JP2000183440A - Stem for semiconductor laser element and manufacture thereof - Google Patents

Stem for semiconductor laser element and manufacture thereof

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JP2000183440A
JP2000183440A JP10362032A JP36203298A JP2000183440A JP 2000183440 A JP2000183440 A JP 2000183440A JP 10362032 A JP10362032 A JP 10362032A JP 36203298 A JP36203298 A JP 36203298A JP 2000183440 A JP2000183440 A JP 2000183440A
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JP
Japan
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chip
semiconductor laser
stem
bonding surface
post
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Withdrawn
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JP10362032A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Mizuyoshi
明 水由
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the stem for a semiconductor laser element suitable for a high output semiconductor laser, having high heat radiating property, high reliability and improved positional accuracy in assembling. SOLUTION: This stem for a semiconductor laser element is provided with a round-shaped base part 11 and a post part 12, having a chip adhering surface 12a where a semiconductor chip is adhered and which is connected to the upper surface of the base part 11. In this case, the base part 11 is formed of iron or an iron base alloy, the post part 12 is formed by copper or a copper base alloy, and the percentage of the contract area between the base part 11 and the post part 12 to the circular area of the base part 11 is set at 7.9% or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザ素子
用ステムおよびその製造方法に関し、特に素子発熱量の
大きい半導体レーザ素子、例えば高出力ブロードエリア
レーザ素子のステムとしてに用いるのに好適な半導体レ
ーザ素子用ステムおよびその製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stem for a semiconductor laser device and a method of manufacturing the same. The present invention relates to an element stem and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図9(a),(b)は、例えば光出力3
〜50mWの光ディスク用半導体レーザ素子に用いられ
ているステムの平面図および正面図を示し、このステム
10′は、位置出し用切欠き11a,11aおよび方向
表示用切欠き11bと、リード13,13を通す孔11
c,11cとを備えた円形ベース部11上に接合された
直方体からなるポスト部12を備え、ベース部11の中
央にあるポスト部垂直面をチップ接着面12aとして、
この面12a上に半導体レーザチップが半田等により接
着されるように構成されている。
2. Description of the Related Art FIGS.
A plan view and a front view of a stem used for a semiconductor laser device for an optical disk of up to 50 mW are shown. The stem 10 ′ has notches 11 a, 11 a for positioning and a notch 11 b for direction indication, and leads 13, 13. Hole 11 for passing
c, a post portion 12 made of a rectangular parallelepiped joined on a circular base portion 11c having a post portion, and a post vertical surface at the center of the base portion 11 as a chip bonding surface 12a.
The semiconductor laser chip is configured to be bonded to the surface 12a by soldering or the like.

【0003】上記ベース部11は一般に鉄系合金(例え
ば鉄・ニッケル合金)からなり、このベース部11にこ
れを上下に貫通するリード13,13が絶縁性と気密性
を保つために低融点ガラス15を用いて取り付けられ、
かつベース部11の底面に共通リード14が溶接されて
いる。そして、ポスト部12のチップ接着面12aに接
着された半導体レーザチップの電極が、ワイヤボンディ
ングによりリード13,13に接続された後、窓付きキ
ャップがステム10′に溶接されて半導体レーザ素子の
組立てが完了する。
The base portion 11 is generally made of an iron-based alloy (for example, an iron-nickel alloy). Leads 13 extending vertically through the base portion 11 have a low melting point glass in order to maintain insulation and airtightness. 15 and attached
Further, a common lead 14 is welded to the bottom surface of the base portion 11. After the electrodes of the semiconductor laser chip bonded to the chip bonding surface 12a of the post portion 12 are connected to the leads 13 and 13 by wire bonding, the cap with the window is welded to the stem 10 'to assemble the semiconductor laser element. Is completed.

【0004】また近年、可視光赤色の光出力3〜50m
Wの半導体レーザ素子には、例えば図10(a),
(b)に平面図および正面図で示すようなステムが用い
られている。このステム10″では、図9のステムと異
なり、円形のベース部11と半円形のポスト部12と
が、銅、特に熱抵抗の低い無酸素銅によって一体に形成
されており、半導体レーザーチップは、ポスト部12を
構成する銅板の厚さが現れている側面に設けられたチッ
プ接着面12a上に半田等により接着される。
In recent years, visible light red light output has been 3 to 50 m.
As the semiconductor laser element of W, for example, FIG.
The stem shown in the plan view and the front view is used in FIG. In the stem 10 ″, unlike the stem of FIG. 9, the circular base portion 11 and the semicircular post portion 12 are integrally formed of copper, particularly oxygen-free copper having low thermal resistance, and the semiconductor laser chip is Then, it is bonded to the chip bonding surface 12a provided on the side surface where the thickness of the copper plate constituting the post portion 12 appears by soldering or the like.

【0005】ベース部11はリードを備えておらず、リ
ードを備えた別のステムがベース部11の底面に後付け
される。このため、ベース部11には、リードを貫通さ
せるほぼ半円形の孔11dが開けられ、さらに、ポスト
部12のチップ接着面12aの両側に、リードのための
溝12b,12bが形成されている。
[0005] The base 11 has no leads, and another stem having leads is attached to the bottom surface of the base 11. For this reason, a substantially semicircular hole 11d for penetrating the lead is formed in the base portion 11, and grooves 12b for the lead are formed on both sides of the chip bonding surface 12a of the post portion 12. .

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図9に示す
従来のステム10′において、上記ポスト部12には、
一般的には銅、特に熱抵抗の低い無酸素銅が使われてい
ることにより、半導体レーザーチップとポスト部12間
の熱抵抗は小さいが、ポスト部12とベース部11との
間の接触面積が1.5mm×1.5mm=2.25mm2 程度
であって、9mmφのベース部11の画く円の面積約6
3.6mm2 の3.5%程度に過ぎないことに加えて、ベ
ース部11が鉄系合金製のためにポスト部12とベース
部11の間の熱抵抗が大きい。したがって、半導体レー
ザーチップから発生する熱を逃がすべく、チップ温度調
整のためのペルティエ温度コントロールに過大な負荷が
要求されるという問題があった。
By the way, in the conventional stem 10 'shown in FIG.
Generally, copper, particularly oxygen-free copper having a low thermal resistance, is used, so that the thermal resistance between the semiconductor laser chip and the post part 12 is small, but the contact area between the post part 12 and the base part 11 is small. Is about 1.5 mm × 1.5 mm = 2.25 mm 2 , and the area of a circle drawn by the 9 mmφ base portion 11 is about 6 mm.
In addition to only 3.5% of 3.6 mm 2 , thermal resistance between the post 12 and the base 11 is large because the base 11 is made of an iron-based alloy. Therefore, there is a problem that an excessive load is required for Peltier temperature control for adjusting the chip temperature in order to release heat generated from the semiconductor laser chip.

