JP2000190231A - 研磨体 - Google Patents

研磨体

Info

Publication number
JP2000190231A
JP2000190231A JP36629398A JP36629398A JP2000190231A JP 2000190231 A JP2000190231 A JP 2000190231A JP 36629398 A JP36629398 A JP 36629398A JP 36629398 A JP36629398 A JP 36629398A JP 2000190231 A JP2000190231 A JP 2000190231A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
abrasive
polishing
acid
binder
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP36629398A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Ryomo
克己 両毛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP36629398A priority Critical patent/JP2000190231A/ja
Publication of JP2000190231A publication Critical patent/JP2000190231A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 OHP用フィルム上に固定された画像のみを
透明フィルムに傷を付けることなく除去し、OHP用フ
ィルムとしての再利用を可能にし、省資源、コストダウ
ンを図る。 【解決手段】 研磨材とバインダーからなる研磨層を支
持体上に有し、OHP用フィルムの画像を除去する研磨
体であって、研磨材がモース硬度3〜7の研磨材を主体
としてなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨材をバインダ
ーに分散してなる研磨層を支持体上に設けてなり、OH
P用フィルムを再利用するために用いる研磨テープ、研
磨シート、研磨ディスク等の研磨体に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、OHP(オーバーヘッドプロ
ジェクター)の映写用フィルムとしてはポリエチレンテ
レフタレート等の透明フィルムが使用され、このOHP
用フィルムにコピー機、プリンター又はインクペンによ
ってトナー又はインクによる画像を形成している。
【0003】通常、使用後の上記OHP用フィルムはそ
のまま廃棄されているが、省資源及びコストの低減か
ら、形成された画像を消去して再利用することが望まれ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかして、OHP用フ
ィルム上に形成された画像を消去する方法としては、溶
剤等の薬品による除去が考えられるが、透明性が損なわ
れたり平面性が失われるなどの問題を有する。
【0005】また、一般に、金属部品、セラミック等の
表面研磨用に各種の研磨体が使用され、この研磨体によ
ってOHP用フィルム上の画像を研磨除去することが考
えられるが、通常の研磨体に含まれる研磨材としてはモ
ース硬度が8以上と硬質の研磨材が主体となっており
(例えば、特開平1−228778号参照)、このよう
な研磨体によってOHP用フィルムの表面を画像除去の
ために研磨すると、透明フィルムに傷が発生して半透明
状態となり、再利用して映写すると傷部分が乱反射によ
り暗く投影され、使用に適さないものとなる。
【0006】そこで、本発明は上記点に鑑みなされたも
のであって、OHP用フィルム上に形成されたトナー、
インク等による画像を透明フィルムに傷を付けることな
く除去し再利用を可能とする研磨体を提供せんとするも
のである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体は、研磨材とバインダーからなる研磨層を支
持体上に有し、OHP用フィルム上に形成された画像を
研磨除去する研磨体であって、前記研磨材がモース硬度
3〜7の研磨材を主体としたことを特徴とするものであ
る。
【0008】前記研磨体は画像のみを除去してOHP用
フィルムを再利用するために用いられる。また、前記研
磨材が、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、シリカの
少なくとも一つを主体としたものが好適である。研磨材
の粒子サイズの中心は20〜30μmで、好ましい範囲
は0.1〜100μmである。また、モース硬度8以上
の研磨材を混入しても構わないが、重量比で50%未満
としなくてはならない。
【0009】
【発明の効果】上記のような本発明によれば、研磨層の
研磨材がモース硬度3〜7の研磨材を主体としたことに
より、OHP用フィルムに形成したトナー、インク等に
よる画像のみを透明フィルムに傷を付けることなく透明
性を維持したまま除去することができ、この透明フィル
ムをOHP用フィルムとして再利用することができ、省
資源、コストダウンを図ることができる。
【0010】つまり、モース硬度8以上の研磨材を主体
とする研磨体では、画像の除去はできるがOHP用フィ
ルム上に傷を生じさせ、透過性を損じてしまい再利用す
ることができない。一方、モース硬度2以下の研磨材を
主体とする研磨体では、OHP用フィルムに傷は生じな
いが画像の除去が不十分となり再利用することができな
い。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の実施の
形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【0012】本発明の研磨体は、ポリエチレンテレフタ
レート等による支持体上に、モース硬度が3〜7の炭酸
カルシウム等を主体とした研磨材微粉末をバインダーに
分散した研磨層を設けてなり、OHP用フィルムに形成
した画像を研磨除去するために使用される。
【0013】本発明の研磨層で用いられる研磨材は、モ
ース硬度3〜7のものを主体として粉体総量の50%以
上含む。上記硬度範囲の研磨材としては、一般的に研磨
作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、炭酸カルシウム
(モース硬度:3〜4)、酸化マグネシウム(5)、シ
リカ(6〜7)、酸化スズ(6〜7)、ベンガラ
(5)、酸化亜鉛(4〜4.5)、蛍石(4)、酸化チ
タン(5.5〜6.5)などがあげられる。その他、M
nS(3.5〜4)、CaSO4(3.5)、BaSO
4(3〜3.5)、PbCO3(3〜3.5)、FeO(O
H)(5〜5.5)、Fe23(5〜6)、MnO2(6〜
6.5)、ZnCO3(4〜4.5)、SrCO3(3.
