JPH1022570A - Nitride semiconductor laser element - Google Patents

Nitride semiconductor laser element

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Publication number
JPH1022570A
JPH1022570A JP17757596A JP17757596A JPH1022570A JP H1022570 A JPH1022570 A JP H1022570A JP 17757596 A JP17757596 A JP 17757596A JP 17757596 A JP17757596 A JP 17757596A JP H1022570 A JPH1022570 A JP H1022570A
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JP
Japan
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support
electrode
laser
laser chip
nitride semiconductor
Prior art date
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Application number
JP17757596A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Sano
雅彦 佐野
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Nichia Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Nichia Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the heat radiation property of a laser element and aim at continuous oscillation by inserting a laser chip where a positive electrode and a negative electrode are made on the same side into a support which has a recess whose inner face is metallized. SOLUTION: For a laser chip, an n-type nitride semiconductor layer 2, an active layer 3, and a p-type nitride semiconductor layer 4 are stacked on a substrate 1, and a negative electrode 10, on the surface of the n layer 2 exposed by etching, and a positive electrode 11, on the surface of the uppermost p layer 4, are made. A recess to insert a laser chip is made on the surface of the support 20, and the inner face of recess is metallized with a recess metallic film 21. A laser chip is inserted in face-up condition into the recess of the support 20, and the heat conducted to the board side of the laser chip is absorbed by the recess of the support. This makes the heat generated by the active layer easy to be conducted to the support, and improves the heat radiation property of the chip. Moreover, this can improve the reliability on a laser element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は窒化物半導体(In
XAlYGa1-X-YN、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)よりな
るレーザ素子に関する。
The present invention relates to a nitride semiconductor (In).
X Al Y Ga 1-XY N , 0 ≦ X, 0 ≦ Y, a laser element made of X + Y ≦ 1).

【0002】[0002]

【従来の技術】紫外〜青色の領域に発光するレーザ素子
の材料として窒化物半導体が知られており、本出願人
は、最近この材料を用いてパルス電流において、室温で
の410nmのレーザ発振を発表した(例えば、Jpn.J.
Appl.Phys. Vol35 (1996) pp.L74-76)。発表したレー
ザはいわゆる電極ストライプ型であり、活性層を含む窒
化物半導体層のストライプ幅を数十μmにして、レーザ
発振させたものである。
2. Description of the Related Art A nitride semiconductor is known as a material for a laser device that emits light in the ultraviolet to blue region, and the present applicant has recently used this material to generate a laser oscillation of 410 nm at room temperature under pulse current. Announced (for example, Jpn.J.
Appl. Phys. Vol 35 (1996) pp. L74-76). The published laser is of a so-called electrode stripe type, in which laser oscillation is performed with the stripe width of the nitride semiconductor layer including the active layer set to several tens μm.

【0003】一般に、レーザ素子は、レーザ発振する半
導体チップの放熱を助けるために、ヒートシンク、サブ
マウント等の熱伝導率がよい支持体に設置されている。
半導体チップの温度上昇は、光出力や発振波長等のレー
ザ特性に変化を生じさせ、素子全体の寿命を短くする要
因となる。
In general, a laser element is mounted on a support having a good thermal conductivity, such as a heat sink or a submount, in order to assist heat radiation of a semiconductor chip that oscillates laser.
The rise in the temperature of the semiconductor chip causes a change in the laser characteristics such as the optical output and the oscillation wavelength, and shortens the life of the entire device.

