JP2001077262A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001077262A
JP2001077262A JP2000183382A JP2000183382A JP2001077262A JP 2001077262 A JP2001077262 A JP 2001077262A JP 2000183382 A JP2000183382 A JP 2000183382A JP 2000183382 A JP2000183382 A JP 2000183382A JP 2001077262 A JP2001077262 A JP 2001077262A
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semiconductor laser
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剛司 山本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a stem for semiconductor laser device by drawing a thin metal plate, and secure strength and heat radiation. SOLUTION: To form a stem in a semiconductor laser device with a thin metal plate, an annular wall portion is formed on a base 1 by press working of the thin metal plate. An out lead 4 is disposed in a space formed in this annular wall portion and fixed by filling and solidifying m insulating thermosetting resin. A mounting portion (heat sink) 3 for mounting a silicon submount on the base 1 is formed integrally with the base 1 by press working. Insufficient strength and heat radiation due a thin metal plate stem is compensated by formation of the continuous walls.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄い金属板をプレ
スで板金加工することにより形成したステムを有する半
導体レーザ装置、とくにその放熱性を向上させた半導体
レーザ装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser device having a stem formed by processing a thin metal plate by sheet metal working with a press, and more particularly to a semiconductor laser device having improved heat radiation.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体レーザー装置のステムは、
例えば図10に示すように、ベース1、ベース1に取り
付けたアウトリード4及び半導体レーザ発光素子等を実
装するシリコンサブマウントの取り付部であるヒートシ
ンク3からなっており、一般にベース1は例えば、1.2m
m厚の直径5.6mmの鉄材からなる円盤をプレス金型にて鍛
造して形成し、その際、円盤の周縁部を押し潰すか、或
いは中央部を盛り上げるかのいずれかの方法でヒートシ
ンク部3を形成している。またアウトリード4は絶縁性
融着ガラス12によってベース1に固定されている。
2. Description of the Related Art The stem of a conventional semiconductor laser device is
For example, as shown in FIG. 10, a base 1, an outlead 4 attached to the base 1, and a heat sink 3 which is a mounting portion of a silicon submount for mounting a semiconductor laser light emitting element and the like are provided. 1.2m
A disk made of an iron material having a thickness of 5.6 mm and having a diameter of 5.6 mm is formed by forging with a press die, and at this time, the heat sink portion 3 is formed by either crushing the peripheral portion of the disk or raising the center portion. Is formed. The outlead 4 is fixed to the base 1 by the insulating fused glass 12.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法でステムを製造する場合には、以下に示すような問
題があるため、その製造コストを下げるのは困難であっ
た。即ち、 (1)鍛造用金型は厚手の金属板を使用し材料コストが
かさむ上、厚手の金属板を鍛造するため、摩耗、破損し
やすい。 (2)ステムのベースの側面寸法等は高い精度が要求さ
れるため、鍛造による場合には、円盤周縁部の鍛造に加
えその側面等の加工も必要となる。 (3)ベースとアウトリードとの接合は融点が1000
°C程度の低融点ガラスによって行われているが、この
温度は金の融点を越えているため、アウトリードの金メ
ッキはベースに対し接合した後に行わなければならな
い。従って、ベースは本来であれば例えばNiメッキで
足りるにも拘らず、アウトリードに合わせて金メッキを
施さざるを得ない。さらに、光ピックアップへの装着
時、放熱がそれほど問題にならない場合には、装着面縮
小のためベースを(図面参照)縮小加工することがある
が、従来の鍛造により形成したベースは切削等によらな
ければ装着面積縮小ができず、プレスで打ち抜く等の簡
易な方法が採れない等の問題がある。このような課題を
解決するため、例えば、ステムを備えた半導体レーザ装
置において、ステムのベースを例えば0.1mm〜0.5mm程度
の薄い金属板からプレス加工により形成することが考え
られるが、従来のステムのベースが1.2mm程度の比較的
厚い金属板から鍛造により打ち出し形成していたのと異
なり、薄い金属板によると、ピックアップに対する当て
付け時の強度が弱く、曲がり反り等の問題が新たに生じ
るほか、放熱特性に関しても十分とはいい難い場合があ
る。また、近年の短波長の発光素子或いは高出力発光素
子の出現等によって、より放熱性の高いステムが必要と
なっている。
However, when manufacturing a stem by the conventional method, it is difficult to reduce the manufacturing cost because of the following problems. (1) A thick metal plate is used for the forging die, which increases the material cost. In addition, since the thick metal plate is forged, it is easily worn or broken. (2) Since high precision is required for the side dimensions of the base of the stem, in the case of forging, in addition to forging the peripheral portion of the disk, processing of the side face and the like is also required. (3) The bonding between the base and the outlead has a melting point of 1000
Although the temperature is higher than the melting point of gold, the temperature is higher than the melting point of gold. Therefore, the out-lead gold plating must be performed after bonding to the base. Accordingly, the base must be gold-plated in accordance with the outlead, although Ni-plating is normally sufficient. Further, when mounting on an optical pickup, if heat radiation is not so problematic, the base may be reduced (see the drawing) to reduce the mounting surface, but the base formed by conventional forging is cut by cutting or the like. Otherwise, there is a problem that the mounting area cannot be reduced and a simple method such as punching with a press cannot be adopted. In order to solve such a problem, for example, in a semiconductor laser device having a stem, it is conceivable to form the base of the stem from a thin metal plate of, for example, about 0.1 mm to 0.5 mm by pressing. Unlike the base formed by stamping out a relatively thick metal plate of about 1.2 mm by forging, the thin metal plate has a weak strength when applied to the pickup, and causes new problems such as bending and warpage. In some cases, it is difficult to say that the heat radiation characteristics are sufficient. In addition, with the emergence of light emitting elements with short wavelengths or high output light emitting elements in recent years, stems with higher heat dissipation properties are required.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、ベー
ス、該ベースに一体に形成したレーザ発光素子等の取付
部及び、アウトリードからなるステムを備えた半導体レ
ーザ装置において、前記ベースは、環状壁部を有するよ
う金属板を折り曲げて形成したものであることを特徴と
する半導体レーザ装置である。請求項2の発明は、請求
項1に記載された半導体レーザ装置において、前記環状
壁部は板金をその周縁から間隔を隔てて折り曲げて形成
したものであり、かつ、前記レーザ発光素子等の取付部
は板金上面を切り起こして前記環状壁部に形成したもの
であることを特徴とする半導体レーザ装置である。請求
項3の発明は、請求項1に記載された半導体レーザ装置
において、前記環状壁部は板金の周縁を折り曲げて形成
し、かつ、前記レーザ発光素子等の取付部は板金上面を
切り起こして形成したものであることを特徴とする半導
体レーザ装置である。請求項4の発明は、請求項1また
は2に記載された半導体レーザ装置において、前記アウ
トリードは前記環状壁部内に封止された熱硬化性樹脂に
よって前記ベースに接合されていることを特徴とする半
導体レーザ装置である。請求項5の発明は、請求項1ま
たは2に記載された半導体レーザ装置において、前記ア
ウトリードと前記ベースがそれぞれ異なる材料でメッキ
されたものであることを特徴とする半導体レーザ装置で
ある。請求項6の発明は、請求項1または2に記載され
た半導体レーザ装置において、前記環状壁部は放熱フィ
ンであることを特徴とする半導体レーザ装置である。請
求項7の発明は、ステムを備えた半導体レーザ装置にお
いて、前記ステムは、板金を折り曲げて形成した環状壁
部を周縁に備えたベースを有し、該環状壁部内にヒート
シンク部材を封止したことを特徴とする半導体レーザ装
置である。請求項8の発明は、請求項7に記載された半
導体レーザ装置において、前記ヒートシンク部材は絶縁
した銅材であることを特徴とする半導体レーザ装置であ
る。請求項9の発明は、ステムを備えた半導体レーザ装
置において、前記ステムは、熱伝導性の異なる2種の金
属をストライプ状に張り付けたクラッド材を折り曲げて
形成した環状壁部を周縁に備えたベースを有し、少なく
とも前記ベースに一体に形成されたレーザ発光素子等の
取付部が、前記異なる金属のうち熱伝導性の高い金属の
部分で形成されるよう成型されたものであることを特徴
とする半導体レーザ装置である。請求項10の発明は、
ステムを備えた半導体レーザ装置において、前記ステム
は、熱伝導性の異なる2種の金属を表裏に張り付けたク
ラッド材を折り曲げて形成した環状壁部を周縁に備えた
ベースを有し、前記ベースに一体に形成されたレーザ発
光素子等の取付部のみが、前記異なる金属のうち熱伝導
性の高い金属の部分で形成されるよう成型されたことを
特徴とする半導体レーザ装置である。請求項11の発明
は、請求項9または10に記載された半導体レーザ装置
において、前記熱伝導性の異なる金属の一方は鉄であ
り、かつ他方は銅であることを特徴とする半導体レーザ
装置である。請求項12の発明は、ベース、レーザ発光
素子等の取付部及び、アウトリードからなるステムを備
えた半導体レーザ装置において、前記ベースは、金属板
を折り曲げて形成した環状壁部を有し、前記レーザ発光
素子等の取付部は前記アウトリードに一体に形成されて
おり、かつ、前記アウトリードは前記環状壁部内に封止
された熱硬化性樹脂によって前記ベースに接合されてい
ることを特徴とする半導体レーザ装置である。請求項1
3の発明は、請求項12記載の半導体レーザ装置におい
て、前記環状壁部内にさらにヒートシンク部材を封止し
たことを特徴とする半導体レーザ装置である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a base, a mounting portion for a laser light emitting element or the like formed integrally with the base, and a stem comprising an outlead. A semiconductor laser device formed by bending a metal plate to have an annular wall portion. According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the first aspect, the annular wall portion is formed by bending a sheet metal at an interval from a peripheral edge thereof, and mounting the laser light emitting element and the like. The portion is formed by cutting and raising the upper surface of a sheet metal to form the annular wall portion. According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the first aspect, the annular wall portion is formed by bending a peripheral edge of a sheet metal, and a mounting portion for the laser light emitting element or the like cuts and raises the upper surface of the sheet metal. A semiconductor laser device characterized by being formed. According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the first or second aspect, the outlead is joined to the base by a thermosetting resin sealed in the annular wall. Semiconductor laser device. A fifth aspect of the present invention is the semiconductor laser device according to the first or second aspect, wherein the outlead and the base are plated with different materials. A sixth aspect of the present invention is the semiconductor laser device according to the first or second aspect, wherein the annular wall portion is a radiation fin. According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor laser device having a stem, the stem has a base having an annular wall portion formed by bending a sheet metal on a peripheral edge, and a heat sink member is sealed in the annular wall portion. A semiconductor laser device characterized in that: The invention according to claim 8 is the semiconductor laser device according to claim 7, wherein the heat sink member is an insulated copper material. According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device having a stem, the stem has an annular wall portion formed by bending a clad material in which two kinds of metals having different thermal conductivities are attached in a stripe shape. It has a base, and at least an attachment part of a laser light emitting element or the like integrally formed with the base is molded so as to be formed of a metal part having high thermal conductivity among the different metals. Semiconductor laser device. The invention of claim 10 is
In a semiconductor laser device having a stem, the stem has a base having an annular wall portion formed by bending a clad material in which two kinds of metals having different thermal conductivities are adhered to the front and back surfaces, and the base has a base. A semiconductor laser device characterized in that only a mounting portion of a laser light emitting element or the like formed integrally is molded so as to be formed of a metal portion having high thermal conductivity among the different metals. According to an eleventh aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the ninth or tenth aspect, one of the metals having different thermal conductivities is iron and the other is copper. is there. According to a twelfth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device including a base, a mounting portion for a laser light emitting element, and the like, and a stem including an outlead, the base has an annular wall portion formed by bending a metal plate. A mounting portion for a laser light emitting element or the like is formed integrally with the outlead, and the outlead is joined to the base by a thermosetting resin sealed in the annular wall portion. Semiconductor laser device. Claim 1
A third aspect of the present invention is the semiconductor laser device according to the twelfth aspect, wherein a heat sink member is further sealed in the annular wall portion.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】図1は本発明によるステムの第1
の実施例を示すものであって、図1Aはその斜視図、図
1Bはその断面図を示す。図示のようにこのステムのベ
ース1とレーザー発光素子等をシリコンサブマウントを
介して取り付ける取付部(ヒートシンク)3は、薄い金
属板、例えば0.1mm〜0.5mm程度の金属板から円盤状のブ
ランクを打ち抜き、これに板金加工を施して形成したも
のであって、鍔状の周縁部1Aを残して中央部に曲げ加
工を施して環状連続壁1A’を形成し、その環状壁部1
A’の一部にそれと一体に形成された取付部(ヒートシ
ンク)3が形成されている。図中、6は金ワイヤーであ
って、アウトリード4と各端子を電気的に接続してい
る。7はシリコンサブマウントであって、取付部(ヒー
トシンク)3の折り返し面3A(図2)に対して銀ペー
ストのような導電性ペーストで接合されている。8は発
光素子であるLD(レーザーダイオード)、9は前記L
Dから発光されたレーザー光をモニターするための受光
素子を示す。図示のように、LD8及び受光素子9はい
ずれも金ワイヤー6によってアウトリード4に電気的に
接続されている。
FIG. 1 shows a first embodiment of a stem according to the present invention.
1A is a perspective view thereof, and FIG. 1B is a sectional view thereof. As shown in the figure, a mounting portion (heat sink) 3 for mounting the base 1 of the stem and a laser light emitting element or the like via a silicon submount is made of a thin metal plate, for example, a metal plate of about 0.1 mm to 0.5 mm. It is formed by punching and performing sheet metal working on the annular wall portion 1A 'by bending the central portion while leaving the flange-shaped peripheral portion 1A.
Attachment part (heat sink) 3 integrally formed with a part of A 'is formed. In the figure, reference numeral 6 denotes a gold wire, which electrically connects the outlead 4 to each terminal. Reference numeral 7 denotes a silicon submount, which is bonded to the folded surface 3A (FIG. 2) of the mounting portion (heat sink) 3 with a conductive paste such as a silver paste. 8 is an LD (laser diode) as a light emitting element, and 9 is the L
4 shows a light receiving element for monitoring a laser beam emitted from D. As illustrated, both the LD 8 and the light receiving element 9 are electrically connected to the outlead 4 by the gold wire 6.