5)、方解石、燐灰石、正長石等も使用可能で、主とし
てモ−ス硬度3〜7の材料が1内至4種迄の組合わせで
使用できる。これらの研磨材は平均粒子サイズが0.0
01〜1000μm(好ましくは0.1〜100μm)
の大きさのもの、粒子サイズの中心が20〜30μmの
ものが好適に使用される。これらの研磨材は、研磨材1
00重量部に対してバインダー10〜1000重量部の
範囲で用いられる。
【0014】上記のようなモース硬度3〜7の研磨材を
使用すると、OHP用フィルム上に固定されたトナー又
はインクによる画像のみを落とすことができ、再度トナ
ー又はインクをフィルム上に固定しOHP用フィルムと
して再利用が可能である。
【0015】本発明の研磨層で前記モース硬度が3〜7
の研磨材と共に粉体総量の50%未満で使用可能な研磨
材は、モース硬度8以上のものとして、一般的に研磨作
用もつ材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α、γ−
アルミナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、コラ
ンダム、人造ダイヤモンド、ダイヤモンド、窒化珪素、
窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステ
ン、チタンカ−バイド、ジルコニア、酸化セリウム、ガ
ーネット等で、これらの材料が0内至4種迄の組合わせ
で使用できる。これらの研磨材は平均粒子サイズが0.
1〜50μmの大きさのものが使用される。
【0016】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光
線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。
【0017】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が200
℃以下、平均分子量が10000〜300000、重合
度が約50〜2000程度のものでより好ましくは20
0〜800程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体(セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等)、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。
【0018】これらの樹脂の例示は、特公昭37−68
77号、特公昭39−12528号、特公昭39−19
282号、特公昭40−5349号、特公昭40−20
907号、特公昭41−9463号、特公昭41−14
059号、特公昭41−16985号、特公昭42−6
428号、特公昭42−11621号、特公昭43−4
623号、特公昭43−15206号、特公昭44−2
889号、特公昭44−17947号、特公昭44−1
8232号、特公昭45−14020号、特公昭45−
14500号、特公昭47−18573号、特公昭47
−22063号、特公昭47−22064号、特公昭4
7−22068号、特公昭47−22069号、特公昭
47−22070号、特公昭47−27886号、特開
昭57−133521、特開昭58−137133、特
開昭58−166533、特開昭58−222433、
特開昭59−58642等、米国特許4571364
号、米国特許4752530号の公報等に記載されてい
る。
【0019】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では200000以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂(電子線硬
化樹脂)、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジ
オール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。
【0020】これらの樹脂の例示は特公昭39−810
3号、特公昭40−9779号、特公昭41−7192
号、特公昭41−8016号、特公昭41−14275
号、特公昭42−18179号、特公昭43−1208
1号、特公昭44−28023号、特公昭45−145
01号、特公昭45−24902号、特公昭46−13
103号、特公昭47−22065号、特公昭47−2
2066号、特公昭47−22067号、特公昭47−
22072号、特公昭47−22073号、特公昭47
−28045号、特公昭47−28048号、特公昭4
7−28922号等の公報に記載されている。
【0021】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸(COOM)、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸(SO3M)、燐酸(PO(OM)(OM))、ホスホ
ン酸、硫酸(OSO3M)、及びこれらのエステル基等
の酸性基(MはH、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基)、アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基(F、Cl、Br、
I)、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常1種以上6種以内含み、各々
の官能基は樹脂1gあたり1×10-6eq〜1×10-2
eq含むことが好ましい。
【0022】本発明の研磨層に硬化剤として用いるポリ
イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、
4・4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサ
メチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネー
ト、ナフチレン−1・5−ジイソシアネート、o−トル
イジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、トリフェニルメタントリイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート等のイソシアネート類、当該イソシ
アネート類とポリアルコールとの生成物、イソシアネー
ト類の縮合によって生成した2〜10量体のポリイソシ
アネート、ポリイソシアネートとポリウレタンとの生成
物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用す
ることができる。これらポリイソシアネート類の平均分
子量は100〜20000のものが好適である。
