JP2000199826A - 光導波路素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 干渉フィルタ素子を位置ずれがなく、垂直に
挿入し、反射光の損失及び特性のばらつきを小さくする
ことができ、溝幅加工精度とフィルタの厚さ精度を緩く
した光導波路素子を提供する。 【解決手段】 光導波路素子は、光導波路基板１０上に
アンダークラッド層１３、コア層１４、クラッド層１５
の順に積層されて形成された光導波路１２と、導波路用
マスクパターンによりコア層１４に形成された導波路コ
アパターンと、光導波路１２のクラッド層１５からアン
ダークラッド層１３にかけて形成され、光導波路１２に
交差して設けられたフィルタ用の溝１８と、導波路用コ
アパターンと同時に作製されたフィルタ位置決めポイン
ト５，６と、干渉フィルタ２０の一部が突出するよう
に、干渉フィルタ２０を固定する干渉フィルタブロック
３０とを備え、位置合わせ突き当て面３１を、フィルタ
位置決めポイント５，６に突き当てて位置決めし、フィ
ルタ用の溝１８に干渉フィルタ２０が挿入されるよう
に、干渉フィルタブロック３０を平面基板上に固定す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光波送受信モジュ
ール等に用いる光導波路素子に関し、詳細には、平面基
板上の光導波路に交差する溝に干渉フィルタを挿入した
光導波路素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＷＤＭ（波長合分波回路）機能を有する
光波送受信モジュールとして、例えば、導波路内に干渉
フィルタとして誘電体多層膜フィルタを挿入した反射型
ＷＤＭがある。

【０００３】平面導波路内に形成された溝の中に、誘電
体多層膜フィルタを挿入した光導波路素子に関しては、
フィルタの厚みに対し、溝の幅をできるだけ近づけれ
ば、フィルタ挿入固定位置が安定し、かつ溝内部での倒
れ角を防止でき、挿入損失を小さく抑えることができ
る。しかし、微小なフィルタを溝の中に挿入することは
非常に難しく、時間がかかりコスト上昇の原因となって
いた。一方、溝の幅を大きくすると、フィルタを挿入す
るのは容易になるが、溝の幅が広がることにより、フィ
ルタの固定位置がばらつくこと、かつ溝の中でのフィル
タ倒れ角が大きくなって、挿入損失が大きくなったり、
特性ばらつきが大きくなるという問題があった。

【０００４】これらの問題を改善するため、平面導波路
内に形成された溝の中に、誘電体多層膜フィルタを挿入
した光導波路素子が、特開平８−２７１７４２号及び特
開平９−２１９１２号各公報に開示されている。公報記
載の素子は、溝へフィルタを垂直に、反りなく挿入する
ことを目的としており、フィルタをあらかじめブロック
に固定して、フィルタの反りの改善、導波路との垂直
性、良好なハンドリングを得ようとする。また、特開平
９−２１１２４３号公報に記載の素子は、光導波路と同
時に形成したマーカを認識して、溝加工及び溝への干渉
フィルタの挿入の際、溝の位置精度を向上させようとす
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来、導波
路に対する干渉フィルタの設定位置は、フィルタ溝の加
工位置精度と、フィルタの厚さと溝幅の精度で決定して
いた。加工精度はマーカ等を見ることによりかなり精度
良く加工できるが、フィルタの個々の厚さに対して溝幅
の加工を制御することは困難で、これに伴うフィルタの
設定位置のずれに伴う損失、そのばらつきが発生してい
た。

【０００６】干渉フィルタの厚さは±５μｍほどのばら
つきを有し、ばらつき精度を高くすると、歩留まりが悪
くコスト上昇の原因にもなっていた。このフィルタの厚
さに合せて、溝幅を制御して加工することは非常に難し
い。そのため、溝幅とフィルタの厚さばらつきに起因す
る、溝内におけるフィルタの位置ずれと倒れ角により、
損失の増大とばらつきの原因にもなっていた。

