JPH09260539A - Sub-mounter and semiconductor device as well as manufacture thereof - Google Patents

Sub-mounter and semiconductor device as well as manufacture thereof

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JPH09260539A
JPH09260539A JP7189996A JP7189996A JPH09260539A JP H09260539 A JPH09260539 A JP H09260539A JP 7189996 A JP7189996 A JP 7189996A JP 7189996 A JP7189996 A JP 7189996A JP H09260539 A JPH09260539 A JP H09260539A
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JP
Japan
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semiconductor substrate
chip element
thermal conductivity
element mounting
chip
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JP7189996A
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Masahiro Kume
雅博 粂
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To lessen the temperature rise of a chip element to be mounted, by forming an electronic element, and besides, raising heat radiation property. SOLUTION: An electronic element 5 is made in the section other than the chip element mounting position at the chip element mounting face of a silicon semiconductor substrate 1, and high heat conductive matter 2 higher in thermal conductivity than the silicon semiconductor substrate 1 is charged without space in the recess 16 provided in the position opposite to the chip element mounting position of the silicon semiconductor substrate 1 at the opposite face of the silicon substrate 1 from the chip element mounting face.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザーチ
ップ等のチップ素子の実装に用いるサブマウント装置お
よびチップ素子をサブマウント装置に実装した半導体装
置ならびにそれらの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a submount device used for mounting a chip element such as a semiconductor laser chip, a semiconductor device in which the chip element is mounted on the submount device, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体レーザーチップは、小型・低電圧
動作で高効率であるため、コンパクトディスク(CD)
等の光ディスクの光源や光通信に不可欠となっている。
この半導体レーザーチップの発振領域の体積は0.1μ
m×5μm×250μmと非常に小さく、この領域に数
十mAの電流を流す必要があるため、放熱対策が非常に
重要になる。しかも、半導体レーザーチップのしきい電
流値は温度の上昇とともに増加するため、放熱が悪いと
半導体レーザーチップの温度が上昇し、その結果しきい
電流値が増加してさらに発熱が増え、このような正のフ
ィードバックにより発振が停止することになる。また、
半導体レーザーチップの温度が10度上昇すると一般に
寿命は2分の1になると見積もられており、できるだけ
半導体レーザーチップの温度を低くすることが、信頼性
を延ばす上で重要である。
2. Description of the Related Art A semiconductor laser chip is a compact disk (CD) because it is small, operates at low voltage, and is highly efficient.
It is indispensable for optical sources such as optical discs and optical communication.
The volume of the oscillation region of this semiconductor laser chip is 0.1μ
Since it is very small, m × 5 μm × 250 μm, and a current of several tens mA needs to flow in this region, heat dissipation measures are very important. Moreover, since the threshold current value of the semiconductor laser chip increases as the temperature rises, if heat dissipation is poor, the temperature of the semiconductor laser chip rises, and as a result, the threshold current value increases and heat generation further increases. The positive feedback will stop the oscillation. Also,
It is generally estimated that when the temperature of the semiconductor laser chip rises by 10 degrees, the life of the semiconductor laser chip becomes half, and it is important to lower the temperature of the semiconductor laser chip as much as possible in order to extend the reliability.

【0003】図4に半導体レーザーチップをシリコン半
導体基板に実装してベースに搭載した従来の半導体デバ
イスの斜視図を示す。図4において、11はベース、1
2はベース11を貫通するように設けたリード、10は
ベース11の一面に立設したヒートシンク、8はヒート
シンク10に固着されたシリコン半導体基板、9はシリ
コン半導体基板8に実装された化合物半導体からなる半
導体レーザーチップ、5はシリコン半導体基板8に設け
られたホトダイオード,トランジスタ等の電子素子、3
はシリコン半導体基板8に設けた電極、4は電極3上に
被着した半田であり、半導体レーザーチップ9に対して
電気的接続を得る。
FIG. 4 is a perspective view of a conventional semiconductor device in which a semiconductor laser chip is mounted on a silicon semiconductor substrate and mounted on a base. In FIG. 4, 11 is a base, 1
Reference numeral 2 is a lead provided so as to penetrate the base 11, 10 is a heat sink standing on one surface of the base 11, 8 is a silicon semiconductor substrate fixed to the heat sink 10, and 9 is a compound semiconductor mounted on the silicon semiconductor substrate 8. Are semiconductor laser chips, 5 are electronic elements such as photodiodes and transistors provided on the silicon semiconductor substrate 8, and 3 are
Is an electrode provided on the silicon semiconductor substrate 8 and 4 is a solder deposited on the electrode 3 to obtain an electrical connection to the semiconductor laser chip 9.

【0004】図4のような半導体レーザーチップを有す
る半導体デバイスにおいては、放熱の観点からすると、
チップ素子である半導体レーザーチップの発振領域をで
きるだけ熱伝導率の良い材料、例えば銀や銅などの金属
やダイヤモンドや窒化ボロンや炭化シリコンなどに接触
させるようにした方がよい。しかし、現実には、図4に
示すように、シリコン半導体基板8の上に半導体レーザ
ーチップ9を載せる構造がよく用いられる。これをサブ
マウント装置と呼んでいる。
In a semiconductor device having a semiconductor laser chip as shown in FIG. 4, from the viewpoint of heat dissipation,
It is preferable that the oscillation region of the semiconductor laser chip, which is a chip element, is brought into contact with a material having as high thermal conductivity as possible, for example, a metal such as silver or copper, diamond, boron nitride, or silicon carbide. However, in reality, as shown in FIG. 4, a structure in which the semiconductor laser chip 9 is mounted on the silicon semiconductor substrate 8 is often used. This is called a submount device.