【0023】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートL、コロネートHL、コ
ロネート2030、コロネート2031、ミリオネート
MR、ミリオネートMTL(以上日本ポリウレタン社
製)、タケネートD−102、タケネートD−110
N、タケネートD−200、タケネートD−202、タ
ケネート300S、タケネート500(以上武田薬品社
製)、スミジュールT−80、スミジュール44S、ス
ミジュールPF、スミジュールL、スミジュールN、デ
スモジュールL、デスモジュールIL、デスモジュール
N、デスモジュールHL、デスモジュールT65、デス
モジュール15、デスモジュールR、デスモジュールR
F、デスモジュールSL、デスモジュールZ4273
(以上住友バイエル社製)等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。
【0024】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
(ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が100
0〜10000のポリウレタン、水等)、アミノ基(モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等)を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量10
0重量部あたり2〜70重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは5〜50重量部である。これらの例
示は特開昭60−131622号、特開昭61−741
38号等の公報において示されている。
【0025】その他、研磨層中には各種の機能を持った
化合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤
滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤
等が加えられる。
【0026】本発明の研磨層に使用される粉末状潤滑剤
としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼
素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪
素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、
ポリオレフイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉
末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉
末、ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。
【0027】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン(信越化学社製KF96、KF69
等))、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等)、ポリグリコール(エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等)、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸及び有機酸エステル化合物、トリアザインドリ
ジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾトリアジン、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒素・
硫黄を含む複素(ヘテロ)環化合物、炭素数10〜40
の一塩基性脂肪酸と炭素数2〜40個の一価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか1つもしく
は2つ以上とからなる脂肪酸エステル類、炭素数10個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が11〜70個となる一価〜六価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数8〜40の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アル
コール類も使用できる。
【0028】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸2エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸2エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸2
エチルペンチル、ステアリン酸2ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。
【0029】また本発明に使用される潤滑剤としては、
潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用でき、防
錆剤として知られている酸化防止剤(アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、EDTA等の金属キレート剤)、錆どめ剤(ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコール
等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー100重量部に対して
0.01〜30重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては、特公昭43−23889号、特公昭48−24
041号、特公昭48−18482号、特公昭44−1
8221、特公昭47−28043号、特公昭57−5
6132、特開昭59−8136号、特開昭59−81
39号、特開昭61−85621号、米国特許3423
233号、米国特許3470021号、米国特許349
2235号、米国特許3497411号、米国特許35
23086号、米国特許3625760号、米国特許3
630772号、米国特許3634253号、米国特許
3642539号、米国特許3687725号、米国特
許4135031号、米国特許4497864号、米国
特許4552794号、アイビーエムテクニカル ディ
スクロジャーブリテン(IBM Technical
Disclosure Bulletin)Vol.
