JPH04278593A - Photoelectric device and manufacture thereof - Google Patents

Photoelectric device and manufacture thereof

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JPH04278593A
JPH04278593A JP4149391A JP4149391A JPH04278593A JP H04278593 A JPH04278593 A JP H04278593A JP 4149391 A JP4149391 A JP 4149391A JP 4149391 A JP4149391 A JP 4149391A JP H04278593 A JPH04278593 A JP H04278593A
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JP
Japan
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submount
semiconductor laser
laser element
optoelectronic device
dicing
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Application number
JP4149391A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Takizawa
泰 滝沢
Uichiro Kobayashi
小林 宇一郎
Yoshihiko Kobayashi
義彦 小林
Yukio Takahashi
幸生 高橋
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To use a submount of inexpensive copper so as to improve heat dissipating effect and to reduce a cost of a photoelectric device associated with an AlGaInP semiconductor laser (LD) element. CONSTITUTION:An LD element 5 is fixed on a submount 1 of copper in which peripheries of front and rear surfaces are lowered at one stage, in a state that a front end 9 slightly protrudes from a front edge 7a of the stage. The submount is formed by providing grooves 45 in a lattice state on front and rear surfaces of a plated copper plate 40 by etching and then cutting at the grooves by dicing. The end of a burr 3 at the time of dicing does not protrude from the groove, thereby eliminating a disturbance in the case of securing the LD element, etc. The securing accuracy of the element to be conducted with the end of the submount as a reference is high due to the dicing accuracy. Since the edge 2a of the stage of the groove becomes a substantially perpendicular section by etching, heat radiation of the emitting surface of the element is effectively conducted.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は光電子装置およびその製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to optoelectronic devices and methods of manufacturing the same.

【0002】0002

【従来の技術】光通信用光源あるいはディジタル・オー
ディオ・ディスク(DAD),ビデオ・ディスク等の情
報処理装置用光源として、各種構造の半導体レーザ素子
が開発されている。半導体レーザ(レーザ・ダイオード
:LD)はその動作時、多量の熱を発生する。したがっ
て、熱の効率的な放散は半導体レーザ素子を組み込んだ
光電子装置の構造設計においても重要である。また、半
導体レーザ素子は縦,横,高さがいずれも0.4mm以
下と小さいことから、その取扱性向上のためサブマウン
トと称される支持体上に固定されて取り扱われる。この
ような半導体レーザ素子はサブマウントを介して光電子
装置のパッケージ内のステム等に固定される。
2. Description of the Related Art Semiconductor laser elements of various structures have been developed as light sources for optical communications or for information processing devices such as digital audio disks (DAD) and video disks. A semiconductor laser (laser diode: LD) generates a large amount of heat during its operation. Therefore, efficient heat dissipation is also important in the structural design of optoelectronic devices incorporating semiconductor laser devices. Further, since the semiconductor laser element is small in length, width, and height of 0.4 mm or less, it is handled by being fixed on a support called a submount in order to improve its handling. Such a semiconductor laser element is fixed to a stem or the like within a package of an optoelectronic device via a submount.

【0003】通信用半導体レーザを安価にマウントする
例として、たとえば、日経BP社発行「日経エレクトロ
ニクス」1984年9月24日号、P265〜P294
「LSI実装への応用が始まったSiCセラミック;A
lをしのぐ熱伝導率とSiに近い熱膨張率を利用」のP
285およびP286に記載されている。この文献には
、Cu(銅)ステム上にPb/Sn(鉛/錫)ハンダに
よってSiC(シリコンカーバイト)のサブマウントを
固定し、SiCサブマウント上にPb/Snハンダによ
ってレーザ・チップ(半導体レーザ素子)を固定した例
が示されている。また、同文献には「従来,高信頼性の
通信用半導体レーザにはサブマウント材料として合成ダ
イヤモンドを使っていた。…ただし、現在最も問題にな
っているのは,ダイヤモンドが著しく高価なことである
。」旨記載されている。
[0003] As an example of mounting semiconductor lasers for communication at low cost, for example, "Nikkei Electronics" published by Nikkei BP, September 24, 1984 issue, P265-P294.
“SiC ceramics have begun to be applied to LSI packaging; A
Utilizes a thermal conductivity that exceeds that of l and a coefficient of thermal expansion that is close to that of Si”
285 and P286. This document describes that a SiC (silicon carbide) submount is fixed on a Cu (copper) stem with Pb/Sn (lead/tin) solder, and a laser chip (semiconductor) is fixed on the SiC submount with Pb/Sn solder. An example in which a laser element (laser element) is fixed is shown. In addition, the same document states, ``Synthetic diamond has traditionally been used as a submount material in highly reliable communication semiconductor lasers... However, the biggest problem today is that diamond is extremely expensive. There is.''

【0004】発振波長が780nm帯のGaAlAs(
ガリウム・アルミニウム・砒素)系で構成されるディジ
タル・オーディオ・ディスク用の半導体レーザについて
は、たとえば、日経BP社発行「日経エレクトロニクス
」1981年9月14日号、P138〜P152に記載
されている。この文献には、「半導体レーザー・チップ
は,せいぜい0.1×0.3×0.2mmと小さいので
,取り扱いを容易にするためと,放熱板を兼ねて,約1
mm角のサブマウント基板にマウントする。サブマウン
ト基板は,Cuの場合とSiの場合がある。…Siは熱
膨張係数がGaAsと近い。このため硬いAu−Sn系
やAu−Si系の高融点ろう材(ハンダ)が使える。 ろう材が硬いのでマウント時に注意を要するが,高温長
期保存に耐えると言われている。一方,Cuのサブマウ
ントを使う場合は,熱膨張係数の違いを吸収するために
軟らかいInろう材を使う。Inろう材を使うと初期歪
が小さい。しかし劣化の心配から,Inろう材+Cuサ
ブマウントの組み合わせは少なくなっている。Siまた
はCuのサブマウント基板はCuのポスト(ステムと一
体型のものもある)にマウントする。これが放熱板も兼
ねている。」と記載され、サブマウントにはSiやCu
が使われていることが述べられている。また、同文献に
は、「半導体レーザー・チップをサブマウント基板にマ
ウントする時,共振器端面とサブマウント基板端との寸
法精度は+3μm,−0μmが工場規格である。チップ
がサブマウント基板の端より奥に入っていると,レーザ
ー光がマウント基板でケラレるからである。」旨記載さ
れている。
GaAlAs (with an oscillation wavelength of 780 nm)
Semiconductor lasers for digital audio disks composed of (gallium, aluminum, arsenic) systems are described, for example, in "Nikkei Electronics", September 14, 1981 issue, pages 138 to 152, published by Nikkei BP. This document states, ``Since the semiconductor laser chip is small, at most 0.1 x 0.3 x 0.2 mm, it is necessary to
Mount it on a mm square submount board. The submount substrate may be made of Cu or Si. ...Si has a thermal expansion coefficient close to that of GaAs. For this reason, a hard Au-Sn based or Au-Si based brazing filler metal (solder) with a high melting point can be used. The brazing filler metal is hard, so care must be taken when mounting it, but it is said to withstand long-term storage at high temperatures. On the other hand, when using a Cu submount, a soft In brazing material is used to absorb the difference in thermal expansion coefficient. When In brazing filler metal is used, the initial strain is small. However, due to concerns about deterioration, the combination of In brazing filler metal and Cu submount is becoming rarer. A Si or Cu submount substrate is mounted on a Cu post (some are integrated with the stem). This also serves as a heat sink. ”, and the submount is made of Si or Cu.
It is stated that it is used. The same document also states, ``When mounting a semiconductor laser chip on a submount substrate, the factory standard is that the dimensional accuracy between the resonator end face and the submount substrate edge is +3 μm and -0 μm. This is because if the laser beam is placed deeper than the edge, it will be vignetted by the mount board.''

【0005】一方、発振波長が0.6μm帯の可視光半
導体レーザについては、工業調査会発行「電子材料」1
986年1月号、昭和61年1月1日発行、P86〜P
93に記載されている。この文献にはAlGaInP(
アルミニウム・ガリウム・インジウム・燐)系の半導体
レーザ素子が、ダイヤモンドヒートシンクに固定された
写真が開示されている。また、同文献には、発振閾値電
流の温度特性が示されているとともに、この特性の説明
の欄で、「図12はレーザの温度特性を示したものであ
る。25°c付近でのパルスモードでの特性温度(To
)は122〜133Kであり,パルスでは145°cま
で、CWでは60°cまでの発振が可能である。CW発
振閾値電流密度は平均3.8kA/cm2 ,最小3.
6kA/cm2 であった(共振器長200〜250μ
m)。」とも記載されている。
On the other hand, regarding visible light semiconductor lasers with an oscillation wavelength in the 0.6 μm band, see “Electronic Materials” 1 published by Kogyo Kenkyukai.
January 986 issue, published January 1, 1986, P86-P
93. This document describes AlGaInP (
A photograph of an aluminum-gallium-indium-phosphorus semiconductor laser device fixed to a diamond heat sink is disclosed. In addition, the same document shows the temperature characteristics of the oscillation threshold current, and in the explanation section of this characteristic, it states, ``Figure 12 shows the temperature characteristics of the laser. Characteristic temperature in mode (To
) is 122 to 133K, and oscillation is possible up to 145°c in pulse mode and up to 60°c in CW mode. The CW oscillation threshold current density is 3.8 kA/cm2 on average and 3.8 kA/cm2 on average.
6kA/cm2 (cavity length 200-250μ
m). ” is also stated.