【0006】図2は本発明によるステムのベース1の成
形工程を説明するための図である。図2Aは例えば鉄等
の金属板のブランクを示す。図2Bはこのブランクに絞
り加工を施して形成した灰皿またはハット状の、つまり
鍔状部1Aとそれに続く環状壁部分1A’、及び環状壁
部分1A’の上に平面を有する中間加工物を示す。図2
Cはこのように形成した中間加工物の前記平面をヒート
シンクである取付部(ヒートシンク)3となる部分3A
を残して打ち抜いた状態を示し、最後に、図2Dに示す
ように、前記取付部(ヒートシンク)3となる部分3A
を起立させ、断面L型の取付部(ヒートシンク)3を形
成する。以上の工程で形成したベース1の環状壁部分1
A’によって囲まれる空間に3本のアウトリード4を配
し、その状態で熱硬化性樹脂を充填して加熱し、前記ア
ウトリード4をベース1に固着する(図1)。ここで、
Gnd端子4Aはボンディング時に電気的導通を確保す
るため、図に示すように、前記取付部(ヒートシンク)
3を貫通している。
FIG. 2 is a view for explaining a step of forming the stem base 1 according to the present invention. FIG. 2A shows a blank of a metal plate such as iron. FIG. 2B shows an ashtray or a hat-shaped intermediate workpiece formed by drawing the blank, that is, a flange-shaped portion 1A followed by an annular wall portion 1A 'and a flat surface on the annular wall portion 1A'. . FIG.
C is a portion 3A which becomes the mounting portion (heat sink) 3 as a heat sink by using the flat surface of the intermediate workpiece thus formed.
2D, and finally, as shown in FIG. 2D, a portion 3A serving as the mounting portion (heat sink) 3
To form an attachment portion (heat sink) 3 having an L-shaped cross section. The annular wall portion 1 of the base 1 formed by the above steps
Three outleads 4 are arranged in a space surrounded by A ′, and a thermosetting resin is filled and heated in this state, and the outleads 4 are fixed to the base 1 (FIG. 1). here,
As shown in the figure, the Gnd terminal 4A is used to secure electrical conduction during bonding.
3 penetrates.

