JP2000190554A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】スポットサイズの不均一による画像の濃度むら
を光出力強度を変えて補正する際に、画像濃度が変化し
ても濃度むらが悪化しないようにする。 【解決手段】位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０
は、各主走査毎にスポットサイズを検出し、検出された
スポットサイズをビーム径判定手段２２に入力する。ビ
ーム径判定手段２２は、スポットサイズが基準スポット
サイズから変動した場合には、変動したスポットサイズ
に応じたテーブルを選択するためのテーブル選択信号を
パルス対応強度補正テーブル選択手段２４に出力する。
パルス対応強度補正テーブル選択手段２４は、テーブル
選択信号に応じて１つのテーブルを選択し、データ変換
器２６に設定する。これによって、データ変換器２６
は、設定されたテーブルに基づいて、入力されたパルス
幅変調信号のパルス幅、従って入力された画像濃度に応
じてレーザビームの光出力強度を変更する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に係
り、特に、レーザプリンタ等の画像形成装置に用いられ
る光走査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図２に、従来の一般的なレーザプリンタ
の光走査装置（ＲＯＳユニット）を示す。画像信号に応
じて変調されてレーザ光源１より射出したレーザビーム
は、コリメータレンズ２により平行光線にした後、回転
多面鏡( ポリゴンミラー）３で等角速度で走査し、ｆθ
レンズ４を通して走査速度を等速化し、感光体ドラム５
の被走査面上を走査露光し、画像信号の濃度情報に応じ
た静電潜像を被走査面上に形成する。さらに、主走査方
向の画像信号書き込みタイミング信号（ＳＯＳ信号）を
検出するために、感光体ドラムの走査領域外のレーザビ
ーム走査領域に、レーザビームを検出する位置検出セン
サ６を設けている。ここでは、被走査面上で光スポット
が移動する方向を主走査方向と言い、被走査面の移動方
向を副走査方向と言う。

【０００３】近年、高解像度の画像装置が要求されるの
に伴って、光走査装置のレーザビームのスポットサイズ
を小径化することが要求されている。しかしながら、レ
ーザビームのスポットサイズを小径化すると、レーザビ
ームの焦点深度が浅くなるため、光走査装置を構成する
部品の製造精度が悪化すると、レーザビームのスポット
サイズの均一性が悪くなりなり易く、画質に悪影響を及
ぼす。

【０００４】電子写真方式を用いた画像形成装置は、良
く知られているように、一様に帯電した被走査面上を光
スポットで露光して画像領域を除電し、除電した領域を
トナーで現像する。トナーは、所定量以上除電された領
域、すなわち所定量以上のエネルギーで露光された領域
を現像する。このため、光スポットのサイズの均一性が
悪くなると、トナーが付着する領域の面積が不均一にな
るため、形成された画像濃度にむらが生じる、という問
題が発生する。

【０００５】図３は、特開昭６２−１０８６６９号公報
に記載されているビーム径の相違によるトナー現像幅の
相違を説明するための光スポットサイズに応じた露光エ
ネルギーの分布を示すものである。図において、１８は
現像しきい値、１９は光スポットサイズが小さい場合の
露光エネルギー分布、２０は光スポットサイズが大きい
場合の露光エネルギー分布を各々示す。トナーは、現像
しきい値１８を越える露光エネルギーが加えられたとき
に被走査面上に付着するので、同じ露光時間であって
も、光スポットサイズが小さい場合のトナー付着領域の
幅Ａは、光スポットサイズが大きい場合のトナー付着領
域の幅Ｂより小さくなり、この結果画像濃度に差が生じ
る。

【０００６】図４（Ａ）は、中間調画像に光スポットサ
イズの不均一が及ぼす悪影響の例を説明するための図で
ある。図４（Ａ）の横軸は主走査方向、縦軸は副走査方
向であり、黒色部分はトナーが付着した領域を示す。ま
た、図４（Ａ）は中間調濃度を副走査方向に平行なライ
ンスクリーンで再現している状態を示し、画像信号の濃
度情報に応じたパルス幅で変調された〜の６走査線
分の領域を拡大したものである。図４においては、の
走査線を形成する光スポットのサイズが他の走査線を形
成する光スポットのサイズよりも大きくなっている。ス
ポットサイズが大きいため、現像に必要な露光エネルギ
ーに達する領域が小さくなり、の走査線の領域だけ画
像濃度が低くなっている。なお、図４（Ｂ）は、の走
査線の主走査方向に沿った露光エネルギー分布、図４
（Ｃ）は、の走査線を含む領域のトナー付着状態（斜
線部）を示すものである。

【０００７】この画像をマクロ的にみると主走査方向の
白筋という画像欠陥となる。このように、走査線間で光
スポットサイズが異なってしまう現象は特開平９−３０
４７２０号公報で開示されているオーバーフィルド光学
系において、回転多面鏡のある1 つの反射面の面形状が
他の面と大きく異なった時に顕著となり、白筋が回転多
面鏡の回転周期で現れるため、非常に目につきやすく大
きな問題となる。

【０００８】光スポットサイズの不均一は、上記の現象
以外でも発生する。一般にレンズの性能は、光軸から周
端部に向かうほど悪化する傾向があるので、光スポット
サイズは走査端部で大きくなり易い。従って、露光領域
の中央部と端部とで画像濃度に変化が生じる。この濃度
変化は単色ではあまり目立たないが、カラー画像を形成
するために、ＹＭＣＫの４色のトナー像を重ね合わせる
と、各色の濃度むらが重畳されて色むらとなるため、や
はり目に付きやすい画質欠陥となる。

【０００９】上述したような画質欠陥を引き起こす光ス
ポットサイズの不均一性を改善するための方法が従来か
らいくつか提案されている。例えば、特開昭６２−１１
２１２３号公報に示されるように、コリメートレンズの
位置を制御する方法、特開平５−２５２３６６号公報に
示されるように液晶シャッタを用いて光束の幅を制御す
る方法が提案されている。

【００１０】しかしながら、コリメートレンズの位置を
制御する方法は、走査線間や一走査線内の光スポットサ
イズのばらつきを低減する程の高速対応性はなく、液晶
シャッタを用いる方法は、変化が離散的であるので微妙
な制御が難しい、という問題がある。