【0006】他方、AlGaInP系半導体レーザの温
度特性が、GaAlAs系半導体レーザ等に比較して悪
いのは、(H.C.Casey,Jr,M.B.Pan
ish  HETERO  STRUCTURE  L
ASERS,1987,PART,B,P.P44に記
載されているように、バンドギャップ(AlGaInP
とGaInPのエネルギーキャップEg 差)が小さい
こと、Inst.Phys.Conf.Ser.No.
106:Chapter8,P.P575,1990に
記載されているように、キャリア濃度が上げられないこ
とにある。
On the other hand, the temperature characteristics of AlGaInP-based semiconductor lasers are worse than those of GaAlAs-based semiconductor lasers, as described in (H.C. Casey, Jr., M.B. Pan).
ish HETERO STRUCTURE L
ASERS, 1987, PART, B, P. As described in P44, the bandgap (AlGaInP
and GaInP (energy cap Eg difference) is small, Inst. Phys. Conf. Ser. No.
106: Chapter 8, P. P575, 1990, the carrier concentration cannot be increased.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来、サブマウントと
しては、GaAlAs等の半導体レーザ素子等に対して
はSiが使用されており、熱抵抗(−Rth) の大き
な半導体レーザ素子では熱伝導率の高いSiC,AlN
,ダイヤモンド等が使用されている。
[Problems to be Solved by the Invention] Conventionally, Si has been used as a submount for semiconductor laser devices such as GaAlAs. High SiC, AlN
, diamond, etc. are used.

【0008】本発明者は、InGaAlP系半導体レー
ザ素子を組み込んだ光電子装置において、使用するサブ
マウントの材料,加工の適否を生産性,コスト面で検討
して見た。Siサブマウントはコスト面では安いが、熱
伝導率が前記文献から引用すれば125W・m−1・°
K−1,室温となり、AlNの60〜170W・m−1
・°K−1,室温、高熱伝導SiCの270W・m−1
・°K−1,室温、SiC単結晶の60〜490W・m
−1・°K−1,室温、ダイヤモンドの900〜200
0W・m−1・°K−1,室温に比較して低いことから
、熱抵抗の大きな半導体レーザ素子を組み込む光電子装
置には使用できない。 また、AlN,SiC,ダイヤモンドはコストが高い。 銅サブマウントは銅の熱伝導率が394W・m−1・°
K−1,室温となり高熱伝導SiCやAlNよりも高く
熱放散性で優れ、かつまた安価である利点がある。しか
し、前記文献にも指摘されているように、半導体レーザ
素子とサブマウントを接合するために使用されるInろ
う材の劣化に心配があり、銅サブマウントは使用されな
い傾向にある。また、本出願人の経験によっても、従来
の切断加工法では極めて薄い銅板(銅箔)の加工性は必
ずしも良いとは言えず、量産性に適してしないため、本
出願人にあっては現在使用していない。
The present inventor examined the suitability of the material and processing of the submount to be used in an optoelectronic device incorporating an InGaAlP semiconductor laser element in terms of productivity and cost. Although the Si submount is cheap in terms of cost, its thermal conductivity is 125 W m-1 ° according to the above literature.
K-1, room temperature, 60-170W m-1 of AlN
・°K-1, room temperature, 270W m-1 of high thermal conductivity SiC
・°K-1, room temperature, 60 to 490 W・m of SiC single crystal
-1・°K-1, room temperature, 900 to 200 of diamond
0 W·m−1·°K−1, which is low compared to room temperature, cannot be used in optoelectronic devices incorporating semiconductor laser elements with large thermal resistance. Furthermore, AlN, SiC, and diamond are expensive. The thermal conductivity of copper for the copper submount is 394W・m−1・°
K-1, room temperature, high thermal conductivity, superior in heat dissipation properties than SiC and AlN, and has the advantage of being inexpensive. However, as pointed out in the above-mentioned literature, there is a concern about the deterioration of the In brazing material used to bond the semiconductor laser element and the submount, and therefore copper submounts tend not to be used. Additionally, based on the applicant's experience, the workability of extremely thin copper plates (copper foil) using conventional cutting methods is not necessarily good and is not suitable for mass production. Not used.

【0009】そこで、本発明者は、再度サブマウントの
材質の選択,加工技術の開発について検討し本発明を成
した。すなわち、熱放散性を高くしかつ材料コストの低
減を図るためには、高価でかつ加工性が必ずしも良好と
は言えないAlNやSiC等のセラミックまたはダイヤ
モンドに代えて安価な金属の使用を図るしかない。また
、この場合、以下に記す従来の切断加工法での問題点を
解消する加工技術の開発が新たに必要となる。
[0009] Therefore, the inventor of the present invention once again studied the selection of the material of the submount and the development of processing technology, and completed the present invention. In other words, the only way to improve heat dissipation and reduce material costs is to use inexpensive metals instead of ceramics or diamonds, such as AlN and SiC, which are expensive and do not necessarily have good workability. do not have. Furthermore, in this case, it is necessary to develop a new processing technology that solves the problems with conventional cutting methods described below.

【0010】以下、本発明者の検討による金属サブマウ
ント形成のための従来の加工法の特徴およびそれによっ
て製造されたサブマウントの半導体レーザ素子組立にお
ける問題点について説明する。サブマウントの製造にお
いては銅を使用する。素材となる銅板(銅箔)は、従来
の同程度の厚さ寸法のサブマウントを製造することから
、たとえば0.1〜0.2μm程度を使用する。検討加
工法としては、プレス加工,エッチング加工,ダイシン
グ加工について説明する。
[0010] Hereinafter, features of the conventional processing method for forming a metal submount investigated by the present inventors and problems in assembling a semiconductor laser element of the submount manufactured using the method will be explained. Copper is used in the manufacture of submounts. The copper plate (copper foil) used as the material is, for example, about 0.1 to 0.2 μm, since submounts having the same thickness as conventional submounts are manufactured. As processing methods to be considered, press processing, etching processing, and dicing processing will be explained.

【0011】プレス加工では、図9,図10に示すよう
に、金属の剪断加工のため、サブマウント1の縁2には
丸み(ダレ)3や突起(バリ)4が発生する。この丸み
3や突起4はサブマウント1が薄いこともあって、発生
した場合修正することは難しい。半導体レーザ素子5を
サブマウント1の一端側に寄せてソルダ6を介して固定
した際、図9で示す丸み3を有する面側への固定の場合
には、サブマウント1の前縁7の丸み3部分と半導体レ
ーザ素子5の前端9との間に空間10が発生したり、あ
るいはサブマウント1の丸み3部分と半導体レーザ素子
5の前端9との間にサブマウント1に比較して熱伝導率
が低いソルダ6が他よりも厚く介在したりするため、レ
ーザ光11の出射面12近傍で発生した熱の放散性が低
くなり、温度特性が悪くなる。また、半導体レーザ素子
5が固定されたサブマウント1は、ステム等に固定され
るが、このステムの固定面にはサブマウント1の突起4
が乗るため、サブマウント1は傾斜して固定され、レー
ザ光11の発光方向が変化してしまう。
In press working, as shown in FIGS. 9 and 10, due to shearing of the metal, rounding (sagging) 3 and protrusions (burrs) 4 are generated on the edge 2 of the submount 1. This roundness 3 and protrusion 4 are difficult to correct if they occur, partly because the submount 1 is thin. When the semiconductor laser element 5 is brought to one end of the submount 1 and fixed via the solder 6, the roundness of the front edge 7 of the submount 1 is A space 10 may be generated between the rounded portion 3 of the submount 1 and the front end 9 of the semiconductor laser device 5, or a space 10 may be generated between the rounded portion 3 of the submount 1 and the front end 9 of the semiconductor laser device 5 compared to the submount 1. Since the solder 6 having a lower rate is thicker than the others, the dissipation of heat generated in the vicinity of the emission surface 12 of the laser beam 11 is lowered, and the temperature characteristics are deteriorated. Further, the submount 1 to which the semiconductor laser element 5 is fixed is fixed to a stem or the like, and the protrusion 4 of the submount 1 is attached to the fixing surface of the stem.
As a result, the submount 1 is tilted and fixed, and the direction in which the laser beam 11 is emitted changes.

【0012】サブマウント1の突起4のある面側に半導
体レーザ素子5を固定した図10の場合、半導体レーザ
素子5の前端9が前記突起4上に乗ることから、半導体
レーザ素子5がθと傾斜して固定され、レーザ光11の
発光方向が変化する。また、半導体レーザ素子5が傾く
ことから、半導体レーザ素子5とサブマウント1との間
隔が一部で広くなり、ソルダ6内にボイド13が発生し
たり、あるいは固定用のソルダ6が部分的に厚くなった
りして均一な熱放散が行えなくなり、発光特性に悪影響
を及ぼす。
In the case of FIG. 10 in which the semiconductor laser element 5 is fixed to the side of the submount 1 with the protrusion 4, the front end 9 of the semiconductor laser element 5 rests on the protrusion 4, so that the semiconductor laser element 5 is It is tilted and fixed, and the emission direction of the laser beam 11 changes. In addition, since the semiconductor laser element 5 is tilted, the distance between the semiconductor laser element 5 and the submount 1 becomes wide in some parts, and voids 13 are generated in the solder 6, or the fixing solder 6 is partially removed. If the film becomes thick, uniform heat dissipation cannot be achieved, which adversely affects the light emitting characteristics.

