離装置８６が設置され
る。分離装置８６は、マイクロプロセッサ８４の制御信
号によって集液容器７２に収集された配向膜原料を、廃
液筒７０または原料供給容器に移送するように、集液容
器７２から移送された配向膜原料を分離排出する。
【００６９】分離装置８６の一側の排出口には、分離さ
れた配向膜原料を廃液筒７０に移送するための廃液チュ
ーブ８８が連結され、他側の排出口には分離された配向
膜原料を原料供給容器４２に移送するための循環管７４
が連結される。循環管７４の所定の位置には自動バルブ
（第２自動バルブ）７６が設置されて集液容器７２から
原料供給容器４２に移送される配向膜原料の移送時点及
び移送量を調節する。
【００７０】図示してはいないが、原料供給容器に窒素
ガスを供給するガス供給管と窒素ガスの供給量及び供給
時点を調節する第１自動バルブとの構成は第１実施形態
例と同一である。
【００７１】前記のように構成される配向膜印刷装置の
印刷過程を図５に基づいて説明する。まず、第１自動バ
ルブ（図示しない）が開いて窒素ガスがガス供給管（図
示しない）を通して原料供給容器（図示しない）に供給
されると、液状の配向膜原料は配向膜原料供給容器から
供給管（図示しない）を経由してシリンジ（図示しな
い）のニードル（図示しない）を通して回転しているド
クタロールとアニロックスロール５４との間に滴下供給
される。ここで、第１自動バルブが開いている間は第２
自動バルブ７６は閉じた状態である。
【００７２】塗布液は２つのロールの間で練られてアニ
ロックスロール５４の表面上に均一な液膜を形成する。
【００７３】アニロックスロール５４に均一に塗布され
た液膜は、印刷ロール（図示しない）に転写される。印
刷ロールは、アニロックスロール５４から転写された液
膜を基板の表面に印刷する。
【００７４】前記過程で１回のディスペンシングが完了
すると、第１自動バルブは閉じて第２自動バルブ７６は
開く。
【００７５】ここで、アニロックスロール５４から印刷
ロールに転写されずに集液容器７２に落下した液膜の純
度は、純度測定センサ８２によって測定される。測定さ
れた純度はマイクロプロセッサ８４に入力される。マイ
クロプロセッサ８４は、入力された純度が再使用のため
の許容値以上であれば、分離装置８６の原料供給容器に
連結された排出口を開放する。
【００７６】排出口の開放により、集液容器に収集され
た液膜は循環管７４を通して原料供給容器に移送され
る。
【００７７】一方、純度測定センサ８２からマイクロプ
ロセッサ８４に入力された純度値が許容値未満であれ
ば、マイクロプロセッサ８４の制御信号によって分離装
置８６の廃液筒７０に連結された排出口が開放される。
これによって、集液容器に収集された液膜８０は、廃液
チューブ８８を通して廃液筒７０に移送される。
【００７８】第３実施形態例によると、印刷のためにア
ニロックスロール５４に供給されても印刷に使用されず
に集液容器に収集された液膜の純度測定が行われた後で
再使用が決定されるので、収集された原料と使用されて
いない原料との混合による配向液の質の低下を防止す
る。その結果、純度低下による配向膜の不良が防止され
る。第３実施形態例においても、第２実施形態例と同様
に、循環管７４及び原料供給容器４２を冷却ジャケット
で包み込んで５℃以下の恒温を維持し、ガス排出管４０
を設置して原料供給容器内の水分を含有した空気を原料
供給容器４２の外部に排出させ、印刷時にはエージング
ユニット４７を使用して昇温させると、配向液の質の低
下をさらに防止することができる。
【００７９】＜第４実施形態例＞一方、第３実施形態例
で提示された装置は、再収集された配向膜原料と新たな
配向膜原料との混合による純度低下を防止することはで
きるが、第１実施形態例に比べて配向膜原料の再使用率
が低い。従って、第４実施形態例は第３実施形態例の長
所に加えて収集された配向膜原料の再使用率をより効果
的に向上させることができる配向膜印刷装置を提供す
る。
【００８０】図６は、本発明の第４実施形態例に係る配