【０００７】本発明は、光導波路に対し、干渉フィルタ
素子を位置ずれがなく、垂直に挿入し、反射光の損失が
小さく、特性のばらつきを小さくした光導波路素子を提
供することを目的とする。

【０００８】また、本発明は、溝幅加工精度とフィルタ
の厚さ精度を緩くした光導波路素子を提供することを目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光導波路素
子は、平面基板と、平面基板上にアンダークラッド層、
コア層、クラッド層の順に積層されて形成された光導波
路と、導波路用マスクパターンによりコア層に形成され
た導波路コアパターンと、光導波路の表面クラッド層か
らアンダークラッド層にかけて形成され、光導波路に交
差して設けられたフィルタ用の溝と、導波路用コアパタ
ーンと同時に作製されたフィルタ位置決めガイドと、波
長分波機能を有する干渉フィルタと、干渉フィルタの一
部が突出するように、該干渉フィルタを固定する干渉フ
ィルタブロックとを備え、干渉フィルタブロックの位置
合わせ突き当て面を、フィルタ位置決めガイドに突き当
てて位置決めし、フィルタ用の溝に干渉フィルタが挿入
されるように、干渉フィルタブロックが平面基板上に固
定されたことを特徴とする。

【００１０】上記干渉フィルタは、薄膜基板と、該薄膜
基板上に形成された誘電体多層膜からなる薄膜フィルタ
とを有し、干渉フィルタが、干渉フィルタブロックと張
合わせる面は、薄膜フィルタ面側であってもよい。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。

【００１２】図１は本発明の実施形態に係る光導波路素
子の構造を示す平面図であり、図２はその断面図であ
る。本実施形態に係る光導波路素子は、光合分波に用い
られるフィルタ型合分波光導波路素子に適用した例であ
る。

【００１３】図１及び図２において、１０は光導波路素
子の光導波路基板であり、光導波路基板１０は、後述の
光導波路と交差して誘電体多層膜フィルタ（干渉フィル
タ）２０が挿入される。

【００１４】干渉フィルタ２０は、ポリイミド薄膜基板
２１上にＴｉＯ2とＳｉＯ2を多層に蒸着して形成された
薄膜フィルタ部２２から構成される。

【００１５】干渉フィルタ２０は、干渉フィルタブロッ
ク３０に垂直に、かつ干渉フィルタブロック３０の下側
表面から所定の飛び出し量だけ突出するようにして固定
されている。干渉フィルタ２０は、干渉フィルタブロッ
ク３０に接着剤で固定されている。

【００１６】干渉フィルタ２０を固定した干渉フィルタ
ブロック３０は、光導波路基板１０上において、干渉フ
ィルタ用の溝１８に干渉フィルタ２０を案内するように
位置合わせされて接着材で固定されている。この状態で
干渉フィルタ２０の突出部２０ａが溝１８内に突出して
いる。

【００１７】図１及び図２は光導波路基板１０に干渉フ
ィルタブロック３０を載せた組立て後の構造を示してい
る。

【００１８】図３は上記光導波路基板１０の構造を示す
平面図、図４はその断面図であり、図５は図３のＡ−Ａ
矢視断面図である。

【００１９】これらの図において、光導波路基板１０
は、シリコンの基板１１の上に石英系のガラスを堆積し
て光導波路１２が形成されている。この光導波路１２は
アンダークラッド層１３、コア層１４、クラッド層１５
の順に積層されて構成されている。コア層１４はクラッ
ド層１５よりも高屈折率となっており、その比屈折率差
は０．２〜０．８％程度となっている。ここでは、アン
ダークラッド層１３を２５μｍ、上クラッド層１５を２
０μｍとし、コアパターンの断面寸法、幅及び厚さは５
〜１０μｍが好ましく、ここでは８μｍに設定した。

【００２０】上記積層構造を有する光導波路基板１０
は、平行な一対の端面１６，１７と、この端面１６，１
７に対し直交する平行な一対の端面から形成された四辺
形形状である。

