JP2000197480A - 麹の製造方法 - Google Patents
麹の製造方法Info
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- JP2000197480A JP2000197480A JP11000270A JP27099A JP2000197480A JP 2000197480 A JP2000197480 A JP 2000197480A JP 11000270 A JP11000270 A JP 11000270A JP 27099 A JP27099 A JP 27099A JP 2000197480 A JP2000197480 A JP 2000197480A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】麹の高品質化と安定化が図れるとともに、自動
化に適した麹の製造方法を提供する。 【解決手段】製麹工程を、製麹開始時の第1フェーズ、
種麹が発芽した時期の第2フェーズ、麹菌の成長が活発
になり始める時期の第3フェーズ、麹菌の成長が活発で
麹層からの発熱が大きい時期の第4フェーズ、麹菌の
「手入れ」時期の第5フェーズ等複数のフェーズに分割
し、第1フェーズおよび第5フェーズにはパターン制御
を適用し、第2フェーズ〜第4フェーズにはファジー制
御を適用する麹の製造方法。
化に適した麹の製造方法を提供する。 【解決手段】製麹工程を、製麹開始時の第1フェーズ、
種麹が発芽した時期の第2フェーズ、麹菌の成長が活発
になり始める時期の第3フェーズ、麹菌の成長が活発で
麹層からの発熱が大きい時期の第4フェーズ、麹菌の
「手入れ」時期の第5フェーズ等複数のフェーズに分割
し、第1フェーズおよび第5フェーズにはパターン制御
を適用し、第2フェーズ〜第4フェーズにはファジー制
御を適用する麹の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、製麹工程にファ
ジィ制御およびパターン制御を適用して麹菌の培養に最
適な風温および風量の製麹管理を行う麹の製造方法に関
する。
ジィ制御およびパターン制御を適用して麹菌の培養に最
適な風温および風量の製麹管理を行う麹の製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】醸造工業の製麹工程は、麹菌を充分に生
育させて多種多様の酵素を生産ことを目的とするもので
あり、麹の良否は醤油の品質に大きな影響を及ぼす。従
って、一般に、製麹管理は、麹菌の生育と酵素の最適条
件を考慮して行われている。
育させて多種多様の酵素を生産ことを目的とするもので
あり、麹の良否は醤油の品質に大きな影響を及ぼす。従
って、一般に、製麹管理は、麹菌の生育と酵素の最適条
件を考慮して行われている。
【0003】そのため、製麹管理は、麹造りに習熟した
経験豊な技術者が、知識と経験とに基づいて麹の品温や
培地が収縮する、所謂「しまり」等の状態を注意深く観
察しながら風温や風量を調節して製麹が行われている。
経験豊な技術者が、知識と経験とに基づいて麹の品温や
培地が収縮する、所謂「しまり」等の状態を注意深く観
察しながら風温や風量を調節して製麹が行われている。
【0004】このように、製麹管理においては、種々の
要因に伴う複雑な品温の変化を予測し、品温の変化に対
応した管理を行なうことが不可欠であり、長い年月をか
けてノウハウを習得した熟練技術者による管理が必要と
される。
要因に伴う複雑な品温の変化を予測し、品温の変化に対
応した管理を行なうことが不可欠であり、長い年月をか
けてノウハウを習得した熟練技術者による管理が必要と
される。
【0005】しかし、熟練技術者の高齢化、若年層の後
継者不足等により、品質の良い麹造りのノウハウを将来
に受け継いでいくことが困難な状況にある。
継者不足等により、品質の良い麹造りのノウハウを将来
に受け継いでいくことが困難な状況にある。
【0006】このような状況を解消し、将来に亘って品
質の良い麹造りのノウハウを継承するために、熟練技術
者の知識と経験に頼ってきた醸造工程の製麹管理に最新
の自動制御技術、例えばファジィ制御、エキスパートシ
ステム等を導入し、麹の品質向上を図ることが重要な課
題となってきている。
質の良い麹造りのノウハウを継承するために、熟練技術
者の知識と経験に頼ってきた醸造工程の製麹管理に最新
の自動制御技術、例えばファジィ制御、エキスパートシ
ステム等を導入し、麹の品質向上を図ることが重要な課
題となってきている。
【0007】このような醸造工業業界の背景に基づい
て、製麹工程にファジィ制御を適用した製麹方法が、特
開平4−8282号公報、特開平4−8284号公報お
よび特開平4−148674号公報に開示されている。
て、製麹工程にファジィ制御を適用した製麹方法が、特
開平4−8282号公報、特開平4−8284号公報お
よび特開平4−148674号公報に開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来の公開公報に開示
されいる製麹方法は、製麹工程全般を通じて同じメンバ
ーシップ関数で共通に制御を行なっており、製麹工程を
複数のフェーズに分割してそれぞれのフェーズに対応し
た制御を行なっていない。
されいる製麹方法は、製麹工程全般を通じて同じメンバ
ーシップ関数で共通に制御を行なっており、製麹工程を
複数のフェーズに分割してそれぞれのフェーズに対応し
た制御を行なっていない。
【0009】製麹工程においては、麹の発熱量の増大、
「手入れ」等があり、これらの工程の全てに亘って同じ
メンバーシップ関数を適用して制御を行なうことは無理
がある。
「手入れ」等があり、これらの工程の全てに亘って同じ
メンバーシップ関数を適用して制御を行なうことは無理
がある。
【0010】特に、「手入れ」直後は、麹層がほぐされ
て「手入れ」直前とは状態が異なっており、品温が急激
に変化して品温データが不連続となり、また品温がハン
チング現象を呈するため、「手入れ」直前と直後の工程
制御にファジィ制御を適用すると、ファジィ制御が暴走
してしまう課題がある。
て「手入れ」直前とは状態が異なっており、品温が急激
に変化して品温データが不連続となり、また品温がハン
チング現象を呈するため、「手入れ」直前と直後の工程
制御にファジィ制御を適用すると、ファジィ制御が暴走
してしまう課題がある。
【0011】また、特開平4−8282号公報には、フ
ァジィ制御と従来のPID制御とを組み合わせた制御方
式も可能との記載ががあるが、具体的にどの製麹工程を
PID制御とするのか開示されていない。
ァジィ制御と従来のPID制御とを組み合わせた制御方
式も可能との記載ががあるが、具体的にどの製麹工程を
PID制御とするのか開示されていない。
【0012】この発明はこのような課題を解決するため
なされたもので、その目的は製麹工程を経時的に複数の
フェーズに分割し、製麹開始時、「手入れ」時およびそ
の直後または「盛り込み」直後のフェーズにはパターン
制御を適用し、その他のフェーズにはファジィ制御を適
用することにより、フェーズ毎に麹菌の自然な成長に合
せた工程管理を行なって高品質で、安定した麹を製造す
る麹の製造方法を提供することにある。
なされたもので、その目的は製麹工程を経時的に複数の