9,No7,p779(1966年12月)、エレクト
ロニク(ELEKTRONIK)1961年No12,
p380、化学便覧,応用編,p954−967,19
80年丸善株発行等に記載されている。
【0030】本発明に使用する研磨材の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数2
〜40個の脂肪酸(R1COOH、R1は炭素数1〜39
個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基)、前記の
脂肪酸のアルカリ金属(Li、Na、K、NH4 +等)又
はアルカリ土類金属(Mg、Ca、Ba等)、Cu、P
b等からなる金属石鹸(オレイン酸銅)、脂肪酸アミ
ド;レシチン(大豆油レシチン)等が使用される。この
他に炭素数4〜40の高級アルコール(ブタノール、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール)及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、
フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸
エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀
酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー100重量部に対し
て0.005〜20重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨材や非研磨微粉末の表面に予
め被着させてもよく、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭39−28369号、
特公昭44−17945号、特公昭44−18221
号、特公昭48−7441号、特公昭48−15001
号、特公昭48−15002号、特公昭48−1636
3号、特公昭49−39402号、米国特許33879
93号、同3470021号等において示されている。
【0031】本発明に用いる防黴剤としては、2−(4
−チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フルオロ
ジクロロメチルチオ)−フタルイミド、10・10’−
オキシビスフェノキサルシン、2・4・5・6テトラク
ロロイソフタロニトリル、P−トリルジヨードメチルス
ルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブチル
錫)、サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」1972年工学図
書、「化学と工業」32,904(1979)等におい
て示されている。
【0032】本発明に用いる帯電防止剤としては、カー
ボンブラックが使用でき、例えば、ゴム用ファーネス、
ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク等を用いることができる。その比表面積は5〜500
2 /g、DBP吸油量は10〜400ml/100
g、pHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ
密度は0.1〜1g/cm2 であるのが好ましい。この
カーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社
製:BLACKPEARLS 2000,1300,1
000,900,800,700、三菱化成工業社製:
650B,950B,3250B,850,900,9
60,980,1000,2300,2400,260
0等があげられる。また、カーボンブラックを分散剤等
で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したものを用
いることもできる。
【0033】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト、変性グラファイト、
カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールEO付加体等のノニオン界面活性剤;高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。
【0034】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭60−28025号、米
国特許2271623号、同2240472号、同22
88226号、同2676122号、同2676924
号、同2676975号、同2691566号、同27
27860号、同2730498号、同2742379
号、同2739891号、同3068101号、同31
58484号、同3201253号、同3210191
号、同3294540号、同3415649号、同34
41413号、同3442654号、同3475174
号、同3545974号、西独特許公開(OLS)19
42665号、英国特許1077317号、同1198
450号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』(槇書店1972年版);A.W.ベイリ
著『サーフエス アクテイブ エージエンツ』(インタ
ーサイエンス パブリケーション コーポレイテッド1
985年版);T.P.シスリー著『エンサイクロペデ
ィア オブ サーフエスアクティブ エージェンツ,第
2巻』(ケミカルパブリシュカンパニー1964年
版);『界面活性剤便覧』第六刷(産業図書株式会社,
昭和41年12月20日);丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房(1968)等に記載されている。
【0035】これらの界面活性剤は単独又は混合して添
加してもよい。研磨体における、これらの界面活性剤の
使用量は、研磨材100重量部当たり0.01〜10重
量部である。またバック層での使用量はバインダー10
0重量部当たり0.01〜30重量部である。これらは
帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそ
のほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。
【0036】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系;メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系;酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系;ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系(芳香族炭化水素);メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、N・N−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等が使用できる。またこれら溶媒は通常