【0005】このように、シリコン半導体基板8をサブ
マウント装置として用いる理由は、シリコン半導体基板
8にホトダイオードやトランジスタ等の電子素子を作っ
ておき、シリコン半導体基板8に半導体レーザーチップ
9を実装することによってハイブリッド集積化が可能に
なるからである。この場合、半導体レーザーチップ9の
発振領域で発生した熱はシリコン半導体基板8を伝って
放熱することになる。また、シリコン半導体基板8上に
実装することのもう一つの利点は、シリコンは半導体で
あって、シリコンと半導体レーザーチップ9の熱膨張係
数の差が小さく、半導体レーザーチップ9を実装すると
きの、熱膨張係数の違いによる半導体レーザーチップ9
の歪みを少なくできるという点である。
Thus, the reason why the silicon semiconductor substrate 8 is used as a submount device is that electronic elements such as photodiodes and transistors are made on the silicon semiconductor substrate 8 and the semiconductor laser chip 9 is mounted on the silicon semiconductor substrate 8. This makes hybrid integration possible. In this case, the heat generated in the oscillation region of the semiconductor laser chip 9 is transmitted through the silicon semiconductor substrate 8 and radiated. Another advantage of mounting on the silicon semiconductor substrate 8 is that silicon is a semiconductor, the difference in thermal expansion coefficient between silicon and the semiconductor laser chip 9 is small, and when mounting the semiconductor laser chip 9, Semiconductor laser chip 9 with different thermal expansion coefficient
It is possible to reduce the distortion of.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来例では、電子
素子を作るため、ならびに熱膨張係数の違いによるチッ
プ素子の歪を少なくするために、シリコン半導体基板8
をサブマウント装置として用いているが、シリコンの熱
伝導率は銀や銅などの金属や窒化ボロンや炭化シリコン
などの2分の1から3分の1であるので、放熱が悪くな
り、チップ素子の温度が高くなる。したがって動作でき
る最高温度が制限されたり、温度特性の良くない半導体
レーザーチップの実装にサブマウント装置を用いると、
半導体レーザーチップの温度がかなり上昇し、半導体レ
ーザーチップのしきい値電流が上昇したり、寿命が著し
く短くなることがある。一方、図4の半導体デバイスに
おけるサブマウント装置8として、シリコンの代わりに
熱伝導の良い他の材料を用いると、電子素子を作ること
ができなかったり、熱膨張係数の違いによりチップ素子
に歪が発生し、チップ素子の特性が劣化する。また、電
子素子を作らなくても、熱膨張係数の違いによるチップ
素子の歪を緩和するために、熱膨張係数の差の少ない基
板をサブマウント装置として使用せざるを得ない場合が
ある。
In the above-mentioned conventional example, in order to manufacture an electronic element and to reduce the distortion of the chip element due to the difference in thermal expansion coefficient, the silicon semiconductor substrate 8 is used.
Although it is used as a submount device, since the thermal conductivity of silicon is 1/2 to 1/3 that of metals such as silver and copper, boron nitride, and silicon carbide, heat dissipation is poor and the chip element Temperature rises. Therefore, when the maximum temperature that can be operated is limited or the submount device is used to mount a semiconductor laser chip with poor temperature characteristics,
The temperature of the semiconductor laser chip may rise considerably, the threshold current of the semiconductor laser chip may rise, and the life may be significantly shortened. On the other hand, if another material having good thermal conductivity is used instead of silicon as the submount device 8 in the semiconductor device of FIG. 4, an electronic element cannot be manufactured or the chip element is distorted due to a difference in thermal expansion coefficient. Occurs and the characteristics of the chip element deteriorate. Further, even if an electronic element is not manufactured, there is a case where a substrate having a small difference in thermal expansion coefficient must be used as the submount device in order to alleviate distortion of the chip element due to the difference in thermal expansion coefficient.

【0007】本発明の第1の目的は、元々の熱伝導率が
低い場合でも放熱性を高めることができ、搭載されるチ
ップ素子の温度上昇を少なく抑えることができるサブマ
ウント装置およびその製造方法を提供することである。
本発明の第2の目的は、電子素子を形成することがで
き、しかも元々の熱伝導率が低い場合でも放熱性を高
め、搭載するチップ素子の温度上昇を少なく抑えること
ができるサブマウント装置およびその製造方法を提供す
ることである。
A first object of the present invention is to provide a submount device capable of enhancing the heat dissipation even when the original thermal conductivity is low and suppressing the temperature rise of the mounted chip element to be small, and a method for manufacturing the submount device. Is to provide.
A second object of the present invention is to provide a submount device capable of forming an electronic element, improving heat dissipation even when the original thermal conductivity is low, and suppressing a temperature rise of a chip element to be mounted. It is to provide the manufacturing method.

【0008】本発明の第3の目的は、電子素子を形成す
ることができ、しかも元々の熱伝導率が低い場合でも放
熱性を高めことができ、搭載したチップ素子の温度上昇
を少なく抑えることができる半導体装置およびその製造
方法を提供することである。
A third object of the present invention is to form an electronic element, improve the heat dissipation even when the original thermal conductivity is low, and suppress the temperature rise of the mounted chip element. A semiconductor device and a method for manufacturing the same are provided.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1記載のサブマウ
ント装置は、基板のチップ素子取付面と反対側の面にお
ける基板のチップ素子取付位置に対向する位置に設けた
凹部の中に基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質を充
填している。この構成によれば、基板のチップ素子取付
面と反対側の面における基板のチップ素子取付位置に対
向する位置が基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質に
置き換えられるので、元々の熱伝導率が低い場合でも放
熱特性が高められ、実装されるチップ素子から発生した
熱を有効に放出させることが可能となり、チップ素子の
温度上昇を少なく抑えることができる。
According to another aspect of the present invention, there is provided a submount device, wherein a substrate is provided in a recess provided at a position opposite to a chip element mounting position of the substrate on a surface opposite to the chip element mounting surface of the substrate. It is filled with high thermal conductivity material with high thermal conductivity. According to this configuration, the position opposite to the chip element mounting position of the substrate on the surface opposite to the chip element mounting surface of the substrate is replaced with the high thermal conductivity substance having higher thermal conductivity than the substrate, and thus the original thermal conductivity Even when the temperature is low, the heat dissipation characteristics are improved, the heat generated from the mounted chip element can be effectively released, and the temperature rise of the chip element can be suppressed.