フェーズに分割し、製麹開始時、「手入れ」時およびそ
の直後または「盛り込み」直後のフェーズにはパターン
制御を適用し、その他のフェーズにはファジィ制御を適
用することにより、フェーズ毎に麹菌の自然な成長に合
せた工程管理を行なって高品質で、安定した麹を製造す
る麹の製造方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
この発明に係る麹の製造方法は、製麹時間を指標として
製麹工程を経時的に複数のフェーズに分割し、それぞれ
のフェーズに対応したパターン制御またはファジィ制御
を適用して予め設定された目標品温曲線に一致するよう
製麹を行なうことを特徴とする。
この発明に係る麹の製造方法は、製麹時間を指標として
製麹工程を経時的に複数のフェーズに分割し、それぞれ
のフェーズに対応したパターン制御またはファジィ制御
を適用して予め設定された目標品温曲線に一致するよう
製麹を行なうことを特徴とする。
【0014】この発明に係る麹の製造方法は、製麹時間
を指標として製麹工程を経時的に複数のフェーズに分割
し、それぞれのフェーズに対応したパターン制御または
ファジィ制御を適用して予め設定された目標品温曲線に
一致するよう製麹を行なうので、麹菌の生育に対応して
フェーズ毎に最適な工程制御を行なうことができる。
を指標として製麹工程を経時的に複数のフェーズに分割
し、それぞれのフェーズに対応したパターン制御または
ファジィ制御を適用して予め設定された目標品温曲線に
一致するよう製麹を行なうので、麹菌の生育に対応して
フェーズ毎に最適な工程制御を行なうことができる。
【0015】また、この発明に係る麹の製造方法のファ
ジィ制御は、入力要素を麹の品温と予め設定された品温
の偏差、および偏差の経時的変化量としたことを特徴と
する。
ジィ制御は、入力要素を麹の品温と予め設定された品温
の偏差、および偏差の経時的変化量としたことを特徴と
する。
【0016】この発明に係る麹の製造方法のファジィ制
御は、入力要素を麹の品温と予め設定された品温の偏
差、および偏差の経時的変化量としたので、麹の生育に
対応した目標品温に品温を精度良く近付けることがで
き、麹の生育に適した制御を行なうことができる。
御は、入力要素を麹の品温と予め設定された品温の偏
差、および偏差の経時的変化量としたので、麹の生育に
対応した目標品温に品温を精度良く近付けることがで
き、麹の生育に適した制御を行なうことができる。
【0017】さらに、この発明に係る麹の製造方法のフ
ァジィ制御は、出力要素を風温または風量のいずれか一
方、または双方としたことを特徴とする。
ァジィ制御は、出力要素を風温または風量のいずれか一
方、または双方としたことを特徴とする。
【0018】この発明に係る麹の製造方法のファジィ制
御は、出力要素を風温または風量のいずれか一方、また
は双方としたので、麹の生育を促進させる最適な風温ま
たは風量を設定することができる。
御は、出力要素を風温または風量のいずれか一方、また
は双方としたので、麹の生育を促進させる最適な風温ま
たは風量を設定することができる。
【0019】また、この発明に係る麹の製造方法の製麹
工程の手入れ時および手入れ直後は、パターン制御を適
用することを特徴とする。
工程の手入れ時および手入れ直後は、パターン制御を適
用することを特徴とする。
【0020】この発明に係る麹の製造方法の製麹工程の
手入れ時および手入れ直後は、パターン制御を適用する
ので、品温が不連続に変化してファジィ制御では対応し
にくい工程制御をカバーして最適な製麹管理を実現する
ことができる。
手入れ時および手入れ直後は、パターン制御を適用する
ので、品温が不連続に変化してファジィ制御では対応し
にくい工程制御をカバーして最適な製麹管理を実現する
ことができる。
【0021】さらに、この発明に係る麹の製造方法の1
つのフェーズから次のフェーズへの移行は、製麹時間に
基づいたファジールールで実行することを特徴とする。
つのフェーズから次のフェーズへの移行は、製麹時間に
基づいたファジールールで実行することを特徴とする。
【0022】この発明に係る麹の製造方法の1つのフェ
ーズから次のフェーズの移行は、製麹時間に基づいたフ
ァジールールで実行するので、ファジィ制御とパターン
制御のフェーズが混在してもフェーズ移行をスムーズに
行ない、移行したフェーズに対応した工程制御を確実に
実行することができる。
ーズから次のフェーズの移行は、製麹時間に基づいたフ
ァジールールで実行するので、ファジィ制御とパターン
制御のフェーズが混在してもフェーズ移行をスムーズに
行ない、移行したフェーズに対応した工程制御を確実に
実行することができる。
【0023】また、この発明に係る麹の製造方法の手入
れ時期は、品温、または静圧、または静圧の経時的変化
の割合、次いで製麹時間の順に判定することを特徴とす
る。
れ時期は、品温、または静圧、または静圧の経時的変化
の割合、次いで製麹時間の順に判定することを特徴とす
る。
【0024】この発明に係る麹の製造方法の手入れ時期
は、品温、または静圧、または静圧の経時的変化の割
合、次いで製麹時間の順に判定するので、手入れ時期を
正確に設定することができ、麹の最適な成長を促進する
ことができる。
は、品温、または静圧、または静圧の経時的変化の割
合、次いで製麹時間の順に判定するので、手入れ時期を
正確に設定することができ、麹の最適な成長を促進する
ことができる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、この発明の麹の製造方法を
添付図面に基づいて説明する。なお、本発明の麹の製造
方法は、製麹工程を経時的に複数のフェーズに分割し、
「手入れ」時およびその直後または「盛り込み」直後の
フェーズにはパターン制御を適用し、その他のフェーズ
にはファジィ制御を適用することにより、麹層の品温を
目標品温曲線に高精度で一致させることにより、麹菌の
自然な成長に合せた風温と風量で工程管理を行ない、高
品質で、安定した麹を製造するものである。
添付図面に基づいて説明する。なお、本発明の麹の製造
方法は、製麹工程を経時的に複数のフェーズに分割し、
「手入れ」時およびその直後または「盛り込み」直後の
フェーズにはパターン制御を適用し、その他のフェーズ
にはファジィ制御を適用することにより、麹層の品温を
目標品温曲線に高精度で一致させることにより、麹菌の
自然な成長に合せた風温と風量で工程管理を行ない、高
品質で、安定した麹を製造するものである。
【0026】初めに、製麹の概要について説明する。蒸
留処理した大豆または脱脂加工大豆、および割砕小麦を
ほぼ等量ずつ混合し、予め「ふすま」などで培養した醤
油麹菌を植菌、混合した後培養する工程を「製麹」と呼
ぶ。
留処理した大豆または脱脂加工大豆、および割砕小麦を
ほぼ等量ずつ混合し、予め「ふすま」などで培養した醤
油麹菌を植菌、混合した後培養する工程を「製麹」と呼
ぶ。
【0027】処理原料に麹菌を植菌、混合して製麹容器
に移す操作を「盛り込み」と呼び、3日間、室温20〜
30℃、相対湿度ほぼ100%の条件で培養を行う。培
養が終了すると、培養物を次の仕込み工程に移すが、こ
の仕込み操作を「出麹(でこうじ)」と呼ぶ。
に移す操作を「盛り込み」と呼び、3日間、室温20〜
30℃、相対湿度ほぼ100%の条件で培養を行う。培