【００２１】光導波路基板１０の導波路となるコア層１
４には、所望の光導波路コアパターンとして、光導波路
基板１０の一方の端面１６に臨み干渉フィルタ２０に入
射する光を導く入力導波路１と、干渉フィルタ２０を透
過して出力される光を導く出力導波路２と、干渉フィル
タ２０により反射されて出力される光を導く出力導波路
３とが形成されている。

【００２２】また、上記各導波路１，２，３が交差する
箇所には、フィルタ用の溝１８が形成されている。この
フィルタ用の溝１８は導波路端面１６，１７と平行の位
置関係にある。このフィルタ用の溝１８の断面は干渉フ
ィルタ２０の幅よりもやや広く加工して、一例として１
６μｍ幅の厚さのフィルタが挿入できるように、２０〜
３０μｍの幅の幅で加工精度を緩くして加工されてい
る。深さは、１００μｍほどにダイシング装置を用いて
加工されている。

【００２３】出力導波路１６は、フィルタ用の溝１８を
挟んで入力導波路１５の延長上にあり、Ｙ型の分岐回路
により二方向に分岐され、端面１６と反対側の端面１７
に臨んでいる。

【００２４】出力導波路３と入力導波路１とは、フィル
タ用の溝面の法線を中心線として反対側にかつ法線に対
して等しい角度θをなす位置関係にあり、出力導波路３
と入力導波路１との交差角は２θである。

【００２５】ここで示した角度θは、フィルタの性能の
点から６度から１２度、好ましくは８度に設定するのが
よい。

【００２６】また、５，６は干渉フィルタ２０の位置決
め用ポイントである。

【００２７】この光導波路１２の製造は、シリコン基板
母材（ウエハ）１０上にＣＶＤ法によりアンダークラッ
ド層１３とコア層１４を形成し、反応性イオンエッチン
グにより光導波路コアパターンと位置決め用ポイント
５，６（フィルタ位置決めガイド）を形成し、そのコア
パターン上に再度ＣＶＤにより上クラッド１５を載せて
製作した。光導波路パターン（光導波路１２）と位置決
め用ポイント５，６は、同一のフォトマスクを使用して
作成するため、その位置精度は極めて良い。

【００２８】図５は、図３のＡ−Ａ矢視断面を示した図
である。この図に示すように、上クラッド層１５は、光
導波路パターン１，３、そして位置決めポイント５，６
の部分で盛り上がっており、その他のコア層が削除され
ている面はフラットな面に形成されている。この盛り上
がりとフラットな面との段差はおよそコア層の高さに相
当する。

【００２９】図１に戻って、入力導波路１には図示しな
い光ファイバから波長多重化された１．３μｍと１．５
５μｍの光が入射され、そのうち１．５５μｍの光は干
渉フィルタ２０で反射されて、一方の出力導波路３へ導
かれる。１．３μｍの光は干渉フィルタ２０を透過し、
他方の出力導波路２へ出力される。

【００３０】以下、上述のように構成された光導波路素
子の製造方法を説明する。

【００３１】まず、光導波路基板１０の製造方法を説明
する。

【００３２】シリコン基板母材（ウエハ）１０上にＣＶ
Ｄ法によりアンダークラッド層１３とコア層１４を形成
を形成する。例えば、アンダークラッド層を２５μｍ、
上クラッド層を２０μｍとし、コアパターンの断面寸
法、幅及び厚さは５から１０μｍが好ましく、ここでは
８μｍに設定した。

【００３３】アンダークラッド層１３とコア層１４が形
成された後、光導波路コアパターン及び位置決めポイン
トパターンが描かれたフォトマスクパターンを用いてマ
スク材をパターン化するフォトリソグラフィ工程により
マスク材を作製する。

【００３４】次に、このマスク材を用いて反応性イオン
エッチング（ＲＩＥ）により石英系コア層１４の不要部
分を除去し、光導波路コアパターン及び位置決めポイン
トパターンを形成する。

【００３５】次に、その光導波路コアパターン上に再度
ＣＶＤにより上クラッド層１５を形成し、光導波路コア
部を埋め込む。

【００３６】この製造方法によると、一枚のフォトマス
クパターンを用いて導波路コアパターン及び位置決めポ
イントパターンが形成されるため、その相対位置精度は
非常に高い。