【0013】エッチング加工では、図11に示すように
、サブマウント1の縁2に丸み3が発生せず、縁は略直
角断面となる。しかし、エッチングによる切断のため、
サブマウント1の端面中段部分には突条14が残る。こ
の突条14の突出長さ(a)は、サブマウント1の厚さ
のばらつきやエッチング処理のばらつきによって変化し
てしまう。サブマウント1に半導体レーザ素子5を固定
する場合、サブマウント1の一端面、すなわち、前記突
条14の先端が基準面となり、この基準面に対して設定
された寸法位置に自動的に半導体レーザ素子5が固定さ
れる。この結果、図12に示すように、前記突条14の
突出長さが規定長さ(m)よりもsと短い場合、半導体
レーザ素子5の前端9がサブマウント1の前縁7よりも
内側に位置し、半導体レーザ素子5を固定するソルダ6
が半導体レーザ素子5の出射面側に溢れ出て盛り上がり
部15が発生し易くなる。半導体レーザ素子5がレーザ
光11を発光する接合を下方にして固定するいわゆるジ
ャンクション・ダウンの場合には、前記盛り上がり部1
5は出射面12から発光されたレーザ光11の障害物と
なり、発光特性に悪影響を与える原因となる。また、前
記盛り上がり部15は脱落すると異物となって光電子装
置のパッケージ内に存在するため、ショート不良の原因
となる等信頼度的にも好ましくない。
In the etching process, as shown in FIG. 11, no rounding 3 is generated on the edge 2 of the submount 1, and the edge has a substantially right-angled cross section. However, due to cutting by etching,
A protrusion 14 remains in the middle portion of the end surface of the submount 1. The protrusion length (a) of the protrusion 14 changes due to variations in the thickness of the submount 1 and variations in the etching process. When fixing the semiconductor laser element 5 to the submount 1, one end surface of the submount 1, that is, the tip of the protrusion 14 serves as a reference plane, and the semiconductor laser is automatically moved to the dimensional position set with respect to this reference plane. Element 5 is fixed. As a result, as shown in FIG. 12, when the protrusion length of the protrusion 14 is shorter than the specified length (m), the front end 9 of the semiconductor laser element 5 is located inside the front edge 7 of the submount 1. A solder 6 is located at and fixes the semiconductor laser element 5.
overflows to the emission surface side of the semiconductor laser element 5, and a raised portion 15 is likely to occur. In the case of a so-called junction down method in which the semiconductor laser element 5 is fixed with the junction that emits the laser beam 11 facing downward, the raised portion 1
5 becomes an obstacle to the laser beam 11 emitted from the emission surface 12, causing an adverse effect on the light emission characteristics. Moreover, if the raised portion 15 falls off, it becomes a foreign substance and exists inside the package of the optoelectronic device, which is not desirable in terms of reliability as it may cause short-circuit defects.

【0014】また、図13のように、前記突条14の突
出長さが規定長さ(m)よりもlと長い場合、半導体レ
ーザ素子5の前端9がサブマウント1の前縁7よりも突
出し、前述の丸み3面側に半導体レーザ素子5を固定し
た場合と同様に丸み3部分と半導体レーザ素子5との間
に空間10が発生したり、ソルダ6が部分的に厚く介在
したりするため、温度特性が悪くなる。なお、前記文献
記載と同様に、半導体レーザ素子5をサブマウント1に
固定する際、半導体レーザ素子5の前端9がサブマウン
ト1の前縁7よりも0〜20μm程度突出するようにし
て固定される。
Further, as shown in FIG. 13, when the protrusion length of the protrusion 14 is l longer than the specified length (m), the front end 9 of the semiconductor laser element 5 is longer than the front edge 7 of the submount 1. As in the case where the semiconductor laser element 5 is protruded and the semiconductor laser element 5 is fixed on the side of the rounded surface 3 described above, a space 10 is generated between the rounded part 3 and the semiconductor laser element 5, or the solder 6 is partially thickly interposed. Therefore, the temperature characteristics deteriorate. Note that, as described in the above literature, when the semiconductor laser element 5 is fixed to the submount 1, the front end 9 of the semiconductor laser element 5 is fixed so as to protrude from the front edge 7 of the submount 1 by about 0 to 20 μm. Ru.

【0015】ダイシング加工の場合には、図14に示す
ように、サブマウント1の表裏面の縁に突起(バリ)4
が発生し、図10で説明したように、温度特性の低下,
レーザ光の発光方向の狂い等の不都合を生じる。なお、
ダイシングによって発生するバリ4をできるだけ短くす
るように加工条件を設定すると、バリ長さを0.015
〜0.02mm程度以下とすることができることも確認
してある。
In the case of dicing, projections (burrs) 4 are formed on the edges of the front and back surfaces of the submount 1, as shown in FIG.
occurs, and as explained in Fig. 10, the temperature characteristics decrease,
This causes inconveniences such as deviation in the direction of laser light emission. In addition,
If the processing conditions are set to make the burr 4 generated by dicing as short as possible, the burr length will be 0.015.
It has also been confirmed that the thickness can be reduced to about 0.02 mm or less.

【0016】そこで、本発明者はこれら各種加工の長所
を利用する複合加工手段を開発することを思い立ち本発
明を成した。
[0016] Therefore, the inventor of the present invention came up with the idea of developing a composite processing means that utilizes the advantages of these various processing methods, and accomplished the present invention.

【0017】本発明の目的は、放熱性が優れかつコスト
の低減が達成できるサブマウントを組み込んだ光電子装
置およびその製造技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an optoelectronic device incorporating a submount that has excellent heat dissipation properties and can achieve cost reduction, and a manufacturing technique thereof.

【0018】本発明の他の目的は従来の組立技術を略変
更することなく光電子装置の組立ができるサブマウント
を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a submount that allows the assembly of optoelectronic devices without substantially changing conventional assembly techniques.

【0019】本発明の他の目的は、AlGaInP系の
半導体レーザ素子を組み込んだ熱特性の良好な光電子装
置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an optoelectronic device incorporating an AlGaInP semiconductor laser element and having good thermal characteristics.

【0020】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。すなわち、本発明のAlGaInP
系可視光半導体レーザを組み込んだ光電子装置にあって
は、半導体レーザ素子は銅のサブマウントに固定された
構造となっている。この銅サブマウントは、表裏面に所
望のメッキが施された銅板の表裏面に対応してエッチン
グによって格子状に溝を設けた後、前記溝部分でダイシ
ングによって切断することによって製造される。この結
果、サブマウントの表裏面の周囲は一段低くなっている
。そして、この段差による縁はエッチングによって略直
角断面に形成される。また、ダイシングでは、突起(バ
リ)の発生ができるだけ抑えられるように行われ、ダイ
シング時に発生するバリの先端が前記溝の外、すなわち
サブマウントの表裏面上に突出しないようにされる。さ
らに、前記サブマウント上に固定される半導体レーザ素
子は、レーザ光を発光する出射面側の端部、すなわち前
端が前記段差による縁から0〜20μm程度わずかに突
出するようにソルダを介して固定されている。
[Means for Solving the Problems] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows. That is, AlGaInP of the present invention
In an optoelectronic device incorporating a visible light semiconductor laser, the semiconductor laser element is fixed to a copper submount. This copper submount is manufactured by etching grooves in a lattice pattern corresponding to the front and back surfaces of a copper plate whose front and back surfaces are coated with a desired plating, and then cutting the copper plate at the groove portions by dicing. As a result, the circumferences of the front and back surfaces of the submount are lowered one step further. Then, the edge due to this step is formed into a substantially right-angled cross section by etching. Furthermore, dicing is performed in such a way that the generation of protrusions (burrs) is suppressed as much as possible, and the tips of the burrs generated during dicing are prevented from protruding outside the groove, that is, on the front and back surfaces of the submount. Furthermore, the semiconductor laser element fixed on the submount is fixed via solder so that the end on the side of the emission surface that emits laser light, that is, the front end slightly protrudes from the edge of the step by about 0 to 20 μm. has been done.

【0022】[0022]

【作用】上記のように本発明の光電子装置は、SiC,
AlN,ダイヤモンド等に比較して安価な銅からなるサ
ブマウントを使用しているため、コストの低減が達成で
きる。
[Function] As described above, the optoelectronic device of the present invention uses SiC,
Since a submount made of copper, which is cheaper than AlN, diamond, etc., is used, cost reduction can be achieved.