養が終了すると、培養物を次の仕込み工程に移すが、こ
の仕込み操作を「出麹(でこうじ)」と呼ぶ。
【0028】「盛り込み」から「出麹(でこうじ)」ま
での間、麹菌が生育するに従って蛋白質分解酵素(プロ
テアーゼ)や澱粉分解酵素(アミラーゼ)などの酵素が
生産され、一方、同時に大豆、小麦の蛋白質や澱粉の分
解も進行する。
での間、麹菌が生育するに従って蛋白質分解酵素(プロ
テアーゼ)や澱粉分解酵素(アミラーゼ)などの酵素が
生産され、一方、同時に大豆、小麦の蛋白質や澱粉の分
解も進行する。
【0029】この間、雑菌汚染を最小限に抑え、多くの
酵素、特に蛋白質分解酵素(プロテアーゼ)を生産する
ことが重要となる。麹の出来、不出来によって「原料窒
素の有効利用率」が左右され、また最終製品の色、味、
香りにも影響を及ぼすので、醤油の製造工程の中で最も
重要な工程として位置付けられている。
酵素、特に蛋白質分解酵素(プロテアーゼ)を生産する
ことが重要となる。麹の出来、不出来によって「原料窒
素の有効利用率」が左右され、また最終製品の色、味、
香りにも影響を及ぼすので、醤油の製造工程の中で最も
重要な工程として位置付けられている。
【0030】「盛り込み」後、麹菌は生育に伴って熱を
発生し、次第に麹の品質が向上していくが、必要以上に
高温になると製麹自体の生育に支障をきたし、雑菌が繁
殖するのに適した環境になってしまう。
発生し、次第に麹の品質が向上していくが、必要以上に
高温になると製麹自体の生育に支障をきたし、雑菌が繁
殖するのに適した環境になってしまう。
【0031】また、製麹後半の工程で高温になると、生
産された酵素の活性化が失われてしまう虞れがある。従
って、麹の高温化を抑制するため、製麹中に「手入れ」
と呼ばれる、麹を撹拌して麹を冷ます操作を行う。
産された酵素の活性化が失われてしまう虞れがある。従
って、麹の高温化を抑制するため、製麹中に「手入れ」
と呼ばれる、麹を撹拌して麹を冷ます操作を行う。
【0032】図1はこの発明に係る麹の製造方法のフェ
ーズに対する品温特性図である。図1において、麹の製
造方法は、製麹工程を時間経過に対応して複数のフェー
ズにファジールールに基づき分割する。
ーズに対する品温特性図である。図1において、麹の製
造方法は、製麹工程を時間経過に対応して複数のフェー
ズにファジールールに基づき分割する。
【0033】例えば、製麹工程を8つのフェーズに分割
し、それぞれのフェーズに対応したパターン制御または
ファジィ制御を適用して予め設定された目標品温曲線に
一致するよう製麹を行なう。ただし、全体的には、ファ
ジー制御でプログラムし、適宜パターン制御に切り換え
る。
し、それぞれのフェーズに対応したパターン制御または
ファジィ制御を適用して予め設定された目標品温曲線に
一致するよう製麹を行なう。ただし、全体的には、ファ
ジー制御でプログラムし、適宜パターン制御に切り換え
る。
【0034】第1フェーズは製麹開始時であり、目標品
温曲線に近付けるために、例えば製麹開始から60分間
は比較的大きな風量(例えば、50Hz)に増加する。
製麹開始から60分経過した後は、その時点の風量パタ
ーン値(50Hzを下回る値)で一定値制御を行なう。
温曲線に近付けるために、例えば製麹開始から60分間
は比較的大きな風量(例えば、50Hz)に増加する。
製麹開始から60分経過した後は、その時点の風量パタ
ーン値(50Hzを下回る値)で一定値制御を行なう。
【0035】一方、第1フェーズの風温は、製麹開始時
の品温パターン値で一定値制御を行なう。このように、
第1フェーズの製麹開始時にはパターン制御を適用し、
第1フェーズの製麹時間は、通常は4時間程度である。
即ち、フェーズの切り換えは、ファジールールに基づく
ため、必ずしも常に4時間になるとは限らない。以下、
製麹時間については同様である。
の品温パターン値で一定値制御を行なう。このように、
第1フェーズの製麹開始時にはパターン制御を適用し、
第1フェーズの製麹時間は、通常は4時間程度である。
即ち、フェーズの切り換えは、ファジールールに基づく
ため、必ずしも常に4時間になるとは限らない。以下、
製麹時間については同様である。
【0036】第2フェーズは麹菌が成長した時期で、風
温の影響を受けやすい麹層の下層部の品温は低いため、
風温および風量を極端に変化させることは好ましくない
ので、制御は風量を中心にファジィ制御を適用する。な
お、第2フェーズの製麹時間は、通常は5時間程度であ
る。
温の影響を受けやすい麹層の下層部の品温は低いため、
風温および風量を極端に変化させることは好ましくない
ので、制御は風量を中心にファジィ制御を適用する。な
お、第2フェーズの製麹時間は、通常は5時間程度であ
る。
【0037】第3フェーズは麹菌の成長が活発になり始
める時期で、制御は風温および風量の大きさはやや加減
してファジィ制御を適用する。なお、第3フェーズの製
麹時間は、通常は4時間程度である。
める時期で、制御は風温および風量の大きさはやや加減
してファジィ制御を適用する。なお、第3フェーズの製
麹時間は、通常は4時間程度である。
【0038】第4フェーズは麹菌の成長が活発で麹層か
らの発熱が大きい時期で、制御は風温および風量を大き
くしてファジィ制御を適用する。なお、第4フェーズの
製麹時間は幅があり、3〜5時間程度である。
らの発熱が大きい時期で、制御は風温および風量を大き
くしてファジィ制御を適用する。なお、第4フェーズの
製麹時間は幅があり、3〜5時間程度である。
【0039】第5フェーズは麹菌の「手入れ」時期で、
風温は一定値のパターン制御を行ない、風量はステップ
状に増加させた後に一定値とするパターン制御を行な
う。なお、第5フェーズの製麹時間は、「手入れ」に要
する時間も含んだ値である。
風温は一定値のパターン制御を行ない、風量はステップ
状に増加させた後に一定値とするパターン制御を行な
う。なお、第5フェーズの製麹時間は、「手入れ」に要
する時間も含んだ値である。
【0040】第6フェーズは、第4フェーズ同様に麹菌
の成長が活発で麹層からの発熱量が大きい時期で、制御
は風温および風量を大きくしてファジィ制御を適用す
る。また、第6フェーズの開始時の風温、風量は、第5
フェーズの終了時点の値に設定する。なお、第6フェー
ズの製麹時間は幅があり、3〜6.5時間程度である。
の成長が活発で麹層からの発熱量が大きい時期で、制御
は風温および風量を大きくしてファジィ制御を適用す
る。また、第6フェーズの開始時の風温、風量は、第5
フェーズの終了時点の値に設定する。なお、第6フェー
ズの製麹時間は幅があり、3〜6.5時間程度である。
【0041】第7フェーズは、第5フェーズと同様な麹
菌の「手入れ」時期で、第5フェーズと同様な制御を実
行する。なお、第4フェーズと第5フェーズ、または第
6フェーズと第7フェーズは麹菌の生育に応じて複数回
繰返して実行する。
菌の「手入れ」時期で、第5フェーズと同様な制御を実
行する。なお、第4フェーズと第5フェーズ、または第
6フェーズと第7フェーズは麹菌の生育に応じて複数回
繰返して実行する。
【0042】第8フェーズは麹を取り出す「出麹(でこ
うじ)」で、麹の温度を短時間で低下させる必要がある
ため、ファジィ制御を停止して、第5フェーズの終了時
点のと同様に、風温は一定値のパターン制御を行ない、
風量はステップ状に増加させた後に一定値とするパター