任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以下の量
で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、原料成
分等)を含んでもよい。有機溶媒の代わりに水系溶媒
(水、アルコール、アセトン等)を使用することもでき
る。
【0037】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・
乾燥する。塗布溶液の分散、混練の方法には特に制限は
なく、また各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶
媒等)、分散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80
℃)などは適宜設定することができる。研磨塗料の調製
には通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロー
ルミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンド
グラインダー、ツェグバリ(Szegvari)アトラ
イター、高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、
高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサ
ー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキ
サー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモ
ジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュ
ー押し出し機、及び超音波分散機などを用いることがで
きる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数
備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳
細は、T.C.PATTON著(テー.シー.パット
ン)“Paint Flow and Pigment
Dispersion”(ペイント フロー アンド
ピグメント ディスパージョン)1964年John
Wiley & Sons社発行(ジョン ウイリー
アンド サンズ))や田中信一著『工業材料』25巻3
7(1977)などや当該書籍の引用文献に記載されて
いる。これら分散、混練の補助材料として分散・混練を
効率よく進めるため、球相当径で10cmφ〜0.05
mmφの径のスチールボール、スチールビーズ、セラミ
ツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用い
ることができる。またこれら材料は球形に限らない。ま
た、米国特許第2581414号及び同第285515
6号などの明細書にも記載がある。本発明においても上
記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された方法に
準じて混練分散を行い研磨層塗布液を調製することがで
きる。
【0038】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を1〜20000センチ
ストークス(25℃)に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』253頁〜2
77頁(昭和46.3.20.発行)等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗層あるいは支持体と
の密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層の多層構成は、同時多層塗布、逐次多層
塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭57
−123532号公報、特公昭62−37451号公
報、特開昭59−142741号公報、特開昭59−1
65239号公報の明細書等に示されている。
【0039】このような方法により、支持体上に約1〜
200μmほどで塗布された研磨液を必要により直ちに
25〜130℃で多段階で乾燥処理を施し、研磨層を
0.05〜10μmの厚みに乾燥する。そして、所望の
形状に裁断したりして、本発明の研磨体を製造する。こ
れらの製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分
散、塗布・乾燥、平滑処理、熱処理、EB処理、表面研
磨処理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望
ましい。
【0040】このように作製した研磨体を裁断したあと
所望のプラスチックや金属のリールに巻き取る。巻き取
る直前ないしはそれ以前の工程において研磨テープその
他の研磨体をバーニッシュ及び/又はクリーニングする
ことが望ましい。バーニッシュは研磨体を具体的にはサ
ファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド刃、セ
ラミックス刃のような硬い材料により研磨面の突起部分
をそぎおとし平滑にする。これら材料のモース硬度は8
以上が好ましいが特に制限はなく突起を除去できるもの
であれば良い。これら材料の形状は特に刃である必要は
なく、角型、丸型、ホイール(回転する円筒形状の周囲
にこれらの材質を付与しても良い)のような形状でも使
用できる。また研磨体のクリーニングは、研磨体表面の
汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で研磨体表層を不織
布などでワイピングすることにより行う。このようなワ
イピングの材料としては、例えば日本バイリーン社製の
各種バイリーンや東レ社製のトレシー、エクセーヌ、商
品名キムワイプ、富士写真フィルム社製の各種研磨体、
また不織布はナイロン製不織布、ポリエステル製不織
布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、混
紡不織布など、ティッシュペーパー等が使用できる。こ
れらは例えば特公昭46−39309号、特公昭58−
46768号、特開昭56−90429号、特公昭58
−46767号、特開昭63−259830号、特開平
1−201824号等にも記載されている。
【0041】本発明に使用される研磨材、バインダー、
添加剤(潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨材、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等)、溶剤及び支持体(下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい)或いはその製法に関しては、特公昭
56−26890号等に記載されている製造方法等を参
考にできる。
【0042】
【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。