【0007】また、半導体レーザチップを構成している
半導体結晶は、衝撃や歪みにより容易に結晶欠陥が誘起
され、長期間動作させた場合に、この欠陥から発生する
転位が活性層に到達して結晶が劣化し、このため発光効
率が著しく低下し、素子駆動が停止するという問題があ
る。この問題を回避するためには、半導体レーザーチッ
プを軟性半田、例えばインジューム等でポスト部12側
のチップ接着面12a上に接着する方法が一般的に広く
使用されているが、単にチップを軟性半田で固着すれば
良いと言う訳ではなく、チップに衝撃を与えず、かつチ
ップ側の接着面とポスト部12側のチップ接着面12a
とが平行に保たれた状態でかつ均一に接着することによ
り、所望の経時信頼性が得られるのである。
Further, in a semiconductor crystal constituting a semiconductor laser chip, crystal defects are easily induced by impact or strain, and when operated for a long time, dislocations generated from these defects reach the active layer. There is a problem that the crystal is deteriorated, the luminous efficiency is remarkably reduced, and the device driving is stopped. In order to avoid this problem, a method of bonding a semiconductor laser chip to the chip bonding surface 12a on the post portion 12 side with a soft solder, for example, indium or the like, is generally widely used. This does not mean that the chip should be fixed by soldering. It does not give an impact to the chip, and the bonding surface on the chip side and the chip bonding surface 12a on the post 12 side.
By maintaining uniform adhesion while maintaining the parallelism, the desired reliability over time can be obtained.

【0008】しかしながら、図9に示すようなポスト部
12を用いたステム10′では、ポスト部12側のチッ
プ接着面12aに対するチップの接着に先立って、チッ
プ側接着面に対するポスト部側12のチップ接着面12
aの平行度を高精度で知ろうとした場合に、このポスト
部12それ自体においてしか確認できないにも拘らず、
このポチップ接着面12aの横幅が小さく、かつその上
に柔らかなインジュームが付着しているために、素子組
立て工程においてその部分に治具を接触させて平行出し
を行なうことは極めて困難である。また、例えばレーザ
変位計を用いれば非接触式に平行出しを行なうことは可
能であるが、この方法を実施しようとすると製造装置が
高価になってしまうという問題を生じる。
However, in the stem 10 'using the post portion 12 as shown in FIG. 9, prior to bonding the chip to the chip bonding surface 12a on the post portion 12, the chip on the post portion side 12 with respect to the chip-side bonding surface. Adhesive surface 12
When trying to know the parallelism of a with a high degree of accuracy, although it can be confirmed only by this post part 12 itself,
Since the lateral width of the pochip bonding surface 12a is small and a soft indium is adhered thereon, it is extremely difficult to bring a jig into contact with the portion in the element assembling process to perform parallel alignment. Further, for example, if a laser displacement meter is used, parallel alignment can be performed in a non-contact manner, but if this method is attempted, there is a problem that the manufacturing apparatus becomes expensive.

【0009】また、図10に示す従来のステム10″に
おいては、ベース部11およびポスト部12に熱抵抗の
低い無酸素銅が用いられているため、チップからの発熱
を効果的に逃がすことができ、通常の赤外域(800nm
近傍や980nm)用のチップに比較して発熱量の多い可
視光赤色レーザーダイオードに適した構成であると言え
る。しかしながら、この放熱性の良いステムであって
も、以下に述べるような問題が生じる。
Further, in the conventional stem 10 "shown in FIG. 10, since oxygen-free copper having low thermal resistance is used for the base portion 11 and the post portion 12, heat from the chip can be effectively released. Can be used in the normal infrared region (800 nm
It can be said that the configuration is suitable for a visible red laser diode that generates a large amount of heat as compared with a chip for the vicinity (980 nm). However, even with this stem having good heat dissipation, the following problems occur.

【0010】先ず第1の問題として、チップの共振器長
に制限が生じる。例えば一般的なブロードエリア高出力
レーザでは、単位光出力あたりの駆動電流密度を下げて
素子の長期駆動信頼性を高めるために、共振器長が0.
7〜1.5mm程度となっている。しかしながらこのステ
ム10″では、製作工程にプレス加工を用いているため
に、銅の板厚に1.2ないし1.5mmという制限が加わ
る。このため、チップを接着する平坦な接着面12aの
寸法が、最大でも1.2mm程度となり、それ以上の共振
器長を有するチップを取り付けることができない。そこ
で、銅の板厚を厚くすることも考えられるが、このため
には、プレス機の能力を高める必要があることとに加え
て、銅板の変形量が大きくなることとにより、寸法誤差
(歪み)が拡大する等の不都合が生じる。
First, as a first problem, the length of the resonator of the chip is limited. For example, in a general broad-area high-power laser, the cavity length is set to 0.1 in order to lower the drive current density per unit light output and to improve the long-term drive reliability of the device.
It is about 7 to 1.5 mm. However, in the stem 10 ", the press process is used in the manufacturing process, so that the thickness of the copper plate is limited to 1.2 to 1.5 mm. Therefore, the dimension of the flat bonding surface 12a for bonding the chip is set. However, the maximum length is about 1.2 mm, and it is not possible to mount a chip having a longer resonator length.Therefore, it is conceivable to increase the thickness of the copper plate. In addition to the necessity of increasing the height, the increase in the amount of deformation of the copper plate causes inconvenience such as an increase in dimensional error (distortion).