【0010】請求項2記載のサブマウント装置は、請求
項1記載のサブマウント装置において、基板がシリコン
半導体基板であり、高熱伝導率物質が銀、銅、アルミニ
ウムもしくは金等の金属、またはダイヤモンド、窒化ボ
ロン、炭化シリコンもしくは窒化アルミニウム等の電気
絶縁性物質である。この構成によれば、請求項1のサブ
マウント装置と同様に作用する。
A submount device according to a second aspect is the submount device according to the first aspect, wherein the substrate is a silicon semiconductor substrate, and the high thermal conductivity material is a metal such as silver, copper, aluminum or gold, or diamond, It is an electrically insulating substance such as boron nitride, silicon carbide or aluminum nitride. According to this configuration, the same operation as the submount device according to claim 1 is performed.

【0011】請求項3記載のサブマウント装置は、半導
体基板のチップ素子取付面に電子素子を形成し、半導体
基板のチップ素子取付面と反対側の面における半導体基
板のチップ素子取付位置に対向する位置に設けた凹部の
中に半導体基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質を充
填している。この構成によれば、半導体基板のチップ素
子取付面と反対側の面における半導体基板のチップ素子
取付位置に対向する位置が半導体基板より熱伝導率の高
い高熱伝導率物質に置き換えられるので、元々の熱伝導
率が低い場合でも放熱特性が高められ、実装されるチッ
プ素子から発生した熱を有効に放出させることが可能と
なり、チップ素子の温度上昇を少なく抑えることができ
る。また、半導体基板上には、電子素子を形成している
ので、チップ素子と電子素子とをハイブリッドに集積化
することができる。
According to another aspect of the submount device of the present invention, an electronic element is formed on the chip element mounting surface of the semiconductor substrate, and the electronic element is opposed to the chip element mounting position of the semiconductor substrate on the surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface. A high thermal conductivity material having a higher thermal conductivity than that of the semiconductor substrate is filled in the concave portion provided at the position. According to this configuration, the position of the surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface is opposed to the chip element mounting position of the semiconductor substrate is replaced with a high thermal conductivity material having a higher thermal conductivity than the semiconductor substrate. Even if the thermal conductivity is low, the heat dissipation characteristics are improved, the heat generated from the mounted chip element can be effectively released, and the temperature rise of the chip element can be suppressed to a small level. Moreover, since the electronic element is formed on the semiconductor substrate, the chip element and the electronic element can be hybridly integrated.

【0012】請求項4記載のサブマウント装置は、請求
項3記載のサブマウント装置において、半導体基板のチ
ップ素子取付面と反対側の面に設けた凹部は電子素子の
形成位置にも対向させるようにしている。この構成によ
れば、電子素子が発熱量が多い場合において、電子素子
から発生した熱を有効に放出させることが可能となり、
電子素子の発熱がチップ素子に悪影響を及ぼすのを防止
できる。
A submount device according to a fourth aspect is the submount device according to the third aspect, wherein the concave portion provided on the surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface is made to face the electronic element formation position. I have to. According to this configuration, when the electronic element generates a large amount of heat, it becomes possible to effectively release the heat generated from the electronic element,
It is possible to prevent the heat generated by the electronic element from adversely affecting the chip element.

【0013】請求項5記載のサブマウント装置は、請求
項3または請求項4記載のサブマウント装置において、
半導体基板がシリコン半導体基板であり、高熱伝導率物
質が銀、銅、アルミニウムもしくは金等の金属、または
ダイヤモンド、窒化ボロン、炭化シリコンもしくは窒化
アルミニウム等の電気絶縁性物質である。この構成によ
れば、請求項3または請求項4のサブマウント装置と同
様に作用する。
The submount device according to claim 5 is the submount device according to claim 3 or 4, wherein
The semiconductor substrate is a silicon semiconductor substrate, and the high thermal conductivity material is a metal such as silver, copper, aluminum or gold, or an electrically insulating material such as diamond, boron nitride, silicon carbide or aluminum nitride. According to this configuration, the same operation as the submount device according to claim 3 or 4 is exerted.

【0014】請求項6記載の半導体装置は、半導体基板
のチップ素子取付面に電子素子を形成し、半導体基板の
チップ素子取付面と反対側の面における半導体基板のチ
ップ素子取付位置に対向する位置に設けた凹部の中に半
導体基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質を充填し、
半導体基板のチップ素子取付面のチップ素子取付位置に
チップ素子をマウントしている。
According to a sixth aspect of the present invention, in a semiconductor device, an electronic element is formed on a chip element mounting surface of a semiconductor substrate, and the electronic element is formed on a surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface. A high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than the semiconductor substrate is filled in the recess provided in the
The chip element is mounted at the chip element mounting position on the chip element mounting surface of the semiconductor substrate.