【００１１】その他、実際のスポットサイズは変更せず
に、トナーによって現像される領域の変動を低減させる
ために、光源の光出力強度変調を利用した技術もいくつ
か提案されている。特許第２７４６３９７号には、回転
多面鏡の各反射面を検出して各面毎に補正強度を選択し
て補正する技術、特開昭６２−１０８６６９号公報には
光スポットサイズ変動の主原因であるレーザとコリメー
トレンズとの間隔変動を検知する代わりにレーザの温度
を検知し、その結果をレーザ光出力にフィードバックす
る技術、特開平１−１０１７７２号公報、及び特開平１
−１２０５７８号公報には、Ｆθレンズの像面湾曲によ
る主走査方向位置でのビーム径変動をレーザの強度変調
で補正する技術、そして、特開平２−６３８４８号公報
には温度変化等による外的要因による光スポットサイズ
変動を検出手段で直接検出し、その検出出力データに基
づいてレーザの強度を制御する技術が記載されている。
なお、光偏向器に回転多面鏡ではなく、ホログラムディ
スクを用いたものでも同様の方法が提案されている（特
開平４−２００１６４号公報）。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しがしながら、上記従
来の技術では、光スポットサイズが大きいときは光強度
を低下する等のように、光スポットサイズに応じて一律
に光出力を制御しているため、次のような問題が生じ
る。この問題を光スポットサイズの変動とパルス幅変調
で再現する濃度との関係を示す図５を用いて説明する。
図において、横軸は画像信号の濃度情報である入力濃度
を表す点灯率（１ドット分の点灯時間を１００％として
いる）、縦軸は出力される画像濃度（出力濃度）であ
り、主走査方向の光スポットサイズを４０、５５、７
０、８５μｍとしたときの入力濃度と出力濃度との関係
を示している。

【００１３】図から理解されるように、基準スポットサ
イズを５５μｍとした場合、点灯率が約１７％より小さ
い場合には図６（Ａ）にも示すように、スポットサイズ
が７０、８５μｍの場合は、露光エネルギーが現像しき
い値を超える領域が基準スポットサイズよりも小さくな
るので、出力濃度が基準スポットサイズの場合よりも低
くなり、スポットサイズが４０μｍの場合には現像しき
い値を超える領域が基準スポットサイズよりも大きくな
るので、出力濃度はスポットサイズが５５μｍの場合よ
りも高くなる。

【００１４】一方、点灯率が約１７％以上の場合は、図
６（Ｂ）に示すように、図６（Ａ）の場合と逆転し、現
像しきい値を超える領域がスポットサイズが大きくなる
に従って大きくなっている。例えば、図５から理解され
るように、点灯率４０％では基準スポットサイズに対
し、スポットサイズが７０、８５μｍの場合の出力濃度
は高くなり、スポットサイズが４０μｍの場合の出力濃
度は低くなっている。

【００１５】以上の説明から理解されるように、従来技
術のように光スポット径の大小関係に応じて光出力を増
減させた場合、入力濃度によっては濃度むらを悪化させ
ることになってしまう。例えば、スポットサイズが大き
いビームの光強度を低くすると、高濃度部ではスポット
サイズ不均一によって発生するむらは低減されるもの
の、低濃度部では濃度むらが大きくなってしまう。

【００１６】また、従来技術では、トナー像は一定の現
像しきい値で現像されるものとしてトナーが付着する領
域の大きさを一定に制御しているが、大小各々の光スポ
ットで形成される露光エネルギー分布の形状は異なった
ままであるので、現像しきい値が温度や湿度等の環境に
よって変化すると、濃度むらが再発してしまう、という
問題もあった。

【００１７】本発明は、上記問題点を解消するためにな
されたもので、スポットサイズの不均一による画像の濃
度むらを光出力強度を変えて補正する際において、画像
濃度が変化しても濃度むらが悪化せず、さらには現像し
きい値の変動による影響も受けないように露光エネルギ
ー分布の形状を同一にすることを目的とするものであ
る。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、光ビームを射出する光源と、射
出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏向装置
と、偏向された光ビームを被走査面上に結像させる光学
系と、前記被走査面上に結像された光ビームの主走査方
向のスポットサイズを検知する検知手段と、入力された
画像濃度に応じて前記光源から射出される光ビームをパ
ルス幅変調すると共に、前記検知手段で検知されたスポ
ットサイズに基づいて入力された画像濃度に応じて各濃
度毎に濃度が同一となるように前記光源から射出される
光ビームの出力強度を変調するパルス幅強度変調手段
と、を含んで構成したものである。

【００１９】請求項１の発明によれば、検知されたスポ
ットサイズが基準スポットサイズと異なる場合には、入
力された画像濃度に応じて光源から射出される光ビーム
の出力強度を変調するので、スポットサイズが変化して
も画像濃度が同一となるようにすることができる。

【００２０】請求項２の発明は、光ビームを射出する光
源と、射出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏
向装置と、偏向された光ビームを被走査面上に結像させ
る光学系と、前記被走査面上に結像された光ビームの主
走査方向のスポットサイズデータを予め記憶した記憶手
段と、入力された画像濃度に応じて前記光源から射出さ
れる光ビームをパルス幅変調すると共に、前記記憶手段
に記憶されたデータに基づいて前記光源から射出される
光ビームの出力強度を変調するパルス幅強度変調手段
と、を含んで構成したものである。

【００２１】請求項２の発明では、被走査面上に結像さ
れた光ビームの主走査方向のスポットサイズが基準スポ
ットサイズと異なる場合にスポットサイズデータを記憶
し、記憶したデータに基づいて光源から射出される光ビ
ームの出力強度を変調するので、スポットサイズを検知
する検知手段を用いることなく、スポットサイズが変化
しても画像濃度を同一にすることができる。

【００２２】請求項３の発明は、光ビームを射出する光
源と、射出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏
向装置と、偏向された光ビームを被走査面上に結像させ
る光学系と、前記被走査面上に結像された光ビームの主
走査方向のスポットサイズを検知する検知手段と、前記
検知手段で検知されたスポットサイズデータを記憶する
記憶手段と、入力された画像濃度に応じて前記光源から
射出される光ビームの点灯時間をパルス幅変調すると共
に、記憶されたスポットサイズが基準スポットサイズと
異なる場合には前記光源から射出される光ビームの出力
強度を変調するパルス幅強度変調手段と、を含んで構成
したものである。

【００２３】請求項３の発明は、スポットサイズを検出
し、検知されたスポットサイズを記憶したデータに基づ
いて光源から射出される光ビームの出力強度を変調する
ので、各走査毎にスポットサイズを検出した後に光ビー
ムの出力強度を演算することなく、一度の検出によって
記憶されたデータを用いてスポットサイズが変化しても
画像濃度を同一にすることができる。

【００２４】請求項２及び３の発明では、入力された画
像濃度に応じて光源から射出される光ビームの出力強度
を変調するためのテーブルを異なるスポットサイズに応
じて複数記憶し、複数のテーブルから１つのテーブルを
選択して光ビームの出力強度を変調するのが好ましい。