【００３７】ここまでの工程により、導波路基板上に図
３に示す光導波路コアパターンが形成される。

【００３８】導波路基板母材に同一回路パターンの光導
波路基板を多数隣接して形成した後、所定の位置にフィ
ルタ用の溝１８を通すための溝切り加工を行う。この溝
切り加工には、例えばダイシング装置を用いる。このフ
ィルタ用の溝１８の断面は、干渉フィルタ２０の幅より
もやや広く加工して、一例として１６μｍ幅の厚さのフ
ィルタが挿入できるように、２０〜３０μｍの幅で加工
精度を緩くし、深さは１００μｍほどにダイシングす
る。

【００３９】また、本実施形態では、ダイシングにより
溝を形成しているが、溝の深さを小さくすることができ
るので、ダイシングのような機械加工でなく、フィルタ
溝パターンが描かれたフォトマスクパターンを用いてフ
ォトリソグラフィ、エッチングでも溝形成は可能であ
る。

【００４０】次に、上記母材を所定の分割枠に沿って切
断し、多数の四辺形の光導波路基板を形成する。

【００４１】以上の工程により、図３に示す光導波路コ
アパターン及びフィルタ用の溝１８が形成された導波路
基板１０が得られる。

【００４２】次に、干渉フィルタブロック３０の製作方
法について説明する。

【００４３】図６及び図７は、干渉フィルタブロック３
０の構成を示す図であり、図６は干渉フィルタ２０を干
渉フィルタブロック３０に取り付けた断面図、図７はそ
の干渉フィルタ２０側から見た正面図である。

【００４４】干渉フィルタ２０は、ポリイミド薄膜基板
２１上にＴｉＯ2とＳｉＯ2を多層に蒸着して形成された
薄膜フィルタ部２２から構成される。

【００４５】干渉フィルタ２０の厚さのばらつき原因
は、ポリイミド薄膜基板２１側にある。すなわち、多層
膜フィルタ部２２は、厳密に厚さを制御して蒸着される
ので厚さのばらつきほとんどないのに比較して、ポリイ
ミド薄膜基板２１は原材料をスピンコート法などにより
作成するため、厚さのばらつきが発生する。そこで、干
渉フィルタブロック３０の一方の面上に干渉フィルタ２
０の多層膜フィルタ部３２側を重ねて接着固定した。こ
の方法により、接着部からのフィルタの位置精度、ある
いは干渉フィルタブロック３０の位置合せ面３１からの
位置精度が極めて良いものが得られる。

【００４６】干渉フィルタ２０は、干渉フィルタブロッ
ク３０の下部から５０〜１００μｍ突出するように、図
示しない固定治具を用いて固定する。これを突き出し部
３２と呼ぶ。干渉フィルタブロック３０は光導波路と同
じ材質が好ましく、ここではガラス板を用いた。

【００４７】干渉フィルタブロック３０と干渉フィルタ
２０は接着剤を用いて固定する。接着剤の塗布方法は、
固定する前に、干渉フィルタブロック３０の干渉フィル
タ２０と対向する面に塗布した。接着剤は紫外線硬化型
のものを使用した。この他に、位置合わせ後、干渉フィ
ルタ２０と干渉フィルタブロック３０との間に接着剤を
流してもよい。

【００４８】次に、紫外線光源を上部、下部紫外線が透
過する干渉フィルタブロック３０側から照射して硬化固
定させる。この固定中、干渉フィルタ２０は図示しない
固定治具により両側から適度な圧力を受けて、接着剤の
厚さが均等かつ、適正な厚さになるようにする。この圧
力により、干渉フィルタ２０にあった反り、曲がりなど
が矯正され、フラットな面にすることができる。このと
きの余分な接着剤は干渉フィルタブロック３０の角に形
成したテーパ３４に逃げるようにする。