向膜印刷装置の概略的構成図であって、図３の配向膜印
刷装置と同一な構成要素を一部省略して示した図面であ
る。
【００８１】図６を参照すると、配向膜印刷装置は、印
刷に使用されずに廃液受け６０に捨てられる配向膜原料
を１次収集するための第１集液容器７２内に設置されて
収集された液状原料の純度を確認するための第１純度測
定センサ８２と、収集された液状原料を１次分離するた
めの１次分離装置８６と、１次分離装置８６から排出さ
れた純度の低い原料をフィルタリングするフィルタ９０
と、フィルタ９０によってフィルタリングされた原料を
収集する第２集液容器９２と、第２集液容器９２内に設
置されて２次収集された原料の純度を測定する第２純度
測定センサ９６と、第２集液容器９２に収集された原料
９４を原料供給容器または廃液筒１０６に分離排出する
第２分離装置１００とを含む。
【００８２】第１純度測定センサ８２及び第２純度測定
センサ９６は、制御手段であるマイクロプロセッサ８４
に連結される。マイクロプロセッサ８４は、第１、第２
純度測定センサ８２、９６から入力された配向膜の純度
値に基づいて、第１、第２集液容器７２、９２に収集さ
れた配向膜原料を廃液筒１０６に送るか、それとも原料
供給容器に送るかを判断し、第１、第２分離装置８６、
１００を制御する。
【００８３】第１分離装置８６は、マイクロプロセッサ
８４の制御信号によって第１集液容器７２に収集された
配向膜原料をフィルタ９０または原料供給容器に移送す
るように、第１集液容器７２から移送された配向膜原料
を分離排出する。第２分離装置１００は、マイクロプロ
セッサ８４の制御信号によって第２集液容器９２に収集
された配向膜原料を、廃液筒１０６または原料供給容器
に移送するように、第２集液容器９２から移送された配
向膜原料を分離排出する。
【００８４】第１分離装置８６の一側の排出口には分離
された配向膜原料をフィルタ９０に移送するための廃液
チューブ８８が連結され、他側の排出口には分離された
配向膜原料を原料供給容器４２に移送するための循環管
７４が連結される。循環管７４の所定の位置には自動バ
ルブ（第２自動バルブ）７６が設置され、第１集液容器
７２から原料供給容器４２に移送される配向膜原料の移
送時点及び移送量を調節する。
【００８５】第２分離装置１００の一側の排出口には、
分離された配向膜原料を廃液筒１０６に移送するための
廃液チューブ１０４が連結され、他側の排出口には分離
された配向膜原料を原料供給容器４２に移送するための
２次循環管１０８が連結される。前記２次循環管１０８
は、１次分離装置の循環管７４と連通するように第１分
離装置８６と第２自動バルブ７６との間に連結される。
【００８６】図示してはいないが、原料供給容器に窒素
ガスを供給するガス供給管及び窒素ガスの供給量及び供
給時点を調節する第１自動バルブの構成は第１実施形態
例と同一である。
【００８７】前記のように構成される配向膜印刷装置の
印刷過程を図６に基づいて説明する。まず、配向膜を塗
布する過程は第１実施形態例ないし第３実施形態例と同
一であるのでここではその説明を省略する。１回のディ
スペンシングが完了すると、第１自動バルブは閉じて第
２自動バルブ７６が開く。
【００８８】ここで、アニロックスロール５４から印刷
ロールに転写されずに第１集液容器７２に落下した液膜
の純度が、第１純度測定センサ８２によって測定され
る。測定された純度はマイクロプロセッサ８４に入力さ
れる。マイクロプロセッサ８４は、入力された純度が再
使用のための許容値以上であれば、第１分離装置８６の
原料供給容器に連結された排出口を開放する。
【００８９】排出口の開放によって、第１集液容器７２
に収集された液膜は循環管７４を通して原料供給容器に
移送される。
【００９０】一方、第１純度測定センサ８２からマイク
ロプロセッサ８４に入力された純度値が許容値未満であ
れば、マイクロプロセッサ８４の制御信号によって第１
分離装置８６の他の排出口が開放される。第１集液容器
７２に収集された配向液の廃液８０は、廃液チューブ８