【0011】第2の問題として、この半導体レーザーを
モジュール組立てするときに、モジュールを構成する部
材に銅を使用すると位置精度を高めることが困難な点で
ある。すなわち、この半導体レーザ素子をモジュール組
立てするときに、図9に示すような、銅に比較して硬い
鉄合金製のベース部11であれば、モジュールを構成す
る部材に銅を使用することで、半導体レーザ素子をモジ
ュール構成銅部材に嵌合させることにより、放熱性良く
かつ位置精度も良く固定することができる。
As a second problem, when assembling the semiconductor laser into a module, it is difficult to improve the positional accuracy if copper is used as a member constituting the module. That is, when assembling this semiconductor laser device into a module, as shown in FIG. 9, if the base portion 11 is made of an iron alloy harder than copper, copper is used as a member constituting the module. By fitting the semiconductor laser element to the module-constituting copper member, the module can be fixed with good heat dissipation and good positional accuracy.

【0012】しかしながら、図10に示すステム10″
では、ベース部11となる約9mmφの部分が銅材質であ
るために、同じ材質の銅部材では位置精度を高めること
が困難である。また、モジュール構成銅部材の材質を、
銅よりも硬いベリリウム銅等に変更することも可能であ
るが、コストアップになり、好ましくない。
However, the stem 10 "shown in FIG.
In this case, since the portion of about 9 mmφ serving as the base portion 11 is made of a copper material, it is difficult to improve the positional accuracy with a copper member of the same material. Also, the material of the module constituent copper member is
Although it is possible to change to beryllium copper or the like which is harder than copper, the cost is increased, which is not preferable.

【0013】第3の問題としては、リードを備えたステ
ムを後付けする必要があるということである。図9に示
すステム10′の場合には、鉄系合金製ベース部11に
リード13を、絶縁性と気密性を持たせて低融点ガラス
15で固定することができるが、ベース部11の材質が
銅の場合には、熱膨脹係数がほぼ等しい低融点ガラスが
ないため、リードを備えたステムを別部品として作成
し、ベース部11の底面に後付けせざるを得ない。この
ため、部品点数が増え、さらにチップ接着用銅部材とリ
ード用ステムとを、溶接等により結合する必要があっ
て、工数も増えることにより、図9に示すステム10′
に比較してコスト的に不利となる。
[0013] A third problem is that it is necessary to retrofit a stem with leads. In the case of the stem 10 ′ shown in FIG. 9, the lead 13 can be fixed to the base 11 made of an iron-based alloy with low-melting glass 15 with insulation and airtightness. In the case where is made of copper, since there is no low-melting glass having substantially the same thermal expansion coefficient, a stem having leads must be formed as a separate part and attached to the bottom surface of the base portion 11. For this reason, the number of components increases, and it is necessary to connect the copper member for chip bonding and the stem for lead by welding or the like.
Is disadvantageous in cost as compared with

【0014】さらに、第4の問題として、図9に示すス
テム10′で述べた平行出しについて同様の問題が生じ
る。もし、ポスト部12の溝12b,12bの両側にあ
る平面12c,12cが正確に中央のチップ接着面12
aと同一平面をなしているとすれば、これら平面12
c,12cをチップ側の接着面に対するポスト部側のチ
ップ接着面12aの平行出しに使用することが可能であ
るが、このポスト部12は銅板をプレス加工で変形させ
て作成されるために、この加工方法の持つ精度上、上記
平面12c,12cをチップ接着面12aと安定的に同
一面をなすように作製することは困難である。したがっ
て、図9に示すステム10′と同様に、チップ側の接着
面に対するポスト部12側のチップ接着面12aの平行
状態は、このチップ接着面12aで確認するしかないか
ら、上記平行出しを行なうことは極めて困難である。
Further, as a fourth problem, a similar problem occurs in the parallel alignment described for the stem 10 'shown in FIG. If the flat surfaces 12c, 12c on both sides of the grooves 12b, 12b of the post portion 12, the center chip bonding surface 12
a, if these planes 12
Although c and 12c can be used to parallelize the chip bonding surface 12a on the post portion with respect to the bonding surface on the chip side, since the post portion 12 is formed by deforming a copper plate by press working, Due to the accuracy of this processing method, it is difficult to manufacture the flat surfaces 12c, 12c so as to be stably the same as the chip bonding surface 12a. Therefore, as in the case of the stem 10 'shown in FIG. 9, the parallel state of the chip bonding surface 12a on the post portion 12 side with respect to the chip bonding surface can only be confirmed on the chip bonding surface 12a, so that the parallel setting is performed. It is extremely difficult.

【0015】このような事情に鑑み、本発明は、上述し
た問題点を回避して、高出力半導体レーザに適した、放
熱性および信頼性が高く、かつ組立て位置精度の向上を
図ることができるステムを提供することを目的とするも
のである。
In view of such circumstances, the present invention avoids the above-mentioned problems, and can improve heat radiation and reliability, and improve the assembling position accuracy, suitable for a high-power semiconductor laser. The purpose is to provide a stem.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明は、円形のベース
部と、半導体レーザチップが接着される接着面を備えて
上記ベース部の上面に接合されるポスト部とを有する半
導体レーザ素子用ステムにおいて、上記ベース部が画く
円の面積に対するベース部とポスト部との接触面積の比
率を7.9%以上、望ましくは10%以上、さらに望ま
しくは15%以上とすることを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a stem for a semiconductor laser device having a circular base portion and a post portion having an adhesive surface to which a semiconductor laser chip is adhered and joined to the upper surface of the base portion. Wherein the ratio of the contact area between the base and the post to the area of the circle defined by the base is 7.9% or more, preferably 10% or more, and more preferably 15% or more. is there.

【0017】その場合、上記ベース部が鉄、あるいは鉄
系合金、例えば鉄・ニッケル合金で形成され、上記ポス
ト部が銅、あるいは銅系合金、例えば銅・タングステン
合金で形成されていることが望ましい。
In this case, it is preferable that the base portion is formed of iron or an iron-based alloy, for example, an iron-nickel alloy, and the post portion is formed of copper or a copper-based alloy, for example, a copper-tungsten alloy. .

【0018】また、上記ポスト部は、そのチップ接着面
の両側に、このチップ接着面に対する半導体レーザチッ
プの接着時においてチップに対するチップ接着面の平行
出しに使用される平面を備えていることが望ましい。
It is desirable that the post portion has, on both sides of the chip bonding surface, flat surfaces used for parallelizing the chip bonding surface to the chip when the semiconductor laser chip is bonded to the chip bonding surface. .