【0023】本発明の光電子装置は温度特性が安定する
。すなわち、銅はダイヤモンドに比較して熱伝導率が低
いが、Siに比較して2倍以上、AlNに比較して2〜
6倍以上、熱伝導率SiCに比較して3倍以上と高い。 したがって、熱抵抗の高いAlGaInP系半導体レー
ザ素子を銅サブマウント上に固定した構造の光電子装置
にあっても、熱特性は良好となる。この結果、この光電
子装置をレーザ・ビーム・プリンタの光源として使用し
、長い実線を描させた場合、熱特性が良好なため、実線
を描いている間に徐々に光出力が低下することもなく、
描かれた実線の最後部を最前部と同様な濃さで描けるこ
とになる。
The optoelectronic device of the present invention has stable temperature characteristics. In other words, copper has a lower thermal conductivity than diamond, but it has a thermal conductivity that is more than twice that of Si and 2 to 2 times that of AlN.
The thermal conductivity is more than 6 times that of SiC, which is more than 3 times that of SiC. Therefore, even in an optoelectronic device having a structure in which an AlGaInP semiconductor laser element with high thermal resistance is fixed on a copper submount, the thermal characteristics are good. As a result, when this optoelectronic device is used as a light source in a laser beam printer to draw a long solid line, its good thermal characteristics prevent the light output from gradually decreasing while drawing the solid line. ,
The last part of the drawn solid line can be drawn with the same density as the front part.

【0024】本発明の光電子装置はサブマウントの形状
故に熱放散性が高い。すなわち、サブマウントにあって
は、チップ搭載面の周囲の縁はエッチングによって略直
角断面に形成されている。そして、前記の縁部分に半導
体レーザ素子の出射面側の前端が固定される。したがっ
て、半導体レーザ素子の前端部分の熱は、ソルダを介し
て速やかに熱伝導率の高いサブマウント、さらにはヒー
トシンクやステム等の支持体に伝達されるため、光電子
装置の熱特性が良好となる。
The optoelectronic device of the present invention has high heat dissipation properties due to the shape of the submount. That is, in the submount, the edge around the chip mounting surface is formed into a substantially right-angled cross section by etching. Then, the front end of the semiconductor laser element on the emission surface side is fixed to the edge portion. Therefore, the heat at the front end of the semiconductor laser element is quickly transferred via the solder to the highly thermally conductive submount and further to the support such as the heat sink or stem, resulting in good thermal characteristics of the optoelectronic device. .

【0025】本発明の光電子装置は銅のサブマウントを
用いているが、光電子装置の製造において支障なく組立
が行える。すなわち、このサブマウントはその製造にお
いて、エッチング加工とダイヤモンド加工による複合加
工法を採用していることから、半導体レーザ素子の固定
またはサブマウントの固定に支障を来す突起がサブマウ
ントの表裏面上に突出しない。したがって、前記突起に
起因する半導体レーザ素子やサブマウントの傾斜は発生
しなくなり、レーザ光発光方向の狂いが発生しなくなる
。また、半導体レーザ素子およびサブマウントの傾斜に
よって生じるソルダ内の空隙発生や部分的なソルダの厚
膜化現象が発生しなくなり、熱放散性が良好となる。
Although the optoelectronic device of the present invention uses a copper submount, it can be assembled without any problem in manufacturing the optoelectronic device. In other words, because this submount employs a combined processing method using etching processing and diamond processing in its manufacture, there are protrusions on the front and back surfaces of the submount that may interfere with fixing the semiconductor laser element or fixing the submount. Does not stand out. Therefore, the semiconductor laser element and the submount will not be tilted due to the protrusion, and the direction of laser light emission will not be misaligned. Furthermore, the generation of voids in the solder and the phenomenon of partial thickening of the solder film caused by the inclination of the semiconductor laser element and the submount are prevented, and heat dissipation is improved.

【0026】[0026]

【実施例】以下図面を参照して本発明の一実施例につい
て説明する。図1は本発明の一実施例による光電子装置
における半導体レーザ素子の固定状態を示す要部斜視図
、図2は本発明の一実施例による光電子装置の製造に使
用されるサブマウントの製造状態を示す銅板の一部平面
図、図3は同じく銅板の断面図、図4は同じくサブマウ
ントの斜視図、図5は光電子装置の製造においてサブマ
ウントに半導体レーザ素子を固定する際のサブマウント
の位置決め状態を示す平面図、図6は同じくサブマウン
トに半導体レーザ素子を固定する状態を示す側面図、図
7は同じくサブマウントの保持状態を示す断面図、図8
は本発明による光電子装置の一部を切り欠いた状態を示
す斜視図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of essential parts showing a fixed state of a semiconductor laser element in an optoelectronic device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a manufacturing state of a submount used in manufacturing the optoelectronic device according to an embodiment of the present invention. 3 is a cross-sectional view of the same copper plate, FIG. 4 is a perspective view of the submount, and FIG. 5 is a diagram showing the positioning of the submount when fixing a semiconductor laser element to the submount in the manufacture of optoelectronic devices. 6 is a side view showing the state in which the semiconductor laser element is fixed to the submount, FIG. 7 is a sectional view showing the state in which the submount is held, and FIG. 8
1 is a partially cutaway perspective view of an optoelectronic device according to the present invention; FIG.

【0027】本発明の光電子装置は図8に示すような構
造となっている。この光電子装置20は、発振波長67
0nmのレーザ光を発光し、たとえばレーザ・ビーム・
プリンタの光源として使用される。この光電子装置20
は、それぞれアセンブリの主体部品となる板状のステム
21およびこのステム21の主面側に気密固定されたキ
ャップ22とからなっている。前記ステム21は数mm
の厚さの円形の銅製金属板となっていて、その主面(上
面)の中央部には銅製のヒートシンク23がソルダで固
定されている。このヒートシンク23の側面には銅から
なるサブマウント1を介して半導体レーザ素子5が固定
されている。図1は半導体レーザ素子5の固定状態を示
す拡大図である。前記半導体レーザ素子5は、たとえば
、幅が400μm,長さが300μm,高さが100μ
mとなっていて、レーザ光11は図示しない共振器の両
端の出射面12から発光されている。前記半導体レーザ
素子5は、AlGaInP系可視光半導体レーザからな
るとともに、ジャンクション・ダウンの状態で前記サブ
マウント1のチップ搭載面25に、Pb−Snからなる
ソルダ6を介して固定されている。また、前記サブマウ
ント1もソルダ26によってヒートシンク23に固定さ
れている。
The optoelectronic device of the present invention has a structure as shown in FIG. This optoelectronic device 20 has an oscillation wavelength of 67
Emits 0nm laser light, for example, laser beam
Used as a light source for printers. This optoelectronic device 20
Each of these comprises a plate-shaped stem 21, which is the main component of the assembly, and a cap 22 hermetically fixed to the main surface of the stem 21. The stem 21 is several mm thick.
The heat sink 23 is made of a circular copper metal plate having a thickness of , and a copper heat sink 23 is fixed to the center of the main surface (upper surface) with solder. A semiconductor laser element 5 is fixed to the side surface of the heat sink 23 via a submount 1 made of copper. FIG. 1 is an enlarged view showing the fixed state of the semiconductor laser element 5. As shown in FIG. The semiconductor laser element 5 has a width of 400 μm, a length of 300 μm, and a height of 100 μm, for example.
m, and the laser beam 11 is emitted from output surfaces 12 at both ends of the resonator (not shown). The semiconductor laser element 5 is made of an AlGaInP visible light semiconductor laser, and is fixed to the chip mounting surface 25 of the submount 1 in a junction-down state via a solder 6 made of Pb-Sn. Further, the submount 1 is also fixed to the heat sink 23 by solder 26.

【0028】一方、前記ステム21の主面には、半導体
レーザ素子5の下端から発光されるレーザ光11を受光
し、レーザ光11の光出力をモニターする受光素子27
が固定されている。この受光素子27はステム21の主
面に設けられた傾斜面28に、図示しない接合材を介し
て固定されている。これは、半導体レーザ素子5から発
光されたレーザ光11の受光素子27の受光面における
反射光が、キャップの窓内に入らないようにすることに
よって、遠視野像の乱れを生じさせなくするためである
On the other hand, a light receiving element 27 is provided on the main surface of the stem 21 to receive the laser beam 11 emitted from the lower end of the semiconductor laser element 5 and monitor the optical output of the laser beam 11.
is fixed. This light receiving element 27 is fixed to an inclined surface 28 provided on the main surface of the stem 21 via a bonding material (not shown). This is to prevent the reflected light from the light receiving surface of the light receiving element 27 of the laser light 11 emitted from the semiconductor laser element 5 from entering the window of the cap, thereby preventing disturbance of the far field image. It is.

【0029】他方、前記ステム21には3本のリード2
9が固定されている。1本のリード29はステム21の
裏面に電気的および機械的に固定され、他の2本のリー
ド29はステム21を貫通し、かつガラスのような絶縁
体30を介してステム21に対し電気的に絶縁されて固
定されている。前記ステム21の主面に突出する2本の
リード29の上端は、それぞれワイヤ31を介して半導
体レーザ素子5および受光素子27の各電極に接続され
ている。
On the other hand, the stem 21 has three leads 2.
9 is fixed. One lead 29 is electrically and mechanically fixed to the back surface of the stem 21, and the other two leads 29 pass through the stem 21 and are electrically connected to the stem 21 through an insulator 30 such as glass. is insulated and fixed. The upper ends of the two leads 29 protruding from the main surface of the stem 21 are connected to respective electrodes of the semiconductor laser element 5 and the light receiving element 27 via wires 31, respectively.