８を通してフィルタ９０でフィルタリングされる。
【００９１】フィルタ９０を通過した原料は第２集液容
器９２に収集される。第２純度測定センサ９６は収集さ
れた原料の純度を測定する。第２純度測定センサ９６で
測定された純度値は、マイクロプロセッサ８４に入力さ
れる。マイクロプロセッサ８４は、入力された純度値が
許容値以上であれば排出口を開放し、第２集液容器９２
に収集された原料を２次循環管１０８を通して原料供給
容器に移送する。入力された純度値が許容値未満であれ
ば、他の排出口を開放し、第２集液容器９２に収集され
た原料を廃液チューブ９８及び排出管１０４を通して廃
液筒１０６に排出する。
【００９２】第４実施形態例によると、印刷のためのア
ニロックスロール５４に供給されても印刷に使用されず
に集液容器に収集された液膜の純度測定が行われた後で
再使用が決定されるので、収集された原料と使用されて
いない原料との混合による配向膜の質の低下を防止す
る。その結果、純度低下による配向膜不良が防止され
る。第４実施形態例でも第２実施形態例と同様に、循環
管７４、１０８及び原料供給容器４２を冷却ジャケット
で包み込んで５℃以下の恒温を維持し、ガス排出管４０
を設置して原料供給容器内の水分を含有した空気を原料
供給容器４２の外部に排出させ、印刷時にはエージング
ユニット４７を使用して昇温させることによって配向液
の質の低下をさらに防止することができる。
【００９３】
【発明の効果】以上のように、本発明は印刷のために印
刷手段に供給されても印刷に使用されずに廃液筒に捨て
られる既に使用された配向膜原料をそのまま回収した
り、回収された廃液を純度測定を通して分離して回収し
たり、回収された廃液をフィルタリングして再使用する
ことによって、廃液の発生を最小化すると共に原料の使
用効率を高める。その結果、配向膜形成に所要される製
造原価を実質的に減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の技術による配向膜印刷装置の概略的構成
図である。
【図２】配向膜の原料の温度及び保管日数による粘度の
変化を示した図面である。
【図３】本発明の一実施形態例による配向膜印刷装置の
概略的構成図である。
【図４】本発明の他の実施形態例による配向膜印刷装置
の概略的構成図である。
【図５】本発明の他の実施形態例による配向膜印刷装置
の概略的構成図である。
【図６】本発明のまた他の実施形態例による配向膜印刷
装置の概略的構成図である。
【符号の説明】
４０ 空気排出管 ４１ 第４自動調節バルブ ４２ 原料供給容器 ４３ ガス供給管 ４４ 第１自動バルブ ４５ 第３自動調節バルブ ４６ 原料供給管 ４７ エージングユニット ４８ シリンジ ５０ ニードル ５４ アニロックスロール ５６ ドクタロール ５８ 印刷ロール ６０ 廃液受け ６４ 移送プレート ６６ 対象物 ６８ 廃液チューブ ７０、１０６ 廃液筒 ７２ 集液容器 ７４、１０８ 循環管 ７６ 第２自動バルブ ８２ 第１純度測定センサ ８４ マイクロプロセッサ ８６ 分離装置（第１分離装置） ８８、９８ 廃液チューブ ９０ フィルタ ９２ 第２集液容器 ９４ 原料 ９６ 第２純度測定センサ １００ 第２分離装置 １０４ 移送管（排出管）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キム，ギ−ピュン 大韓民国ソウル市江西区禾谷２洞870−67 ダェウング301号 (72)発明者 リー，クン−ジョン 大韓民国ソウル市麻浦区城山２洞市営アパ ート２棟506号 (72)発明者 周 振 豪 大韓民国ソウル市麻浦区桃花２洞現代２次 アパート207棟1604号 (72)発明者 鄭 洙 任 大韓民国京畿道龍仁市器興邑農書里山24番 地 (72)発明者 李 鳳 雨 大韓民国忠清南道牙山市陰峰面山東里427 −１サムイルアパート102棟811号

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】配向膜原料を供給する原料供給手段と、 前記原料供給手段から供給された前記原料を対象物に印