【0004】窒化物半導体レーザ素子の場合、半導体チ
ップの多くは、基板に絶縁性基板が使用されているた
め、レーザチップの正電極と負電極とは同一面側の窒化
物半導体層から取り出される。このようなレーザチップ
は、通常、フェースダウン若しくはフェースアップの状
態で支持体に設置される。フェースダウンの場合は電極
と支持体とが半田材のような導電性接着剤を介してダイ
レクトボンディングされることが多く。フェースアップ
の場合は電極と支持体とがワイヤーボンディングされる
ことが多い。
In the case of a nitride semiconductor laser device, since most of the semiconductor chips use an insulating substrate, the positive electrode and the negative electrode of the laser chip are taken out from the nitride semiconductor layer on the same side. . Such a laser chip is usually mounted on a support in a face-down or face-up state. In the case of face-down, the electrode and the support are often directly bonded via a conductive adhesive such as a solder material. In the case of face-up, the electrode and the support are often wire-bonded.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】以上のようにして、支
持体上に設置された窒化物半導体レーザ素子ではある
が、未だ熱負荷の小さいパルス電流でしか発振しておら
ず、連続発振させるためには、チップの放熱をさらによ
くする必要がある。従って、本発明の目的とするところ
は窒化物半導体よりなるレーザ素子の放熱性をよくして
連続発振を目指すことにある。
As described above, although the nitride semiconductor laser device mounted on the support is still oscillated only by a pulse current with a small heat load, it is required to continuously oscillate. Therefore, it is necessary to further improve the heat radiation of the chip. Therefore, it is an object of the present invention to improve the heat dissipation of a laser device made of a nitride semiconductor and aim at continuous oscillation.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のレーザ素子は、
同一面側に正電極と負電極とが形成されたレーザチップ
が、フェースアップの状態で、内面がメタライズされた
凹部を有する支持体に挿入されていることを特徴とす
る。
According to the present invention, there is provided a laser device comprising:
A laser chip in which a positive electrode and a negative electrode are formed on the same surface side is inserted face-up into a support having a recess whose inner surface is metalized.

【0007】さらに、レーザチップは正電極の高さより
も負電極の高さが低い位置にあり、その負電極が形成さ
れている窒化物半導体層表面と、前記支持体の凹部端面
とが、ほぼ同一高さにあることが好ましい。
Furthermore, the laser chip is located at a position where the height of the negative electrode is lower than the height of the positive electrode, and the surface of the nitride semiconductor layer on which the negative electrode is formed and the end face of the concave portion of the support are substantially aligned. Preferably at the same height.

【0008】さらにまた、前記凹部の他の支持体の表面
には、外部電極と接続するための電極パターンがメタラ
イズされており、前記レーザチップの負電極と、その電
極パターンとが、連続した金属膜により電気的に接続さ
れていることが好ましい。
Further, an electrode pattern for connecting to an external electrode is metallized on the surface of the other support of the recess, and the negative electrode of the laser chip and the electrode pattern are connected to a continuous metal. Preferably, they are electrically connected by a film.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1は、本発明のレーザ素子に係
るレーザチップの一構造を示す模式断面図であり、図2
は、本発明のレーザ素子に係る支持体の一構造を示す模
式断面図であり、さらに図3は、図1のレーザチップを
図2の支持体に実装したレーザ素子の構造を示す模式断
面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one structure of a laser chip according to a laser device of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view showing one structure of a support according to the laser element of the present invention, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a laser element in which the laser chip of FIG. 1 is mounted on the support of FIG. It is.

【0010】図1のレーザチップの基本的な構造は、基
板1の上に、n型窒化物半導体層(以下、n層とい
う。)2と、活性層3と、p型窒化物半導体層(以下、
p層という。)4とが積層されてなるダブルへテロ構造
を有しており、エッチングにより露出されたn層2の表
面には負電極10が形成され、最上層のp層4の表面に
は正電極11が形成されて、同一面側に両電極が形成さ
れた構造を有している。さらに、このレーザチップは活
性層4より上にあるp層4が、例えば5μm以下の幅で
ストライプ状にエッチングされたリッジストライプ型の
構造を有しており、p層のストライプの上に形成された
正電極11がオーミック電極であり、その正電極11の
上に、ボンディング用に電極面積を広げるためパッド電
極12が形成されている。さらにまた、正電極11と負
電極10との間には電極間のショートを防止する目的
で、例えばSiO2、Al23等の高誘電体よりなる絶
縁膜13が形成されている。なお、この図はp層のスト
ライプに垂直な方向、即ち導波路に垂直な方向で素子を
切断した際の図を示している。
The basic structure of the laser chip shown in FIG. 1 is such that an n-type nitride semiconductor layer (hereinafter, referred to as an n-layer) 2, an active layer 3, and a p-type nitride semiconductor layer ( Less than,
It is called p layer. 4) are stacked, a negative electrode 10 is formed on the surface of the n-layer 2 exposed by etching, and a positive electrode 11 is formed on the surface of the uppermost p-layer 4. Is formed, and both electrodes are formed on the same surface side. Further, this laser chip has a ridge stripe type structure in which the p layer 4 above the active layer 4 is etched in a stripe shape with a width of, for example, 5 μm or less, and is formed on the p layer stripe. The positive electrode 11 is an ohmic electrode, and a pad electrode 12 is formed on the positive electrode 11 to increase the electrode area for bonding. Further, between the positive electrode 11 and the negative electrode 10, an insulating film 13 made of a high dielectric material such as SiO 2 or Al 2 O 3 is formed for the purpose of preventing a short circuit between the electrodes. This figure shows a view when the device is cut in a direction perpendicular to the p-layer stripe, that is, in a direction perpendicular to the waveguide.