【0019】さらに本発明は、ベース部と、半導体レー
ザチップが接着されるチップ接着面を備えて上記ベース
部に接合されるポスト部とを有する半導体レーザ素子用
ステムの製造方法において、上記ポスト部のチップ接着
面への半導体レーザチップの接着時においてこのチップ
に対するチップ接着面の平行出しに使用される平面をチ
ップ接着面の加工工程で一括して形成することを特徴と
するものである。
Further, the present invention provides a method for manufacturing a stem for a semiconductor laser device having a base portion and a post portion having a chip bonding surface to which a semiconductor laser chip is bonded and bonded to the base portion. When the semiconductor laser chip is bonded to the chip bonding surface, a plane used for parallelizing the chip bonding surface with respect to the chip is collectively formed in a step of processing the chip bonding surface.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明の半導体レーザ素子用ステムによ
れば、ベース部が画く円の面積に対するベース部とポス
ト部との接触面積の比率を大きくしたので、ポスト部と
ベース部との間の熱抵抗が大幅に低減され、高出力半導
体レーザ素子における発熱を効果的に逃すことが可能に
なった。したがって、ベース部に鉄あるいは鉄系合金を
使用することができ、モジュールを構成する部材に銅を
使用することで、半導体レーザ素子を放熱性良くかつ位
置精度も良く固定することができる。
According to the stem for a semiconductor laser device of the present invention, the ratio of the contact area between the base and the post to the area of the circle defined by the base is increased. The thermal resistance has been greatly reduced, and the heat generated in the high-power semiconductor laser device can be effectively released. Therefore, iron or an iron-based alloy can be used for the base portion, and the semiconductor laser element can be fixed with good heat dissipation and good positional accuracy by using copper for the members constituting the module.

【0021】またポスト部は、そのチップ接着面の両側
に、このチップ接着面に対する半導体レーザチップの接
着時においてチップ側の接着面に対するポスト部側のチ
ップ接着面の平行出しに使用される平面を備えているた
め、これら平面にそれぞれ平行出し治具を機械的に押し
当てることにより、チップ接着面には触れることなく、
精度良く上記平行出しを行なうことができる。
The post portion has, on both sides of the chip bonding surface, planes used for parallelizing the chip bonding surface on the post portion side with the chip side bonding surface when bonding the semiconductor laser chip to the chip bonding surface. Because it is equipped, by pressing each parallelizing jig mechanically against these planes, without touching the chip bonding surface,
The parallel alignment can be performed with high accuracy.

【0022】また本発明の半導体レーザ素子用ステムの
製造方法によれば、半導体レーザチップの接着時におい
てこのチップに対するチップ接着面の平行出しに使用さ
れる平面をチップ接着面の加工工程で一括して形成する
ことにより、これら平面を精度良くかつ容易に形成する
ことができる。
According to the method of manufacturing a stem for a semiconductor laser device of the present invention, when a semiconductor laser chip is bonded, a plane used for parallelizing the chip bonding surface to the chip is collectively used in the step of processing the chip bonding surface. Thus, these planes can be formed accurately and easily.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の実施の形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0024】図1(a),(b)は、本発明による高出
力半導体レーザ素子用ステムの平面図およびそのA−A
線に沿った断面図、図2はリードを除いた斜視図、図3
は図1(a)のB−B線に沿った断面図を示す。
FIGS. 1A and 1B are a plan view of a stem for a high-power semiconductor laser device according to the present invention and an AA thereof.
FIG. 2 is a sectional view taken along a line, FIG.
1 shows a cross-sectional view along the line BB in FIG.

【0025】このステム10は、直径9mmφの円形のベ
ース部11と、このベース部11上に接合された半円柱
状のポスト部12とからなる。ベース部11は、鉄ある
いは鉄系合金(例えば鉄・ニッケル合金)からなり、そ
の円形の1つの直径の両端に沿う位置出し用切欠き11
a,11aおよび方向表示用切欠き1bと、2本のリー
ド13,13を通す孔11c,11cとを設けて打抜き
により作製される。ポスト部12は、図4に示すよう
に、銅(特に無酸素銅)あるいは銅系合金(例えば銅・
タングステン合金)の円柱を軸線方向に半分に切断し、
その切断面上にリード13,13の逃げ溝12b,12
bを形成した後、所望の長さに分断することによって、
半円柱状に作製される。したがって、逃げ溝12b,1
2b間のチップ接着面12a面と、逃げ溝12b,12
bの外側の面12c,12cとが同一平面に含まれるよ
うにする加工を精度良く容易に行なうことができる。た
だし、このポスト部12の加工方法は、その一例を示し
たものであって、これに限定されるものではない。要
は、チップ接着面12aとその両側の面12c,12c
とが精度良く同一平面に含まれるようにすればよい。
The stem 10 includes a circular base 11 having a diameter of 9 mmφ, and a semi-cylindrical post 12 joined to the base 11. The base portion 11 is made of iron or an iron-based alloy (for example, iron-nickel alloy), and has a notch 11 for positioning along the both ends of one circular diameter.
a, 11a, a notch 1b for direction indication, and holes 11c, 11c through which two leads 13, 13 are provided. As shown in FIG. 4, the post part 12 is made of copper (particularly oxygen-free copper) or a copper-based alloy (for example, copper alloy).
Tungsten alloy) cylinder is cut in half in the axial direction,
The relief grooves 12b, 12 of the leads 13, 13 are formed on the cut surface.
After forming b, by dividing into desired lengths,
It is manufactured in a semi-cylindrical shape. Therefore, the escape grooves 12b, 1
2b, the chip bonding surface 12a and the escape grooves 12b, 12
Processing to make the outer surfaces 12c, 12c of b outside the same plane included in the same plane can be easily performed with high precision. However, the method of processing the post portion 12 is merely an example, and is not limited to this. In short, the chip bonding surface 12a and the surfaces 12c, 12c on both sides thereof
May be accurately included in the same plane.