【0015】この構成によれば、半導体基板のチップ素
子取付面と反対側の面における半導体基板のチップ素子
取付位置に対向する位置が半導体基板より熱伝導率の高
い高熱伝導率物質に置き換えられるので、元々の熱伝導
率が低い場合であっても放熱特性が高められ、実装され
るチップ素子から発生した熱を有効に放出させることが
可能となり、チップ素子の温度上昇を少なく抑えること
ができる。また、半導体基板上には、電子素子を形成し
ているので、チップ素子と電子素子とをハイブリッドに
集積化することができる。
According to this structure, the position of the surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface opposite to the chip element mounting position of the semiconductor substrate is replaced with the high thermal conductivity material having a higher thermal conductivity than the semiconductor substrate. Even when the original thermal conductivity is low, the heat dissipation characteristics are improved, the heat generated from the mounted chip element can be effectively released, and the temperature rise of the chip element can be suppressed to a small level. Moreover, since the electronic element is formed on the semiconductor substrate, the chip element and the electronic element can be hybridly integrated.

【0016】請求項7記載の半導体装置は、請求項6記
載の半導体装置において、半導体基板のチップ素子取付
面と反対側の面に設けた凹部は電子素子の形成位置にも
対向させるようにしている。この構成によれば、電子素
子が発熱量が多い場合において、電子素子から発生した
熱を有効に放出させることが可能となり、電子素子の発
熱がチップ素子に悪影響を及ぼすのを防止できる。
According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the sixth aspect, the concave portion provided on the surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface is made to face the electronic element formation position. There is. With this configuration, when the electronic element generates a large amount of heat, it is possible to effectively release the heat generated from the electronic element, and it is possible to prevent the heat generated by the electronic element from adversely affecting the chip element.

【0017】請求項8記載の半導体装置は、請求項6ま
たは請求項7記載の半導体装置において、半導体基板が
シリコン半導体基板であり、高熱伝導率物質が銀、銅、
アルミニウムもしくは金等の金属、またはダイヤモン
ド、窒化ボロン、炭化シリコンもしくは窒化アルミニウ
ム等の電気絶縁性物質である。この構成によれば、請求
項6または請求項7記載の半導体装置と同様に作用す
る。
The semiconductor device according to claim 8 is the semiconductor device according to claim 6 or 7, wherein the semiconductor substrate is a silicon semiconductor substrate, and the high thermal conductivity material is silver, copper,
It is a metal such as aluminum or gold, or an electrically insulating substance such as diamond, boron nitride, silicon carbide or aluminum nitride. According to this structure, the semiconductor device operates similarly to the semiconductor device according to claim 6 or 7.

【0018】請求項9記載の半導体装置は、請求項6,
請求項7または請求項8記載の半導体装置において、チ
ップ素子が半導体レーザーチップであり、電子素子がホ
トダイオードである。この構成によれば、請求項6,請
求項7または請求項8記載の半導体装置と同様に作用す
る。
A semiconductor device according to a ninth aspect is the semiconductor device according to the sixth aspect.
In the semiconductor device according to claim 7 or 8, the chip element is a semiconductor laser chip and the electronic element is a photodiode. According to this structure, the semiconductor device operates in the same manner as the semiconductor device according to claim 6, claim 7, or claim 8.

【0019】請求項10記載のサブマウント装置の製造
方法は、基板のチップ素子取付面と反対側の面における
基板のチップ素子取付位置に対向する位置に凹部を設
け、凹部の中に基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質
を充填する。この方法によれば、基板のチップ素子取付
面と反対側の面における基板のチップ素子取付位置に対
向する位置が基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質に
置き換えられるので、サブマウント装置の元々の熱伝導
率が低い場合であってもサブマウント装置の放熱特性が
高められ、実装されるチップ素子から発生した熱を有効
に放出させることが可能となり、チップ素子の温度上昇
を少なく抑えることができる。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a submount device, wherein a recess is provided on a surface of the substrate opposite to the chip element mounting surface, at a position facing the chip element mounting position of the substrate, and the recess is provided with heat from the substrate. Fill with high thermal conductivity material with high conductivity. According to this method, the position opposite to the chip element mounting position of the substrate on the surface opposite to the chip element mounting surface of the substrate is replaced with a high thermal conductivity material having a higher thermal conductivity than the substrate, so that the submount device is originally designed. Even if the thermal conductivity of the sub-mount is low, the heat dissipation characteristics of the submount device can be improved, the heat generated from the mounted chip element can be effectively released, and the temperature rise of the chip element can be suppressed to a small level. it can.

【0020】請求項11記載のサブマウント装置の製造
方法は、半導体基板のチップ素子取付面に熱酸化や不純
物拡散、金属蒸着等の工程により電子素子を形成した後
に、半導体基板のチップ素子取付面と反対側の面におけ
る半導体基板のチップ素子取付位置に対向する位置に凹
部を設け、凹部の中に半導体基板より熱伝導率の高い高
熱伝導率物質を充填する。
In the method of manufacturing a submount device according to claim 11, the chip element mounting surface of the semiconductor substrate is formed after the electronic element is formed on the chip element mounting surface of the semiconductor substrate by a process such as thermal oxidation, impurity diffusion, and metal deposition. A recess is provided on the surface on the opposite side to the chip element mounting position of the semiconductor substrate, and a high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than that of the semiconductor substrate is filled in the recess.

【0021】この方法によれば、半導体基板のチップ素
子取付面と反対側の面における半導体基板のチップ素子
取付位置に対向する位置が半導体基板より熱伝導率の高
い高熱伝導率物質に置き換えられるので、サブマウント
装置の元々の熱伝導率が低い場合であってもサブマウン
ト装置の放熱特性が高められ、チップ素子から発生した
熱を有効に放出させることが可能となり、実装されるチ
ップ素子の温度上昇を少なく抑えることができる。ま
た、半導体基板上には、電子素子を形成しているので、
チップ素子と電子素子とをハイブリッドに集積化するこ
とができる。
According to this method, the position opposite to the chip element mounting position of the semiconductor substrate on the surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface is replaced with the high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than the semiconductor substrate. , Even if the original heat conductivity of the submount device is low, the heat dissipation characteristics of the submount device are enhanced, and the heat generated from the chip element can be effectively released, and the temperature of the mounted chip element can be improved. The rise can be kept small. Further, since the electronic element is formed on the semiconductor substrate,
The chip element and the electronic element can be integrated in a hybrid.