【００４９】一例として、干渉フィルタブロック３０に
は、パイレックスガラスを使用し、その厚さは１．５ｍ
ｍ、干渉フィルタ２０の厚さは１６μｍ、突き出し量３
２を８０μｍに設定する。この突き出し量３２は０．０
５〜０．１ｍｍの範囲を目標にする。

【００５０】また、干渉フィルタブロック３０の厚さ３
３は、非常に精度良いものが望まれるので、パイレック
スガラスをダイシングソーを用いて１μｍ以下の厚さ精
度で加工する。

【００５１】次に、上述のようにして製作された光導波
路基板１０及び干渉フィルタブロック３０の組立てにつ
いて説明する。

【００５２】図１は光導波路基板１０に干渉フィルタブ
ロック３０を載せた組立て後の様子を示している。

【００５３】まず、干渉フィルタブロック３０の搭載前
に導波路基板１０のフィルタ用の溝１８の内部と導波路
基板１０の上面に接着剤を適量塗布する。接着剤には、
紫外線硬化型のものを使用する。

【００５４】次に、導波路基板１０のフィルタ用の溝１
８に、干渉フィルタブロック３０のフィルタ突出部２０
ａを挿入するように載せる。すなわち、図３に示す干渉
フィルタブロック３０を、飛び出し量２１で示されるフ
ィルタ突出部２０ａが下になるようにひっくり返し、フ
ィルタ用の溝１８にフィルタ突出部２０ａを挿入するよ
うに合わせ、その後干渉フィルタブロック３０の位置合
せ面３１が、導波路基板１０上の位置合わせポイント
５，６に突き当たるように載せる。

【００５５】フィルタ用の溝１８に干渉フィルタブロッ
ク３０のフィルタ突出部２０ａを挿入するように載せる
ことが干渉フィルタ２０の装着作業となるが、この作業
は、干渉フィルタ２０と一体化された干渉フィルタブロ
ック３０を担持して行うものであるため、フィルタ単体
を溝に挿入する従来のフィルタ挿入する場合に比べ、作
業が極めて容易となる。

【００５６】次に、紫外線光源を干渉フィルタブロック
３０の上方から照射して接着剤を硬化させ、光導波路と
干渉フィルタブロック３０を固定して組み立てを完了す
る。本実施形態では、干渉フィルタ２０は干渉フィルタ
ブロック３０の下部から８０μｍほど突き出しており、
光導波路上面から２０〜３０μｍほどに位置するコア部
に対応した位置まで延びている。

【００５７】なお、接着方法は搭載前に導波路基板３０
の溝３７中と上部に接着剤４１を予め適量塗布して固定
しても良い。

【００５８】また、フィルタ用の溝１８の深さは、フィ
ルタ突出部２０ａの挿入深さより大きければよく、一致
する必要はない。干渉フィルタ２０の保持は干渉フィル
タブロック３０で行うからである。

【００５９】以下、上述のように構成された光導波路素
子の動作を説明する。

【００６０】入力導波路１には図示しない光ファイバか
ら波長多重化された１．３μｍと１．５５μｍ光が入射
され、干渉フィルタ２０には入射角θで入射される。

【００６１】そのうち、１．３μｍの光は干渉フィルタ
２０を透過し、出力導波路２へ出力される。１．５５μ
ｍの光は干渉フィルタ２０で反射されて、出力導波路３
へ導かれる。出力導波路２，３から導波路端面１６，１
７へ出射される光は、それぞれ図示しない光ファイバへ
と出射される。

【００６２】入力導波路１と出力導波路３に対し、設定
した位置に干渉フィルタ２０の多層膜フィルタ２２が配
置され、しかも光導波路面に垂直に、反りなく固定され
ているので、１．５５μｍ波長の反射損失は非常に小さ
く、ばらつきが小さい性能が得られる。