【0011】図1のレーザチップにおいて、基板にはサ
ファイア(Al23)、スピネル(MgAl24)等の
絶縁体、SiC、GaN等が使用されるが、特にサファ
イア、スピネル等の絶縁体が使用されることが多い。基
板上に成長された窒化物半導体はp層がエッチングされ
て、n層の表面が露出され、最上層のp層と、露出され
たn層とに電極が設けられる。特に図1に示すように、
ストライプ状の正電極11に対して左右対称に、ストラ
イプ状の負電極10が形成された構造とすることによ
り、電流の流れを均一にして閾値を低下させることがで
きる。
In the laser chip shown in FIG. 1, an insulator such as sapphire (Al 2 O 3 ) or spinel (MgAl 2 O 4 ), SiC, GaN or the like is used for the substrate. The body is often used. In the nitride semiconductor grown on the substrate, the p-layer is etched to expose the surface of the n-layer, and electrodes are provided on the uppermost p-layer and the exposed n-layer. In particular, as shown in FIG.
By adopting a structure in which the striped negative electrode 10 is formed symmetrically with respect to the striped positive electrode 11, the current can be made uniform and the threshold can be lowered.

【0012】一方、図2の支持体20は、レーザチップ
を設置して、レーザチップの発熱を放熱する作用があ
り、例えばヒートシンク、ヒートシンクに設置するサブ
マウント等が挙げられる。支持体の材料としては例えば
ダイヤモンド、AlN、SiC、CuW、BeO、Mo
等の熱伝導率が大きく、熱膨張係数の小さい材料を選択
することが望ましい。さらに、支持体20の表面にレー
ザチップが挿入できるような大きさの凹部が形成されて
おり、凹部内面は凹部金属薄膜21でメタライズされて
いる。凹部金属薄膜21には、例えばAu/Sn、Pb
/Sn、In、Au/Si等の半田材を形成することが
好ましく、またAu、Ag、Al等の導電性のよい金属
よりなる薄膜を形成してもよい。半田材で金属薄膜を形
成すると、レーザチップを凹部内に直接ダイボンドでき
る。また、Ag、Al等の薄膜を凹部に形成した場合
は、レーザチップの基板と、金属薄膜とを、前記半田材
を介してダイボンドしてもよい。特に好ましく半田材で
メタライズすると、図3Aの円で囲まれた部分に示すよ
うに、加熱により融解した半田材が基板の側面にまで回
り込むため、レーザチップと支持体との接触面積が広が
り、熱伝導率がよくなる。
On the other hand, the support body 20 shown in FIG. 2 has a function of disposing a laser chip and dissipating heat generated by the laser chip, and examples thereof include a heat sink and a submount mounted on the heat sink. Examples of the material of the support include diamond, AlN, SiC, CuW, BeO, and Mo.
It is desirable to select a material having a large thermal conductivity and a small coefficient of thermal expansion. Further, a concave portion having a size such that a laser chip can be inserted is formed on the surface of the support 20, and the inner surface of the concave portion is metallized with a concave metal thin film 21. For example, Au / Sn, Pb
It is preferable to form a solder material such as / Sn, In, Au / Si, or a thin film made of a metal having good conductivity such as Au, Ag, or Al. When a metal thin film is formed with a solder material, a laser chip can be directly die-bonded in a concave portion. When a thin film of Ag, Al, or the like is formed in the recess, the substrate of the laser chip and the metal thin film may be die-bonded via the solder material. Particularly preferably, when metallizing with a solder material, the solder material melted by heating goes around to the side surface of the substrate as shown in the circled portion in FIG. 3A, so that the contact area between the laser chip and the support is increased, and the heat area is increased. The conductivity is improved.