【0022】請求項12記載のサブマウント装置は、半
導体基板のチップ素子取付面に熱酸化や不純物拡散、金
属蒸着等の工程により電子素子を形成した後に、半導体
基板のチップ素子取付面と反対側の面における半導体基
板のチップ素子取付位置に対向する位置に凹部を設け、
凹部の中に半導体基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物
質を充填し、その後半導体基板のチップ素子取付面のチ
ップ素子取付位置にチップ素子をマウントする。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the submount device, after the electronic element is formed on the chip element mounting surface of the semiconductor substrate by a process such as thermal oxidation, impurity diffusion, and metal deposition, the side opposite to the chip element mounting surface of the semiconductor substrate. A recess is provided at a position facing the chip element mounting position of the semiconductor substrate on the surface of
A high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than that of the semiconductor substrate is filled in the recess, and then the chip element is mounted at the chip element mounting position on the chip element mounting surface of the semiconductor substrate.

【0023】この方法によれば、半導体基板のチップ素
子取付面と反対側の面における半導体基板のチップ素子
取付位置に対向する位置が半導体基板より熱伝導率の高
い高熱伝導率物質に置き換えられるので、半導体装置の
元々の熱伝導率が低い場合であっても半導体装置の放熱
特性が高められ、実装されるチップ素子から発生した熱
を有効に放出させることが可能となり、チップ素子の温
度上昇を少なく抑えることができる。また、半導体基板
上には、電子素子を形成しているので、チップ素子と電
子素子とをハイブリッドに集積化することができる。
According to this method, the position of the surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface facing the chip element mounting position of the semiconductor substrate is replaced with the high thermal conductivity material having a higher thermal conductivity than the semiconductor substrate. Even if the original thermal conductivity of the semiconductor device is low, the heat dissipation characteristics of the semiconductor device can be improved, and the heat generated from the mounted chip element can be effectively released, and the temperature rise of the chip element can be prevented. It can be kept low. Moreover, since the electronic element is formed on the semiconductor substrate, the chip element and the electronic element can be hybridly integrated.

【0024】表1に各物質の熱伝導率を示すが、シリコ
ンの2倍以上の熱伝導率を有する物質を半導体レーザー
チップ等のチップ素子の直下、つまり半導体基板のチッ
プ素子取付面と反対側の面における半導体基板のチップ
素子取付位置に対向する位置に配置することにより、チ
ップ素子の取付部分の熱伝導率が大きくなり、放熱特性
を改善することができることが明らかである。
Table 1 shows the thermal conductivity of each substance. A substance having a thermal conductivity that is at least twice that of silicon is used immediately below a chip element such as a semiconductor laser chip, that is, on the side opposite to the chip element mounting surface of a semiconductor substrate. It is apparent that the heat conductivity of the mounting portion of the chip element is increased and the heat dissipation characteristics can be improved by arranging the surface of the semiconductor substrate at a position facing the mounting position of the chip element on the surface.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図1を参照しながら説明する。図1(a)に本発明
の実施の形態におけるサブマウント装置の斜視図を示
し、図1(b)は同図(a)のA−A’断面図を示す。
このサブマウント装置は、図1(a)に示すように、シ
リコン半導体基板1上にはホトダイオード,トランジス
タ等の電子素子5が形成されており、チップ素子である
半導体レーザーチップ(図示せず)を実装する箇所(チ
ップ素子取付面のチップ素子取付位置)には、電極3が
形成され、その上にパターン化した半田4が被着されて
いる。なお、サブマウント装置に半導体レーザーチップ
を実装した状態のもの(図4参照)を半導体装置と呼
ぶ。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1A is a perspective view of the submount device according to the embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG.
In this submount device, as shown in FIG. 1A, an electronic element 5 such as a photodiode or a transistor is formed on a silicon semiconductor substrate 1, and a semiconductor laser chip (not shown), which is a chip element, is mounted. An electrode 3 is formed at a mounting position (chip element mounting position on the chip element mounting surface), and patterned solder 4 is adhered thereon. It should be noted that a semiconductor laser chip mounted on a submount device (see FIG. 4) is called a semiconductor device.

【0027】また、このサブマウント装置は、詳細を示
すと、図1(b)に示すように、シリコン半導体基板1
の半導体レーザーチップを実装する面(チップ素子取付
面)には、SiO2 膜6が形成され、その上に電極3が
形成され、さらにその上に半田4が被着されている。一
方、シリコン半導体基板1の半導体レーザーチップを実
装する面(チップ素子取付面)の反対側の面に例えば溝
状の凹部16があり、凹部16の中には高熱伝導率物質
2が隙間なくかつ表面が平坦になるように充填されてい
る。そして、平坦になった表面に電極7が形成されてい
る。なお、凹部16は、半導体レーザーチップを実装す
る面(チップ素子取付面)と反対側の面における、半導
体レーザーチップを実装する箇所(チップ素子取付位
置)に対向する位置に設けられている。また、この凹部
16は、電子素子5の形成位置に対向する位置にも設け
られていて、電子素子5がトランジスタ等のように、発
熱量が多い場合にも、その熱を有効に放出することがで
き、この結果、電子素子5の発熱が半導体レーザーチッ
プに悪影響を及ぼすのを防止できる。
The details of this submount device are as shown in FIG.
On the surface (chip element mounting surface) on which the semiconductor laser chip is mounted, the SiO 2 film 6 is formed, the electrode 3 is formed thereon, and the solder 4 is further deposited thereon. On the other hand, there is, for example, a groove-shaped recess 16 on the surface of the silicon semiconductor substrate 1 opposite to the surface on which the semiconductor laser chip is mounted (chip element mounting surface). It is filled so that the surface becomes flat. Then, the electrode 7 is formed on the flattened surface. The recess 16 is provided at a position opposite to the surface (chip element mounting surface) on which the semiconductor laser chip is mounted and opposite to the semiconductor laser chip mounting position (chip element mounting position). The recess 16 is also provided at a position facing the position where the electronic element 5 is formed, and the heat can be effectively released even when the electronic element 5 generates a large amount of heat such as a transistor. As a result, it is possible to prevent the heat generation of the electronic element 5 from adversely affecting the semiconductor laser chip.