    刷する印刷手段と、 前記印刷手段に供給された前記配向膜原料のうちの印刷
    に使用されなかった配向膜原料を、前記原料供給手段に
    送る回収手段と、 を含む配向膜印刷装置。
  2. 【請求項２】前記原料供給手段は、配向膜原料が入って
    いる原料供給容器と、一端は前記原料供給容器と連結さ
    れ他端はシリンジと連結されて配向膜原料をシリンジに
    移送する原料供給管と、前記原料供給管を通して移送さ
    れた原料を印刷手段に供給するシリンジと、前記原料供
    給容器に供給される配向膜原料及び不活性ガスの供給時
    点及び供給量を調節する自動調節バルブとを含み、 前記印刷手段は、前記原料供給手段から供給される原料
    を表面に塗布する第１ロールと、前記第１ロールに塗布
    された原料が前記第１ロールの表面に均一に付着される
    ように制御する第２ロールと、前記第２ロールに塗布さ
    れた原料を配向膜が塗布される対象物の表面に印刷する
    第３ロールとを含み、 前記回収手段は、前記印刷に使用されなかった前記配向
    膜原料を収納する集液容器と、前記集液容器の一端に連
    結されて前記集液容器に収集された配向膜原料を前記原
    料供給手段に送る循環管と、前記循環管の所定の部分に
    設置されて前記集液容器から前記原料供給手段に移送さ
    れる廃液原料の移送時点及び移送量を自動で調節する自
    動バルブとを含むことを特徴とする、請求項１に記載の
    配向膜印刷装置。
  3. 【請求項３】（ａ）低温維持装置によって２０℃以下の
    低温に維持される、配向膜原料溶液を収納する原料供給
    容器と、前記原料供給容器と一端が連結され他端はシリ
    ンジと連結されて配向膜原料をシリンジに移送する原料
    供給管と、前記原料供給管の所定の部分に設置されて配
    向膜原料の温度を印刷に適した温度に昇温させるエージ
    ングユニットと、前記エージングユニットに供給される
    配向膜原料の供給時点及び供給量を調節するためのバル
    ブと、前記原料供給管を通して移送された原料を印刷手
    段に供給するシリンジとを含む原料供給手段と、 （ｂ）前記原料供給手段から供給される原料を対象物の
    表面に印刷する印刷手段と、 （ｃ）前記印刷に使用されなかった配向膜原料を収納す
    る集液容器と、前記集液容器の一端に連結され他端は原
    料供給手段に連結されて前記集液容器に収集された配向
    膜原料を前記原料供給手段に送り低温維持装置によって
    ２０℃以下の低温に維持される循環管と、前記循環管の
    所定の部分に設置されて前記集液容器から前記原料供給
    手段に移送される廃液原料の移送時点及び移送量を自動
    で調節する自動バルブとを含む回収手段と、 を含むことを特徴とする配向膜印刷装置。
  4. 【請求項４】（ａ）低温維持装置によって２０℃以下の
    低温に維持され配向膜原料溶液を収納する原料供給容器
    と、前記原料供給容器内に配向膜原料及び不活性ガスを
    供給するためのガス供給装置と、前記原料供給容器と一
    端が連結され他端はシリンジと連結されて配向膜原料を
    シリンジに移送する原料供給管と、前記原料供給管の所
    定の部分に設置されて配向膜原料の温度を印刷に適した
    温度に昇温させるエージングユニットと、前記エージン
    グユニットに供給される配向膜原料の供給時点及び供給
    量を調節するためのバルブと、前記原料供給管を通して
    移送された原料を印刷装置に供給するシリンジとを含む
    原料供給手段と、 （ｂ）前記原料供給手段から供給される原料を対象物の
    表面に印刷する印刷手段と、 （ｃ）前記印刷に使用されなかった配向膜原料を収納す
    る集液容器と、前記集液容器の一端に連結され他端は原