【0013】図3はレーザチップを支持体凹部に挿入し
た状態を断面図でもって示しており、負電極10はワイ
ヤーボンディングにより他の端子と接続され、正電極1
1はパッド電極12を介して同じくワイヤーボンディン
グにより他の端子と接続されている。このように、支持
体20の凹部にフェースアップの状態でレーザチップを
挿入することにより、レーザチップの基板側に伝わる発
熱を、支持体の凹部で吸熱させる。つまり、レーザチッ
プの発熱を、基板と接触した凹部の底部と、基板の側面
と近接した、若しくは接触した凹部の側面とで吸収させ
ることにより、チップ全体の発熱を外部に迅速に伝える
ことができ、放熱効果が向上する。
FIG. 3 is a sectional view showing a state in which the laser chip is inserted into the concave portion of the support. The negative electrode 10 is connected to another terminal by wire bonding, and the positive electrode 1 is connected to the other terminal.
Reference numeral 1 is also connected to other terminals via pad electrodes 12 by wire bonding. As described above, by inserting the laser chip into the concave portion of the support 20 in a face-up state, heat generated in the substrate of the laser chip is absorbed by the concave portion of the support. In other words, the heat of the entire chip can be quickly transmitted to the outside by absorbing the heat generated by the laser chip at the bottom of the concave portion in contact with the substrate and at the side surface of the concave portion close to or in contact with the side surface of the substrate. The heat radiation effect is improved.

【0014】さらに好ましくは、レーザチップの負電極
10が形成されている窒化物半導体層表面と、前記支持
体10の凹部端面とが、ほぼ同一高さにあることであ
る。図3では電極をワイヤーボンディングで外部電極と
接続した状態を示しているが、レーザチップの負電極形
成面と、凹部端面とがほぼ同一であると、例えばサブマ
ウントのような支持体にレーザチップを設置し、そのサ
ブマウントごとフェースダウンの状態でヒートシンクに
ダイレクトボンディングすることも可能となる。なお、
ほぼ同一高さとは、レーザチップの負電極形成面と、支
持体の負電極形成面との水平面が±10μmの範囲内に
あることをいう。
[0014] More preferably, the surface of the nitride semiconductor layer on which the negative electrode 10 of the laser chip is formed and the end face of the concave portion of the support 10 are substantially at the same height. FIG. 3 shows a state in which the electrodes are connected to the external electrodes by wire bonding. However, when the negative electrode forming surface of the laser chip and the end surface of the concave portion are substantially the same, for example, the laser chip is mounted on a support such as a submount. Can be installed, and the submount can be directly bonded to the heat sink in a face-down state. In addition,
The term “substantially the same height” means that the horizontal plane between the negative electrode forming surface of the laser chip and the negative electrode forming surface of the support is within a range of ± 10 μm.

【0015】さらに、レーザチップが支持体の凹部に挿
入された場合、レーザ光の出射面側の少なくとも一方
に、支持体の平面が表出していない方が望ましい。つま
り、レーザチップの共振面側のいずれか一方には、支持
体が突出していない方が望ましい。なぜなら、共振面か
ら出射されるレーザ光の一部が、支持体の表面で反射さ
れることにより、レーザ光の形状が変化するからであ
る。従って、図3で示す断面図は、同時に、支持体が突
出していない方の共振面側から見たレーザ素子の側面図
をも示している。
Further, when the laser chip is inserted into the concave portion of the support, it is desirable that the plane of the support is not exposed on at least one of the laser light emitting surfaces. That is, it is preferable that the support does not protrude on one of the resonance surfaces of the laser chip. This is because part of the laser light emitted from the resonance surface is reflected by the surface of the support, so that the shape of the laser light changes. Therefore, the cross-sectional view shown in FIG. 3 also shows a side view of the laser element viewed from the side of the resonance surface where the support does not protrude.