【００６３】以上説明したように、実施形態に係る光導
波路素子は、光導波路基板１０上にアンダークラッド層
１３、コア層１４、クラッド層１５の順に積層されて形
成された光導波路１２と、導波路用マスクパターンによ
りコア層１４に形成された導波路コアパターンと、光導
波路１２のクラッド層１５からアンダークラッド層１３
にかけて形成され、光導波路１２に交差して設けられた
フィルタ用の溝１８と、導波路用コアパターンと同時に
作製されたフィルタ位置決めポイント５，６と、波長分
波機能を有する干渉フィルタ２０と、干渉フィルタ２０
の一部が突出するように、干渉フィルタ２０を固定する
干渉フィルタブロック３０とを備え、その製造方法は、
干渉フィルタブロック３０の位置合わせ突き当て面３１
を、フィルタ位置決めポイント５，６に突き当てて位置
決めし、フィルタ用の溝１８に干渉フィルタ２０が挿入
されるように、干渉フィルタブロック３０を平面基板上
に固定するようにしているので、光導波路１２に対する
干渉フィルタ２０の位置合わせは、光導波路１２と同一
のフォトマスクを用いて、ホトリソ、エッチング工程で
コア層に形成した位置決めポイント５，６に干渉フィル
タ２０を固定した干渉フィルタブロック３０を突き当て
ることにより行うことになるため、フィルタ用の溝１８
はフィルタの位置決め、及び垂直性をねらいとしていな
いため、従来より、溝幅の加工コントロールを厳しくし
なくてよい。そのため、溝加工工程の歩留まりが向上す
る利点がある。

【００６４】また、干渉フィルタブロック３０と干渉フ
ィルタ２０を接着固定する干渉フィルタ面はフィルタ多
層膜部２２側に設定したため、干渉フィルタ２０の厚さ
精度の要求を小さくできる。そのため、干渉フィルタ２
０の歩留まり向上、低コスト化が期待でき、光導波路１
２に対する位置精度が極めて優れる。

【００６５】さらに、干渉フィルタ２０は干渉フィルタ
ブロック３０面に固定されているため、光導波路１２に
対する垂直性が良い。したがって、反射光の損失が非常
に少なくなる。

【００６６】また、干渉フィルタ２０の装着作業は、一
体化された干渉フィルタブロック３０を担持して作業す
ることになりその作業性が極めて良好となる。その結
果、フィルタ用の溝１８への挿入に要する時間が大幅に
短縮することができ、また、ハンドリング中にフィルタ
が破損するような事故を少なくすることができる。

【００６７】また、干渉フィルタ２０の保持は干渉フィ
ルタブロック３０が行うため、光導波路素子の溝への干
渉フィルタ２０の挿入深さは小さくてよい。この場合、
干渉フィルタ２０の溝への突き出し量は、光導波路のコ
ア部に対応する位置に延在すればよく、溝の深さをより
浅く抑えた方が、溝の幅のばらつきが小さくでき、損失
変動を少なくできる。溝の深さが従来より浅くてよいの
で、ダイシングブレードの切断時の振れなどにより発生
する溝幅ばらつきを抑えることができる。その結果、挿
入損失を小さく、ばらつきも抑えることができる。

【００６８】さらに、溝の深さを小さくすることができ
ることから、溝はシリコン基板まで入り込む必要はな
く、石英部だけでも十分であり、ダイシング加工のよう
な機械加工でなく、導波路パターンを形成したフォトリ
ソグラフィ、及びエッチングも可能である。このような
フォトリソ、エッチングで製作すると、溝の加工精度を
大幅に高めることができる。

【００６９】したがって、本実施形態では、フィルタの
挿入に要する時間が短縮され、低コストで、歩留まりが
高い、誘電体多層膜フィルタを用いた波長合分波光導波
路が実現できる。

【００７０】このような優れた特長を有する光導波路素
子を、反射型ＷＤＭ光導波路素子に適用すれば、導波路
全体の損失を少なくすることができ、製造工程の効率化
及びコスト低減を図ることができる。

【００７１】なお、上記実施形態では、石英系導波路を
用いた場合について説明したが、これに限定されず、石
英系導波路以外の拡散ガラス導波路、有機ポリマ系導波
路等どのような埋込み型導波路に対しても適用可能であ
る。