【0007】この実施例によれば、ベース1と前記アウ
トリード4との接合は従来の低融点ガラスによらず、熱
硬化性樹脂によって行われておりかつ、前記樹脂の熱硬
化を行ってもその温度は約200°C程度にすぎないか
ら、前記樹脂を用いることによってアウトリード4に金
メッキを施した後からベース1に接合することができ
る。つまり、本実施形態によれば、ベース1とアウトリ
ード4はそれぞれ別々にメッキを施すことができるた
め、ベース1はアウトリード4と同じ金メッキを施す必
要がなく、例えばNiメッキを施すことができるという
利点がある。また、ピックアップ装着面積の縮小が必要
な場合であっても、ベース1をプレスで単に打ち抜くこ
とにより簡単に切断することができる。なお、DB(ダ
イボンディング)材には銀ペースト等の導電性ペースト
を用い接着強度を確保する。以上で説明した本発明の第
1の実施形態のステムは、前記従来の問題を解決し得る
ものではあるが、ベース1の厚みが0.25〜0.3mm程度で
従来品のもの(1.2mm程度)より薄いため、ピックアッ
プに対する当て付け時の強度が弱く、曲がり反り等の問
題が生じることがある。また、放熱特性に関しても十分
とはいい難い。
According to this embodiment, the connection between the base 1 and the outlead 4 is made of a thermosetting resin instead of the conventional low-melting glass, and even if the resin is thermoset. Since the temperature is only about 200 ° C., the out lead 4 can be bonded to the base 1 after gold plating by using the resin. That is, according to the present embodiment, since the base 1 and the outlead 4 can be separately plated, the base 1 does not need to be plated with the same gold as the outlead 4, and can be plated with Ni, for example. There is an advantage. Further, even when the pickup mounting area needs to be reduced, the base 1 can be easily cut by simply punching out the base 1 with a press. It should be noted that a conductive paste such as a silver paste is used for the DB (die bonding) material to secure the adhesive strength. The stem according to the first embodiment of the present invention described above can solve the above-mentioned conventional problem, but has a thickness of the base 1 of about 0.25 to 0.3 mm and a thickness of the conventional product (about 1.2 mm). Due to the thinness, the strength at the time of application to the pickup is weak, and problems such as bending and warping may occur. Further, it is difficult to say that the heat radiation characteristics are sufficient.