【0030】また、前記ステム21の主面には窓32を
有する金属製のキャップ22が気密的に固定され、半導
体レーザ素子5およびヒートシンク23を封止している
。前記窓32はキャップ22の天井部に設けた円形孔を
透明なガラス板33で気密的に塞ぐことによって形成さ
れている。したがって、半導体レーザ素子5の上端から
出射したレーザ光11は、この透明なガラス板33を透
過してステム21とキャップ22とによって形成された
パッケージ外に放射される。なお、前記ステム21の外
周部分には、相互に対峙して設けられる一対のV字状切
欠部34と、矩形状切欠部35が設けられ、組立時の位
置決め等に使用されるようになっている。
Further, a metal cap 22 having a window 32 is hermetically fixed to the main surface of the stem 21 to seal the semiconductor laser element 5 and the heat sink 23. The window 32 is formed by airtightly closing a circular hole provided in the ceiling of the cap 22 with a transparent glass plate 33. Therefore, the laser light 11 emitted from the upper end of the semiconductor laser element 5 passes through the transparent glass plate 33 and is emitted outside the package formed by the stem 21 and the cap 22. A pair of V-shaped notches 34 and a rectangular notch 35 are provided on the outer circumferential portion of the stem 21 and are used for positioning during assembly. There is.

【0031】このような光電子装置20にあっては、こ
れが本発明の特徴の一つであるが、サブマウント1とし
て銅のサブマウントが使用されている。また、この銅の
サブマウント1は、銅板(銅箔)をプレス加工,エッチ
ング加工,ダイシング加工,等従来の加工法で切断して
形成した場合には、前述のように丸み(ダレ),突起(
バリ),突条等が切断部分に生じ好ましくないことから
、本発明の銅のサブマウント1は、複合加工法、すなわ
ち、エッチング加工とダイシング加工による2段の加工
によって銅板(銅箔)から銅のサブマウント1を製造し
ている。
In such an optoelectronic device 20, which is one of the features of the present invention, a copper submount is used as the submount 1. In addition, when this copper submount 1 is formed by cutting a copper plate (copper foil) using conventional processing methods such as press processing, etching processing, dicing processing, etc., rounding (sagging) and protrusions may occur as described above. (
Since burrs, protrusions, etc. are undesirably generated in the cut portion, the copper submount 1 of the present invention is manufactured by using a composite processing method, that is, a two-step process of etching and dicing to remove copper from a copper plate (copper foil). Manufactures submount 1.

【0032】つぎに、このようなサブマウント1の製造
について説明するとともに、製造されたサブマウント1
の形状について明らかにする。サブマウント1の製造に
おいては、図2に示すように最初に矩形の銅板(銅箔)
40が用意される。この銅板(銅箔)40は、たとえば
、0.2mmの厚さのものが選択される。そして、この
銅板(銅箔)40にはメッキ処理が施される。メッキ処
理は前記銅板(銅箔)40の表裏面全域に施される数百
nmの厚さのNi膜41(図3参照)、銅板(銅箔)4
0の表面に施される半導体レーザ素子5を固定するため
の数十nmの厚さの選択的に設けられるAu膜42(図
3参照)、銅板(銅箔)40の裏面への数百nmの厚さ
のAu膜43(図3参照)、前記Au膜42上への数μ
mの厚さのPb−Sn−In膜44(図3参照)と順次
施される。前記Au膜42は、図2に示されるように、
点々が施された領域のように形成されている。また、こ
のAu膜42にあっては、サブマウント1の段差前縁7
aでは、図示しない半導体レーザの共振器に対応するそ
れ以上に幅広の領域のみが延在し、その両側では段差前
縁7aに沿って延在しないようになっている。このよう
に部分延在部42aを設けておくことによって、半導体
レーザ素子の固定(チップボンディング)時、段差前縁
7aでは余分にソルダが供給されるため、ソルダが半導
体レーザ素子5の前方に食み出してレーザ光11の障害
とならないようになる。また、前記Au膜42の後端中
央部は窪みパターン42bとなり、半導体レーザ素子5
の長さよりもわずかに短くなり、半導体レーザ素子5が
固定された際、半導体レーザ素子5の後端中央部分に余
分にソルダ6が行き渡らないようにし、レーザ光11の
後方光のソルダ6の食み出し部分によるケラレが生じな
いように配慮されている。
Next, the manufacturing of such a submount 1 will be explained, and the manufactured submount 1 will be explained.
We will clarify the shape of In manufacturing submount 1, as shown in Figure 2, a rectangular copper plate (copper foil) is first manufactured.
40 will be prepared. This copper plate (copper foil) 40 is selected to have a thickness of, for example, 0.2 mm. This copper plate (copper foil) 40 is then subjected to plating treatment. The plating process includes a Ni film 41 (see FIG. 3) with a thickness of several hundred nm applied to the entire front and back surfaces of the copper plate (copper foil) 40, and a copper plate (copper foil) 4.
An Au film 42 with a thickness of several tens of nanometers (see FIG. 3) is selectively provided to fix the semiconductor laser element 5 on the surface of the copper plate (copper foil) 40, and an Au film 42 with a thickness of several hundred nanometers is deposited on the back surface of the copper plate (copper foil) 40. The Au film 43 (see FIG. 3) has a thickness of several microns on the Au film 42 (see FIG. 3).
A Pb-Sn-In film 44 (see FIG. 3) having a thickness of m is sequentially applied. The Au film 42, as shown in FIG.
It is shaped like a dotted area. Moreover, in this Au film 42, the stepped front edge 7 of the submount 1
At point a, only a wider region corresponding to a resonator of a semiconductor laser (not shown) extends, and does not extend along the step leading edge 7a on both sides thereof. By providing the partial extension portion 42a in this manner, when the semiconductor laser element is fixed (chip bonding), extra solder is supplied at the step leading edge 7a, so that the solder is fed to the front of the semiconductor laser element 5. This prevents the laser beam 11 from protruding and becoming an obstacle to the laser beam 11. Further, the central part of the rear end of the Au film 42 becomes a concave pattern 42b, and the semiconductor laser element 5
When the semiconductor laser element 5 is fixed, the solder 6 is prevented from reaching the center part of the rear end of the semiconductor laser element 5. Care has been taken to avoid vignetting due to protruding parts.

【0033】つぎに、前記銅板(銅箔)40の表裏面に
はエッチングによって格子状に溝45が設けられる。こ
の溝45は、図3に示されるように、幅0.25mm程
度、深さ0.03mm程度となっている。また、この溝
45はサブマウントの後述する段差前縁7aを形成する
ために一部で細くなっている。溝45は図2においては
、図3に示されるようにエッチング縁はプレス加工のよ
うに丸み(ダレ)を生じたり、プレス加工やダイシング
加工のように突起(バリ)を生じたりすることがなく、
かつまた縁は略直角断面になっている。
Next, grooves 45 are formed in a grid pattern on the front and back surfaces of the copper plate (copper foil) 40 by etching. As shown in FIG. 3, this groove 45 has a width of about 0.25 mm and a depth of about 0.03 mm. Further, this groove 45 is partially thinned to form a stepped front edge 7a, which will be described later, of the submount. As shown in FIG. 3, the groove 45 in FIG. 2 has an etched edge that does not become rounded (sag) as in press processing or produce protrusions (burrs) as in press processing or dicing. ,
Moreover, the edge has a substantially right-angled cross section.

【0034】つぎに、前記銅板(銅箔)40をダイシン
グによって切断する。ダイシングは図2において破線、
図3においては平行な2本の二点鎖線で示すように、前
記溝45の略中央に沿って約50μmの幅で行われる。 切断は、半導体集積回路素子を形成する際のウエハの切
断と同様に、薄い銅板(銅箔)40を図示しない支持板
に貼り付けた後切断する。この切断においては、切断す
るブレードの回転速度,切削送り速度等を選択し、ダイ
シングによって切断縁に発生する突起(バリ)の長さが
0.015〜0.02mm以内と最も小さくなるように
する。この結果、ダイシング時に発生した図示しないバ
リの先端は、溝の深さよりも短くなることから、エッチ
ングによる溝45に囲まれたサブマウント1の表面側の
平坦なチップ搭載面25および裏面側の平坦な支持体固
定面46上に突出することがなく、後工程のチップボン
ディング,サブマウント固定において支障を来たさなく
なる。前記ダイシングによって製造されたサブマウント
1は図4に示すような形状となる。サブマウント1にお
いては、サブマウント1の周囲には段差が発生し、一段
低い面47が形成される。この低い面47は、段差前縁
7aを除いて約0.1mmの幅でサブマウント1の周囲
に拡がる。これは、図7に示すように、半導体レーザ素
子5が搭載されたサブマウント1をボンディング・ツー
ル48で保持した際、サブマウント1の最外周、すなわ
ち低い面47の縁がボンディング・ツール48に接触し
、段差の縁2aが接触しないようにするためである。 前記ボンディング・ツール48においては、サブマウン
ト1を保持した際、ボンディング・ツール48が半導体
レーザ素子5に接触しないように一部が切り欠かれ、逃
げ部49が設けられている。したがって、サブマウント
1においてボンディング・ツール48が接触するサブマ
ウント1の縁は図4に示す二点鎖線で取り囲まれる縁領
域である。
Next, the copper plate (copper foil) 40 is cut by dicing. Dicing is indicated by broken lines in Figure 2.
As shown by two parallel two-dot chain lines in FIG. 3, the groove 45 is formed approximately along the center thereof with a width of approximately 50 μm. The thin copper plate (copper foil) 40 is attached to a support plate (not shown) and then cut, similar to cutting of a wafer when forming a semiconductor integrated circuit element. In this cutting, the rotational speed of the cutting blade, cutting feed rate, etc. are selected so that the length of the protrusion (burr) generated on the cutting edge due to dicing is minimized to within 0.015 to 0.02 mm. . As a result, the tip of the burr (not shown) generated during dicing becomes shorter than the depth of the groove, so that the flat chip mounting surface 25 on the front side of the submount 1 surrounded by the etched groove 45 and the flat chip mounting surface 25 on the back side are It does not protrude above the support fixing surface 46, and does not cause any trouble in chip bonding and submount fixing in subsequent steps. The submount 1 manufactured by the dicing has a shape as shown in FIG. 4. In the submount 1, a step is generated around the submount 1, and a lower surface 47 is formed. This low surface 47 extends around the submount 1 with a width of about 0.1 mm excluding the stepped front edge 7a. This is because, as shown in FIG. 7, when the submount 1 on which the semiconductor laser element 5 is mounted is held by the bonding tool 48, the outermost periphery of the submount 1, that is, the edge of the lower surface 47, is held by the bonding tool 48. This is to prevent the edges 2a of the step from coming into contact with each other. The bonding tool 48 is partially cut out and provided with an escape portion 49 so that the bonding tool 48 does not come into contact with the semiconductor laser element 5 when the submount 1 is held. Therefore, the edge of the submount 1 that the bonding tool 48 contacts in the submount 1 is the edge area surrounded by the two-dot chain line shown in FIG.