ン制御を行なう。
うじ)」で、麹の温度を短時間で低下させる必要がある
ため、ファジィ制御を停止して、第5フェーズの終了時
点のと同様に、風温は一定値のパターン制御を行ない、
風量はステップ状に増加させた後に一定値とするパター
ン制御を行なう。
【0043】製麹工程のファジィ制御は、品温に基づい
て製麹部の麹層へ供給する風温および風量を設定するも
ので、予め設定した目標品温と麹層の品温に基づいて制
御周期ごとにファジィ制御値を決定するものである。
て製麹部の麹層へ供給する風温および風量を設定するも
ので、予め設定した目標品温と麹層の品温に基づいて制
御周期ごとにファジィ制御値を決定するものである。
【0044】一方、製麹工程のパターン制御は、製麹開
始時、「手入れ」時または「出麹(でこうじ)」のよう
に麹層の品温が急激に変化する場合のファジィ制御では
制御が困難なフェーズに適用する。
始時、「手入れ」時または「出麹(でこうじ)」のよう
に麹層の品温が急激に変化する場合のファジィ制御では
制御が困難なフェーズに適用する。
【0045】このように、この発明に係る麹の製造方法
は、製麹時間を基本としたファジールールに基づいて製
麹工程を経時的に複数のフェーズに分割し、それぞれの
フェーズに対応したパターン制御またはファジィ制御を
適用して予め設定された目標品温曲線に一致するよう製
麹を行なうので、麹菌の生育に対応してフェーズ毎に最
適な工程制御を行なうことができる。
は、製麹時間を基本としたファジールールに基づいて製
麹工程を経時的に複数のフェーズに分割し、それぞれの
フェーズに対応したパターン制御またはファジィ制御を
適用して予め設定された目標品温曲線に一致するよう製
麹を行なうので、麹菌の生育に対応してフェーズ毎に最
適な工程制御を行なうことができる。
【0046】図2はこの発明に係る麹の製造方法が適用
される制御手段の一実施例要部ブロック構成図である。
図2において、制御手段1は、フェーズ毎に所定の周期
toで製麹部14の麹層15の、例えば表面の3箇所の
品温T(T1、T2、T3)を検出し、この品温の平均値
THを演算し、予め設定した目標品温TSと平均値THの
偏差ΔTH、および偏差ΔTHの経時的変化量を算出した
温度変化量dTHに基づいてファジィ制御を行ない、フ
ァジィ制御値として風温設定信号TF、風量設定信号MF
をそれぞれ風温設定手段12、風量設定手段13に出力
し、風温TWまたは風量MWのいずれか一方、または双方
の制御量を麹層15に供給して麹層15の品温が目標品
温T Sに近付くよう制御し、麹菌の成長を促進させる。
ここにおいて、麹の品温T、目標品温TSは製麹経過時
間を基にした数値、即ち製麹経過時間の関数である。
される制御手段の一実施例要部ブロック構成図である。
図2において、制御手段1は、フェーズ毎に所定の周期
toで製麹部14の麹層15の、例えば表面の3箇所の
品温T(T1、T2、T3)を検出し、この品温の平均値
THを演算し、予め設定した目標品温TSと平均値THの
偏差ΔTH、および偏差ΔTHの経時的変化量を算出した
温度変化量dTHに基づいてファジィ制御を行ない、フ
ァジィ制御値として風温設定信号TF、風量設定信号MF
をそれぞれ風温設定手段12、風量設定手段13に出力
し、風温TWまたは風量MWのいずれか一方、または双方
の制御量を麹層15に供給して麹層15の品温が目標品
温T Sに近付くよう制御し、麹菌の成長を促進させる。
ここにおいて、麹の品温T、目標品温TSは製麹経過時
間を基にした数値、即ち製麹経過時間の関数である。
【0047】また、制御手段1は、ファジィ制御が適用
できないフェーズ(例えば、図1に示す製麹開始時、
「手入れ」時、「出麹(でこうじ)」時にはパターン制
御を行ない、予め設定したパターンの風温設定信号
TP、風量設定信号MPをそれぞれ風温設定手段12、風
量設定手段13に出力し、風温TWまたは風量MWのいず
れか一方、または双方の制御量を麹層15に供給して麹
菌の成長を促進させる。
できないフェーズ(例えば、図1に示す製麹開始時、
「手入れ」時、「出麹(でこうじ)」時にはパターン制
御を行ない、予め設定したパターンの風温設定信号
TP、風量設定信号MPをそれぞれ風温設定手段12、風
量設定手段13に出力し、風温TWまたは風量MWのいず
れか一方、または双方の制御量を麹層15に供給して麹
菌の成長を促進させる。
【0048】制御手段1は、例えばマイクロプロセッサ
を基本として各種演算機能、処理機能、メモリ機能を有
するパソコン等で構成し、目標品温記憶手段2、品温平
均値演算手段3、偏差演算手段4、フェーズ切替制御手
段5、温度変化量演算/記憶手段6、ファジィ制御手段
7、周期信号発生手段8、パターン値記憶手段9、パタ
ーン制御手段10、切替手段11を備える。
を基本として各種演算機能、処理機能、メモリ機能を有
するパソコン等で構成し、目標品温記憶手段2、品温平
均値演算手段3、偏差演算手段4、フェーズ切替制御手
段5、温度変化量演算/記憶手段6、ファジィ制御手段
7、周期信号発生手段8、パターン値記憶手段9、パタ
ーン制御手段10、切替手段11を備える。
【0049】目標品温記憶手段2はROM等のメモリで
構成し、予め熟練技術者が長年の経験で培った製麹工程
の製麹時間に対応し、麹の生育に適した理想的な目標品
温T Sを設定し、製麹時間の経過または各フェーズの時
間経過に対応した目標品温信号TSを偏差演算手段4に
供給する。
構成し、予め熟練技術者が長年の経験で培った製麹工程
の製麹時間に対応し、麹の生育に適した理想的な目標品
温T Sを設定し、製麹時間の経過または各フェーズの時
間経過に対応した目標品温信号TSを偏差演算手段4に
供給する。
【0050】品温平均値演算手段3は平均演算機能を備
え、製麹部14の麹層15の表面部の3箇所に設けた図
示しない温度センサが検出した品温T1、T2およびT3
の平均値を演算し、平均品温信号THを偏差演算手段4
に供給する。
え、製麹部14の麹層15の表面部の3箇所に設けた図
示しない温度センサが検出した品温T1、T2およびT3
の平均値を演算し、平均品温信号THを偏差演算手段4
に供給する。
【0051】偏差演算手段4は減算機能を備え、目標品
温記憶手段2から供給される目標品温信号TSと、品温
平均値演算手段3から供給される平均品温信号THの偏
差(=TS−TH)を演算し、偏差信号ΔTHを温度変化
量演算/記憶手段6に提供する。
温記憶手段2から供給される目標品温信号TSと、品温
平均値演算手段3から供給される平均品温信号THの偏
差(=TS−TH)を演算し、偏差信号ΔTHを温度変化
量演算/記憶手段6に提供する。
【0052】温度変化量演算/記憶手段6は偏差信号Δ
THの時間的変化量を演算する機能(減算、除算機
能)、偏差信号ΔTHを一時記憶するレジスタ等のメモ
リ機能を備え、同期信号発生手段8から供給される周期
信号tOの周期毎に演算した今回の偏差信号ΔTHN(=
TSN−THN)と前回の偏差信号ΔTHN-1(=TSN-1−T
HN -1)を順次記憶した後、今回の偏差信号ΔTHNと前回
の偏差信号ΔTHN-1の偏差ΔTHD(=ΔTHN−Δ
THN-1)を演算し、周期tOで除算した温度変化量dTH
{=(ΔTHN−ΔTHN-1)/tO}を算出する。算出し
た温度変化量dTHと偏差信号ΔTHをファジィ制御手段
7に提供する。