【0008】そこで、次にその点を改良した実施形態に
ついて説明する。図3は、本発明の第2の実施形態を示
すものである。図中図1におけると同様の部分には同じ
番号を付している。この実施形態の特徴は、本発明のス
テムのベース1の厚みが従来品よりも薄いことに対処す
るため、円盤状の金属ブランクの周縁部をほぼ直角に折
り曲げて環状壁部1Aを形成し、その中央部を平面1B
とし、その平面から切り起こしたレーザー発光素子等の
取付部(ヒートシンク)3を備えている。この実施形態
は前記環状壁部1A’を放熱フィンとしかつ、環状壁部
の幅を調整して必要な放熱性を確保できるようにしてい
る。
Next, an embodiment in which this point is improved will be described. FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. In the figure, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. The feature of this embodiment is that, in order to cope with the fact that the thickness of the base 1 of the stem of the present invention is thinner than that of the conventional product, the peripheral edge of the disc-shaped metal blank is bent substantially at right angles to form the annular wall 1A, The central part is plane 1B
And a mounting portion (heat sink) 3 for a laser light emitting element or the like cut and raised from the plane. In this embodiment, the annular wall portion 1A 'is used as a radiation fin, and the width of the annular wall portion is adjusted so that required heat radiation can be secured.

【0009】図4はその製造工程を示すものであって、
図4Aは金属ブランクを示す。図4Bは前記金属ブラン
クの周縁部を下方に折り曲げて折曲部を形成し中央部を
平面とした中間加工物を示している。図4Cは、この中
間加工物の中央平面部分にシリコンサブマウントを介し
て前記レーザ発光素子等を取り付ける取付部(ヒートシ
ンク)3になる部分3Aを残して切り抜いた状態を示し
ている。さらに、図4Dは、前記取付部(ヒートシン
ク)3になる部分3Aを起立させ断面L字型の前記取付
部(ヒートシンク)3を形成する。
FIG. 4 shows the manufacturing process.
FIG. 4A shows a metal blank. FIG. 4B shows an intermediate workpiece in which a peripheral portion of the metal blank is bent downward to form a bent portion and a central portion is flat. FIG. 4C shows a state in which a portion 3A serving as a mounting portion (heat sink) 3 for attaching the laser light emitting element or the like is cut out from the center plane portion of the intermediate work via a silicon submount, and is cut out. Further, in FIG. 4D, a portion 3A to be the mounting portion (heat sink) 3 is erected to form the mounting portion (heat sink) 3 having an L-shaped cross section.

【0010】この実施形態においては、ベース1の周縁
を折曲して形成した環状側壁内部空間に熱硬化性樹脂を
封止するものであるから、ベース1を薄い金属板で形成
したにも拘らず強度を増大することができ、かつ、その
部分をピックアップの装着時の当てつけ基準面とするこ
とにより、曲げ、反り等が発生するおそれもない。ま
た、折曲部の幅Lを長くすることにより、放熱面積を増
大させることができるから、前記第1の実施形態におけ
るようなLD動作時における放熱性の問題も解消するこ
とができる。
In this embodiment, since the thermosetting resin is sealed in the inner space of the annular side wall formed by bending the peripheral edge of the base 1, the base 1 is formed of a thin metal plate. In addition, since the strength can be increased and the portion is used as a contact reference surface when the pickup is mounted, there is no possibility that bending, warping, or the like occurs. Further, since the heat radiation area can be increased by increasing the width L of the bent portion, the problem of heat radiation during the LD operation as in the first embodiment can be solved.