【0043】<実施例1〜5>下記組成Aを均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を、塗布厚みが40μmとなるように調整しつつ、75
μmポリエステル上による支持体上に塗布し、乾燥させ
て研磨層を設ける。紫外線を照射して研磨層バインダー
を硬化させた後、所望の大きさに切り出して研磨体の試
料を作製した。
【0044】各実施例1〜3は、下記表1に示すよう
に、研磨材の材質が異なるものであり、実施例1で炭酸
カルシウム、実施例2で酸化マグネシウム、実施例3で
シリカを使用している。
【0045】上記各実施例の研磨体によって、コピー機
によってトナーが定着されたOHP用フィルム(PET
フィルム)の表面を擦って画像を除去する研磨を行い、
トナーの除去程度、OHP用フィルムとして再利用可能
な透明性(傷の有無)を有するかを評価した結果を、下
記表1に示す。研磨条件は、張力100g、15秒研磨
である。
【0046】<比較例1〜4>表1には、比較例1〜4
の研磨体による同様の研磨テストを行った結果を併記し
ている。比較例1〜4は、それぞれ研磨材の材質が異な
り、比較例1及び2はモース硬度の高いアルミナ及び酸
化クロムであり、比較例3及び4はモース硬度の低いカ
ーボン及びグラファイトである。
【0047】ここで、表1における評価法は、 「脱トナー」…OHP用フィルム上に固定されたトナー
が除去できるかの試験 ○:100%除去 ×:100%未満除去 「OHP再利用」…研磨後のフィルムに再度トナーを固
定しOHPで投射して文字が見えるかの試験 ○:見える(傷残らない) ×:見えない(傷残る) である。
【0048】表1の結果から、本発明実施例1〜3によ
る研磨体では、トナー画像の除去が良好に行えると共
に、透明フィルムに傷の発生は見られず、OHP用フィ
ルムとして再利用可能であった。これに対して、モース
硬度が8以上と高い比較例1及び2では、トナー画像の
除去は良好に行えたが、透明フィルムに傷が発生してO
HP用フィルムとしては再利用不能であった。また、モ
ース硬度が2以下と低い比較例3及び4では、トナー画
像の除去は行えずに画像が残り、OHP用フィルムとし
ては再利用不能であった。
【0049】 [研磨層用塗布液組成:A] 研磨材(炭酸カルシウム:白石工業社製ホモカルD) 100部 バインダー(紫外線硬化樹脂:東亞合成社製アロニクスM240) 20部 バインダー(硬化剤:日本チバガイギー社製イルガキュア651) 2部 MEK(メチルエチルケトン) 150部
【0050】
【表1】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨材とバインダーからなる研磨層を支
    持体上に有し、OHP用フィルム上に形成された画像を
    研磨除去する研磨体であって、 前記研磨材がモース硬度3〜7の研磨材を主体としたこ
    とを特徴とする研磨体。
  2. 【請求項2】 前記研磨体がOHP用フィルムを再利用
    するために用いられることを特徴とする請求項1に記載
    の研磨体。
  3. 【請求項3】 前記研磨材が、炭酸カルシウム、酸化マ
    グネシウム、シリカの少なくとも一つを主体としたこと
    を特徴とする請求項1に記載の研磨体。
JP36629398A 1998-12-24 1998-12-24 研磨体 Withdrawn JP2000190231A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36629398A JP2000190231A (ja) 1998-12-24 1998-12-24 研磨体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36629398A JP2000190231A (ja) 1998-12-24 1998-12-24 研磨体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000190231A true JP2000190231A (ja) 2000-07-11

Family

ID=18486418

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP36629398A Withdrawn JP2000190231A (ja) 1998-12-24 1998-12-24 研磨体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000190231A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007319584A (ja) * 2006-06-05 2007-12-13 Seed:Kk 消しゴム状クリーナー
CN115519483A (zh) * 2022-09-21 2022-12-27 青岛新韩金刚石工业有限公司 一种lcd超薄屏幕玻璃倒角用多沟槽砂轮及其制备方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007319584A (ja) * 2006-06-05 2007-12-13 Seed:Kk 消しゴム状クリーナー
CN115519483A (zh) * 2022-09-21 2022-12-27 青岛新韩金刚石工业有限公司 一种lcd超薄屏幕玻璃倒角用多沟槽砂轮及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3135741B2 (ja) 研磨体
US6443827B1 (en) Polishing member and process for producing the same
JPH0752019A (ja) 研磨テープを用いた清浄方法
JPH0985631A (ja) 研磨体
JPH09141547A (ja) 超低反射光コネクターフェルールの研磨体
JPH11188647A (ja) 研磨体
JP2000190231A (ja) 研磨体
JPH10273648A (ja) 研磨液
JPH08216033A (ja) 研磨テープ
JP2001240849A (ja) 研磨液
JPH11277450A (ja) 研磨体
JP2001009738A (ja) 研磨体
JPH11277448A (ja) 研磨体
JPH11281846A (ja) 光コネクターフェルールの接合方法
JPH11114837A (ja) 研磨体およびその製造方法
JP2000354951A (ja) 研磨体
JPH11277449A (ja) 研磨体
JPH11277451A (ja) 研磨体
JP2000094343A (ja) 研磨体
JPH11114836A (ja) 研磨フィルム
JPH09300192A (ja) 光コネクターフェルールの研磨方法
JP2000190235A (ja) 研磨体の製造方法
JP2000354971A (ja) 研磨体の製造方法及び研磨体
JPH10264043A (ja) 研磨体
JP2000190229A (ja) 研磨体

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060307