JP2000182278A - 光情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体およびその製造方法Info
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- JP2000182278A JP2000182278A JP10356479A JP35647998A JP2000182278A JP 2000182278 A JP2000182278 A JP 2000182278A JP 10356479 A JP10356479 A JP 10356479A JP 35647998 A JP35647998 A JP 35647998A JP 2000182278 A JP2000182278 A JP 2000182278A
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録レーザ光の照射時に記録膜で吸収したエ
ネルギーが反射膜を通って逃げるのを防止し、記録感度
のよい光情報記録媒体を得る。 【解決手段】 透明基板１の一面１ａ上に、記録膜２、
反射膜４を順次積層し、基板１の他面１ｂ側から記録レ
ーザ光を照射することにより、記録膜２に情報を記録す
る光情報情報媒体１００において、記録膜２と反射膜４
との間には、反射膜４よりも低い熱伝導率を持つ断熱膜
３が介在されている。
ネルギーが反射膜を通って逃げるのを防止し、記録感度
のよい光情報記録媒体を得る。 【解決手段】 透明基板１の一面１ａ上に、記録膜２、
反射膜４を順次積層し、基板１の他面１ｂ側から記録レ
ーザ光を照射することにより、記録膜２に情報を記録す
る光情報情報媒体１００において、記録膜２と反射膜４
との間には、反射膜４よりも低い熱伝導率を持つ断熱膜
３が介在されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明な基板上に記
録膜、反射膜を順次積層してなり、記録レーザ光の照射
により前記記録膜に情報を記録する光情報記録媒体およ
びその製造方法に関し、この光情報記録媒体としては、
光ディスク、光カード等に用いることができる。
録膜、反射膜を順次積層してなり、記録レーザ光の照射
により前記記録膜に情報を記録する光情報記録媒体およ
びその製造方法に関し、この光情報記録媒体としては、
光ディスク、光カード等に用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】現在、光情報記録媒体として、例えばＣ
Ｄ（コンパクトディスク）と再生時互換性がある追記型
ＣＤが商品化されており、例えば、特開平１０−１１９
４３７号公報に記載のものが提案されている。これは、
透明なプラスチック基板の一面上に、無機材料や有機色
素材料等からなる記録膜、Ａｕ等からなる反射膜、ＵＶ
（紫外線）樹脂保護膜を順次積層したもので、基板の他
面側から記録レーザ光を照射することにより、記録膜に
吸収された光が熱エネルギーにかわり、記録膜の熱分解
による基板の変形によって記録部の反射率を低下させ、
信号（情報）を記録するものである。
Ｄ（コンパクトディスク）と再生時互換性がある追記型
ＣＤが商品化されており、例えば、特開平１０−１１９
４３７号公報に記載のものが提案されている。これは、
透明なプラスチック基板の一面上に、無機材料や有機色
素材料等からなる記録膜、Ａｕ等からなる反射膜、ＵＶ
（紫外線）樹脂保護膜を順次積層したもので、基板の他
面側から記録レーザ光を照射することにより、記録膜に
吸収された光が熱エネルギーにかわり、記録膜の熱分解
による基板の変形によって記録部の反射率を低下させ、
信号（情報）を記録するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者等が上記従来のＣＤ構造に基づいて検討したところ、
記録膜で吸収した熱エネルギーが、熱の良導体である反
射膜を通って逃げてしまい、記録感度が良くないという
問題があることがわかった。本発明は上記問題に鑑み、
記録時に記録膜で吸収したエネルギーが反射膜を通って
逃げるのを防止し、記録感度のよい光情報記録媒体を得
ることを目的とする。
者等が上記従来のＣＤ構造に基づいて検討したところ、
記録膜で吸収した熱エネルギーが、熱の良導体である反
射膜を通って逃げてしまい、記録感度が良くないという
問題があることがわかった。本発明は上記問題に鑑み、
記録時に記録膜で吸収したエネルギーが反射膜を通って
逃げるのを防止し、記録感度のよい光情報記録媒体を得
ることを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記従来構造
においては、記録膜と反射膜とが直接接しているため、
記録膜で吸収した熱エネルギーが熱の良導体である反射
膜を通って逃げてしまうことに着目してなされたもので
ある。即ち、請求項１記載の発明においては、記録膜
（２、１２、１８、２２、２６）と反射膜（４、１４、
１６、２４、２８）との間に、該反射膜よりも低い熱伝
導率を持つ断熱膜（３、１３、１７、２３、２７）を介
在させたことを特徴としている。
においては、記録膜と反射膜とが直接接しているため、
記録膜で吸収した熱エネルギーが熱の良導体である反射
膜を通って逃げてしまうことに着目してなされたもので
ある。即ち、請求項１記載の発明においては、記録膜
（２、１２、１８、２２、２６）と反射膜（４、１４、
１６、２４、２８）との間に、該反射膜よりも低い熱伝