    料供給手段に連結されて前記集液容器に収集された配向
    膜原料を前記原料供給手段に送り低温維持装置によって
    ２０℃以下の低温に維持される循環管と、前記循環管の
    所定の部分に設置されて前記集液容器から前記原料供給
    手段に移送される廃液原料の移送時点及び移送量を自動
    で調節する自動バルブとを含む回収手段と、 を含むことを特徴とする配向膜印刷装置。
  5. 【請求項５】（ａ）低温維持装置によって２０℃以下の
    低温に維持され配向膜原料溶液を収納する原料供給容器
    と、前記原料供給容器内に配向膜原料及び不活性ガスを
    供給するためのガス供給装置と、前記原料供給容器内に
    存在するガスの排出のためのガス排出管と、前記排出管
    の所定の部分に設置されて排出されるガスの排出時点及
    び排出量を調節するバルブと、前記原料供給容器と一端
    が連結され他端はシリンジと連結されて配向膜原料をシ
    リンジに移送する原料供給管と、前記原料供給管の所定
    の部分に設置されて配向膜原料の温度を印刷に適した温
    度に昇温させるエージングユニットと、前記エージング
    ユニットに供給される配向膜原料の供給時点及び供給量
    を調節するためのバルブと、前記原料供給管を通して移
    送された原料を印刷手段に供給するシリンジとを含む原
    料供給手段と、 （ｂ）前記原料供給手段から供給される原料を対象物の
    表面に印刷する印刷手段と、 （ｃ）前記印刷に使用されなかった配向膜原料を収納す
    る集液容器と、前記集液容器の一端に連結され他端は原
    料供給手段に連結されて前記集液容器に収集された配向
    膜原料を前記原料供給手段に送り低温維持装置によって
    ２０℃以下の低温に維持される循環管と、前記循環管の
    所定の部分に設置されて前記集液容器から前記原料供給
    手段に移送される廃液原料の移送時点及び移送量を自動
    で調節する自動バルブとを含む回収手段と、 を含むことを特徴とする配向膜印刷装置。
  6. 【請求項６】前記原料供給容器及び前記循環管の温度は
    ５℃であることを特徴とする、請求項３〜５のいずれか
    に記載の配向膜印刷装置。
  7. 【請求項７】前記低温維持装置は冷却ジャケットである
    ことを特徴とする、請求項３〜５のいずれかに記載の配
    向膜印刷装置。
  8. 【請求項８】前記ガス供給装置は、ガス供給部と、前記
    ガス供給部から供給されるガスを前記原料供給装置に移
    送するガス移送管と、前記ガス移送管の所定の位置に設
    置されて前記ガスの供給時点及び供給量を調節するガス
    調節用バルブとをさらに含むことを特徴とする、請求項
    ４または５に記載の配向膜印刷装置。
  9. 【請求項９】前記ガスは窒素ガスであることを特徴とす
    る、請求項４または５に記載の配向膜印刷装置。
  10. 【請求項１０】（ａ）配向膜原料が入っている原料供給
    容器と、 （ｂ）一端は前記原料供給容器と連結され他端はシリン
    ジと連結されて配向膜原料をシリンジに移送する原料供
    給管と、 （ｃ）前記原料供給管を通して移送された原料を印刷手
    段に供給するシリンジと、 （ｄ）前記原料供給手段から供給される原料を対象物の
    表面に印刷する印刷手段と、 （ｅ）前記印刷に使用されなかった配向液の廃液を収集
    する第１集液容器と、 （ｆ）前記第１集液容器内に設けられ、収集された配向
    液の廃液の純度を検知する第１配向液純度測定手段と、 （ｇ）前記第１集液容器から排出された配向液の廃液を
    フィルタリングするフィルタと、 （ｈ）前記フィルタを通過した配向液を収集する第２集
    液容器と、 （ｉ）前記第２集液容器内に設置されてフィルタリング
    された配向液の純度を検知する第２配向液純度測定手段
    と、 （ｊ）前記第１、第２配向液純度測定手段から入力され