THの時間的変化量を演算する機能(減算、除算機
能)、偏差信号ΔTHを一時記憶するレジスタ等のメモ
リ機能を備え、同期信号発生手段8から供給される周期
信号tOの周期毎に演算した今回の偏差信号ΔTHN(=
TSN−THN)と前回の偏差信号ΔTHN-1(=TSN-1−T
HN -1)を順次記憶した後、今回の偏差信号ΔTHNと前回
の偏差信号ΔTHN-1の偏差ΔTHD(=ΔTHN−Δ
THN-1)を演算し、周期tOで除算した温度変化量dTH
{=(ΔTHN−ΔTHN-1)/tO}を算出する。算出し
た温度変化量dTHと偏差信号ΔTHをファジィ制御手段
7に提供する。
【0053】周期tO毎に今回と前回の目標品温TSと平
均品温THとの偏差ΔTHDを演算し、この偏差ΔTHDを
周期tOで割算して温度変化量dTHを求めるので、目標
品温TSに対する平均品温THの偏差の勾配を求めること
ができる。
均品温THとの偏差ΔTHDを演算し、この偏差ΔTHDを
周期tOで割算して温度変化量dTHを求めるので、目標
品温TSに対する平均品温THの偏差の勾配を求めること
ができる。
【0054】このように、この発明に係る麹の製造方法
のファジィ制御は、入力要素を麹の品温と予め設定され
た品温の偏差および偏差の経時的変化量としたので、麹
の生育に対応した目標品温に品温を精度良く近付けるこ
とができ、麹の生育に適した制御を行なうことができ
る。
のファジィ制御は、入力要素を麹の品温と予め設定され
た品温の偏差および偏差の経時的変化量としたので、麹
の生育に対応した目標品温に品温を精度良く近付けるこ
とができ、麹の生育に適した制御を行なうことができ
る。
【0055】ファジィ制御手段7は、複数のメンバーシ
ップ関数、ルールテーブル、デファジィを備え、温度変
化量演算/記憶手段6から供給される温度変化量信号d
THおよび偏差信号ΔTHに基づいて周期tO(例えば、
5分間)毎にファジィ演算を行ない、風温設定信号TF
および風量設定信号MFを切替手段11に供給する。
ップ関数、ルールテーブル、デファジィを備え、温度変
化量演算/記憶手段6から供給される温度変化量信号d
THおよび偏差信号ΔTHに基づいて周期tO(例えば、
5分間)毎にファジィ演算を行ない、風温設定信号TF
および風量設定信号MFを切替手段11に供給する。
【0056】図3はこの発明に係るファジィ制御手段の
要部ブロック構成図である。図3において、ファジィ制
御手段7は、メンバーシップ関数7A、ルールテーブル
7B、デファジィ7Cを備える。
要部ブロック構成図である。図3において、ファジィ制
御手段7は、メンバーシップ関数7A、ルールテーブル
7B、デファジィ7Cを備える。
【0057】メンバーシップ関数7Aは、メンバーシッ
プ関数F1〜FNの関数を備え、温度変化量信号dTH、
フェーズ切替制御手段5から供給される切替信号SO、
周期信号tOに基づいて図1に示す第2フェーズ〜第4
フェーズ、第6フェーズ、および第8フェーズのそれぞ
れに1対1で対応したメンバーシップ関数F1〜FNに従
い周期tO毎に演算を実行し、演算出力f(F)をルー
ルテーブル7Bに提供する。
プ関数F1〜FNの関数を備え、温度変化量信号dTH、
フェーズ切替制御手段5から供給される切替信号SO、
周期信号tOに基づいて図1に示す第2フェーズ〜第4
フェーズ、第6フェーズ、および第8フェーズのそれぞ
れに1対1で対応したメンバーシップ関数F1〜FNに従
い周期tO毎に演算を実行し、演算出力f(F)をルー
ルテーブル7Bに提供する。
【0058】ルールテーブル7Bは、図1に示す第2フ
ェーズ〜第4フェーズ、第6フェーズ、および第8フェ
ーズのそれぞれに1対1で対応したルールテーブルR1
〜RNを備え、メンバーシップ関数7Aから提供される
演算出力f(F)にルールを適用して風温出力値または
風量出力値の一方、または双方を処理し、風温判定出力
f(TF)または風量判定出力f(MF)の一方、または
双方をデファジィ7Cに供給する。(図3では双方を出
力する場合を示す)
ェーズ〜第4フェーズ、第6フェーズ、および第8フェ
ーズのそれぞれに1対1で対応したルールテーブルR1
〜RNを備え、メンバーシップ関数7Aから提供される
演算出力f(F)にルールを適用して風温出力値または
風量出力値の一方、または双方を処理し、風温判定出力
f(TF)または風量判定出力f(MF)の一方、または
双方をデファジィ7Cに供給する。(図3では双方を出
力する場合を示す)
【0059】デファジィ7Cは、風温判定出力f
(TF)および風量判定出力f(MF)をそれぞれデファ
ジィ演算して風温設定信号TFおよび風量設定信号MFを
切替手段11に供給する。
(TF)および風量判定出力f(MF)をそれぞれデファ
ジィ演算して風温設定信号TFおよび風量設定信号MFを
切替手段11に供給する。
【0060】ファジィ演算において、風温設定値TFは
以下のように設定する。今回の平均品温TH(THN)と
風温判定出力f(TF)の偏差の絶対値{=|T HN−f
(TF)|}が限界値K以下の場合{|THN−f(TF)
|≦K}には、風温判定出力f(TF)を風温設定信号
TFとして出力する。
以下のように設定する。今回の平均品温TH(THN)と
風温判定出力f(TF)の偏差の絶対値{=|T HN−f
(TF)|}が限界値K以下の場合{|THN−f(TF)
|≦K}には、風温判定出力f(TF)を風温設定信号
TFとして出力する。
【0061】また、今回の平均品温TH(THN)と風温
判定出力f(TF)の偏差が限界値Kを超える場合{T
HN−f(TF)>K}には、平均品温TH(THN)と限界
値Kの偏差(=THN−K)を風温設定信号TFとして出
力する。
判定出力f(TF)の偏差が限界値Kを超える場合{T
HN−f(TF)>K}には、平均品温TH(THN)と限界
値Kの偏差(=THN−K)を風温設定信号TFとして出
力する。
【0062】さらに、今回の平均品温TH(THN)と風
温判定出力f(TF)の偏差が限界値−Kを下回る場合
{THN−f(TF)<−K}には、平均品温TH(THN)
と限界値−Kの偏差{=THN−(−K)=THN+K}を
風温設定信号TFとして出力する。なお、限界値±Kは
任意に設定できるものとする。
温判定出力f(TF)の偏差が限界値−Kを下回る場合
{THN−f(TF)<−K}には、平均品温TH(THN)
と限界値−Kの偏差{=THN−(−K)=THN+K}を
風温設定信号TFとして出力する。なお、限界値±Kは
任意に設定できるものとする。
【0063】一方、風量設定値MFは以下のように設定
する。風量判定出力f(MF)が、例えば下限値20H
z以上で上限値50Hz以下の場合{20Hz≦f(M
F)≦45Hz}には、風量判定出力f(MF)を風量設
定信号MFとして出力する。
する。風量判定出力f(MF)が、例えば下限値20H
z以上で上限値50Hz以下の場合{20Hz≦f(M
F)≦45Hz}には、風量判定出力f(MF)を風量設
定信号MFとして出力する。
【0064】また、風量判定出力f(MF)が、例えば
下限値20Hzを下回る場合{f(MF)<20Hz}
には、下限値20Hzを風量設定信号MFとして出力す
る。
下限値20Hzを下回る場合{f(MF)<20Hz}
には、下限値20Hzを風量設定信号MFとして出力す
る。
【0065】さらに、風量判定出力f(MF)が、例え