【0035】つぎに、このような銅のサブマウント1を
使用する光電子装置の製造(組立)につてい説明する。 図5および図6に示されるように、治具52の支持面5
3上にサブマウント1を載置した後、先端がV字爪とな
る位置決め片54でサブマウント1の角部をサブマウン
ト1の対角線方向に押し、サブマウント1を治具52の
直角に延在する位置決め突条55に押し当てて位置決め
する。なお、前記位置決め突条55の一部は図6に示さ
れるように、突出した基準面56となり、半導体レーザ
素子5の前端9の位置決めを行うようになっている。そ
こで、コレット57の下端に半導体レーザ素子5を真空
吸着保持した後、このコレット57を前記基準面56方
向に移動させて半導体レーザ素子5の前端9を基準面5
6に接触させる。また、前記治具52に対してコレット
57を前記基準面56に沿う平面方向に相対的に移動調
整して、サブマウント1に対する位置決めを行う。その
後、前記コレット57を下降させて半導体レーザ素子5
をサブマウント1に押し付けるとともに、加熱によって
サブマウント1のPb−Sn−In膜44を一時的に溶
融させて、半導体レーザ素子5をサブマウント1に固定
する。この際、固定された半導体レーザ素子5は、前記
基準面56によって段差前縁7aから0〜10μmの取
り付け誤差範囲でサブマウント1に固定される。半導体
レーザ素子5の前端9は、縁が略直角断面となる段差前
縁7a上に乗るため、半導体レーザ素子5における前端
9の部分の熱も速やかにサブマウント1に伝達されるこ
とになり、効果的な熱放散が可能となる。また、このチ
ップボンディング時、サブマウント1のチップ搭載面2
5側および支持体固定面46側には、サブマウント1の
製造時に発生した突起(バリ)の先端が突出しないこと
から、半導体レーザ素子5が傾いて固定されることがな
い。これは、次のサブマウント1の固定の場合にも同様
に言えることである。
Next, the manufacturing (assembly) of an optoelectronic device using such a copper submount 1 will be explained. As shown in FIGS. 5 and 6, the support surface 5 of the jig 52
After placing the submount 1 on the jig 52, push the corner of the submount 1 in the diagonal direction of the submount 1 using the positioning piece 54 whose tip is a V-shaped claw, and extend the submount 1 at right angles to the jig 52. It is positioned by pressing against the existing positioning protrusion 55. Note that, as shown in FIG. 6, a portion of the positioning protrusion 55 becomes a protruding reference surface 56 for positioning the front end 9 of the semiconductor laser element 5. Therefore, after holding the semiconductor laser element 5 at the lower end of the collet 57 by vacuum suction, the collet 57 is moved in the direction of the reference plane 56, and the front end 9 of the semiconductor laser element 5 is moved to the reference plane 56.
6. Further, the collet 57 is moved and adjusted relative to the jig 52 in the plane direction along the reference surface 56 to position it with respect to the submount 1. Thereafter, the collet 57 is lowered and the semiconductor laser element 5 is
is pressed against the submount 1, and the Pb-Sn-In film 44 of the submount 1 is temporarily melted by heating, thereby fixing the semiconductor laser element 5 to the submount 1. At this time, the fixed semiconductor laser element 5 is fixed to the submount 1 by the reference surface 56 within a mounting error range of 0 to 10 μm from the step leading edge 7a. Since the front end 9 of the semiconductor laser element 5 rests on the stepped front edge 7a having a substantially right-angled cross section, the heat at the front end 9 of the semiconductor laser element 5 is also quickly transferred to the submount 1. Effective heat dissipation becomes possible. Also, during this chip bonding, the chip mounting surface 2 of submount 1
Since the tip of a protrusion (burr) generated during manufacturing of the submount 1 does not protrude from the 5 side and the support fixing surface 46 side, the semiconductor laser element 5 is not fixed in an inclined manner. This also applies to the next case of fixing the submount 1.

【0036】つぎに、半導体レーザ素子5が搭載された
サブマウント1は、図7に示されるように、ボンディン
グ・ツール48によって保持され、支持体であるヒート
シンク23に押し付けられ、ソルダ26によって固定さ
れる。ヒートシンク23は図8に示されるように、受光
素子27やリード29が取り付けられたステム21の主
面に固定されている。前記半導体レーザ素子5の固定時
、前記ヒートシンク23に対してボンディング・ツール
48は相対的に移動調整される。この移動調整は、固定
時駆動制御された半導体レーザ素子5が発光するレーザ
光11のモニター情報のフィードバックによって行われ
る。この結果、半導体レーザ素子5はステム21に対し
て一定の位置に高精度に固定されることになる。
Next, as shown in FIG. 7, the submount 1 on which the semiconductor laser element 5 is mounted is held by a bonding tool 48, pressed against a heat sink 23 serving as a support, and fixed by a solder 26. Ru. As shown in FIG. 8, the heat sink 23 is fixed to the main surface of the stem 21 to which the light receiving element 27 and leads 29 are attached. When fixing the semiconductor laser element 5, the bonding tool 48 is adjusted to move relative to the heat sink 23. This movement adjustment is performed by feedback of monitor information of the laser beam 11 emitted by the semiconductor laser element 5 whose drive is controlled when fixed. As a result, the semiconductor laser element 5 is fixed at a fixed position with respect to the stem 21 with high precision.

【0037】つぎに、前記リード29の内端と半導体レ
ーザ素子5および受光素子27とはワイヤ31で電気的
に接続される。また、前記ステム21の主面には、透明
なガラス板33が取り付けられたキャップ22が気密的
に固定される。この結果、ステム21の主面にそれぞれ
配設されたヒートシンク23,リード29内端,受光素
子27,ワイヤ31,ヒートシンク23に固定された半
導体レーザ素子5等は、前記キャップ22に気密的に封
止されることになり、図8に示されるような光電子装置
20が完成する。
Next, the inner end of the lead 29 and the semiconductor laser element 5 and the light receiving element 27 are electrically connected by a wire 31. Further, a cap 22 to which a transparent glass plate 33 is attached is airtightly fixed to the main surface of the stem 21. As a result, the heat sink 23 , the inner end of the lead 29 , the light receiving element 27 , the wire 31 , the semiconductor laser element 5 fixed to the heat sink 23 , etc. arranged on the main surface of the stem 21 are hermetically sealed in the cap 22 . The optoelectronic device 20 as shown in FIG. 8 is completed.

【0038】このような実施例によれば、つぎのような
効果が得られる。 (1)本発明の光電子装置は、サブマウントとして銅が
使用されているが、この銅のサブマウントは銅板の表裏
面をエッチングして格子条の溝を形成した後、この溝底
をダイシングで切断して得ることから、エッチングによ
る段差部分の縁はダレが発生したりバリが発生していな
い。また、前記ダイシングによるバリはチップ搭載面や
支持体固定面から一段低い溝底に発生するため、サブマ
ウントのチップ搭載面や支持体固定面上には突出してい
ない。したがって、固定されたサブマウントや半導体レ
ーザ素子はバリによって傾くことはなく正常に固定され
ている。この結果、本発明の光電子装置にあっては、サ
ブマウントや半導体レーザ素子の傾きによるレーザ光の
発光方向のバラツキがなく特性が安定するという効果が
得られる。
According to this embodiment, the following effects can be obtained. (1) The optoelectronic device of the present invention uses copper as a submount. This copper submount is made by etching the front and back surfaces of a copper plate to form a lattice groove, and then dicing the bottom of the groove. Since it is obtained by cutting, there is no sag or burr on the edge of the step portion due to etching. Moreover, the burr caused by the dicing is generated at the bottom of the groove that is one step lower than the chip mounting surface or the support fixing surface, and therefore does not protrude above the chip mounting surface or the support fixing surface of the submount. Therefore, the fixed submount and semiconductor laser element are not tilted due to burrs and are normally fixed. As a result, in the optoelectronic device of the present invention, there is no variation in the emission direction of laser light due to the inclination of the submount or the semiconductor laser element, and the characteristics are stabilized.