【0028】つぎに、このサブマウント装置の製造方法
を図2(a)〜(f)を参照しながら説明する。まず、
シリコン半導体基板1に熱酸化によるSiO2 膜14や
不純物拡散領域13や蒸着による金属電極15を形成し
て電子素子等を作製する(図2(a),(b))。つぎ
に、シリコン半導体基板1を所定の厚さに研磨する。そ
の厚さは、150μmから200μmとする。シリコン
半導体基板1は、薄い程放熱には有利であるが、割れや
すくなって取り扱いが難しくなる。
Next, a method of manufacturing this submount device will be described with reference to FIGS. 2 (a) to 2 (f). First,
The SiO 2 film 14, the impurity diffusion region 13, and the metal electrode 15 by vapor deposition are formed on the silicon semiconductor substrate 1 by thermal oxidation to manufacture an electronic device or the like (FIGS. 2A and 2B). Next, the silicon semiconductor substrate 1 is polished to a predetermined thickness. Its thickness is 150 μm to 200 μm. The thinner the thickness of the silicon semiconductor substrate 1 is, the more advantageous it is for heat dissipation, but the silicon semiconductor substrate 1 becomes fragile and difficult to handle.

【0029】シリコン半導体基板1の研磨後、エッチン
グによって溝状の凹部16を形成する。エッチングは化
学エッチングによる方法とドライエッチングよる方法と
がある。凹部16の底のシリコンの残し厚はできるだけ
少ない方が放熱は良くなるが、強度が弱くなって以下の
プロセス時に破壊するおそれがあるため、少なくとも1
0μmは残すようにする(図2(c))。
After polishing the silicon semiconductor substrate 1, a groove-shaped recess 16 is formed by etching. There are a chemical etching method and a dry etching method. If the remaining thickness of the silicon at the bottom of the recess 16 is as small as possible, the heat dissipation will be better, but the strength will be weakened and there is a risk of damage during the following process.
0 μm is left (FIG. 2 (c)).

【0030】凹部16を形成した後に、凹部16の中に
熱伝導率の良い高熱伝導率物質2を充填するのである
が、その方法として、溶射や真空蒸着や気相堆積法(C
VD法)やメッキによる方法等がある。金属を充填する
場合は溶射や蒸着かメッキを用いるが、凹部16の中の
みに被着させるために、溶射や蒸着では金属マスクを、
メッキではレジストでマスクをすればよい。メッキの場
合はあらかじめ金属膜を蒸着で付けておく必要がある。
絶縁体を充填するにはCVD法を用いるとよい。CVD
法によりダイヤモンドを充填するのが放熱には最適であ
る(図2(d))。充填は表面が平坦になるようにし、
サブマウント装置をさらにパッケージ等に実装するため
に電極7や半田17を形成する(図2(e),
(f))。なお、半導体レーザーチップは、サブマウン
ト装置が完成後に実装され、半導体装置が完成する。
After forming the concave portion 16, the high thermal conductivity substance 2 having a good thermal conductivity is filled into the concave portion 16. As the method therefor, thermal spraying, vacuum vapor deposition, vapor phase deposition method (C
VD method) and plating method. When metal is filled, thermal spraying, vapor deposition or plating is used, but in order to deposit only in the concave portion 16, a metal mask is used for thermal spraying or vapor deposition.
For plating, a mask may be used with a resist. In the case of plating, it is necessary to deposit a metal film in advance by vapor deposition.
A CVD method may be used to fill the insulator. CVD
Filling with diamond by the method is optimal for heat dissipation (FIG. 2 (d)). Fill the surface so that it is flat,
Electrodes 7 and solders 17 are formed to further mount the submount device on a package or the like (FIG. 2 (e),
(F)). The semiconductor laser chip is mounted after the submount device is completed, and the semiconductor device is completed.

【0031】図3に本発明の実施の形態のサブマウント
装置を用いた場合と従来例のサブマウント装置を用いた
場合とにおける半導体レーザーチップの80℃の高温環
境下での電流−光出力特性の違いを示す。曲線Aは実施
の形態で、曲線Bは従来例である。凹部に充填する材料
には銅を用いた。従来のサブマウント装置を用いたレー
ザーチップでは、20mW程度で光出力が飽和している
のに対し、本発明の実施の形態のサブマウント装置を用
いた半導体レーザーチップでは、30mW近い光出力が
得られていることがわかる。
FIG. 3 shows the current-light output characteristics of the semiconductor laser chip under the high temperature environment of 80 ° C. in the case of using the submount device of the embodiment of the present invention and the case of using the conventional submount device. Shows the difference. The curve A is the embodiment and the curve B is the conventional example. Copper was used as the material for filling the recesses. In the laser chip using the conventional submount device, the optical output is saturated at about 20 mW, whereas in the semiconductor laser chip using the submount device according to the embodiment of the present invention, an optical output close to 30 mW is obtained. You can see that it is being done.