ば上限値50Hzを超える場合{f(MF)>45H
z}には上限値45Hzを風量設定信号MFとして出力
する。なお、上限値および下限値は任意に設定できるも
のとする。
ば上限値50Hzを超える場合{f(MF)>45H
z}には上限値45Hzを風量設定信号MFとして出力
する。なお、上限値および下限値は任意に設定できるも
のとする。
【0066】このように、この発明に係る麹の製造方法
のファジィ制御は、出力要素を風温または風量のいずれ
か一方、または双方としたので、麹の生育を促進させる
最適な風温または風量を設定することができる。
のファジィ制御は、出力要素を風温または風量のいずれ
か一方、または双方としたので、麹の生育を促進させる
最適な風温または風量を設定することができる。
【0067】パターン値記憶手段9は、ROM等のメモ
リで構成し、図1に示す麹の製造方法のフェーズにおい
てファジィ制御が困難な製麹開始の第1フェーズ、「手
入れ」時(「手入れ」直後も含む)の第5および第7フ
ェーズを制御するために、予め設定した風温パターンデ
ータおよび風量パターンデータを記憶し、第1フェー
ズ、第5フェーズおよび第7フェーズのそれぞれに対応
した風温パターンデータおよび風量パターンデータをパ
ターン制御手段10に供給する。
リで構成し、図1に示す麹の製造方法のフェーズにおい
てファジィ制御が困難な製麹開始の第1フェーズ、「手
入れ」時(「手入れ」直後も含む)の第5および第7フ
ェーズを制御するために、予め設定した風温パターンデ
ータおよび風量パターンデータを記憶し、第1フェー
ズ、第5フェーズおよび第7フェーズのそれぞれに対応
した風温パターンデータおよび風量パターンデータをパ
ターン制御手段10に供給する。
【0068】パターン制御手段10は、パターン値記憶
手段9から供給される風温パターンデータおよび風量パ
ターンデータに基づいて風温設定信号TPおよび風量設
定信号MPを発生し、これらの信号TP、MPを切替手段
11に供給する。
手段9から供給される風温パターンデータおよび風量パ
ターンデータに基づいて風温設定信号TPおよび風量設
定信号MPを発生し、これらの信号TP、MPを切替手段
11に供給する。
【0069】パターン値記憶手段9およびパターン制御
手段10を備え、パターン制御を実行するので、麹層1
5の品温の変化が大きく不連続に変化するため、ファジ
ィ制御の適用が困難なフェーズに製麹に適した風温およ
び風量を設定することができる。
手段10を備え、パターン制御を実行するので、麹層1
5の品温の変化が大きく不連続に変化するため、ファジ
ィ制御の適用が困難なフェーズに製麹に適した風温およ
び風量を設定することができる。
【0070】このように、この発明に係る麹の製造方法
の製麹工程の手入れ時および手入れ直後は、パターン制
御を適用するので、品温が不連続に変化してファジィ制
御では対応しにくい工程制御をカバーして最適な製麹管
理を実現することができる。
の製麹工程の手入れ時および手入れ直後は、パターン制
御を適用するので、品温が不連続に変化してファジィ制
御では対応しにくい工程制御をカバーして最適な製麹管
理を実現することができる。
【0071】切替手段11は、例えば電子スイッチまた
はソフト制御のスイッチ機能を有し、フェーズ切替制御
手段5からの切替信号SOに基づいてスイッチを切替
え、ファジィ制御制御手段7から供給される風温設定信
号TFおよび風量設定信号MF、またはパターン制御手段
10から供給される風温設定信号TPおよび風量設定信
号MPを選択し、選択した風温設定信号TFおよび風量設
定信号MF、または風温設定信号TPおよび風量設定信号
MPををそれぞれ風温設定手段12、風量設定手段13
に供給する。
はソフト制御のスイッチ機能を有し、フェーズ切替制御
手段5からの切替信号SOに基づいてスイッチを切替
え、ファジィ制御制御手段7から供給される風温設定信
号TFおよび風量設定信号MF、またはパターン制御手段
10から供給される風温設定信号TPおよび風量設定信
号MPを選択し、選択した風温設定信号TFおよび風量設
定信号MF、または風温設定信号TPおよび風量設定信号
MPををそれぞれ風温設定手段12、風量設定手段13
に供給する。
【0072】ファジィ切替制御手段5は、例えば比較器
等で構成し、ファジールールを用いて基準製麹時間をプ
ログラムしておき、製麹時間TFと基準製麹時間TFKと
からファジールール上の1つまたは複数のフェーズを選
択してファジー制御手段7へ信号を送出する。
等で構成し、ファジールールを用いて基準製麹時間をプ
ログラムしておき、製麹時間TFと基準製麹時間TFKと
からファジールール上の1つまたは複数のフェーズを選
択してファジー制御手段7へ信号を送出する。
【0073】なお、フェーズ切替制御手段5には、製麹
時間TFと基準製麹時間TFKとに基づいてフェーズを選
択し、そのフェーズの一部指定した時間帯は、切替信号
SOを用いて切替手段11に信号を送り、パターン制御
手段10を選択するよう予めプログラムしておく。
時間TFと基準製麹時間TFKとに基づいてフェーズを選
択し、そのフェーズの一部指定した時間帯は、切替信号
SOを用いて切替手段11に信号を送り、パターン制御
手段10を選択するよう予めプログラムしておく。
【0074】図5にこの発明に係るパターン制御の「手
入れ」パターンの一実施例を示す。図5において、
(a)図は風温パターン(TP)、(b)図に風量パタ
ーン(MP)を示す。風温パターン(TP)は、「手入
れ」工程ならびに「さまし」工程のすべてにおいて、一
定値の風温を適用する。
入れ」パターンの一実施例を示す。図5において、
(a)図は風温パターン(TP)、(b)図に風量パタ
ーン(MP)を示す。風温パターン(TP)は、「手入
れ」工程ならびに「さまし」工程のすべてにおいて、一
定値の風温を適用する。
【0075】また、風量パターン(MP)は、「手入
れ」工程は複数のステップを次第に増加させていき、
「手入れ」工程最終ステップの最大値を「さまし」工程
に適用するよう設定する。
れ」工程は複数のステップを次第に増加させていき、
「手入れ」工程最終ステップの最大値を「さまし」工程
に適用するよう設定する。
【0076】このように、この発明に係る麹の製造方法
の1つのフェーズから次のフェーズの移行は、製麹時間
および品温に基づいて実行するので、ファジィ制御とパ
ターン制御のフェーズが混在してもフェーズ移行をスム
ーズに行ない、移行したフェーズに対応した工程制御を
確実に実行することができる。
の1つのフェーズから次のフェーズの移行は、製麹時間
および品温に基づいて実行するので、ファジィ制御とパ
ターン制御のフェーズが混在してもフェーズ移行をスム
ーズに行ない、移行したフェーズに対応した工程制御を
確実に実行することができる。
【0077】風温設定手段12は、ヒータ、チラー(冷
却ユニット)、調湿塔等で構成し、ファジィ制御手段7
から供給される風温設定信号TF、またはパターン制御
手段10から供給される風温設定信号TPに基づいて風
温TWを設定する。
却ユニット)、調湿塔等で構成し、ファジィ制御手段7
から供給される風温設定信号TF、またはパターン制御
手段10から供給される風温設定信号TPに基づいて風
温TWを設定する。
【0078】風量設定手段13は、インバータ制御のブ