【0026】次に、ポスト部12を、その半円の弦に相
当する面がベース部11の位置出し用切欠き11a,1
1aを通る直径に一致するように銀鑞によってベース部
11上に接合する。
Next, the surface of the post portion 12 corresponding to the chord of the semicircle is formed by the positioning notches 11a, 1a of the base portion 11.
It is joined on the base part 11 by silver solder so as to match the diameter passing through 1a.

【0027】その場合、銀鑞がチップ接着面12a上に
流れ出すのを防止するために、図2および図3から明ら
かなように、チップ接着面12aの根元部にベース部1
1との接合面に沿って予め溝12dを形成しておくこと
が好ましい。そして、ベース部11の底面に共通リード
14を溶接し、さらに、ベース部11の孔11b,11
bにリード13,13が、絶縁性と気密性を保つために
低融点ガラス15を用いて取り付ける。
In this case, in order to prevent the silver solder from flowing onto the chip bonding surface 12a, as is apparent from FIGS. 2 and 3, the base 1 is attached to the base of the chip bonding surface 12a.
It is preferable to form the groove 12d in advance along the joint surface with the groove 1. Then, the common lead 14 is welded to the bottom surface of the base portion 11, and the holes 11 b and 11
Leads 13 and 13 are attached to b using low-melting glass 15 to maintain insulation and airtightness.

【0028】このように、本実施の形態の半導体レーザ
素子用ステム10においては、ベース部11に形成され
たリード用孔11b,11bの両外側に広がる大きさの
半円柱状ポスト部12がベース部11上に接合されてい
るので、ポスト部12とベース部11との接触面積は1
0.9mm2 程度となり、図9に示すステム10′におけ
る接触面積2.25mm2 の5倍近くとなる。すなわち、
9mmφのベース部11の画く円の面積約63.6mm2
約17%(図9に示すステム10′では約3.5%)に
相当し、ベース部11に鉄あるいは鉄系合金を使用して
いるものの、ポスト部12とベース部11との間の熱抵
抗が大幅に低減され、高出力半導体レーザ素子における
発熱を効果的に逃すことが可能になった。
As described above, in the stem 10 for a semiconductor laser device of the present embodiment, the semi-cylindrical post portion 12 having a size extending to both outer sides of the lead holes 11b, 11b formed in the base portion 11 is formed. The contact area between the post part 12 and the base part 11 is 1
It becomes 0.9 mm 2 approximately, a nearly 5 times the contact area 2.25 mm 2 in the stem 10 'shown in FIG. That is,
9mmφ about 17% of the base portion 11 a circle of area of about 63.6 mm 2 to draw the the equivalent to (stem in 10 'about 3.5% shown in FIG. 9), using an iron or iron-based alloy base portion 11 However, the thermal resistance between the post portion 12 and the base portion 11 has been greatly reduced, and the heat generated in the high-power semiconductor laser device can be effectively released.

【0029】また、この接触面積は、図10に示すステ
ム10″の場合、ポスト部12とベース部11とが同一
の銅材料で一体的に形成されているため、異なる材質の
部材が接触する意味での接触面積に相当する部分はない
が、その形状からポスト部12とベース部11との接触
面積に相当する部分の面積は5.0mm2 であるから、本
実施の形態のステム10はこれの2倍以上あり、鉄ある
いは鉄系合金を使用していながら、全体が銅で形成され
ている図10に示すステム10″と同等以上の放熱性能
を有するステムとなっている。実際に、800nm帯の5
0nmブロードエリアレーザ素子の電流に対する発振ピー
ク波長のシフト量を測定したところ、図9に示すステム
10′の場合には10〜12nm/A、図10に示すステ
ム10″の場合には8〜10nm/Aであるのに対し、本
実施の形態のステム10を用いた場合には7〜9nm/A
であり、熱抵抗の減少が確認された。
Also, in the case of the stem 10 ″ shown in FIG. 10, since the post portion 12 and the base portion 11 are integrally formed of the same copper material, members of different materials come into contact with each other. Although there is no portion corresponding to the contact area in the sense, the area of the portion corresponding to the contact area between the post portion 12 and the base portion 11 is 5.0 mm 2 from the shape thereof. This is twice as large as this, and has a heat radiation performance equal to or higher than that of the stem 10 ″ shown in FIG. 10 made entirely of copper while using iron or an iron-based alloy. In fact, 5 in the 800nm band
When the shift amount of the oscillation peak wavelength with respect to the current of the 0 nm broad area laser device was measured, it was 10 to 12 nm / A for the stem 10 ′ shown in FIG. 9 and 8 to 10 nm / A for the stem 10 ″ shown in FIG. / A, when the stem 10 of the present embodiment is used, 7 to 9 nm / A
And a decrease in thermal resistance was confirmed.

【0030】なお、ポスト部12のチップ接着面12a
の根元部に銀鑞の流れ止め用溝12dを設けた理由は、
銀鑞が流れ出すと、チップ接着面12aの平坦性が損な
われるからである。また、半導体レーザチップは、チッ
プに与える歪みの小さい軟性半田であるインジュームを
用いてポスト部12のチップ接着面12aに接着される
が、このインジュームは、接着のため溶かした際に銀鑞
の流れ出した部分にはじかれるために均一な接着が不可
能になり、チップとチップ接着面12aとの間の熱抵抗
の増大や、ボイドの発生による局所的な歪みにより、素
子特性の低下、とりわけ信頼性の低下を招いてしまう。
チップ接着面12aへのチップの接着は良好な半田濡れ
性をもって行なう必要があり、また、例えば使用する半
田膜厚が5μmであれば、半導体レーザチップへ不要な
歪みを与えるのを防止するために、チップ接着面12a
の平坦性は、少なくとも半田膜厚以下、すなわち5μm
以下である必要がある。
The chip bonding surface 12a of the post 12
The reason for providing the flow stop groove 12d for silver solder at the root of
This is because when the silver solder flows, the flatness of the chip bonding surface 12a is impaired. Further, the semiconductor laser chip is bonded to the chip bonding surface 12a of the post portion 12 by using an indium which is a soft solder with a small distortion applied to the chip. In this case, uniform bonding is impossible due to the repelling of the flow-out portion, and an increase in thermal resistance between the chip and the chip bonding surface 12a and a local distortion due to generation of voids cause deterioration of device characteristics, especially This leads to a decrease in reliability.
It is necessary to bond the chip to the chip bonding surface 12a with good solder wettability. For example, if the solder film thickness to be used is 5 μm, it is necessary to prevent unnecessary distortion from being applied to the semiconductor laser chip. , Chip bonding surface 12a
Has a flatness of at least the thickness of the solder, that is, 5 μm
Must be:

【0031】このため、図2および図3に示すように、
チップ接着面12aの根元部に銀鑞の流れ止め用溝12
dを設けて、チップ接着面12aの平坦性の低下を防止
している。この溝12dの幅および深さは、接合時に使
用する銀鑞の量にも関係するが、あまり大きくするとポ
スト部12とベース部11との接触面積が減少するた
め、必要最小限に止めることが重要であり、その幅およ
び深さは約0.5mm、望ましくは0.1mm程度である。
Therefore, as shown in FIGS. 2 and 3,
A groove 12 for stopping the flow of silver solder is provided at the base of the chip bonding surface 12a.
By providing d, the flatness of the chip bonding surface 12a is prevented from lowering. The width and depth of the groove 12d are also related to the amount of silver solder used at the time of joining. However, if the width is too large, the contact area between the post portion 12 and the base portion 11 is reduced. Importantly, its width and depth are about 0.5 mm, preferably about 0.1 mm.

【0032】上記のようにして作製されたステム10に
対しては、図5に示すように、ポスト部12のチップ接
着面12aが水平になるようにステム10を保持した状
態で、チップ接着面12a上に、治具22に水平に支持
された半導体レーザチップ20がインジューム半田を用
いて接着(ダイボンディング)される。この場合、チッ
プ接着面12aの両側にある面12c,12cがチップ
接着面12aと同一切断面で形成されているため、面1
2c,12cも水平であり、図6に示すように、半導体
レーザチップ20の接着時にこれら面12c,12c
が、チップ側接着面に対するポスト12側のチップ接着
面12aの平行出しに利用される。
As shown in FIG. 5, with respect to the stem 10 manufactured as described above, the chip bonding surface is held while the chip bonding surface 12a of the post portion 12 is horizontal. The semiconductor laser chip 20 horizontally supported by the jig 22 is bonded (die-bonded) to the semiconductor laser chip 12a using indium solder. In this case, since the surfaces 12c, 12c on both sides of the chip bonding surface 12a are formed by the same cut surface as the chip bonding surface 12a, the surface 1c
2c and 12c are also horizontal, and as shown in FIG.
Is used for parallelizing the chip bonding surface 12a on the post 12 side with respect to the chip side bonding surface.

【0033】すなわち、面12c,12cにそれぞれ平
行出し治具21を機械的に押し当てることにより、半田
の付いたチップ接着面12aには触れることなく、精度
良く上記平行出しを行なうことができる。
That is, by mechanically pressing the parallelizing jig 21 against the surfaces 12c, 12c, the parallelizing can be performed with high accuracy without touching the chip bonding surface 12a with solder.

【0034】なお、この平行出しの際に、ポスト部12
のチップ接着面12aが水平になっていない状態で、ポ
スト部12の面12c,12cを治具21,21に機械
的に押し当てると、図7に示すように、一方の面12c
のみが治具21に当接するために、比較的柔らかい銅製
ポスト12が変形して、平行出しが精度良く行なえない
場合がある。その対策として、図8に示すように、ポス
ト12の円弧部分に、チップ接着面12aと平行な面1
2eを予め形成しておき、この面12eを水平に保った
状態でポスト部12を上方に押して、面12c,12c
を治具21,21に押し当てることにより、ポスト部1
2の変形を防止することができる。これによって、半導
体レーザチップ20をポスト部12のチップ接着面12
aに水平に接着することができるようになった。
In this case, the post portion 12
When the surfaces 12c, 12c of the post portion 12 are mechanically pressed against the jigs 21, 21 in a state where the chip bonding surface 12a is not horizontal, as shown in FIG.
Since only the jig 21 is in contact with the jig 21, the relatively soft copper post 12 may be deformed, and parallelization may not be performed accurately. As a countermeasure, as shown in FIG. 8, an arc portion of the post 12 has a surface 1 parallel to the chip bonding surface 12a.
2e is formed in advance, and while the surface 12e is kept horizontal, the post portion 12 is pushed upward, so that the surfaces 12c, 12c
Is pressed against the jigs 21 and 21 so that the post 1
2 can be prevented. Thereby, the semiconductor laser chip 20 is attached to the chip bonding surface 12 of the post portion 12.
a can be bonded horizontally.

【0035】さらに、ポスト部12のチップ接着面12
aに半導体レーザチップ20が傾いて触れた場合に、チ
ップ20が回転し、接着位置での回転ずれが生じて、出
射光がベース部11のステム基準面に対して1°以上傾
く(仕様外)という不具合が生じ、歩留まりが低下する
ことがあったが、ポスト部12に面12eを設け、かつ
上記平行出し方法を実施することにより、不具合が激減
し、歩留まりが大幅に向上した。
Further, the chip bonding surface 12 of the post 12
a, the semiconductor laser chip 20 is tilted and touched, the chip 20 rotates, and a rotational shift occurs at the bonding position, and the emitted light is tilted by 1 ° or more with respect to the stem reference plane of the base portion 11 (out of specification). ), The yield was sometimes reduced. However, by providing the surface 12e on the post portion 12 and performing the above-described paralleling method, the defects were drastically reduced, and the yield was greatly improved.

【0036】次に、上述した構成を有するステム10を
実際に製造する場合の方法について、さらに詳細に説明
する。
Next, a method for actually manufacturing the stem 10 having the above-described configuration will be described in more detail.