【００２５】また、請求項２及び３の発明において偏向
装置として回転多面鏡を用いる場合には、入力された画
像濃度に応じて光源から射出される光ビームの出力強度
を変調するためのテーブルを回転多面鏡の各反射面に応
じて複数記憶し、被走査面上に結像される光ビームを偏
向させるための反射面に応じて複数のテーブルから１つ
のテーブルを選択して光ビームの出力強度を変調するこ
とができる。

【００２６】請求項７の発明は、前記パルス幅強度変調
手段は、スポットサイズが基準スポットサイズより大き
い場合は、入力された画像濃度が高い領域では光ビーム
の出力強度を基準スポットサイズの光ビームの出力強度
より小さくし、かつ入力された画像濃度が低い領域では
光ビームの出力強度を基準スポットサイズの光ビームの
出力強度より大きくすると共に、スポットサイズが基準
スポットサイズより小さい場合は、入力された画像濃度
が高い領域では光ビームの出力強度を基準スポットサイ
ズの光ビームの出力強度より大きくし、かつ入力された
画像濃度が低い領域では光ビームの出力強度を基準スポ
ットサイズの光ビームの出力強度より小さくするように
したものである。

【００２７】請求項７の発明は、スポットサイズが基準
スポットサイズより大きいか、小さいかによって強度変
調を異ならせている。スポットサイズが基準スポットサ
イズより大きい場合は、入力された画像濃度が高い領域
では光ビームの出力強度を基準スポットサイズの光ビー
ムの出力強度より小さくし、かつ入力された画像濃度が
低い領域では光ビームの出力強度を基準スポットサイズ
の光ビームの出力強度より大きくする。一方、スポット
サイズが基準スポットサイズより小さい場合は、入力さ
れた画像濃度が高い領域では光ビームの出力強度を基準
スポットサイズの光ビームの出力強度より大きくし、か
つ入力された画像濃度が低い領域では光ビームの出力強
度を基準スポットサイズの光ビームの出力強度より小さ
くする。

【００２８】このように、スポットサイズの大小に応じ
て、入力された画像濃度に応じて光源から射出される光
ビームの出力強度の変調を異ならせているので、スポッ
トサイズが基準スポットサイズより大きくなるように、
または小さくなるように変化しても全ての画像濃度にお
いて画像濃度に対するスポットサイズの影響をなくすこ
とができる。

【００２９】請求項８の発明は、光ビームを射出する光
源と、射出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏
向装置と、偏向された光ビームを被走査面上に結像させ
る光学系と、入力された画像濃度に応じて前記光源から
射出される光ビームをパルス幅変調すると共に、前記被
走査面上に結像された光ビームの主走査方向のスポット
サイズが変動する場合、例えば、走査位置で異なる場合
には光ビームの点灯時間及び前記光源から射出される光
ビームの出力強度を変調させて、前記被走査面上に結像
された光ビームの同じ画像濃度の露光エネルギー分布を
均一にするパルス幅強度変調手段と、を含んで構成した
ものである。

【００３０】請求項８の発明では、主走査方向スポット
サイズが回転多面鏡等の偏向装置の反射面や被走査面上
の主走査方向の位置によって変化した際に、光走査装置
に入力された画像濃度に応じた光ビームの点灯時間と光
ビームの出力強度に対して、実際の点灯時間と出力強度
とを変更することによって、光スポットの移動走査によ
って形成される露光エネルギー分布を均一にすることが
できる。

【００３１】具体的な態様では、大きいスポットサイズ
と小さいスポットサイズとで、実際の点灯時間と光出力
強度との変更の仕方を異ならせ、大きいスポットサイズ
で露光される領域の光ビームの点灯時間を入力された画
像濃度に対応するパルス信号のパルス幅より短くし、か
つ光ビームの出力強度を入力された画像濃度に対応する
出力強度より大きくして、大きいスポットサイズの光ス
ポットで形成される露光エネルギー分布の形状を小さい
スポットサイズの光スポットで形成される露光エネルギ
ー分布の形状に合わせる。または、小さいスポットサイ
ズで露光される領域の光ビームの点灯時間を入力された
画像濃度に対応するパルス信号のパルス幅より長くし、
かつ光ビームの出力強度を入力された画像濃度に対応す
る出力強度より小さくして、小さいスポットサイズの光
スポットで形成される露光エネルギー分布の形状を大き
いスポットサイズの光スポットで形成される露光エネル
ギー分布の形状に合わせる。

【００３２】また、入力された画像濃度に対応するパル
ス信号のパルス幅が長いときは、大きいスポットサイズ
で露光される領域の光ビームの点灯時間を上記のように
変更し、入力された画像濃度に対応するパルス信号のパ
ルス幅が短いときは、小さいスポットサイズで露光され
る領域の光ビームの点灯時間を上記のように変更するよ
うにすることができる。

【００３３】

【実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実施の形
態を説明する。本実施の形態は、図１に示すように、レ
ーザビームを射出するレーザダイオード１０と、レーザ
ダイオード１０から射出されたレーザビームを平行光線
に整形するコリメータレンズ１２と、複数の小反射面を
備え入射されたレーザビームを主走査方向に等角速度で
偏向させる偏向装置としての回転多面鏡( ポリゴンミラ
ー）１４とを備えている。回転多面鏡で偏向された光ビ
ームは、ｆθレンズ１６を通過することによって走査速
度補正が行われ、感光体ドラム１８の被走査面上を等速
度で走査される。

【００３４】また、感光体上での主走査方向の画像信号
の書き込みタイミングを検出すると共に、スポットサイ
ズを検出する位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０
が、感光体ドラムの画像形成領域の外側に配置されてい
る。

【００３５】位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０
は、図７に示すように、中央部に矩形の開口を備えたス
リット２０Ａと、スリット２０Ａが受光側に位置するよ
うに配置された光センサ２０Ｂとで構成されている。こ
の光センサ２０Ｂは、センサに入射したレーザビームの
光量に応じた電流を出力する。

【００３６】スポットサイズが小さい場合には、レーザ
ビームのスポットがスリット２０Ａに形成された開口の
縦の辺（副走査方向の辺）を照射している時間が短く、
レーザビームの一部がセンサ２０Ｂに入射されてからレ
ーザビームのスポット全体が光センサ２０Ｂに入射され
るまでの時間、及び光センサ２０Ｂに入射されているレ
ーザビームの一部がスリット２０Ａにより遮断され初め
てからレーザビームのスポット全体が遮断されるまでの
時間が短いので、図８の波形ａに示すように光センサ２
０Ｂから出力される電流の立ち上がり及び立ち下がりは
急激になる。一方、レーザビームのスポットサイズが大
きい場合には、レーザビームのスポットがスリット２０
Ａに形成された開口の縦の辺を照射している時間が長
く、レーザビームの一部がセンサ２０Ｂに入射されてか
らレーザビームのスポット全体が光センサ２０Ｂに入射
されるまでの時間、及び光センサ２０Ｂに入射されてい
るレーザビームの一部がスリット２０Ａにより遮断され
初めてからレーザビームのスポット全体が遮断されるま
での時間が長いので、図８の波形ｂに示すように電流の
立ち上がり及び立ち下がりは緩やかになる。