ロアで構成し、ファジィ制御手段6から供給される風量
設定信号MF、またはパターン制御手段10から供給さ
れる風量設定信号MPに基づいて風温設定手段12から
発生した風温TWで風量MWの制御量を製麹部14に供給
して麹層15の品温を管理する。
ロアで構成し、ファジィ制御手段6から供給される風量
設定信号MF、またはパターン制御手段10から供給さ
れる風量設定信号MPに基づいて風温設定手段12から
発生した風温TWで風量MWの制御量を製麹部14に供給
して麹層15の品温を管理する。
【0079】図6はこの発明に係る「手入れ」時期の判
定論理図である。図6において、手入れ判定論理20
は、2入力のAND論理21、22、23と、2入力の
OR論理24、25、26から構成する。
定論理図である。図6において、手入れ判定論理20
は、2入力のAND論理21、22、23と、2入力の
OR論理24、25、26から構成する。
【0080】AND論理21は、品温THが限界値TMを
超えた場合に供給されるHレベルの品温信号THMと、検
出された品温が所定回数以上の場合に出力されるHレベ
ルの判定回数NAの論理積により、OR論理25、26
を介して「手入れ」開始の信号HOを出力し、「手入
れ」が開始される。
超えた場合に供給されるHレベルの品温信号THMと、検
出された品温が所定回数以上の場合に出力されるHレベ
ルの判定回数NAの論理積により、OR論理25、26
を介して「手入れ」開始の信号HOを出力し、「手入
れ」が開始される。
【0081】また、AND論理22は、静圧が静圧限界
値を超えた場合に供給されるHレベルの静圧信号P
Mと、検出された静圧が所定回数以上の場合に出力され
るHレベルの判定回数NBの論理積により、OR論理2
4、25、26を介して「手入れ」開始の信号HOを出
力し、「手入れ」が開始される。
値を超えた場合に供給されるHレベルの静圧信号P
Mと、検出された静圧が所定回数以上の場合に出力され
るHレベルの判定回数NBの論理積により、OR論理2
4、25、26を介して「手入れ」開始の信号HOを出
力し、「手入れ」が開始される。
【0082】さらに、AND論理23は、静圧の時間的
変化量が予め設定された値を超えた場合に出力されるH
レベルの静圧経時変化量dPOと、検出された静圧経時
変化量が所定回数以上の場合に出力されるHレベルの判
定回数NCの論理積により、OR論理24、25、26
を介して「手入れ」開始の信号HOを出力し、「手入
れ」が開始される。
変化量が予め設定された値を超えた場合に出力されるH
レベルの静圧経時変化量dPOと、検出された静圧経時
変化量が所定回数以上の場合に出力されるHレベルの判
定回数NCの論理積により、OR論理24、25、26
を介して「手入れ」開始の信号HOを出力し、「手入
れ」が開始される。
【0083】なお、上記の判定条件が満たされない場合
であっても、予め設定した「手入れ」時間tMが経過す
るとHレベルの時間信号が出力され、OR論理26を介
して「手入れ」開始の信号HOを出力し、「手入れ」が
開始される。
であっても、予め設定した「手入れ」時間tMが経過す
るとHレベルの時間信号が出力され、OR論理26を介
して「手入れ」開始の信号HOを出力し、「手入れ」が
開始される。
【0084】ここで、所定回数NA、NB、NCをNA<N
B<NCとすることにより、「手入れ」時期を、品温、静
圧、静圧経時変化量の順に判定するよう設定することが
できる。
B<NCとすることにより、「手入れ」時期を、品温、静
圧、静圧経時変化量の順に判定するよう設定することが
できる。
【0085】また、「手入れ」時間tMを品温、静圧、
静圧経時変化量の判定が通常発生する時間よりも長く設
定することによって、最終的に「手入れ」時間tMに基
づいて「手入れ」工程を実施できるよう設定することが
できる。
静圧経時変化量の判定が通常発生する時間よりも長く設
定することによって、最終的に「手入れ」時間tMに基
づいて「手入れ」工程を実施できるよう設定することが
できる。
【0086】このように、この発明に係る麹の製造方法
の手入れ時期は、品温、または静圧、または静圧の経時
的変化の割合、次いで製麹時間の順に判定するので、手
入れ時期を正確に設定することができ、麹の最適な成長
を促進することができる。
の手入れ時期は、品温、または静圧、または静圧の経時
的変化の割合、次いで製麹時間の順に判定するので、手
入れ時期を正確に設定することができ、麹の最適な成長
を促進することができる。
【0087】
【発明の効果】以上説明したように、この発明に係る麹
の製造方法は、製麹時間を指標として製麹工程を経時的
に複数のフェーズに分割し、それぞれのフェーズに対応
したパターン制御またはファジィ制御を適用して予め設
定された目標品温曲線に一致するよう製麹を行ない、麹
菌の生育に対応してフェーズ毎に最適な工程制御を行な
うことができるので、高品質の麹を製造することができ
る。
の製造方法は、製麹時間を指標として製麹工程を経時的
に複数のフェーズに分割し、それぞれのフェーズに対応
したパターン制御またはファジィ制御を適用して予め設
定された目標品温曲線に一致するよう製麹を行ない、麹
菌の生育に対応してフェーズ毎に最適な工程制御を行な
うことができるので、高品質の麹を製造することができ
る。
【0088】また、この発明に係る麹の製造方法のファ
ジィ制御は、入力要素を麹の品温と予め設定された品温
の偏差、および偏差の経時的変化量とし、麹の生育に対
応した目標品温に品温を精度良く近付けることができ、
麹の生育に適した制御を行なうことができるので、製麹
を自動化しても高品質の麹を製造することができる。
ジィ制御は、入力要素を麹の品温と予め設定された品温
の偏差、および偏差の経時的変化量とし、麹の生育に対
応した目標品温に品温を精度良く近付けることができ、
麹の生育に適した制御を行なうことができるので、製麹
を自動化しても高品質の麹を製造することができる。
【0089】さらに、この発明に係る麹の製造方法のフ
ァジィ制御は、出力要素を風温または風量のいずれか一
方、または双方とし、麹の生育を促進させる最適な風温
または風量を設定することができるので、麹を最適な品
温で生育することができる。
ァジィ制御は、出力要素を風温または風量のいずれか一
方、または双方とし、麹の生育を促進させる最適な風温
または風量を設定することができるので、麹を最適な品
温で生育することができる。
【0090】また、この発明に係る麹の製造方法の製麹
工程の手入れ時および手入れ直後は、パターン制御を適
用し、品温が不連続に変化してファジィ制御では対応し
にくい工程制御をカバーして最適な製麹管理を実現する
ことができるので、高品質の麹を製造することができ
る。
工程の手入れ時および手入れ直後は、パターン制御を適
用し、品温が不連続に変化してファジィ制御では対応し
にくい工程制御をカバーして最適な製麹管理を実現する
ことができるので、高品質の麹を製造することができ
る。
【0091】さらに、この発明に係る麹の製造方法の1
つのフェーズから次のフェーズの移行は、製麹時間に基
づいて実行し、ファジィ制御とパターン制御のフェーズ
が混在してもフェーズ移行をスムーズに行ない、移行し
たフェーズに対応した工程制御を確実に実行することが
できるので、麹の生育をきめ細かく管理することができ
る。