【0037】具体例1(半導体レーザチップ20の接着
にインジュームを用いる場合) 鉄または鉄系合金製のベース部11は、位置出し用切欠
き11a,11aおよび方向表示用切欠き11bと、リ
ード13,13を通す孔11c,11cとを設けて打抜
きにより作製する。ポスト部12は、円柱状の無酸素銅
を、図4に示すように軸線方向に半分に切断し、さらに
これを所望の長さに分断して作製する。その場合、この
分断の前または後にリード13,13の逃げ溝12b,
12bを切断面上に形成する。
Specific Example 1 (In the case of using indium for bonding the semiconductor laser chip 20) The base portion 11 made of iron or an iron-based alloy is provided with notches 11a, 11a for positioning and a notch 11b for direction indication, and a lead. Holes 11c, 11c through which the holes 13 pass are provided, and are manufactured by punching. The post part 12 is manufactured by cutting a columnar oxygen-free copper into half in the axial direction as shown in FIG. 4 and further cutting the same into a desired length. In this case, before or after the division, the escape grooves 12b,
12b is formed on the cut surface.

【0038】次に、このポスト部12にベース部11に
銀鑞付けし、またベース部11に共通リード14を溶接
し、かつベース部11の孔11c,11cにリード1
3,13を低融点ガラス15により、ベース部11に対
し絶縁性と気密性とを持たせて組み付ける。その後、例
えばワット法等の方法によりニッケルメッキを行い、さ
らに、チップ20との間でワイヤボンディングされるリ
ード13,13にのみ電解金メッキ法により部分メッキ
を施して、ステム10を完成させる。
Next, the post part 12 is silver-brazed to the base part 11, the common lead 14 is welded to the base part 11, and the lead 1 is inserted into the holes 11 c, 11 c of the base part 11.
3 and 13 are assembled with the base portion 11 by the low-melting glass 15 with insulation and airtightness. Thereafter, for example, nickel plating is performed by a method such as the Watt method, and further, only the leads 13 and 13 to be wire-bonded to the chip 20 are partially plated by electrolytic gold plating to complete the stem 10.

【0039】そして、ポスト部12のチップ接着面12
aに対するチップ20の接着に軟性半田のインジューム
を用いた場合に生じ易い半田の濡れ性低下を防止し、か
つ経時で生じるホイスカの発生を抑制するために、完成
したステム10のチップ接着面12a上に、真空蒸着法
と電子ビーム蒸着法を組み合わせて、ニッケルのみ、ま
たはニッケルと白金、あるいはチタンと白金等を組合わ
せた金属膜を約50〜500nm程度の厚さに形成し、さ
らにこの上に、インジュームを真空蒸着法により厚さ約
0.5〜5μm程度付着させる。
The chip bonding surface 12 of the post 12
In order to prevent a decrease in wettability of the solder, which is likely to occur when an indium of soft solder is used to bond the chip 20 to the chip 20a, and to suppress the generation of whiskers which occur with time, the chip bonding surface 12a of the completed stem 10 On top, a metal film combining nickel only, nickel and platinum, or titanium and platinum or the like is formed to a thickness of about 50 to 500 nm by combining the vacuum evaporation method and the electron beam evaporation method. Then, an indium is adhered by a vacuum evaporation method to a thickness of about 0.5 to 5 μm.

【0040】このステム10を、半導体レーザチップ2
0を半田付けする装置であるダイボンダに、図6に示す
ように、チップ20に対してチップ接着面12aが平行
になるように組み付け、半導体レーザチップ20をチッ
プ接着面12a上の所定位置に位置合わせして乗せた
後、昇温して半田を溶かし、冷却することによって接着
する。なお、半田の酸化を防止するために、接着時の雰
囲気としては水分や酸素が少ないことが望ましく、通
常、水の露点−20℃以下の窒素中、あるいは水素が1
〜2%程度混合された窒素中で実施する。次に、チップ
20とリード13,13間にワイヤボンディングを施
し、窓付きキャップを乾燥窒素中でベース部11に溶接
することにより、半導体レーザ素子が完成する。
The stem 10 is connected to the semiconductor laser chip 2
As shown in FIG. 6, the semiconductor laser chip 20 is mounted at a predetermined position on the chip bonding surface 12a with a chip bonding surface 12a parallel to the chip 20, as shown in FIG. After being put together, the temperature is raised to melt the solder and then cooled to bond. In order to prevent the oxidation of the solder, it is desirable that the atmosphere at the time of bonding be low in moisture and oxygen.
It is performed in nitrogen mixed with about 2%. Next, wire bonding is performed between the chip 20 and the leads 13 and 13, and the cap with a window is welded to the base portion 11 in dry nitrogen to complete the semiconductor laser device.

【0041】具体例2(半導体レーザチップ20の接着
に金錫合金半田を用いる場合) ベース部11は具体例1と同様の材料および方法で作製
するが、ポスト部12は、よりGaAsに近い熱膨脹係
数を有するように組成を調整された銅・タングステン合
金製で、図4に示す方法で作製する。その後、具体例1
と同様に、このポスト部12をベース部11に銀鑞付け
し、またベース部11に共通リード14を溶接し、かつ
ベース部11の孔11c,11cにリード13,13を
低融点ガラス15により、ベース部11に対し絶縁性と
気密性とを持たせて組み付ける。その後、例えばワット
法等の方法によりニッケルメッキを行い、さらに、チッ
プ20との間でワイヤボンディングされるリード13,
13にのみ電解金メッキ法により部分メッキを施して、
ステム10が完成する。
Example 2 (When Gold-tin Alloy Solder is Used for Bonding Semiconductor Laser Chip 20) The base 11 is made of the same material and method as in Example 1, but the post 12 has a thermal expansion closer to that of GaAs. It is made of a copper-tungsten alloy whose composition is adjusted to have a coefficient, and is manufactured by the method shown in FIG. Then, specific example 1
Similarly, the post part 12 is silver brazed to the base part 11, the common lead 14 is welded to the base part 11, and the leads 13, 13 are connected to the holes 11 c, 11 c of the base part 11 by the low melting glass 15. The base part 11 is assembled with insulation and airtightness. Thereafter, for example, nickel plating is performed by a method such as the Watt method, and further, the leads 13 to be wire-bonded to the chip 20 are formed.
Only 13 is partially plated by electrolytic gold plating,
The stem 10 is completed.