【００３７】位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０
は、電流波形の立ち上がりと立ち下がりとのタイミング
を検出するためにしきい値を設定し、立ち上りと立ち下
がりの時間間隔からスポットサイズを検出する。しきい
値が電流波形の高レベル側(Ｓ１) に設定された場合
は、スポットサイズが小さい方が時間間隔は長くなり、
しきい値が電流波形の低レベル側( Ｓ２) に設定される
と、スポットサイズが小さい方が時間間隔は短くなる。

【００３８】位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０
は、スポットサイズの変動によって発生する検出センサ
２０の電流波形の立ち上がりと立ち下がりとの時間間隔
の差に基づいてビーム径を判定し、テーブル選択信号を
出力するビーム径判定手段２２に接続されている。ビー
ム径判定手段２２は、時間間隔差の結果よりパルス対応
強度補正テーブルを選択しデータ変換器２６に入力する
パルス対応強度補正テーブル選択手段２４に接続され、
パルス対応強度補正テーブル選択手段２４にテーブル選
択信号を出力するる。

【００３９】このパルス対応強度補正テーブル選択手段
２４には、図９に示すように、異なるスポットサイズ
（例えば、４０、５５、７０、８５μｍ）に応じて、入
力された画像濃度に応じてレーザビームの出力強度を変
調するための複数のテーブルＴ１〜Ｔ４が記憶されてい
る。これらのテーブルは、図１０（Ａ）に示すように、
スポットサイズが基準スポットサイズ（例えば、５５μ
ｍ）より大きい場合（例えば、７０、８５μｍ）は、入
力された画像濃度が高い領域（１７．５％以上）ではレ
ーザビームの出力強度を基準スポットサイズのレーザビ
ームの出力強度より小さくし、かつ入力された画像濃度
が低い領域（１７．５％未満）ではレーザビームの出力
強度を基準スポットサイズのレーザビームの出力強度よ
り大きくなるように定められている。また、低濃度側の
所定濃度（例えば、１０％程度）から所定濃度（例え
ば、５０％程度）までは入力濃度に応じて出力強度が徐
々に小さくなり、所定濃度から高濃度（例えば、６０％
程度）までは出力強度が徐々に大きくなるように定めら
れている。

【００４０】また、スポットサイズが基準スポットサイ
ズより小さい場合（例えば、４０μｍ）は、入力された
画像濃度が高い領域ではレーザビームの出力強度を基準
スポットサイズのレーザビームの出力強度より大きく
し、かつ入力された画像濃度が低い領域ではレーザビー
ムの出力強度を基準スポットサイズのレーザビームの出
力強度より小さくするように定められている。また、低
濃度側の所定濃度（例えば、１０％程度）から所定濃度
（例えば、５０％程度）までは入力濃度に応じて出力強
度が徐々に大きくなり、所定濃度から高濃度（例えば、
６０％程度）までは出力強度が徐々に小さくなるように
定められている。

【００４１】なお、高濃度側では、ドット同士が連続露
光されることになるため、図１０（Ｂ）に示すように、
スポットサイズが基準スポットサイズより大きい場合は
一定値（最大値）、スポットサイズが基準スポットサイ
ズより小さい場合は一定値（最小値）としてもよい。

【００４２】また、パルス対応強度補正テーブル選択手
段２４には、セレクタＳが設けられており、ビーム径判
定手段２２から入力されたテーブル選択信号に従って１
つのテーブルを選択してデータ変換器２６に設定する。
データ変換器２６は、レーザダイオード１０をオンオフ
制御すると共にレーザダイオード１０から出力されるレ
ーザビームを強度変調するレーザダイオードドライバ３
４に接続されている。

【００４３】一方、画像データ生成装置２８から出力さ
れた画像データは、多値ディジタルデータパルス変換器
３０に入力され、多値ディジタルデータパルス変換器３
０によって、入力された画像データの濃度情報に応じて
レーザダイオード１０の点灯時間をパルス幅変調するた
めのパルス幅変調信号が生成されて同期回路３２に入力
される。

【００４４】この画像データ生成装置２８は、複写機や
プリンタで構成することができ、複写機の場合はスキャ
ナで原稿を読み取り、原稿濃度に応じて多値の画像デー
タを出力する。また、プリンタの場合は、ホストコンピ
ュータからのデータを多値の画像濃度信号に変換する。

【００４５】このパルス幅変調信号は、図１１（Ａ）に
示すように、三角波と画像データとによって生成するこ
とができる。また、図１１（Ｂ）に示すように、１画素
中を多分割してデータの重みに応じて分割されたセルを
選択し、パルス露光する方法でも同様の効果が得られ
る。

【００４６】位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０
によって検出された画像信号書き込みタイミング信号
（ＳＯＳ信号）及び多値ディジタルデータパルス変換器
３０で生成されたパルス幅変調信号は、同期回路３２に
入力される。同期回路３２は、パルス幅変調信号とＳＯ
Ｓ信号との同期をとって、パルス幅変調信号をデータ変
換器２６に入力する。このＳＯＳ信号は、位置検出兼ス
ポットサイズ検出センサ２０の立ち上がりと立ち下がり
の中心を検出することで得られる。

【００４７】データ変換器２６は、設定されたパルス対
応強度補正テーブルと入力されたパルス幅変調信号とに
応じてパルス幅に応じた光出力強度を設定し、走査線毎
のスポットサイズの変動によって発生する画像濃度変動
を補正するように、光出力強度信号と点灯信号（パルス
幅変調信号）とをレーザ駆動回路３４に出力する。

【００４８】次に、本実施の形態の動作について説明す
る。当初は基準スポットサイズのテーブルがデータ変換
器２６に設定され、データ変換器２６は多値ディジタル
データパルス変換器３０で生成されたパルス幅変調信号
（点灯信号）によってレーザダイオード１０をオンオフ
制御すると共に、レーザビームの光出力強度が一定にな
るように制御する。

【００４９】位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０
は、各主走査毎にスポットサイズを検出し、検出された
スポットサイズをビーム径判定手段２２に入力する。ビ
ーム径判定手段２２は、スポットサイズが基準スポット
サイズから変動した場合には、変動したスポットサイズ
に応じたテーブルを選択するためのテーブル選択信号を
パルス対応強度補正テーブル選択手段２４に出力する。
パルス対応強度補正テーブル選択手段２４は、テーブル
選択信号に応じて１つのテーブルを選択し、データ変換
器２６に設定する。これによって、データ変換器２６
は、設定されたテーブルに基づいて、入力されたパルス
幅変調信号のパルス幅、従って入力された画像濃度に応
じてレーザビームの光出力強度を変更する。