【0032】なお、上記実施の形態では、サブマウント
装置がシリコン半導体基板であって、表面にホトダイオ
ード等の電子素子を作り込んだものをあげたが、特に電
子素子を作り込んでおく必要はなく、単なる基板にチッ
プ素子を実装するものについてもこの発明を適用でき
る。また、サブマウント装置に実装するチップ素子とし
ては、半導体レーザーチップに限らず、発熱量の多い素
子であれば、どのようなものを実装しても所期の効果が
得られる。また、電子素子をサブマウント装置に作り込
む必要がなければ、基板としては半導体基板を用いる必
要はなく、セラミック基板等、どのような基板でもこの
発明を適用可能である。また、電子素子についても、ホ
トダイオードやトランジスタに限らず、どのような素子
でもよい。また、電子素子をサブマウント装置の表面に
露出させる必要がなければ、電子素子の上にチップ素子
を重ねて配置してもよい。
In the above embodiment, the submount device is the silicon semiconductor substrate and the electronic element such as the photodiode is formed on the surface thereof. However, the electronic element need not be particularly formed. The present invention can be applied to a device in which a chip element is simply mounted on a substrate. Further, the chip element to be mounted on the submount device is not limited to the semiconductor laser chip, and any element can be mounted as long as the element generates a large amount of heat and the desired effect can be obtained. Further, if it is not necessary to build an electronic element in the submount device, it is not necessary to use a semiconductor substrate as a substrate, and the present invention can be applied to any substrate such as a ceramic substrate. Further, the electronic element is not limited to the photodiode or the transistor, and any element may be used. Further, if it is not necessary to expose the electronic element on the surface of the submount device, the chip element may be placed on the electronic element in a stacked manner.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によれば、サブマウント装置の放
熱性を高めることができ、サブマウント装置に実装した
チップ素子の温度上昇を低く抑えることができる。この
サブマウント装置を半導体レーザーチップの実装に用い
れば、半導体レーザーチップと電子素子とをハイブリッ
ドに集積化でき、半導体レーザーチップの放熱にも優れ
る。しかも、トランジスタ等の発熱を伴う電子素子と集
積した時も半導体レーザーチップに悪影響を与えること
が軽減される。特に使用温度が高い場合や、半導体レー
ザーチップの温度特性があまり良くない場合に信頼性に
対して大きな効果を発揮する。
According to the present invention, the heat dissipation of the submount device can be improved, and the temperature rise of the chip element mounted on the submount device can be suppressed low. If this submount device is used for mounting the semiconductor laser chip, the semiconductor laser chip and the electronic element can be integrated in a hybrid, and the heat dissipation of the semiconductor laser chip is also excellent. In addition, even when integrated with a heat-generating electronic element such as a transistor, adverse effects on the semiconductor laser chip can be reduced. In particular, when the operating temperature is high or when the temperature characteristics of the semiconductor laser chip are not so good, a great effect is exerted on the reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は本発明の実施の形態におけるサブマウ
ント装置の斜視図、(b)は(a)のA−A’断面図で
ある。
FIG. 1A is a perspective view of a submount device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a sectional view taken along line AA ′ of FIG.

【図2】本発明の実施の形態におけるサブマウント装置
の製造工程を示す工程順断面図である。
2A to 2D are cross-sectional views in order of the processes, showing the manufacturing process of the submount device according to the embodiment of the invention.

【図3】本発明の実施の形態と従来例とにおける半導体
レーザーチップの電流−光出力特性図である。
FIG. 3 is a current-light output characteristic diagram of the semiconductor laser chip in the embodiment of the present invention and the conventional example.

【図4】従来のサブマウント装置に半導体レーザーチッ
プを実装した半導体デバイスの斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a semiconductor device in which a semiconductor laser chip is mounted on a conventional submount device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シリコン半導体基板 2 高熱伝導率物質 3 電極 4 半田 5 電子素子 6 SiO2 膜 7 電極 8 シリコン半導体基板 9 半導体レーザーチップ 10 ヒートシンク 11 ベース 12 リード 13 不純物拡散領域 14 SiO2 膜 15 電極 16 凹部 17 半田1 Silicon Semiconductor Substrate 2 High Thermal Conductivity Material 3 Electrode 4 Solder 5 Electronic Element 6 SiO 2 Film 7 Electrode 8 Silicon Semiconductor Substrate 9 Semiconductor Laser Chip 10 Heat Sink 11 Base 12 Lead 13 Impurity Diffusion Area 14 SiO 2 Film 15 Electrode 16 Recess 17 Solder