【0016】図4は本発明の他のレーザ素子の構造を示
す断面図である。このレーザ素子は凹部以外の支持体の
表面に、外部電極と接続するための電極パターン22が
メタライズされている。電極パターンをメタライズする
には、凹部のメタライズと同じく、例えば蒸着、スパッ
タ等の通常の気相製膜方法の他、印刷法によっても形成
できる。電極パターン22は外部電極と接続するため、
あるいは、図4に示すように、負電極が2ヶ所にあるレ
ーザチップの負電極を、支持体表面で接続して1つの負
電極とする作用がある。図4のレーザ素子では電極パタ
ーン22が支持体表面で繋がっているために、負電極の
ワイヤーボンディングが1ヶ所ですむことを示してい
る。さらに、図4のレーザ素子は、レーザチップの負電
極10と、支持体20の表面にメタライズされた電極パ
ターン22とが連続した電極金属膜30で接続されてい
る。このように電極同士を電極金属膜30で接続する
と、ワイヤーボンディングで直接レーザチップの負電極
を接続するよりも、ボンディングの信頼性が向上する。
なぜなら、レーザは発熱量が大きいために電極、チップ
が収縮、膨張しやすい。そのために電極の接触部分に負
担が係る結果となる。しかし、電極の接触面積の大きい
金属膜で電極同士を接続することにより、電極が剥がれ
にくくなるために信頼性がよくなる。さらに金属よりな
る電極は熱伝導性が良いために、放熱効果もよくなる。
FIG. 4 is a sectional view showing the structure of another laser device according to the present invention. In this laser element, an electrode pattern 22 for connecting to an external electrode is metallized on the surface of the support other than the concave portion. The metallization of the electrode pattern can be formed by a printing method in addition to a normal vapor deposition method such as vapor deposition and sputtering, similarly to the metallization of the concave portion. Since the electrode pattern 22 is connected to an external electrode,
Alternatively, as shown in FIG. 4, the negative electrode of the laser chip having two negative electrodes is connected on the surface of the support to form one negative electrode. In the laser device of FIG. 4, since the electrode pattern 22 is connected on the surface of the support, it is shown that only one wire bonding of the negative electrode is required. Further, in the laser device of FIG. 4, the negative electrode 10 of the laser chip and the electrode pattern 22 metallized on the surface of the support 20 are connected by a continuous electrode metal film 30. When the electrodes are connected by the electrode metal film 30 in this manner, the reliability of bonding is improved as compared with the case where the negative electrode of the laser chip is directly connected by wire bonding.
This is because a laser generates a large amount of heat, so that the electrodes and chips are likely to contract and expand. This results in a burden on the contact portions of the electrodes. However, by connecting the electrodes with a metal film having a large contact area with the electrodes, the electrodes are less likely to be peeled off, so that the reliability is improved. Furthermore, since the electrode made of metal has good thermal conductivity, the heat radiation effect is also improved.

【0017】図5は本発明の他のレーザ素子の構造を示
す模式的な断面図である。このレーザ素子が図4と異な
る点は、支持体20に形成された電極パターン22の内
の一方が支持体の裏側にまで連続して形成されているこ
とにある。このように電極パターンを形成すると、レー
ザ素子をサブマウントに設置した際に、サブマウントの
裏面に形成された電極を、直接ヒートシンクにダイボン
ドできるため、さらに放熱性が良くなる。また、ワイヤ
ーボンディング箇所がp層のパッド電極12のみとなる
ため信頼性もよくなる。またこの図では電極パターン2
2の方を支持体20の裏面に連続して形成しているが、
電極金属膜30の方を支持体20の裏面にまで連続して
形成してもよいことは言うまでもない。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing the structure of another laser device according to the present invention. This laser element differs from FIG. 4 in that one of the electrode patterns 22 formed on the support 20 is formed continuously up to the back side of the support. When the electrode pattern is formed in this manner, when the laser element is mounted on the submount, the electrode formed on the back surface of the submount can be die-bonded directly to the heat sink, so that the heat dissipation is further improved. Further, since the wire bonding portion is only the pad electrode 12 of the p-layer, the reliability is improved. In this figure, electrode pattern 2
2 is continuously formed on the back surface of the support 20,
It goes without saying that the electrode metal film 30 may be formed continuously on the back surface of the support 20.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のレーザ素
子では、レーザチップが凹部がメタライズされた支持体
に挿入されているために、レーザチップの発熱がメタラ
イズされた凹部金属薄膜によって効率よく支持体に伝え
ることができる。特に活性層よりも上にあるp層をスト
ライプ状のリッジ形状とした窒化物半導体レーザ素子で
は、リッジ部分によく熱が集中する傾向にある。本発明
のレーザ素子では基板側を凹部の内部に埋め込んだ状態
となるので、発熱量の大きいリッジ部分が電極、及び支
持体と接近するため、熱が支持体に吸収されやすくな
る。このため、活性層の発熱が、支持体に伝わりやすく
なるので、チップの放熱性が良くなる。
As described above, in the laser device of the present invention, since the laser chip is inserted into the support having the metallized recess, the heat generated by the laser chip is efficiently provided by the metallized metal thin recess. Can be communicated to the support. In particular, in a nitride semiconductor laser device in which the p layer above the active layer has a stripe-shaped ridge shape, heat tends to concentrate well on the ridge portion. In the laser device of the present invention, since the substrate side is buried in the recess, the ridge portion generating a large amount of heat approaches the electrode and the support, so that heat is easily absorbed by the support. For this reason, the heat generation of the active layer is easily transmitted to the support, and the heat dissipation of the chip is improved.