【００５０】以上説明したように、本実施の形態では、
スポットサイズが基準スポットサイズから変動した場合
には、入力された画像濃度に応じてレーザダイオードか
ら射出されるレーザビームの出力強度を変調するので、
スポットサイズが基準スポットサイズから変化しても露
光エネルギー分布の形状を同一にすることができ、これ
によって現像しきい値の変動による影響を受けないよう
にすることができる。

【００５１】なお、上記では、位置検出兼スポットサイ
ズ検出センサを用いる例について説明したが、ＳＯＳ信
号とスポットサイズとを別々のセンサで検出するように
してもよい。

【００５２】また、上記では、パルス幅変調信号のパル
ス幅、従って入力された画像濃度とレーザビームの出力
強度との関係を示したテーブルを用いる例について説明
したが、パルス対応強度補正テーブル選択手段に、図１
２に示すようにパルス幅変調信号のパルス幅（入力され
た画像濃度）とレーザビームの出力強度との関係を示す
式ｅ１〜ｅ５を複数個記憶しておいて、テーブル選択信
号に応じて何れか１つの式を選択してデータ変換器に設
定し、データ変換器で設定された式に基づいてレーザビ
ームの出力強度を演算するようにしてもよい。

【００５３】また、上記では、スポットサイズに応じて
複数のパルス対応強度変調テーブルを用いる例について
説明したが、基準スポットサイズに対応する位置検出兼
スポットサイズ検出センサ２０出力の立ち上がりから立
ち下がりまでの時間ｔ₀ を基準にした時間差Δｔをスポ
ットサイズに代えて用いた複数のパルス対応強度変調テ
ーブルを用いてもよい。この場合には、時間ｔ₀ を基準
とした位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０出力の
立ち上がりから立ち下がりまでの時間Δｔをビーム径判
定手段で演算し、この時間Δｔに応じたテーブルを選択
して光出力強度を制御すればよい。

【００５４】また、パルス対応強度変調テーブルは、数
が多いほど高精度に補正できるが、処理時間と高画質の
影響を考慮して適宜決める必要がある。

【００５５】次に第２の実施の形態について図１３を参
照して説明する。本実施の形態は、スポットサイズの経
時変化が小さい場合に好適なものである。なお、図１３
において図１と対応する部分には同一の符号を付して説
明する。

【００５６】本実施の形態には、回転多面鏡の小反射面
を検出する検出手段が設けられている。この検出手段
は、回転多面鏡の予め定められた位置を検出する位置検
出手段４０と、モータＭの回転軸に取り付けられたロー
タリーエンコーダ４２とで構成されている。この位置検
出手段４０は、回転多面鏡の予め定められた位置に固定
された永久磁石４０Ｂと永久磁石４０Ｂの磁束を検出可
能な位置に固定されたホール素子４０Ａとで構成されて
いる。

【００５７】本実施の形態では、第１の実施の形態のビ
ーム径判定手段２２に代えて、反射面判定手段４２が設
けられている。この反射面判定手段４２には、ホール素
子４０Ａ及びロータリーエンコーダ４２が接続されてい
る。反射面判定手段４２は、特定の小反射面で主走査さ
れている位置でホール素子４０Ａから出力されるパルス
を基準に、モータのロータリエンコーダから出力される
パルス数をカウントすることにより、どの小反射面で主
走査されているかを判定し、走査する小反射面に対応す
るテーブルを選択するためのテーブル選択信号をパルス
対応強度補正テーブル選択手段２４に出力する。

【００５８】パルス対応強度補正テーブル選択手段２４
には、回転多面鏡の各小反射面で走査されるレーザビー
ムのスポットサイズを予め各小反射面毎に測定し、入力
された画像濃度に応じてレーザダイオードから射出され
るレーザビームの出力強度を変調するためのテーブル
が、回転多面鏡の各反射面に応じて記憶されている。

【００５９】また、本実施の形態では、第１の実施の形
態の位置検出兼スポットサイズ検出センサ２０に代え
て、ＳＯＳ信号のみを検出する位置検出センサ２１が設
けられている。

【００６０】次に本実施の形態の動作について説明す
る。反射面判定手段４４は、感光体ドラムの走査に使用
されている小反射面を判定し、判定した小反射面に対応
するテーブルを選択するためのテーブル選択信号をパル
ス対応強度補正テーブル選択手段２４に出力する。パル
ス対応強度補正テーブル選択手段２４は、走査に使用さ
れている小反射面に対応するテーブルを選択して、デー
タ変換器２６に設定する。これによって、設定されたテ
ーブルに応じてレーザダイオードの出力強度が変調され
るので、第１の実施の形態で説明したように、スポット
サイズが基準スポットサイズと異なる場合に入力された
画像濃度に応じてレーザダイオードから射出されるレー
ザビームの出力強度が変調される。本実施の形態では、
スポットサイズが変化しても画像濃度を同一にするため
のデータを予めパルス対応強度補正テーブル選択手段に
記憶しているため、第１の実施の形態のようにスポット
サイズを検出するセンサを設ける必要がない。

【００６１】なお、本実施の形態では、ロータリーエン
コーダ４２を用いることなく、位置検出手段４０出力
（ホール素子信号）とＳＯＳ信号とを用い、図１４に示
すように、ホール素子信号の立ち上がりでカウント値を
リセットすると共に、ホール素子信号の立ち上がりを基
準としてＳＯＳ信号をカウント、すなわち走査回数をカ
ウントしてどの小反射面で主走査されているかを検出し
てもよい。図１４には、ＳＯＳ信号によって回転多面鏡
の第１の反射面（第１面）〜第６の反射面（第６面）が
検出するときのホール素子信号とＳＯＳ信号との関係を
示した。

【００６２】また、上記各実施の形態の基準スポットサ
イズは、設計値または既定値とする以外に、回転多面鏡
の全ての小反射面でのスポットサイズの平均値を用いて
もよく、小反射面でのスポットサイズの平均値を用いる
場合には、平均値と各小反射面のスポットサイズとの差
に応じて光強度を変えて画像濃度を補正することで濃度
むらがない画質が得られる。