【0011】図5は本発明によるステムの第3の実施例
を示し、図5Aはその斜視図、図5Bは断面図を示す。
ステムのベース1は、図示のようにその周縁部が図5A
において下方にほぼ直角に折り曲げた環状連続壁1A’
を有し、その上面1Bの開口部の一側にはシリコンサブ
マウントを介してレーザ発光素子等を取り付ける取付部
(ヒートシンク)3が一体に形成されている。ここで使
用される金属板は、既に述べたように、例えば0.1mm〜
0.5mm程度の鉄板である。図中、6は金ワイヤーであっ
て、アウトリード4と各端子を電気的に接続している。
7はシリコンサブマウントであって、取付部(ヒートシ
ンク)3の折り返し面に銀ペーストのような導電性ペー
ストで接合されている。8は発光素子であるLD(レー
ザーダイオード)、9は前記LDから発光されたレーザ
ー光をモニターするための受光素子を示す。図示のよう
に、LD8及び受光素子9はいずれも金ワイヤー6によ
ってアウトリード4に電気的に接続されている。このよ
うに構成されたステムは、ベース1外周縁を折り曲げ環
状壁部1A’が形成されているため、ベース1を強化す
るとともにその環状壁部を放熱フィンとすることがで
き、環状壁部の幅を調整することにより、ベース1自体
によっても必要な放熱性を確保することができる。しか
し、ステムの放熱性を一層高めるために、本実施形態で
は、図5Bに示すように、前記環状壁1A’によって囲
まれた空間内に、銅材等の放熱用のヒートシンク用円盤
5Aをアウトリード4と絶縁した状態で収容し、更にそ
の下側空間に絶縁性の熱硬化性樹脂5Bを充填封着し
て、アウトリード4と共に前記ヒートシンク用円盤5A
を封止している。この構成により、ステムの放熱性は前
記連続壁の幅Lに加え、放熱ヒートシンク用銅盤の厚さ
Mを調節することによって調節することができ、使用す
る半導体レーザ装置に最適な放熱性を容易に得ることが
できる。
FIG. 5 shows a third embodiment of the stem according to the present invention, FIG. 5A is a perspective view thereof, and FIG. 5B is a sectional view thereof.
The base 1 of the stem has a peripheral portion as shown in FIG.
The annular continuous wall 1A 'bent downward at a substantially right angle in FIG.
A mounting portion (heat sink) 3 for mounting a laser light emitting element or the like is integrally formed on one side of the opening of the upper surface 1B via a silicon submount. The metal plate used here is, for example, 0.1 mm to
It is an iron plate of about 0.5mm. In the figure, reference numeral 6 denotes a gold wire, which electrically connects the outlead 4 to each terminal.
Reference numeral 7 denotes a silicon submount, which is joined to the folded surface of the mounting portion (heat sink) 3 with a conductive paste such as a silver paste. Reference numeral 8 denotes an LD (laser diode) serving as a light emitting element, and 9 denotes a light receiving element for monitoring a laser beam emitted from the LD. As illustrated, both the LD 8 and the light receiving element 9 are electrically connected to the outlead 4 by the gold wire 6. In the stem configured as described above, since the outer peripheral edge of the base 1 is bent to form the annular wall portion 1A ', the base 1 can be strengthened and the annular wall portion can be used as a radiation fin. By adjusting the width, the necessary heat radiation can be ensured even by the base 1 itself. However, in order to further enhance the heat dissipation of the stem, in this embodiment, as shown in FIG. 5B, a heat sink disk 5A for heat dissipation such as a copper material is provided in a space surrounded by the annular wall 1A '. The heat sink disk 5A is housed in a state insulated from the lead 4 and further filled and sealed with an insulating thermosetting resin 5B in a space below the lead.
Is sealed. With this configuration, the heat radiation of the stem can be adjusted by adjusting the thickness M of the copper plate for the heat radiation heat sink in addition to the width L of the continuous wall, so that the optimal heat radiation for the semiconductor laser device to be used can be easily achieved. Obtainable.

【0012】この実施形態のステムのベース1の製造工
程は、図4に関連して説明した第2の実施例におけると
同様である。即ち、図4Aは前記厚みを有する薄い鉄板
から切り抜かれたブランクを示す。図4Bは前記ブラン
クの周縁をほぼ直角に折り曲げて得られた環状連続壁を
有する椀状の中間加工物を示し、図4Cは、この中間加
工物の中央平面部分について前記取付部(ヒートシン
ク)3になる部分3Aを残して切り抜いた状態を示して
いる。さらに、図4Dは、前記取付部(ヒートシンク)
3になる部分3Aに曲げ加工を施して起立させ断面L字
型の取付部(ヒートシンク)3を形成する。
The manufacturing process of the stem base 1 of this embodiment is the same as that in the second embodiment described with reference to FIG. That is, FIG. 4A shows a blank cut out from a thin iron plate having the above thickness. FIG. 4B shows a bowl-shaped intermediate workpiece having an annular continuous wall obtained by bending the peripheral edge of the blank at a substantially right angle, and FIG. 4C shows the mounting portion (heat sink) 3 on a central plane portion of the intermediate workpiece. 3A shows a cut-out state with a portion 3A remaining. Further, FIG. 4D shows the mounting portion (heat sink).
The portion 3A that becomes 3 is bent and raised to form a mounting portion (heat sink) 3 having an L-shaped cross section.

【0013】次に、本発明における放熱性を高めたステ
ムの第4の実施形態について説明する。この実施形態は
図6Aに示すように、ステムのシリコンサブマウントを
介してレーザ発光素子等を取り付ける取付部(ヒートシ
ンク)3には放熱性の優れた銅材Cを用いかつ、熱伝導
の少ないベース外周部はコスト削減を図るため及び、ス
テムの強度を確保するために鉄材Fを用いている。これ
を作製するには、図6Bに示すように、例えば、鉄ー銅
ー鉄ー銅ー・・・の順でストライプ状に金属を交互に張
り付けたクラッド材M1を用い、このクラッド材M1か
らなる円形のブランクBを打ち抜き、このブランクBの
銅の部分Cが前記取付部(ヒートシンク)3に来るよう
に板金加工を施す。その加工工程は図4について説明し
た第3の実施形態の場合と同様である。
Next, a fourth embodiment of the stem of the present invention having improved heat dissipation will be described. In this embodiment, as shown in FIG. 6A, a mounting member (heat sink) 3 for attaching a laser light emitting element or the like via a silicon submount of a stem uses a copper material C having excellent heat dissipation and a base having little heat conduction. The outer peripheral portion is made of an iron material F in order to reduce costs and secure the strength of the stem. In order to fabricate this, as shown in FIG. 6B, for example, a clad material M1 in which metals are stuck alternately in a stripe shape in the order of iron-copper-iron-copper-. A circular blank B is punched out, and sheet metal processing is performed so that the copper portion C of the blank B comes to the mounting portion (heat sink) 3. The processing steps are the same as in the case of the third embodiment described with reference to FIG.