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板のチップ素子取付面と反対側の面に
おける前記基板のチップ素子取付位置に対向する位置に
設けた凹部の中に前記基板より熱伝導率の高い高熱伝導
率物質を充填したことを特徴とするサブマウント装置。
1. A high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than that of the substrate is filled in a concave portion provided on a surface of the substrate opposite to the chip element mounting surface at a position facing the chip element mounting position of the substrate. A submount device characterized in that
【請求項2】 基板がシリコン半導体基板であり、高熱
伝導率物質が銀、銅、アルミニウムもしくは金等の金
属、またはダイヤモンド、窒化ボロン、炭化シリコンも
しくは窒化アルミニウム等の電気絶縁性物質である請求
項1記載のサブマウント装置。
2. The substrate is a silicon semiconductor substrate, and the high thermal conductivity material is a metal such as silver, copper, aluminum or gold, or an electrically insulating material such as diamond, boron nitride, silicon carbide or aluminum nitride. 1. The submount device according to 1.
【請求項3】 半導体基板のチップ素子取付面に電子素
子を形成し、前記半導体基板のチップ素子取付面と反対
側の面における前記半導体基板のチップ素子取付位置に
対向する位置に設けた凹部の中に前記半導体基板より熱
伝導率の高い高熱伝導率物質を充填したことを特徴とす
るサブマウント装置。
3. An electronic element is formed on a chip element mounting surface of a semiconductor substrate, and a concave portion is provided on a surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface, at a position facing a chip element mounting position of the semiconductor substrate. A submount device characterized in that a high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than that of the semiconductor substrate is filled therein.
【請求項4】 半導体基板のチップ素子取付面と反対側
の面に設けた凹部は電子素子の形成位置にも対向させる
ようにした請求項3記載のサブマウント装置。
4. The submount device according to claim 3, wherein the concave portion provided on the surface of the semiconductor substrate opposite to the surface on which the chip element is mounted is made to face the formation position of the electronic element.
【請求項5】 半導体基板がシリコン半導体基板であ
り、高熱伝導率物質が銀、銅、アルミニウムもしくは金
等の金属、またはダイヤモンド、窒化ボロン、炭化シリ
コンもしくは窒化アルミニウム等の電気絶縁性物質であ
る請求項3または請求項4記載のサブマウント装置。
5. The semiconductor substrate is a silicon semiconductor substrate, and the high thermal conductivity material is a metal such as silver, copper, aluminum or gold, or an electrically insulating material such as diamond, boron nitride, silicon carbide or aluminum nitride. The submount device according to claim 3 or 4.
【請求項6】 半導体基板のチップ素子取付面に電子素
子を形成し、前記半導体基板のチップ素子取付面と反対
側の面における前記半導体基板のチップ素子取付位置に
対向する位置に設けた凹部の中に前記半導体基板より熱
伝導率の高い高熱伝導率物質を充填し、前記半導体基板
のチップ素子取付面のチップ素子取付位置にチップ素子
をマウントした半導体装置。
6. An electronic element is formed on a chip element mounting surface of a semiconductor substrate, and a concave portion is provided on a surface of the semiconductor substrate opposite to the chip element mounting surface, at a position facing the chip element mounting position of the semiconductor substrate. A semiconductor device in which a high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than that of the semiconductor substrate is filled therein, and a chip element is mounted at a chip element mounting position on a chip element mounting surface of the semiconductor substrate.
【請求項7】 半導体基板のチップ素子取付面と反対側
の面に設けた凹部は電子素子の形成位置にも対向させる
ようにした請求項6記載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 6, wherein the concave portion provided on the surface of the semiconductor substrate opposite to the surface on which the chip element is mounted is made to face the formation position of the electronic element.
【請求項8】 半導体基板がシリコン半導体基板であ
り、高熱伝導率物質が銀、銅、アルミニウムもしくは金
等の金属、またはダイヤモンド、窒化ボロン、炭化シリ
コンもしくは窒化アルミニウム等の電気絶縁性物質であ
る請求項6または請求項7記載の半導体装置。
8. The semiconductor substrate is a silicon semiconductor substrate, and the high thermal conductivity material is a metal such as silver, copper, aluminum or gold, or an electrically insulating material such as diamond, boron nitride, silicon carbide or aluminum nitride. The semiconductor device according to claim 6 or 7.
【請求項9】 チップ素子が半導体レーザーチップであ
り、電子素子がホトダイオードである請求項6,請求項
7または請求項8記載の半導体装置。
9. The semiconductor device according to claim 6, wherein the chip element is a semiconductor laser chip and the electronic element is a photodiode.
【請求項10】 基板のチップ素子取付面と反対側の面
における前記基板のチップ素子取付位置に対向する位置
に凹部を設け、前記凹部の中に前記基板より熱伝導率の
高い高熱伝導率物質を充填することを特徴とするサブマ
ウント装置の製造方法。
10. A high thermal conductivity substance having a thermal conductivity higher than that of the substrate in the concave portion at a position facing a chip element mounting position of the substrate on a surface of the substrate opposite to the chip element mounting surface. A method for manufacturing a submount device, comprising:
【請求項11】 半導体基板のチップ素子取付面に熱酸
化や不純物拡散、金属蒸着等の工程により電子素子を形
成した後に、前記半導体基板のチップ素子取付面と反対
側の面における前記半導体基板のチップ素子取付位置に
対向する位置に凹部を設け、前記凹部の中に前記半導体
基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質を充填すること
を特徴とするサブマウント装置の製造方法。
11. An electronic element is formed on a chip element mounting surface of a semiconductor substrate by a process such as thermal oxidation, impurity diffusion, and metal deposition, and then the semiconductor substrate on the surface opposite to the chip element mounting surface of the semiconductor substrate. A method for manufacturing a submount device, characterized in that a recess is provided at a position facing a chip element mounting position, and the recess is filled with a high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than that of the semiconductor substrate.
【請求項12】 半導体基板のチップ素子取付面に熱酸
化や不純物拡散、金属蒸着等の工程により電子素子を形
成した後に、前記半導体基板のチップ素子取付面と反対
側の面における前記半導体基板のチップ素子取付位置に
対向する位置に凹部を設け、前記凹部の中に前記半導体
基板より熱伝導率の高い高熱伝導率物質を充填し、その
後前記半導体基板のチップ素子取付面のチップ素子取付
位置にチップ素子をマウントすることを特徴とする半導
体装置の製造方法。
12. After forming an electronic element on the chip element mounting surface of the semiconductor substrate by a process such as thermal oxidation, impurity diffusion, metal deposition, etc., the semiconductor substrate on the surface opposite to the chip element mounting surface of the semiconductor substrate. A concave portion is provided at a position facing the chip element mounting position, and the concave portion is filled with a high thermal conductivity substance having a higher thermal conductivity than the semiconductor substrate, and then at the chip element mounting position on the chip element mounting surface of the semiconductor substrate. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising mounting a chip element.
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