【００６３】第２の実施の形態では、経時変化が小さい
場合について説明したが、経時変化が存在するがその変
化が緩やかなときは、第１の実施の形態で説明したスポ
ットサイズ検知手段と第２の実施の形態で説明したパル
ス対応強度補正テーブル選択手段との両方を設けてもよ
い。この場合には、回転多面鏡の各反射面毎に、異なる
スポットサイズに応じて、入力された画像濃度に応じて
レーザビームの出力強度を変調するための図９で説明し
た複数のテーブルＴ１〜Ｔ４を記憶しておき、、所定時
期、例えば装置の電源投入時等に回転多面鏡の各小反射
面毎にスポットサイズを検出し、そのスポットサイズデ
ータを反射面毎に記憶し、その後はスポットサイズを検
出することなく記憶されたデータに基づいてテーブルを
選択して補正すればよい。

【００６４】次に、本発明の第３の実施の形態について
説明する。第３の実施の形態は主走査方向のスポットサ
イズが不均一であっても、パルス幅変調と光強度変調を
組み合わせて主走査方向の露光エネルギー分布を等しく
するものである。

【００６５】図１５を参照して本実施の形態の原理を説
明する。図において実線はスポッサイズ７０μｍの光ス
ポットが４２．３μｍ移動したときの露光エネルギー分
布、長い破線はスポットサイズ６０μｍの光スポットが
４２．３μｍ移動してできる露光エネルギー分布であ
る。両者の光強度とパルス幅（光スポットの移動距離）
は同一であるので、露光エネルギー分布には差が存在し
ている。

【００６６】しかしながら、７０μｍのスポットサイズ
であっても、そのパルス幅（光スポットの移動距離）を
半分にし、光強度を2 倍にすると露光エネルギー分布は
点線で示すようになり、６０μｍの露光エネルギー分布
と略等しくなる。これは、光スポットが走査のために移
動していることによって、露光エネルギー分布が主走査
方向に広がっていることを利用したものである。パルス
幅を半分にすることによって、露光エネルギー分布の広
がりが抑えられるので、大きいビーム径の光スポットを
用いて小さいビーム径と同じ露光エネルギー分布とする
ことができる。

【００６７】しかしながら、パルス幅が小さいと絶対的
な移動量が小さいので、パルス幅を半分にしても絶対的
な移動量の変化が小さくなるため、露光エネルギー分布
の変化は小さくなり、大小の光スポットで形成される露
光エネルギー分布を同一にすることができなくなる。そ
こで、パルス幅が小さい場合は、小さいスポットサイズ
側のパルス幅を長くして光強度を小さくすれば、小さい
スポットサイズ側の露光エネルギー分布が広がるので、
小さいスポットサイズの露光エネルギー分布を大きいス
ポットサイズの露光エネルギー分布に合わせることがで
きる。

【００６８】具体的には大きいスポットサイズで露光さ
れる領域の実際の点灯パルス幅は、入力画像の点灯パル
ス幅よりも短かく、かつ実際の光出力強度を入力画像の
光出力強度よりも大きく設定して、大きいスポットサイ
ズの光スポットで形成される露光エネルギー分布の形状
を小さいスポットサイズの光スポットで形成される露光
エネルギー分布の形状に合わせたり、小さいスポットサ
イズで露光される領域の実際の点灯パルス幅を、入力画
像の点灯パルス幅よりも長く、かつ、実際の光出力強度
を入力画像の光出力強度よりも小さく設定して、小さい
スポットサイズの光スポットで形成される露光エネルギ
ー分布の形状を大きいスポットサイズの光スポットで形
成される露光エネルギー分布の形状に合わせる。

【００６９】本実施の形態では、入力画像濃度が高い領
域（例えば、７０〜１００％の領域）では、光スポット
サイズが小さい方の光ビームを基準として、光スポット
サイズが大きい方のパルス幅と光強度とを変化させる。
一方、入力画像濃度が低い領域（例えば、７０％未満の
領域）では、光スポットサイズが大きい方の光ビームを
基準として、光スポットサイズが小さい方のパルス幅と
光強度とを変化させる。

【００７０】本実施の形態は、主走査方向の走査位置に
よってスポットサイズが変動する場合の構成を示したも
のであって、図１６に示すように、走査開始位置を検出
してＳＯＳ信号を出力する位置検出センサ２１と、基準
クロックを発生するクロック発生手段５２とを備えてい
る。位置検出センサ２１及びクロック発生手段５２は、
ＳＯＳ信号の立ち上がりでカウント値をリセットしてＳ
ＯＳ信号の立ち上がりから基準クロックの立ち上がりを
カウントするカウンタ５４に接続されている。このカウ
ンタ５４のカウント値により主走査方向の光ビームの位
置を検出することができる。

【００７１】カウンタ５４は、主走査方向に位置に応じ
たスポットサイズのデータを保持し、カウンタ５４出力
に応じてルックアップテーブル選択信号を出力するスポ
ットサイズデータ保持手段５６に接続されている。本実
施の形態では、以下に説明するように、光軸を含む所定
走査領域に対応するスポットサイズ（例えば、５０μ
ｍ）と周端部の走査領域に対応するスポットサイズ（例
えば、６０μｍ）との２つのスポットサイズを記憶して
いる。

【００７２】このスポットサイズデータ保持手段５６に
は、スポットサイズに応じたパルス幅のデータのテーブ
ルを記憶したパルス幅設定用（ＰＭＷ）ルックアップテ
ーブル５８、及びスポットサイズに応じた光強度のデー
タのテーブルを記憶した光強度設定用（ＰＡＭ）ルクア
ップテーブル５８が接続されている。このルックアップ
テーブル５８、６０には、画像データが入力され、また
ルックアップテーブル５８、６０は、演算処理部６２に
接続されている。

【００７３】この演算処理部６２には、画像データも入
力されており、演算処理部６２は、入力画像濃度とルッ
クアップテーブル５８、６０から入力されたスポットサ
イズ補正のためのパルス幅と光出力強度との変調データ
と組み合わせて、レーザダイオードドライバ（ＬＤＤ）
６４にレーザダイオード（ＬＤ）６６のパルス幅と光出
力強度とを設定する信号を出力する。

【００７４】次に、ルックアップテーブル５８、６０に
記憶されているテーブルについて説明する。

【００７５】図１７に、主走査方向のビーム径が５０μ
ｍと６０μｍであるときの露光プロファイルを同一にす
るためのパルス幅と光強度との関係を示す。横軸は入力
画像濃度、左の縦軸はパルス幅、右の縦軸は光強度の比
を示す。パルス幅１００％は４２．３μｍ（６００ｄｐ
ｉの１ドット）の光スポット移動量として計算した。

【００７６】すなわち、入力画像濃度７０〜１００％の
領域では、光スポットが大きい方（６０μｍ）の露光エ
ネルギー分布を光スポットが小さい方（５０μｍ）の露
光エネルギー分布に一致させるために、光スポットが大
きい方のパルス幅を光スポットが小さい方のパルス幅よ
りも小さくし、光スポットが大きい方の光強度を光スポ
ットが小さい方の光強度よりも大きくしている。また、
光スポットが小さい方は、従来通り、光強度は一定で、
パルス幅は入力画像濃度に応じて大きくなるように変化
している。