    た配向液の純度値によって前記第１、第２集液容器に収
    集された配向液の廃液を再使用するかまたは廃棄するか
    を制御する制御手段と、 （ｋ）前記制御手段の制御信号によって前記第１、第２
    集液容器から前記原料供給容器に前記配向液の廃液を移
    送する移送手段と、 を含むことを特徴とする配向膜印刷装置。
  11. 【請求項１１】前記移送手段は、 前記第１集液容器の一端に連結されて前記制御手段の制
    御信号に従って前記集液容器から移送された前記配向液
    の廃液を分離排出する第１分離手段と、 前記第１分離手段の一端に連結されて前記第１分離手段
    から移送された前記配向膜原料を前記原料供給容器に送
    る第１移送管と、 前記第１移送管の所定の部分に設置されて前記第１集液
    容器から前記原料供給容器に移送される前記廃配向膜原
    料の移送時点及び移送量を調節する配向膜原料調節バル
    ブと、 前記第２集液容器の一端に連結されて前記制御手段の制
    御信号に従って前記第２集液容器から移送された前記配
    向液の廃液を分離排出する第２分離手段と、 前記第２分離手段の一端に連結されて前記第２分離手段
    から移送された前記配向膜原料を前記原料供給容器に送
    る第２移送管と、 を含むことを特徴とする請求項１０に記載の配向膜印刷
    装置。
  12. 【請求項１２】前記第２移送管は、前記第１分離手段と
    前記配向膜調節バルブとの間の所定の位置で前記第１移
    送管と連通することを特徴とする、請求項１１に記載の
    配向膜印刷装置。
  13. 【請求項１３】前記原料供給容器、前記第１移送管及び
    ／または前記第２移送管は、低温維持装置によって２０
    ℃以下の低温に維持され、 前記原料供給手段は、 前記原料供給管の所定の部分に設置されて配向膜原料の
    温度を印刷に適した温度に昇温させるエージングユニッ
    トと、 前記エージングユニットに供給される配向膜原料の供給
    時点及び供給量を調節するためのバルブとをさらに含む
    ことを特徴とする、請求項１１または１２に記載の配向
    膜印刷装置。
  14. 【請求項１４】前記原料供給容器、前記第１移送管及び
    ／または前記第２移送管の温度が５℃であることを特徴
    とする、請求項１３に記載の配向膜印刷装置。
  15. 【請求項１５】前記低温維持装置は冷却ジャケットであ
    ることを特徴とする、請求項１３に記載の配向膜印刷装
    置。
  16. 【請求項１６】前記原料供給手段は、前記原料供給容器
    内に存在するガスの排出のためのガス排出管と、排出さ
    れるガスの排出時点及び排出量を調節するためのバルブ
    とをさらに含むことを特徴とする、請求項１０に記載の
    配向膜印刷装置。
  17. 【請求項１７】前記原料供給手段は、前記原料供給容器
    に配向膜原料及び不活性ガスを供給するためのガス供給
    手段をさらに含むことを特徴とする、請求項１０に記載
    の配向膜印刷装置。
  18. 【請求項１８】前記ガス供給手段は、 ガス供給部と、 前記ガス供給部から供給されるガスを前記原料供給手段
    に移送するガス移送管と、 前記ガス移送管の所定の位置に設置されて前記ガスの供
    給時点及び供給量を調節するガス調節用バルブと、 をさらに含むことを特徴とする請求項１７に記載の配向
    膜印刷装置。
  19. 【請求項１９】前記ガスは窒素ガスであることを特徴と
    する、請求項１７または１８に記載の配向膜印刷装置。
  20. 【請求項２０】前記配向膜原料調節用バルブ及び前記窒
    素ガス調節用バルブは前記制御手段に連結され、前記制
    御手段の制御信号によって開閉程度が調節される自動バ
    ルブであることを特徴とする、請求項１８に記載の配向
    膜印刷装置。
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