【0042】本例の場合、金錫合金の融点が高いので半
田材がニッケルバリア層を突き破ってポスト部12へ吸
い込まれるのを防止するために、ニッケル、白金、金ま
たはチタン、白金、金あるいはモリブデン、白金、金等
を組み合わせた金属膜をチップ接着面12a上に約50
〜500nm程度の厚さに形成し、さらにこの上に、金錫
を真空蒸着法により共晶組成になるように調整しながら
膜厚さ約0.5〜5μm程度付着させる。後の工程は、
具体例1と同様である。
In the case of this example, since the melting point of the gold-tin alloy is high, in order to prevent the solder material from breaking through the nickel barrier layer and being sucked into the post portion 12, nickel, platinum, gold or titanium, platinum, gold or A metal film composed of a combination of molybdenum, platinum, gold, etc. is applied to the chip bonding surface 12a for about 50
It is formed to a thickness of about 500 nm, and further, gold tin is deposited thereon to a thickness of about 0.5 to 5 μm while adjusting it to a eutectic composition by a vacuum evaporation method. The later steps are
This is the same as the specific example 1.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による高出力半導体レーザ素子用ステム
の平面図およびそのA−A線に沿った断面図
FIG. 1 is a plan view of a stem for a high-power semiconductor laser device according to the present invention and a cross-sectional view thereof along line AA.

【図2】そのリードを除いた斜視図FIG. 2 is a perspective view without the lead.

【図3】図1(a)のB−B線に沿った断面図FIG. 3 is a sectional view taken along the line BB in FIG.

【図4】ポスト部の作製方法の一例を示す説明図FIG. 4 is an explanatory view showing an example of a method for manufacturing a post portion.

【図5】ポスト部に半導体レーザチップが接着された状
態を示す図
FIG. 5 is a diagram showing a state in which a semiconductor laser chip is bonded to a post part.

【図6】ポスト部に半導体レーザチップを接着するとき
に、平行出し治具によりステムのチップ接着面がチップ
と平行に保たれた状態を示す図
FIG. 6 is a diagram showing a state where the chip bonding surface of the stem is kept parallel to the chip by a paralleling jig when the semiconductor laser chip is bonded to the post part.

【図7】ポスト部に半導体レーザチップを接着するとき
に、ポスト部が平行出し治具に対し傾斜して当接した状
態を示す図
FIG. 7 is a view showing a state in which the post portion is inclined and abutted against the paralleling jig when the semiconductor laser chip is bonded to the post portion.

【図8】ポスト部に半導体レーザチップを接着するとき
に、ポスト部がチップ接着面と平行な面を備えているこ
とにより、ポスト部が平行出し治具に正しく当接した状
態を示す図
FIG. 8 is a view showing a state in which the post portion is correctly abutted on the paralleling jig when the semiconductor laser chip is bonded to the post portion, since the post portion has a surface parallel to the chip bonding surface.

【図9】従来の半導体レーザ素子用ステムの平面図およ
び正面図
FIG. 9 is a plan view and a front view of a conventional stem for a semiconductor laser device.

【図10】従来の半導体レーザ素子用ステムの平面図お
よび正面図
FIG. 10 is a plan view and a front view of a conventional stem for a semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,10′,10″ ステム 11 ベース部 12 ポスト部 12a ステム部のチップ接着面 12c チップ接着面と同一平面に含まれる面 13 リード,14 20 半導体レーザチップ 21 平行出し治具 10, 10 ', 10 "stem 11 base portion 12 post portion 12a chip bonding surface of stem portion 12c surface included in the same plane as chip bonding surface 13 lead, 14 20 semiconductor laser chip 21 parallel setting jig

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円形のベース部と、半導体レーザチップ
が接着されるチップ接着面を備えて前記ベース部の上面
に接合されるポスト部とを有する半導体レーザ素子用ス
テムにおいて、 前記ベース部が画く円の面積に対する該ベース部と前記
ポスト部との接触面積の比率を7.9%以上とすること
を特徴とする半導体レーザ素子用ステム。
1. A semiconductor laser device stem having a circular base portion and a post portion having a chip bonding surface to which a semiconductor laser chip is bonded and bonded to an upper surface of the base portion, wherein the base portion is drawn. A stem for a semiconductor laser device, wherein a ratio of a contact area between the base portion and the post portion to an area of a circle is 7.9% or more.
【請求項2】 前記比率を10%以上とすることを特徴
とする請求項1記載の半導体レーザ素子用ステム。
2. The stem for a semiconductor laser device according to claim 1, wherein the ratio is 10% or more.
【請求項3】 前記比率を15%以上とすることを特徴
とする請求項1記載の半導体レーザ素子用ステム。
3. The stem for a semiconductor laser device according to claim 1, wherein the ratio is 15% or more.
【請求項4】 前記ベース部が鉄あるいは鉄系合金で形
成され、前記ポスト部が銅あるいは銅系合金で形成され
ていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1
つに記載の半導体レーザ用ステム。
4. The method according to claim 1, wherein said base portion is formed of iron or an iron-based alloy, and said post portion is formed of copper or a copper-based alloy.
4. The semiconductor laser stem according to any one of the above.
【請求項5】 前記ポスト部が、そのチップ接着面の両
側に、該チップ接着面に対する前記半導体レーザチップ
の接着時において該チップに対する前記チップ接着面の
平行出しに使用される平面を備えていることを特徴とす
る請求項1ないし4のいずれか1つに記載の半導体レー
ザ素子用ステム。
5. The post portion has, on both sides of the chip bonding surface, flat surfaces used for parallelizing the chip bonding surface to the chip when the semiconductor laser chip is bonded to the chip bonding surface. The stem for a semiconductor laser device according to any one of claims 1 to 4, wherein:
【請求項6】 ベース部と、半導体レーザチップが接着
されるチップ接着面を備えて前記ベース部に接合される
ポスト部とを有する半導体レーザ素子用ステムの製造方
法において、 前記ポスト部のチップ接着面への前記半導体レーザチッ
プの接着時において該チップに対する前記チップ接着面
の平行出しに使用される平面を該チップ接着面の加工工
程で一括して形成することを特徴とする半導体レーザ素
子用ステムの製造方法。
6. A method of manufacturing a stem for a semiconductor laser device having a base portion and a post portion having a chip bonding surface to which a semiconductor laser chip is bonded and bonded to the base portion, wherein the chip bonding of the post portion is performed. A step of forming a plane used for parallelizing the chip bonding surface to the chip at the time of bonding the semiconductor laser chip to a surface in a step of processing the chip bonding surface; Manufacturing method.
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