【００７７】入力画像濃度が７０％以下になると、パル
ス幅変調するためのパルス信号のパルス幅、つまり光ス
ポットの移動量が小さくなるので、光スポットが大きい
方のの露光エネルギー分布を光スポットが小さい方の露
光エネルギー分布に一致させることができなくなる。

【００７８】そこで、７０％以下の領域では、光スポッ
トが小さい方の露光エネルギー分布を光スポットが大き
い方の露光エネルギー分布に一致させるため、光スポッ
トが小さい方の光強度を光スポットが大きい方の光強度
より低下し、その分光スポットが小さい方のパルス幅を
光スポットが大きい方のパルス幅より長めに設定してい
る。そして、光スポットが大きい方の光強度は一定と
し、パルス幅は入力画像濃度に応じて変化させている。

【００７９】図１８（ａ）〜（ｆ）及び図１９（ｇ）〜
（ｋ）は、図１５に従った本実施の形態の露光エネルギ
ー分布（左側) と従来の補正しない場合の露光エネルギ
ー分布（右側) とをいくつかの入力画像濃度について示
したものである。実線は光スポットが小さい方の露光エ
ネルギー分布、破線は光スポットが大きい方の露光エネ
ルギー分布を示している。従来例では、スポットサイズ
によって露光プロファイルが異なっているが、本実施の
形態ではスポットサイズが異なっても露光プロファイル
が略同一になっていることがわかる。この図１８（ａ）
〜（ｆ）及び図１９（ｇ）〜（ｋ）のレーザダイオード
から出力される光強度とパルス幅との関係を次表に示
す。このように、スポットサイズに係わらず露光エネル
ギー分布が同一となれば、現像のしきい値が変動しても
濃度むらの発生を防止することができる。

【００８０】

【表１】

【００８１】上記では、スポットサイズが大小の２種類
の光ビームのテーブルに付いて説明したが、主走査方向
の光ビームのスポットサイズが複数個存在する場合に
は、このスポットサイズの個数に応じて上記と同様のテ
ーブルが記憶される。

【００８２】次に本実施の形態の動作について説明す
る。スポットサイズデータ保持手段５６には、予め主走
査方向のスポットサイズを検出し、主走査方向の位置に
応じてスポットサイズのデータを記憶しておく。また、
ルックアップテーブル５８、６０には、主走査方向の露
光エネルギーを同一にするための上記で説明したテーブ
ルが予め記憶されている。カウンタ５４によって、主走
査方向の位置が検出されると、スポットサイズデータ保
持手段５６からスポットサイズに応じたテーブル選択信
号がルックアップテーブル５８、６０に入力され、演算
処理部６２は、入力画像濃度とルックアップテーブル５
８、６０から入力されたスポットサイズ補正のためのパ
ルス幅と光強度との変調データと組み合わせて、レーザ
ダイオードドライバ（ＬＤＤ）６４にレーザダイオード
（ＬＤ）６６のパルス幅と光出力強度とを設定する信号
を出力する。

【００８３】これによって、主走査方向の光ビームの露
光エネルギー分布が均一にされる。また、本実施の形態
の原理は、主走査方向の走査位置によってスポットサイ
ズが変動する場合だけでなく、第１及び第２の実施の形
態のように、反射面間の変動にも適用できることは明ら
かである。

【００８４】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜７の発
明によれば、スポットサイズが基準スポットサイズと異
なる場合には入力された画像濃度に応じて光源から射出
される光ビームの出力強度を変調するので、スポットサ
イズが変化しても画像濃度を同一にすることができる、
という効果が得られる。

【００８５】請求項８〜１１の発明によれば、主走査方
向スポットサイズが回転多面鏡等の偏向装置の反射面や
被走査面上の主走査方向の位置によって変化した際に、
光走査装置に入力された画像濃度に応じた光ビームの点
灯時間と光ビームの出力強度に対して、実際の点灯時間
と出力強度とを変更することによって、光スポットの移
動走査によって形成される露光エネルギー分布を均一に
することができ、これによって現像しきい値の変動によ
る影響を受けないようにすることができる、という効果
が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態のブロック図であ
る。

【図２】従来の光走査装置の概略図である。

【図３】ビーム径の相違によるトナー現像幅の相違を説
明するための光スポットサイズに応じた露光エネルギー
の分布を示す線図である。

【図４】（Ａ）は中間調濃度を副走査方向に平行なライ
ンスクリーンで再現している状態、（Ｂ）はの走査線
の主走査方向に沿った露光エネルギー分布、（Ｃ）は
の走査線を含む領域のトナー付着状態を各々示す線図で
ある。

【図５】光スポットサイズの変動とパルス幅変調で再現
する濃度との関係を示す線図である。

【図６】（Ａ）は低パルス幅におけるビーム径と露光エ
ネルギーとの関係を示す線図、（Ｂ）は高パルス幅にお
けるビーム径と露光エネルギーとの関係を示す線図であ
る。

【図７】第１の実施の形態の位置検出兼スポットサイズ
検出センサの詳細を示す斜視図である。

【図８】図７の位置検出兼スポットサイズ検出センサか
ら出力される電流波形を示す線図である。

【図９】第１の実施の形態のパルス対応強度補正テーブ
ル選択手段に記憶されているテーブルを示す概略図であ
る。

【図１０】（Ａ），（Ｂ）は第１の実施の形態の入力濃
度とレーザパワーとの関係を示す線図である。

【図１１】（Ａ）は三角波と画像データとによって生成
されるパルス幅変調信号を示す線図、（Ｂ）は１画素中
を多分割してデータの重みに応じて分割されたセルを示
す線図である。