【0014】図7Aは本発明の第5の実施形態のステム
をその真上から、つまり平面図で示している。前記第4
の実施態様では鉄Fと銅Cを交互に張り付けたクラッド
材M1を用いたが、この実施形態では、板の厚み方向、
つまりその表裏面に銅材Cと鉄材Fとを重ね合わせて張
り付けたクラッド材M2を用い(図7B)、このクラッ
ド材M2からステム加工用のブランクを打ち抜き、既に
図4について説明した方法によってステムを形成する。
この場合、ステムの板金加工において、ステムのベース
1の表側に鉄材Fが来るようにブランクの周縁部をほぼ
直角に折り曲げ、更にブランクの中央部をシリコンサブ
マウント取付部となる取付部(ヒートシンク)3を残し
て打ち抜き、最後に前記取付部(ヒートシンク)3を折
り曲げて起立させる。前記取付部(ヒートシンク)3を
起立させることにより、クラッド材裏面の銅材Cが初め
て表側に現れる。つまり、図7Aに示すように、シリコ
ンサブマウントの取付面側は銅材Cとなり銅の優れた熱
伝導性を活用することができる。他方、それ以外の部分
は鉄材Fが表面に現れているから鉄材の持つ優れた強度
特性を生かすことができる。これにより、それぞれの材
料の特性をうまく利用して強度的にも或いは放熱性の面
からみても優れたステムを得ることができる。
FIG. 7A shows a stem according to a fifth embodiment of the present invention from directly above, that is, in a plan view. The fourth
In the embodiment, the clad material M1 in which the iron F and the copper C are stuck alternately was used, but in this embodiment, the thickness direction of the plate,
That is, using a clad material M2 in which a copper material C and an iron material F are superposed and adhered on the front and back surfaces thereof (FIG. 7B), a blank for stem processing is punched from the clad material M2, and the stem is formed by the method already described in FIG. To form
In this case, in the sheet metal processing of the stem, the periphery of the blank is bent at substantially right angles so that the iron material F comes to the front side of the base 1 of the stem, and the center of the blank is a mounting portion (heat sink) serving as a silicon submount mounting portion. Then, the mounting portion (heat sink) 3 is bent upright. By erecting the mounting portion (heat sink) 3, the copper material C on the back surface of the clad material first appears on the front side. That is, as shown in FIG. 7A, the mounting surface side of the silicon submount becomes the copper material C, and the excellent thermal conductivity of copper can be utilized. On the other hand, since the iron material F appears on the surface in other parts, the excellent strength characteristics of the iron material can be utilized. As a result, it is possible to obtain a stem excellent in terms of strength or heat dissipation by making good use of the characteristics of each material.

【0015】以上で説明した半導体レーザ装置のステム
は、何れもLD取付部はベース1と一体に形成されてい
るが、図8に示す第6の実施形態のステムでは、LD取
付部は、アウトリード4(Gnd端子)と一体に形成さ
れている(図8A)。ここで、一体に形成されの意味
は、LD取付部とアウトリードが文字通り一体に形成さ
れるものだけでなく、溶接等の手段により接合されて一
体となるものをも含む。前記アウトリード4は、屈曲し
て形成したベース1の環状壁1A’によって囲まれた空
間内に充填した絶縁性の熱硬化性樹脂によりベース1に
固定される(図8B)。このようにして形成されたステ
ムには、第2の実施形態と同様に、ベース外周縁を折り
曲げ環状壁部1A’が形成されているため、ベース1自
体によって必要な放熱性を確保することができる。ま
た、第3の実施形態と同様に、環状壁1A’によって囲
まれた空間内に、銅材等の放熱用の例えば銅でできたヒ
ートシンク用円盤8Aをアウトリード4と絶縁した状態
で収容し、更にその下側空間に絶縁性の熱可硬化性樹脂
8Bを充填封着して、アウトリード4と共に前記ヒート
シンク用円盤を封止してもよい(図8C)。図9は本発
明によるステムのベース1の成形工程を説明するための
図である。図9Aは例えば、鉄などの金属板のブランク
を示す。図9Bはこのブランクの周縁部を下方に折り曲
げて折曲部を形成しかつ中央を平面とした中間加工物を
示している。図9Cは、この中間加工物の前記平面部分
にリード挿入用の孔4Bを設けて形成したベース1を示
す。
In each of the stems of the semiconductor laser device described above, the LD mounting portion is formed integrally with the base 1, but in the stem of the sixth embodiment shown in FIG. It is formed integrally with the lead 4 (Gnd terminal) (FIG. 8A). Here, the meaning of being integrally formed includes not only a case where the LD mounting portion and the outlead are literally formed integrally, but also a case where the LD mounting portion and the outlead are joined by means of welding or the like. The outlead 4 is fixed to the base 1 by an insulating thermosetting resin filled in a space surrounded by the annular wall 1A 'of the base 1 formed by bending (FIG. 8B). As in the second embodiment, the stem thus formed is formed with an annular wall portion 1A 'by bending the outer peripheral edge of the base, so that the base 1 itself can secure necessary heat radiation. it can. Similarly to the third embodiment, a heat sink disk 8A made of, for example, copper for heat dissipation such as a copper material is accommodated in a space surrounded by the annular wall 1A 'in a state insulated from the outlead 4. Further, an insulating thermosetting resin 8B may be filled and sealed in the lower space, and the heat sink disk may be sealed together with the outlead 4 (FIG. 8C). FIG. 9 is a view for explaining a molding step of the stem base 1 according to the present invention. FIG. 9A shows a blank of a metal plate such as iron. FIG. 9B shows an intermediate workpiece in which the periphery of the blank is bent downward to form a bent portion and the center is a plane. FIG. 9C shows the base 1 formed by providing a hole 4B for inserting a lead in the plane portion of the intermediate workpiece.