【0039】(2)上記(1)により、本発明の光電子
装置は、サブマウントとして銅が使用され、この銅のサ
ブマウント上に半導体レーザ素子が固定されているが、
前記半導体レーザ素子はダレのないサブマウントの段差
前縁に前縁が重なるように固定されていることから、レ
ーザ光を発光する出射面部分の熱はソルダを介してダレ
のないサブマウントに速やかに伝わり、熱放散が効果的
に行われ、熱特性が安定するという効果が得られる。
(2) According to (1) above, in the optoelectronic device of the present invention, copper is used as the submount, and the semiconductor laser element is fixed on the copper submount.
Since the semiconductor laser element is fixed so that its leading edge overlaps the stepped front edge of the submount with no sag, the heat from the output surface that emits the laser beam is quickly transferred to the submount without sag through the solder. This results in effective heat dissipation and stable thermal characteristics.

【0040】(3)上記(1)により、本発明の光電子
装置は、その製造においてエッチングおよびダイシング
によってサブマウントが形成されている。この結果、エ
ッチングによって形成される半導体レーザ素子の前端が
固定される段差の縁と、ダイシングによって形成される
サブマウントの縁との長さ寸法は、ダイシング装置の加
工精度で高精度に決まる。したがって、サブマウントの
縁を基準として行われる半導体レーザ素子の固定位置精
度は高いものとなり、ダレのないサブマウントの段差前
縁に半導体レーザ素子の前縁が重なるように固定するこ
とがでる。このため、組み立てられた光電子装置にあっ
ては、レーザ光の出射面部分の熱も効果的に放熱される
ため熱特性が安定するという効果が得られる。
(3) According to the above (1), in the optoelectronic device of the present invention, the submount is formed by etching and dicing during manufacturing. As a result, the length dimensions of the edge of the step formed by etching to which the front end of the semiconductor laser element is fixed and the edge of the submount formed by dicing are determined with high precision by the processing accuracy of the dicing device. Therefore, the fixing position accuracy of the semiconductor laser element based on the edge of the submount is high, and it is possible to fix the semiconductor laser element so that the front edge of the semiconductor laser element overlaps the stepped front edge of the submount without sag. Therefore, in the assembled optoelectronic device, the heat of the laser light emitting surface portion is also effectively radiated, resulting in the effect that the thermal characteristics are stabilized.

【0041】(4)本発明の光電子装置は、サブマウン
トとして銅が使用されているが、銅はダイヤモンドに次
いで熱伝導率が高いことから、Si,AlN,SiC等
のサブマウントを使用した従来の光電子装置に比較して
熱特性が安定するという効果が得られる。したがって、
本発明の光電子装置をレーザ・ビーム・プリンタの光源
として使用した場合、長い実線を描かせても熱特性が良
好なため、実線を描いている間に徐々に光出力が低下す
ることもなく、描かれた実線の最後部を最前部と同様な
濃さで描けることになる。
(4) Copper is used as a submount in the optoelectronic device of the present invention, but since copper has the second highest thermal conductivity after diamond, conventional methods using submounts of Si, AlN, SiC, etc. The effect is that the thermal characteristics are more stable compared to the optoelectronic device. therefore,
When the optoelectronic device of the present invention is used as a light source for a laser beam printer, it has good thermal characteristics even when drawing a long solid line, so the optical output does not gradually decrease while drawing a solid line. The last part of the drawn solid line can be drawn with the same density as the front part.

【0042】(5)従来熱放散性を高くした光電子装置
にあっては、ダイヤモンド,AlN,SiC等の非金属
を使用しているが、これらの材料は高価である、Cuは
ダイヤモンド程熱伝導率が高くないが、前記AlN,S
iCに比較して大幅に熱伝導率は高く、熱抵抗の高いA
lGaInP系の半導体レーザ素子の放熱にも充分効果
を発揮する。したがって、本発明によれば熱特性が安定
した安価な光電子装置を提供することができるという効
果が得られる。
(5) Conventionally, nonmetals such as diamond, AlN, and SiC are used in optoelectronic devices with high heat dissipation properties, but these materials are expensive, and Cu is not as thermally conductive as diamond. Although the rate is not high, the AlN,S
A with significantly higher thermal conductivity and higher thermal resistance than iC
It is also sufficiently effective in dissipating heat from lGaInP semiconductor laser devices. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an inexpensive optoelectronic device with stable thermal characteristics.

【0043】(6)本発明の光電子装置は、周縁が一段
低く薄くなったサブマウントを使用しているが、従来使
用しているボンディングツールで従来同様に保持できる
ため、組立方法の変更もないという効果が得られる。
(6) Although the optoelectronic device of the present invention uses a submount whose peripheral edge is lower and thinner, it can be held in the same manner as before using conventional bonding tools, so there is no need to change the assembly method. This effect can be obtained.

【0044】(7)上記(1)〜(6)により、本発明
によれば、温度特性が安定した安価な光電子装置を提供
することができるという相乗効果が得られる。
(7) According to the above (1) to (6), according to the present invention, a synergistic effect can be obtained in that an inexpensive optoelectronic device with stable temperature characteristics can be provided.

【0045】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない、たとえば、
前記実施例ではサブマウントとしてCuを使用したが、
Cu以外の金属、たとえば、アルミニウム,モリブデン
,タングステン等、さらにはこれらによる合金を使用し
ても、高度の熱放散性,製造コスト低減が達成できる。
[0045] The invention made by the present inventor has been specifically explained based on examples, but the present invention is not limited to the above-mentioned examples, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Needless to say, for example,
In the above embodiment, Cu was used as the submount, but
Metals other than Cu, such as aluminum, molybdenum, tungsten, etc., or alloys thereof, can also be used to achieve high heat dissipation properties and reduced manufacturing costs.

【0046】また、前記実施例では、溝の中央でダイシ
ングを行ったが、ダイシングの位置を偏らせて、製造さ
れるサブマウントの一端を他の端よりも、低い面が長く
なるようにして、組立等の便宜を図るようにしてもよい
。さらには、本発明にあっては、異形条技術でフレーム
状の素材を変形させ、その後変形させた溝部分をダイシ
ングで切断してサブマウントを製造するようにしても前
記実施例同様な効果が得られる。
Further, in the above embodiment, dicing was performed at the center of the groove, but the dicing position was shifted so that one end of the submount to be manufactured had a lower side longer than the other end. , the assembly may be facilitated. Furthermore, in the present invention, the same effect as in the above embodiment can be obtained even if the submount is manufactured by deforming the frame-shaped material using the deformed strip technique and then cutting the deformed groove portion with dicing. can get.

【0047】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるAlG
aInP系可視光半導体レーザ素子を組み込んだ光電子
装置およびその製造技術に適用した場合について説明し
たが、それに限定されるものではなく、たとえば、In
GaAsP系半導体レーザやGaAlAs系半導体レー
ザの製造技術などに適用できる。本発明は少なくとも高
い放熱効果を必要とする光電子装置には適用できる。
[0047] In the above explanation, the invention made by the present inventor will be mainly explained in relation to the application field of AlG, which is the background of the invention.
Although the case where it is applied to an optoelectronic device incorporating an aInP-based visible light semiconductor laser element and its manufacturing technology has been described, it is not limited thereto.
It can be applied to manufacturing techniques for GaAsP-based semiconductor lasers and GaAlAs-based semiconductor lasers. The present invention is applicable to at least optoelectronic devices that require high heat dissipation effects.

【0048】[0048]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。本発明の光電子装置は銅のサブマウ
ントを使用していることから、熱放散性がSi,SiC
,AlNによるサブマウントに比較して良好であり熱特
性が良い。また、前記サブマウントはその加工方法がエ
ッチングとエッチング溝底のダイシングによるため、エ
ッチングによる縁の直角断面化と、この縁部分への半導
体レーザ素子の出射面側端の一致固定とによって効果的
な熱放散効果が可能となる。また、サブマウントの寸法
精度はダイシングによるため、サブマウントの端と前記
エッチングによる縁との寸法精度が高くなり組立精度が
高い。また、前記ダイシングによるバリは、エッチング
による溝の底でダイシングが行われるため、組立に影響
を及ぼすこともない。さらには、安価な銅のサブマウン
トの使用により、光電子装置のコストの低減が達成でき
る。
Effects of the Invention A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. Since the optoelectronic device of the present invention uses a copper submount, the heat dissipation property is
, and has better thermal characteristics than a submount made of AlN. In addition, since the submount is processed by etching and dicing the bottom of the etched groove, the edge is made into a right-angled cross section by etching, and the edge of the semiconductor laser element on the emission surface side is aligned and fixed to this edge, making it effective. A heat dissipation effect is possible. Furthermore, since the dimensional accuracy of the submount is achieved by dicing, the dimensional accuracy between the end of the submount and the etched edge is high, resulting in high assembly accuracy. In addition, the burr caused by the dicing does not affect the assembly because the dicing is performed at the bottom of the etched groove. Additionally, a reduction in the cost of optoelectronic devices can be achieved through the use of inexpensive copper submounts.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一実施例による光電子装置における半
導体レーザ素子の固定状態を示す要部斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a main part showing a fixed state of a semiconductor laser element in an optoelectronic device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の光電子装置におけるサブマウントを製
造するエッチング処理した銅板の一部の平面図である。
FIG. 2 is a plan view of a portion of an etched copper plate for manufacturing a submount in an optoelectronic device of the invention;

【図3】本発明の光電子装置の製造に用いる銅板の一部
の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a portion of a copper plate used in manufacturing the optoelectronic device of the present invention.