【0019】また支持体側に電極パターンをメタライズ
し、チップの負電極と電極パターンとを面積の大きい電
極金属薄膜で電気的に接続することにより、レーザ素子
の信頼性も向上する。
The reliability of the laser device is also improved by metallizing an electrode pattern on the support side and electrically connecting the negative electrode of the chip and the electrode pattern with an electrode metal thin film having a large area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施例に係るレーザチップの構造
を示す模式断面図。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of a laser chip according to one embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の一実施例に係る支持体の構造を示す
模式断面図。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing the structure of a support according to one embodiment of the present invention.

【図3】 図1のレーザチップを、図2の支持体の凹部
に挿入した際の構造を示す模式断面図。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a structure when the laser chip of FIG. 1 is inserted into a concave portion of the support of FIG. 2;

【図4】 本発明の他の実施例に係るレーザ素子の構造
を示す模式断面図。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing the structure of a laser device according to another embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の他の実施例に係るレーザ素子の構造
を示す模式断面図。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a structure of a laser device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・基板 2・・・・n層 3・・・・活性層 4・・・・p層 10・・・・負電極 11・・・・正電極 12・・・・パッド電極 13・・・・絶縁膜 20・・・・支持体 21・・・・凹部金属薄膜 22・・・・電極パターン 30・・・・電極金属膜 1 ... substrate 2 ... n layer 3 ... active layer 4 ... p layer 10 ... negative electrode 11 ... positive electrode 12 ... pad electrode 13 ... ... insulating film 20 ... support 21 ... concave metal thin film 22 ... electrode pattern 30 ... electrode metal film

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 同一面側に正電極と負電極とが形成され
たレーザチップが、フェースアップの状態で、内面がメ
タライズされた凹部を有する支持体に挿入されているこ
とを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
1. A nitriding method wherein a laser chip having a positive electrode and a negative electrode formed on the same surface side is inserted face-up into a support having a recess whose inner surface is metallized. Semiconductor laser device.
【請求項2】 前記レーザチップは正電極の高さよりも
負電極の高さが低い位置にあり、その負電極が形成され
ている窒化物半導体層表面と、前記支持体の凹部端面と
が、ほぼ同一高さにあることを特徴とする請求項1に記
載の窒化物半導体レーザ素子。
2. The laser chip, wherein the height of the negative electrode is lower than the height of the positive electrode, and the surface of the nitride semiconductor layer on which the negative electrode is formed, and the end face of the concave portion of the support, 2. The nitride semiconductor laser device according to claim 1, wherein the nitride semiconductor laser devices are substantially at the same height.
【請求項3】 前記支持体の凹部の他の表面には、外部
電極と接続するための電極パターンがメタライズされて
おり、前記レーザチップの負電極と、その電極パターン
とが、連続した金属膜により電気的に接続されているこ
とを特徴とする請求項1または2に記載の窒化物半導体
レーザ素子。
3. An electrode pattern for connecting to an external electrode is metallized on the other surface of the concave portion of the support, and the negative electrode of the laser chip and the electrode pattern are continuous metal films. The nitride semiconductor laser device according to claim 1, wherein the nitride semiconductor laser device is electrically connected by:
JP17757596A 1996-07-08 1996-07-08 Nitride semiconductor laser element Pending JPH1022570A (en)

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JP17757596A JPH1022570A (en) 1996-07-08 1996-07-08 Nitride semiconductor laser element

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