【0016】[0016]

【発明の効果】請求項1乃至13の発明に対応する効
果; 薄い金属板に対し、打ち抜き、曲げ等比較的簡単
なプレス加工を施すのみであるから金型の摩耗、破損が
起こり難く、そのため安価にステムを形成することがで
き、ピックアップ装着面積の縮小が必要な場合であって
も、ベースをプレスで単に打ち抜くことにより簡単に切
断することができる。さらに、金属板を折り曲げて環状
壁部を形成したため、内部空間中においてアウトリード
を熱硬化性樹脂で封止することができると共に、金属板
が薄いにも拘らずその強度を確保することができる。請
求項5の発明に対応する効果; 端子を固定する熱硬化
性樹脂は低温で硬化可能であるから、金メッキ済みの端
子をステムに固定することができ、そのため端子とステ
ムのベースとを異なる材料でメッキすることができる。
請求項6の発明に対応する効果: 環状壁部を放熱フィ
ンとして利用可能であり、その長さを調整することによ
って適当な放熱面積を得ることができる。請求項7、8
の発明に対応する効果: ベース周縁に形成された環状
壁部及びヒートシンク部材によって放熱性を確保するこ
とができると共に、環状壁部の幅及びヒートシンク部材
の厚さを調節することによって、適用する半導体レーザ
装置に応じてその放熱特性を最適にすることができる。
請求項9の発明に対応する効果; 熱伝導特性の優れた
材料を不必要な部分に用いることを大幅に制限すること
ができるから、コストを下げつつ放熱性の優れた半導体
レーザ装置を得ることができる。請求項10の発明に対
応する効果; 熱伝導性の優れた材料と強度の優れた材
料をそれぞれの特性を使い分けることができるから、コ
ストを下げつつ強度及び放熱性の優れた特性を有する半
導体レーザ装置を得ることができる。請求項11の発明
に対応する効果:銅材と鉄材とからなるクラッド材を用
いることにより、強度、放熱性を併せ持った低コストの
ステムを得ることができ、ひいては性能の優れた半導体
レーザ装置を低コストで得ることができる。
According to the first to thirteenth aspects of the present invention, a relatively simple press work such as punching or bending is performed on a thin metal plate, so that the mold is less likely to be worn or damaged. The stem can be formed inexpensively, and even when the pickup mounting area needs to be reduced, the base can be easily cut by simply punching out the base with a press. Furthermore, since the annular wall is formed by bending the metal plate, the outlead can be sealed with the thermosetting resin in the internal space, and the strength can be ensured even though the metal plate is thin. . Effect corresponding to the invention of claim 5; since the thermosetting resin for fixing the terminal can be cured at a low temperature, the gold-plated terminal can be fixed to the stem, so that the terminal and the base of the stem are made of different materials. Can be plated.
Advantageous Effects Corresponding to the Invention of Claim 6: The annular wall portion can be used as a radiation fin, and an appropriate radiation area can be obtained by adjusting its length. Claims 7 and 8
Advantageous Effects According to the Invention: A semiconductor to be applied by adjusting the width of the annular wall portion and the thickness of the heat sink member while ensuring heat dissipation by the annular wall portion and the heat sink member formed on the periphery of the base. The heat radiation characteristics can be optimized according to the laser device.
Effects corresponding to the invention of claim 9; use of a material having excellent heat conduction characteristics in unnecessary parts can be greatly restricted, so that a semiconductor laser device excellent in heat dissipation while reducing costs can be obtained. Can be. Effect corresponding to the invention of claim 10; a semiconductor laser having excellent strength and excellent heat dissipation while reducing costs because a material having excellent heat conductivity and a material having excellent strength can be used separately. A device can be obtained. Effect corresponding to the invention of claim 11: By using a clad material composed of a copper material and an iron material, a low-cost stem having both strength and heat dissipation can be obtained, and a semiconductor laser device excellent in performance can be obtained. It can be obtained at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の半導体レーザ装置のステムの第1の
実施形態のステムを示し、図1Aはその斜視図、1Bは
断面図を示す。
FIG. 1 shows a stem of a first embodiment of a stem of a semiconductor laser device of the present invention, FIG. 1A is a perspective view thereof, and FIG. 1B is a sectional view thereof.

【図2】 第1の実施形態のステムのベースの製造工程
を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a manufacturing process of a stem base according to the first embodiment.

【図3】 本発明の第2の実施形態のステムを示す斜視
図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a stem according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 第2の実施形態のステムのベースの製造工程
を説明する斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view illustrating a manufacturing process of a stem base according to a second embodiment.

【図5】 本発明の半導体レーザ装置の第3の実施形態
のステムを示すものであって、図5Aはその斜視図、5
Bは断面図を示す。
FIG. 5 shows a stem of a third embodiment of the semiconductor laser device of the present invention, and FIG.
B shows a sectional view.

【図6】 本発明の半導体レーザ装置の第4の実施形態
のステムの斜視図及びステムのベース用素材の平面図を
示す。
FIG. 6 shows a perspective view of a stem and a plan view of a base material of the stem according to a fourth embodiment of the semiconductor laser device of the present invention.

【図7】 本発明の半導体レーザ装置の第5の実施形態
のステムの平面図及びステムのベース用素材の断面図を
示す。
FIG. 7 shows a plan view of a stem and a cross-sectional view of a base material of the stem according to a fifth embodiment of the semiconductor laser device of the present invention.

【図8】 本発明の半導体レーザ装置の第6の実施形態
のステムを示し、図8Aはその斜視図、図8B、図8C
は断面図を示す。
FIG. 8 shows a stem of a semiconductor laser device according to a sixth embodiment of the present invention, and FIG. 8A is a perspective view thereof, FIGS. 8B and 8C.
Shows a sectional view.

【図9】 第6の実施形態のステムのベースの製造工程
を説明する斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view illustrating a step of manufacturing a stem base according to a sixth embodiment.

【図10】 従来の半導体レーザ装置のステムの断面図
を示す。
FIG. 10 shows a sectional view of a stem of a conventional semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・ベース、 2・・・環状壁
部分、3・・・取付部(ヒートシンク)、 4・・
・アウトリード、6・・・金ワイヤー、
7・・・コンサブマウント、8・・・LD(レーザー
ダイオード) 9・・・受光素子。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base, 2 ... Annular wall part, 3 ... Mounting part (heat sink), 4 ...
・ Outlead, 6 ... gold wire,
7 ... Con submount, 8 ... LD (laser diode) 9 ... Light receiving element.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/36 H01S 5/022 23/373 H01L 23/36 C H01S 5/022 M ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/36 H01S 5/022 23/373 H01L 23/36 C H01S 5/022 M