【図１２】パルス対応強度補正テーブル選択手段に記憶
する入力された画像濃度とレーザビームの出力強度との
関係を示す式のテーブルを示す線図である。

【図１３】本発明の第２の実施の形態のブロック図であ
る。

【図１４】ホール素子信号とＳＯＳ信号との関係を示す
線図である。

【図１５】第３の実施の形態の原理を説明するための線
図である。

【図１６】本発明の第３の実施のブロック図である。

【図１７】主走査方向のビーム径が５０μｍと６０μｍ
のときの露光プロファイルを同一にするためのパルス幅
と光強度との関係を示す線図である。

【図１８】第３に実施の形態の露光エネルギー分布と従
来の補正しない場合の露光エネルギー分布とをいくつか
の入力画像濃度について比較して示す線図である。

【図１９】第３に実施の形態の露光エネルギー分布と従
来の補正しない場合の露光エネルギー分布とをいくつか
の入力画像濃度について比較して示す線図である。

【符号の説明】

１０ レーザダイオード １２ コリメータレンズ １４ 回転多面鏡 １６ ｆθレンズ １８ 回転ドラム

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光ビームを射出する光源と、 射出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏向装置
   と、 偏向された光ビームを被走査面上に結像させる光学系
   と、 前記被走査面上に結像された光ビームの主走査方向のス
   ポットサイズを検知する検知手段と、 入力された画像濃度に応じて前記光源から射出される光
   ビームをパルス幅変調すると共に、前記検知手段で検知
   されたスポットサイズに基づいて入力された画像濃度に
   応じて各濃度毎に濃度が同一となるように前記光源から
   射出される光ビームの出力強度を変調するパルス幅強度
   変調手段と、 を含む光走査装置。
2. 【請求項２】光ビームを射出する光源と、 射出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏向装置
   と、 偏向された光ビームを被走査面上に結像させる光学系
   と、 前記被走査面上に結像された光ビームの主走査方向のス
   ポットサイズデータを予め記憶した記憶手段と、 入力された画像濃度に応じて前記光源から射出される光
   ビームをパルス幅変調すると共に、前記記憶手段に記憶
   されたデータに基づいて前記光源から射出される光ビー
   ムの出力強度を変調するパルス幅強度変調手段と、 を含む光走査装置。
3. 【請求項３】光ビームを射出する光源と、 射出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏向装置
   と、 偏向された光ビームを被走査面上に結像させる光学系
   と、 前記被走査面上に結像された光ビームの主走査方向のス
   ポットサイズを検知する検知手段と、 前記検出手段で検出された被走査面上に結像された光ビ
   ームの主走査方向のスポットサイズデータを記憶する記
   憶手段と、 入力された画像濃度に応じて前記光源から射出される光
   ビームの点灯時間をパルス幅変調すると共に、前記記憶
   手段に記憶されたデータに基づいて前記光源から射出さ
   れる光ビームの出力強度を変調するパルス幅強度変調手
   段と、 を含む光走査装置。
4. 【請求項４】前記パルス幅強度変調手段は、入力された
   画像濃度に応じて前記光源から射出される光ビームの出
   力強度を変調するためのテーブルを異なるスポットサイ
   ズに応じて複数有しており、複数のテーブルから１つの
   テーブルを選択して光ビームの出力強度を変調する請求
   項２または３の光走査装置。
5. 【請求項５】前記偏向装置は、回転多面鏡であり、前記
   パルス幅強度変調手段は、入力された画像濃度に応じて
   前記光源から射出される光ビームの出力強度を変調する
   ためのテーブルを回転多面鏡の各反射面に応じて複数記
   憶しており、前記パルス幅強度変調手段は、前記被走査
   面上に結像される光ビームを偏向させるための反射面に
   応じて複数のテーブルから１つのテーブルを選択して光
   ビームの出力強度を変調する請求項２または３の光走査
   装置。
6. 【請求項６】前記被走査面上に結像される光ビームを偏
   向させるための反射面を識別する反射面識別手段を更に
   備え、前記パルス幅強度変調手段は、反射面識別手段に
   よって識別された反射面に応じて前記１つのテーブルを
   選択する請求項５の光走査装置。
7. 【請求項７】前記パルス幅強度変調手段は、スポットサ
   イズが基準スポットサイズより大きい場合は、入力され
   た画像濃度が高い領域では光ビームの出力強度を基準ス
   ポットサイズの光ビームの出力強度より小さくし、かつ
   入力された画像濃度が低い領域では光ビームの出力強度
   を基準スポットサイズの光ビームの出力強度より大きく
   すると共に、スポットサイズが基準スポットサイズより
   小さい場合は、入力された画像濃度が高い領域では光ビ
   ームの出力強度を基準スポットサイズの光ビームの出力
   強度より大きくし、かつ入力された画像濃度が低い領域
   では光ビームの出力強度を基準スポットサイズの光ビー
   ムの出力強度より小さくする請求項１〜６のいずれか１
   項の光走査装置。
8. 【請求項８】光ビームを射出する光源と、 射出された光ビームを主走査方向に偏向させる偏向装置
   と、 偏向された光ビームを被走査面上に結像させる光学系
   と、 入力された画像濃度に応じて前記光源から射出される光
   ビームをパルス幅変調すると共に、前記被走査面上に結
   像された光ビームの主走査方向のスポットサイズが変動
   する場合には光ビームの点灯時間及び前記光源から射出
   される光ビームの出力強度を変調させて、前記被走査面
   上に結像された光ビームの同じ画像濃度の露光エネルギ
   ー分布を均一にするパルス幅強度変調手段と、 を含む光走査装置。
9. 【請求項９】大きいスポットサイズで露光される領域の
   光ビームの点灯時間を入力された画像濃度に対応するパ
   ルス信号のパルス幅より短くし、かつ光ビームの出力強
   度を入力された画像濃度に対応する出力強度より大きく
   して、大きいスポットサイズの光スポットで形成される
   露光エネルギー分布の形状を小さいスポットサイズの光
   スポットで形成される露光エネルギー分布の形状に合わ
   せた請求項８の光走査装置。
10. 【請求項１０】小さいスポットサイズで露光される領域
    の光ビームの点灯時間を入力された画像濃度に対応する
    パルス信号のパルス幅より長くし、かつ光ビームの出力
    強度を入力された画像濃度に対応する出力強度より小さ
    くして、小さいスポットサイズの光スポットで形成され
    る露光エネルギー分布の形状を大きいスポットサイズの
    光スポットで形成される露光エネルギー分布の形状に合
    わせた請求項８の光走査装置。
11. 【請求項１１】入力された画像濃度に対応するパルス信
    号のパルス幅が長いときは、大きいスポットサイズで露
    光される領域の光ビームの点灯時間を入力された画像濃
    度に対応するパルス信号のパルス幅より短くし、かつ光
    ビームの出力強度を入力された画像濃度に対応する出力
    強度より大きくして、大きいスポットサイズの光スポッ
    トで形成される露光エネルギー分布の形状を小さいスポ
    ットサイズの光スポットで形成される露光エネルギー分
    布の形状に合わせ、 入力された画像濃度に対応するパルス信号のパルス幅が
    短いときは、小さいスポットサイズで露光される領域の
    光ビームの点灯時間を入力された画像濃度に対応するパ
    ルス信号のパルス幅より長くし、かつ光ビームの出力強
    度を入力された画像濃度に対応する出力強度より小さく
    して、小さいスポットサイズの光スポットで形成される
    露光エネルギー分布の形状を大きいスポットサイズの光
    スポットで形成される露光エネルギー分布の形状に合わ
    せる請求項８の光走査装置。