つのフェーズから次のフェーズの移行は、製麹時間に基
づいて実行し、ファジィ制御とパターン制御のフェーズ
が混在してもフェーズ移行をスムーズに行ない、移行し
たフェーズに対応した工程制御を確実に実行することが
できるので、麹の生育をきめ細かく管理することができ
る。
【0092】また、この発明に係る麹の製造方法の手入
れ時期は、品温、または静圧、または静圧の経時的変化
の割合、次いで製麹時間の順に判定し、判定が難しい手
入れ時期を正確に設定することができるので、麹の最適
な成長を促進することができる。
れ時期は、品温、または静圧、または静圧の経時的変化
の割合、次いで製麹時間の順に判定し、判定が難しい手
入れ時期を正確に設定することができるので、麹の最適
な成長を促進することができる。
【0093】よって、麹の高品質化と安定化が図れると
ともに、自動化に適した麹の製造方法を提供することが
できる。
ともに、自動化に適した麹の製造方法を提供することが
できる。
【図1】 この発明に係る麹の製造方法のフェーズに対
する品温特性図
する品温特性図
【図2】 この発明に係る麹の製造方法が適用される制
御手段の一実施例要部ブロック構成図
御手段の一実施例要部ブロック構成図
【図3】 この発明に係るファジィ制御手段の要部ブロ
ック構成図
ック構成図
【図4】 この発明に係るパターン制御の「手入れ」パ
ターンの一実施例
ターンの一実施例
【図5】 この発明に係る「手入れ」時期の判定論理図
1 制御手段 2 目標品温記憶手段 3 品温平均値演算手段 4 偏差演算手段 5 フェーズ切替制御手段 6 温度変化量演算/記憶手段 7 ファジィ制御手段 7A ファジィ関数 7B ルールテーブル 7C デファジィ 8 周期信号発生手段 9 パターン値記憶手段 10 パターン制御手段 11 切替手段 12 風温設定手段 13 風量設定手段 14 製麹部 15 麹層 20 手入れ判定論理 21,22,23…AND論理 24,25,26…OR論理 F1〜FN…メンバーシップ関数 MF,MP…風量設定信号 MW 風量 NA,NB,NC 所定回数 PM 静圧信号 R1〜RN…ルールテーブル SO 切替信号 TF,TP…風温設定信号 TH 平均値 THU,THM,THL…品温 TS 目標品温 TW 風温 dTH 温度変化量 dPO 静圧経時変化量 to 周期
フロントページの続き (72)発明者 横川 樹道 千葉県野田市野田339番地 キッコーマン 株式会社内 (72)発明者 深井 孝之 千県野田市野田 Fターム(参考) 4B029 AA03 BB08 CC02 CC07 EA11 EA18 EA20 4B065 AA58X BB01 BB26 BC31 BC32 BC33 BC34 BC35 BC37 BC39 BC50 CA19 CA27 CA31 CA42
Claims (6)
- 【請求項1】固体培地で麹菌を培養する麹の製造方法に
おいて、製麹時間を指標として製麹工程を経時的に複数
のフェーズに分割し、それぞれのフェーズに対応したパ
ターン制御またはファジィ制御を適用して予め設定され
た目標品温曲線に一致するよう製麹を行なうことを特徴
とする麹の製造方法。 - 【請求項2】前記ファジィ制御は、入力要素を麹の品温
と予め設定された品温の偏差および偏差の経時的変化量
としたことを特徴とする請求項1記載の麹の製造方法。 - 【請求項3】前記ファジィ制御は、出力要素を風温また
は風量のいずれか一方、または双方としたことを特徴と
する請求項1記載の麹の製造方法。 - 【請求項4】 製麹工程の手入れ時および手入れ直後
は、パターン制御を適用することを特徴とする請求項1
記載の麹の製造方法。 - 【請求項5】1つのフェーズから次のフェーズの移行
は、製麹時間に基づいたファジールールで実行すること
を特徴とする請求項1記載の麹の製造方法。 - 【請求項6】固体培地で麹菌を培養する麹の製造方法に
おいて、製麹の手入れ時期は、品温、または静圧、また
は静圧の経時的変化の割合、次いで製麹時間の順に判定
することを特徴とする請求項1記載の麹の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11000270A JP2000197480A (ja) | 1999-01-05 | 1999-01-05 | 麹の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11000270A JP2000197480A (ja) | 1999-01-05 | 1999-01-05 | 麹の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000197480A true JP2000197480A (ja) | 2000-07-18 |
Family
ID=11469225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11000270A Pending JP2000197480A (ja) | 1999-01-05 | 1999-01-05 | 麹の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000197480A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011177134A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Nagata Brewing Machinery Co Ltd | 温度勾配差を用いて空調制御を行う製麹装置 |
CN102732422A (zh) * | 2011-04-15 | 2012-10-17 | 藤原酿造机械株式会社 | 固体培养物的品温控制装置及固体培养物的品温控制方法 |
US9740214B2 (en) | 2012-07-23 | 2017-08-22 | General Electric Technology Gmbh | Nonlinear model predictive control for chemical looping process |
-
1999
- 1999-01-05 JP JP11000270A patent/JP2000197480A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011177134A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Nagata Brewing Machinery Co Ltd | 温度勾配差を用いて空調制御を行う製麹装置 |
CN102732422A (zh) * | 2011-04-15 | 2012-10-17 | 藤原酿造机械株式会社 | 固体培养物的品温控制装置及固体培养物的品温控制方法 |
US9740214B2 (en) | 2012-07-23 | 2017-08-22 | General Electric Technology Gmbh | Nonlinear model predictive control for chemical looping process |
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