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ベース、該ベースに一体に形成したレー
ザ発光素子等の取付部及び、アウトリードからなるステ
ムを備えた半導体レーザ装置において、 前記ベースは、環状壁部を有するよう金属板を折り曲げ
て形成したものであることを特徴とする半導体レーザ装
置。
1. A semiconductor laser device comprising a base, a mounting portion for a laser light emitting element or the like formed integrally with the base, and a stem comprising an outlead, wherein the base is formed by bending a metal plate so as to have an annular wall portion. A semiconductor laser device characterized by being formed by:
【請求項2】 請求項1に記載された半導体レーザ装置
において、前記環状壁部は板金をその周縁から間隔を隔
てて折り曲げて形成したものであり、かつ、前記レーザ
発光素子等の取付部は板金上面を切り起こして前記環状
壁部に形成したものであることを特徴とする半導体レー
ザ装置。
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the annular wall portion is formed by bending a sheet metal at a distance from a peripheral edge thereof, and a mounting portion for the laser light emitting element or the like is formed. A semiconductor laser device characterized in that a sheet metal upper surface is cut and raised and formed on the annular wall portion.
【請求項3】 請求項1に記載された半導体レーザ装置
において、前記環状壁部は板金の周縁を折り曲げて形成
し、かつ、前記レーザ発光素子等の取付部は板金上面を
切り起こして形成したものであることを特徴とする半導
体レーザ装置。
3. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the annular wall portion is formed by bending a peripheral edge of a sheet metal, and a mounting portion for the laser light emitting element or the like is formed by cutting and raising an upper surface of the sheet metal. A semiconductor laser device characterized in that:
【請求項4】 請求項1または2に記載された半導体レ
ーザ装置において、前記アウトリードは前記環状壁部内
に封止された熱硬化性樹脂によって前記ベースに接合さ
れていることを特徴とする半導体レーザ装置。
4. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said outlead is joined to said base by a thermosetting resin sealed in said annular wall portion. Laser device.
【請求項5】 請求項1または2に記載された半導体レ
ーザ装置において、前記アウトリードと前記ベースがそ
れぞれ異なる材料でメッキされたものであることを特徴
とする半導体レーザ装置。
5. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said outlead and said base are plated with different materials.
【請求項6】 請求項1または2に記載された半導体レ
ーザ装置において、前記環状壁部は放熱フィンであるこ
とを特徴とする半導体レーザ装置。
6. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said annular wall is a radiation fin.
【請求項7】 ステムを備えた半導体レーザ装置におい
て、前記ステムは、板金を折り曲げて形成した環状壁部
を周縁に備えたベースを有し、該環状壁部内にヒートシ
ンク部材を封止したことを特徴とする半導体レーザ装
置。
7. A semiconductor laser device having a stem, wherein the stem has a base having an annular wall portion formed by bending a sheet metal on a peripheral edge, and a heat sink member is sealed in the annular wall portion. Characteristic semiconductor laser device.
【請求項8】 請求項7に記載された半導体レーザ装置
において、前記ヒートシンク部材は絶縁した銅材である
ことを特徴とする半導体レーザ装置。
8. The semiconductor laser device according to claim 7, wherein said heat sink member is an insulated copper material.
【請求項9】 ステムを備えた半導体レーザ装置におい
て、前記ステムは、熱伝導性の異なる2種の金属をスト
ライプ状に張り付けたクラッド材を折り曲げて形成した
環状壁部を周縁に備えたベースを有し、少なくとも前記
ベースに一体に形成されたレーザ発光素子等の取付部
が、前記異なる金属のうち熱伝導性の高い金属の部分で
形成されるよう成型されたものであることを特徴とする
半導体レーザ装置。
9. A semiconductor laser device having a stem, wherein the stem has a base having an annular wall formed by bending a clad material in which two kinds of metals having different thermal conductivities are stuck in a stripe shape. Wherein at least the mounting portion of the laser light emitting element or the like integrally formed on the base is molded so as to be formed of a metal portion having high thermal conductivity among the different metals. Semiconductor laser device.
【請求項10】 ステムを備えた半導体レーザ装置にお
いて、前記ステムは、熱伝導性の異なる2種の金属を表
裏に張り付けたクラッド材を折り曲げて形成した環状壁
部を周縁に備えたベースを有し、前記ベースに一体に形
成されたレーザ発光素子等の取付部のみが、前記異なる
金属のうち熱伝導性の高い金属の部分で形成されるよう
成型されたことを特徴とする半導体レーザ装置。
10. A semiconductor laser device having a stem, the stem having a base having an annular wall portion formed by bending a clad material having two kinds of metals having different thermal conductivities adhered to the front and back, and having a peripheral edge. A semiconductor laser device characterized in that only a mounting portion of a laser light emitting element or the like integrally formed on the base is formed of a metal portion having high thermal conductivity among the different metals.
【請求項11】 請求項9または10に記載された半導
体レーザ装置において、前記熱伝導性の異なる金属の一
方は鉄であり、かつ他方は銅であることを特徴とする半
導体レーザ装置。
11. The semiconductor laser device according to claim 9, wherein one of the metals having different thermal conductivities is iron and the other is copper.
【請求項12】 ベース、レーザ発光素子等の取付部及
び、アウトリードからなるステムを備えた半導体レーザ
装置において、 前記ベースは、金属板を折り曲げて形成した環状壁部を
有し、 前記レーザ発光素子等の取付部は前記アウトリードに一
体に形成されており、かつ、 前記アウトリードは前記環状壁部内に封止された熱硬化
性樹脂によって前記ベースに接合されていることを特徴
とする半導体レーザ装置。
12. A semiconductor laser device comprising a base, a mounting portion for a laser light emitting element or the like, and a stem composed of an outlead, wherein the base has an annular wall portion formed by bending a metal plate. A semiconductor, wherein an attachment portion for an element or the like is formed integrally with the outlead, and the outlead is joined to the base by a thermosetting resin sealed in the annular wall portion. Laser device.
【請求項13】 請求項12記載の半導体レーザ装置に
おいて、前記環状壁部内にさらにヒートシンク部材を封
止したことを特徴とする半導体レーザ装置。
13. The semiconductor laser device according to claim 12, wherein a heat sink member is further sealed in said annular wall portion.
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