【００７２】また、光ファイバから波長多重化された
１．３μｍと１．５５μｍの光を入射し、１．３μｍの
光を透過し、１．５５μｍの光を反射する波長合分波器
に適用して説明したが、それ以外の波長領域の波長合分
波器としても使用できる。

【００７３】また、上記光導波路素子を構成する基板、
コア層、クラッド層、光導波路コアパターン、干渉フィ
ルタ、補強用ブロック等の種類などは上述した実施形態
に限られない。

【００７４】

【発明の効果】本発明に係る光導波路及びその製造方法
では、平面基板上にアンダークラッド層、コア層、クラ
ッド層の順に積層されて形成された光導波路と、導波路
用マスクパターンによりコア層に形成された導波路コア
パターンと、光導波路の表面クラッド層からアンダーク
ラッド層にかけて形成され、光導波路に交差して設けら
れたフィルタ用の溝と、導波路用コアパターンと同時に
作製されたフィルタ位置決めガイドと、波長分波機能を
有する干渉フィルタと、干渉フィルタの一部が突出する
ように、該干渉フィルタを固定する干渉フィルタブロッ
クとを備え、干渉フィルタブロックの位置合わせ突き当
て面を、フィルタ位置決めガイドに突き当てて位置決め
し、フィルタ用の溝に干渉フィルタが挿入されるよう
に、干渉フィルタブロックを平面基板上に固定するよう
にしたので、反射光の損失及び、特性のばらつきを小さ
くすることができ、溝幅加工精度とフィルタの厚さ精度
を緩くした光導波路素子が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した実施形態に係る光導波路素子
の構造を示す平面図である。

【図２】上記光導波路素子の構造を示す断面図である。

【図３】上記光導波路素子の光導波路基板の構造を示す
平面図である。

【図４】上記光導波路素子の光導波路基板の構造を示す
断面図である。

【図５】図３のＡ−Ａ矢視断面図である。

【図６】上記光導波路素子の干渉フィルタを干渉フィル
タブロックに取り付けた断面図正面図である。

【図７】上記光導波路素子の干渉フィルタを干渉フィル
タブロックに取り付けて干渉フィルタ側から見た正面図
である。

【符号の説明】

１ 入力導波路、２，３ 出力導波路、５，６ フィル
タ位置決めポイント（フィルタ位置決めガイド）、１０
光導波路基板、１２ 光導波路、１３ アンダークラ
ッド層、１４ コア層、１５ クラッド層、１６，１７
端面、１８フィルタ用の溝、２０ 干渉フィルタ、２
０ａ フィルタ突出部、２１ ポリイミド薄膜基板、２
２ 多層膜フィルタ部、３０ 干渉フィルタブロック、
３１位置合わせ突き当て面、３２ 突き出し量

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平面基板と、 前記平面基板上にアンダークラッド層、コア層、クラッ
   ド層の順に積層されて形成された光導波路と、 導波路用マスクパターンによりコア層に形成された導波
   路コアパターンと、 光導波路の表面クラッド層からアンダークラッド層にか
   けて形成され、光導波路に交差して設けられたフィルタ
   用の溝と、 前記導波路用コアパターンと同時に作製されたフィルタ
   位置決めガイドと、 波長分波機能を有する干渉フィルタと、 前記干渉フィルタの一部が突出するように、該干渉フィ
   ルタを固定する干渉フィルタブロックとを備え、 前記干渉フィルタブロックの位置合わせ突き当て面を、
   前記フィルタ位置決めガイドに突き当てて位置決めし、 前記フィルタ用の溝に前記干渉フィルタが挿入されるよ
   うに、前記干渉フィルタブロックが前記平面基板上に固
   定されたことを特徴とする光導波路。
2. 【請求項２】 前記干渉フィルタは、薄膜基板と、該薄
   膜基板上に形成された誘電体多層膜からなる薄膜フィル
   タとを有し、 前記干渉フィルタが、前記干渉フィルタブロックと張合
   わせる面は、前記薄膜フィルタ面側であることを特徴と
   する請求項１記載の光導波路素子。