【図4】本発明の光電子装置におけるサブマウントの斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a submount in the optoelectronic device of the invention.

【図5】本発明の光電子装置の製造におけるサブマウン
ト位置決め状態を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing the submount positioning state in manufacturing the optoelectronic device of the present invention.

【図6】本発明の光電子装置の製造における半導体レー
ザ素子の固定状態を示す側面図である。
FIG. 6 is a side view showing a fixed state of a semiconductor laser element in manufacturing the optoelectronic device of the present invention.

【図7】本発明の光電子装置の製造における半導体レー
ザ素子を有するサブマウントの保持状態を示す断面図で
ある。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state in which a submount having a semiconductor laser element is held in manufacturing the optoelectronic device of the present invention.

【図8】本発明による光電子装置の一部を切り欠いた状
態を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view with a part cut away of an optoelectronic device according to the invention.

【図9】プレス加工によって形成されたサブマウントの
縁に丸みを有する面に半導体レーザ素子を固定した状態
を示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing a state in which a semiconductor laser element is fixed to a surface having a rounded edge of a submount formed by press working.

【図10】プレス加工によって形成されたサブマウント
の縁に突起を有する面に半導体レーザ素子を固定した状
態を示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing a state in which a semiconductor laser element is fixed to a surface having a protrusion on the edge of a submount formed by press working.

【図11】エッチング加工によって形成されたサブマウ
ントの一部を示す模式図である。
FIG. 11 is a schematic diagram showing a part of a submount formed by etching.

【図12】エッチング加工によって形成された突条が短
いサブマウントと、半導体レーザ素子の固定位置との相
関を示す模式図である。
FIG. 12 is a schematic diagram showing the correlation between a submount with short protrusions formed by etching and the fixing position of a semiconductor laser element.

【図13】エッチング加工によって形成された突条が長
いサブマウントと、半導体レーザ素子の固定位置との相
関を示す模式図である。
FIG. 13 is a schematic diagram showing the correlation between a submount with long protrusions formed by etching and a fixing position of a semiconductor laser element.

【図14】ダイシング加工によって形成されたサブマウ
ントの一部を示す模式図である。
FIG. 14 is a schematic diagram showing a part of a submount formed by dicing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…サブマウント、2…縁、2a…段差の縁、3…丸み
(ダレ)、4…突起(バリ)、5…半導体レーザ素子、
6…ソルダ、7…前縁、7a…段差前縁、9…前端、1
0…空隙、11…レーザ光、12…出射面、13…ボイ
ド、14…突条、15…盛り上がり部、20…光電子装
置、21…ステム、22…キャップ、23…ヒートシン
ク、25…チップ搭載面、26…ソルダ、27…受光素
子、28…傾斜面、29…リード、30…絶縁体、31
…ワイヤ、32…窓、33…ガラス板、34…V字状切
欠部、35…矩形状切欠部、40…銅板(銅箔)、41
…Ni膜、42…Au膜、42a…部分延在部、42b
…窪みパターン、43…Au膜、44…Pb−Sn−I
n膜、45…溝、46…支持体固定面、47…低い面、
48…ボンディング・ツール、49…逃げ部、52…治
具、53…支持面、54…位置決め片、55…位置決め
突条、56…基準面、57…コレット。
1... Submount, 2... Edge, 2a... Edge of step, 3... Roundness (sag), 4... Protrusion (burr), 5... Semiconductor laser element,
6... Solder, 7... Front edge, 7a... Step front edge, 9... Front end, 1
0...Gap, 11...Laser beam, 12...Emission surface, 13...Void, 14...Protrusion, 15...Swelling part, 20...Optoelectronic device, 21...Stem, 22...Cap, 23...Heat sink, 25...Chip mounting surface , 26... Solder, 27... Light receiving element, 28... Inclined surface, 29... Lead, 30... Insulator, 31
...Wire, 32...Window, 33...Glass plate, 34...V-shaped notch, 35...Rectangular notch, 40...Copper plate (copper foil), 41
...Ni film, 42...Au film, 42a...partial extension part, 42b
... Hollow pattern, 43... Au film, 44... Pb-Sn-I
n film, 45...groove, 46...support fixing surface, 47...low surface,
48... Bonding tool, 49... Relief portion, 52... Jig, 53... Support surface, 54... Positioning piece, 55... Positioning protrusion, 56... Reference surface, 57... Collet.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  支持体と、この支持体の主面に固定さ
れたサブマウントと、前記サブマウントの主面に固定さ
れた半導体レーザ素子とを有する光電子装置であって、
前記サブマウントは金属板からなるとともに、サブマウ
ントのチップ搭載面と支持体固定面の全周の縁には丸み
や突起がなくかつ少なくとも半導体レーザ素子の一端が
重なる縁は略直角断面となっていることを特徴とする光
電子装置。
1. An optoelectronic device comprising a support, a submount fixed to the main surface of the support, and a semiconductor laser element fixed to the main surface of the submount,
The submount is made of a metal plate, and the edges of the chip mounting surface and support fixing surface of the submount have no roundness or protrusion, and at least the edge where one end of the semiconductor laser element overlaps has a substantially right-angled cross section. An optoelectronic device characterized by:
【請求項2】  前記サブマウントは銅板からなるとと
もに表裏面の周縁は一段低く形成されて薄くなりかつ前
記段差の縁は略直角断面となっていることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の光電子装置。
2. The submount is made of a copper plate, and the peripheral edges of the front and back surfaces are formed one step lower and thinner, and the edge of the step has a substantially right-angled cross section. Optoelectronic device as described.
【請求項3】  サブマウントの主面に半導体レーザ素
子を固定する工程と、前記サブマウントを支持体の主面
に固定する工程とを有することを特徴とする光電子装置
の製造方法であって、熱伝導率の高い金属板にメッキ処
理を施す工程と、前記金属板の表裏面にエッチング加工
によって格子状に溝を形成する工程と、ダイシングによ
って前記溝部分で切断して表裏面の周囲が一段低くなっ
たサブマウントを形成する工程とを有することを特徴と
する光電子装置の製造方法。
3. A method for manufacturing an optoelectronic device, comprising the steps of fixing a semiconductor laser element to the main surface of a submount, and fixing the submount to the main surface of a support, the method comprising: A process of plating a metal plate with high thermal conductivity, a process of forming grooves in a lattice shape by etching on the front and back surfaces of the metal plate, and cutting at the groove portions by dicing to form a layer around the front and back surfaces. forming a lowered submount.
【請求項4】  サブマウントの主面に半導体レーザ素
子を固定する工程と、前記サブマウントを支持体の主面
に固定する工程とを有することを特徴とする光電子装置
の製造方法であって、熱伝導率の高い金属板にメッキ処
理を施す工程と、前記金属板の表裏面にエッチング加工
によって格子状に溝を形成する工程と、ダイシングによ
って前記溝部分で切断して表裏面の周囲が一段低くなっ
たサブマウントを形成する工程とを有し、前記エッチン
グではエッチングによる縁が略直角断面となるようにす
るとともに、エッチングによる溝の深さはダイシングに
よって発生する突起の長さよりも深く形成することを特
徴とする特許請求の範囲第3項記載の光電子装置の製造
方法。
4. A method for manufacturing an optoelectronic device, comprising the steps of fixing a semiconductor laser element to the main surface of a submount, and fixing the submount to the main surface of a support body, the method comprising: A process of plating a metal plate with high thermal conductivity, a process of forming grooves in a lattice shape by etching on the front and back surfaces of the metal plate, and cutting at the groove portions by dicing to form a layer around the front and back surfaces. forming a lowered submount, and in the etching, the etched edges are made to have a substantially right-angled cross section, and the depth of the etched groove is deeper than the length of the protrusion generated by dicing. A method for manufacturing an optoelectronic device according to claim 3, characterized in that:
【請求項5】  サブマウントの主面に半導体レーザ素
子を固定する工程と、前記サブマウントを支持体の主面
に固定する工程とを有することを特徴とする光電子装置
の製造方法であって、熱伝導率の高い金属板にメッキ処
理を施す工程と、前記金属板の表裏面にエッチング加工
によって格子状に溝を形成する工程と、ダイシングによ
って前記溝部分で切断して表裏面の周囲が一段低くなっ
たサブマウントを形成する工程と、前記サブマウントの
ダイシングによる切断面を基準にして半導体レーザ素子
を位置決めして前記半導体レーザ素子の出射面が前記溝
による段差縁からわずかに突出するように固定する工程
とを有することを特徴とする光電子装置の製造方法。
5. A method for manufacturing an optoelectronic device, comprising the steps of fixing a semiconductor laser element to the main surface of a submount, and fixing the submount to the main surface of a support, A process of plating a metal plate with high thermal conductivity, a process of forming grooves in a lattice shape by etching on the front and back surfaces of the metal plate, and cutting at the groove portions by dicing to form a layer around the front and back surfaces. forming a lowered submount, and positioning the semiconductor laser element with reference to the cut surface of the submount by dicing so that the emission surface of the semiconductor laser element slightly protrudes from the step edge formed by the groove. A method for manufacturing an optoelectronic device, comprising the step of fixing.
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