導率を持つ断熱膜（３、１３、１７、２３、２７）を介
在させたことを特徴としている。
【０００５】本発明では、熱伝導率の低い断熱膜が、記
録膜と反射膜との間において熱伝導の障壁となり断熱効
果を発揮するため、記録レーザ光の照射時に、記録膜に
吸収された熱エネルギーが反射膜を通って逃げるのを防
止することができ、従って、記録感度のよい光情報記録
媒体を得ることができる。また、反射膜は反射率が良い
ことを主眼に作られているため、通常、金属材料（例え
ば金、アルミ等）が採用されている。そして、熱伝導率
は、一般に材料の電気伝導率に依存し、特に、導電材料
と非導電材料（誘電体、絶縁体）とでは大きく異なる。
従って、反射膜よりも低い熱伝導率を持つ断熱膜として
は、誘電体等の非導電材料を用いることが好ましい。
録膜と反射膜との間において熱伝導の障壁となり断熱効
果を発揮するため、記録レーザ光の照射時に、記録膜に
吸収された熱エネルギーが反射膜を通って逃げるのを防
止することができ、従って、記録感度のよい光情報記録
媒体を得ることができる。また、反射膜は反射率が良い
ことを主眼に作られているため、通常、金属材料（例え
ば金、アルミ等）が採用されている。そして、熱伝導率
は、一般に材料の電気伝導率に依存し、特に、導電材料
と非導電材料（誘電体、絶縁体）とでは大きく異なる。
従って、反射膜よりも低い熱伝導率を持つ断熱膜として
は、誘電体等の非導電材料を用いることが好ましい。
【０００６】請求項２記載の発明は、上記の考えに基づ
いたもので、誘電体等の非導電材料の熱伝導率の上限と
しては、１０Ｗ／ｍＫ程度であることから、それ以下の
熱伝導率を有する断熱膜（３、１３、１７、２３、２
７）としたものである。ここで、断熱膜（３、１３、１
７、２３、２７）を構成する物質としては、請求項３記
載の発明のように、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物
及び有機高分子から選択された少なくとも１つの物質を
採用することができる。これらの物質によれば、反射膜
を構成する金属等よりも熱伝導率が低く且つ透明な膜を
実現できる。
いたもので、誘電体等の非導電材料の熱伝導率の上限と
しては、１０Ｗ／ｍＫ程度であることから、それ以下の
熱伝導率を有する断熱膜（３、１３、１７、２３、２
７）としたものである。ここで、断熱膜（３、１３、１
７、２３、２７）を構成する物質としては、請求項３記
載の発明のように、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物
及び有機高分子から選択された少なくとも１つの物質を
採用することができる。これらの物質によれば、反射膜
を構成する金属等よりも熱伝導率が低く且つ透明な膜を
実現できる。
【０００７】また、断熱膜（３、１３、１７、２３、２
７）の膜厚は、あまり薄いと十分な断熱効果が得られ
ず、あまり厚いと成膜に時間がかかる等製造上の理由か
ら、請求項４記載の発明のように、５０ｎｍ〜２００ｎ
ｍであることが好ましい。また、請求項５記載の発明に
よれば、請求項１〜請求項４に記載の光情報記録媒体を
適切に製造することができる。
７）の膜厚は、あまり薄いと十分な断熱効果が得られ
ず、あまり厚いと成膜に時間がかかる等製造上の理由か
ら、請求項４記載の発明のように、５０ｎｍ〜２００ｎ
ｍであることが好ましい。また、請求項５記載の発明に
よれば、請求項１〜請求項４に記載の光情報記録媒体を
適切に製造することができる。
【０００８】なお、上記した括弧内の符号は、後述する
実施形態記載の具体的手段との対応関係を示す一例であ
る。
実施形態記載の具体的手段との対応関係を示す一例であ
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施形態
について説明する。図１に、本発明の一実施形態に係る
光情報記録媒体の模式的な断面構成を示す。図に示すよ
うに、プラスチック、ガラス等の透明基板１の一面１ａ
上に、記録膜２、断熱膜３、反射膜４、樹脂保護膜５が
形成されて光情報記録媒体１００が構成されている。そ
して、光情報記録媒体１００においては、透明基板１の
他面１ｂ側から図１の白抜き矢印に示す様に、記録レー
ザ光が照射されるようになっている。
について説明する。図１に、本発明の一実施形態に係る
光情報記録媒体の模式的な断面構成を示す。図に示すよ
うに、プラスチック、ガラス等の透明基板１の一面１ａ
上に、記録膜２、断熱膜３、反射膜４、樹脂保護膜５が
形成されて光情報記録媒体１００が構成されている。そ
して、光情報記録媒体１００においては、透明基板１の
他面１ｂ側から図１の白抜き矢印に示す様に、記録レー
ザ光が照射されるようになっている。
【００１０】透明基板１の一面１ａには、ウォブルを持
った案内溝（グループ）６が形成されており、この案内
溝６は、例えば深さが５０ｎｍ以下で、幅が０．７〜
０．５μｍ程度のものである。記録膜２は、記録レーザ
光の照射により熱分解するような無機材料や有機色素材
料等からなる。特に、記録膜２は、真空成膜法で形成さ
れたものであって、記録レーザ光の照射時に熱分解を起
こす物質（熱分解物質）を含み、記録レーザ光の照射に
より該熱分解物質が熱分解し、複素屈折率の変化が隆起
変形よりも支配的に生じて情報の記録が行われるように
したものが好ましい。
った案内溝（グループ）６が形成されており、この案内
溝６は、例えば深さが５０ｎｍ以下で、幅が０．７〜
０．５μｍ程度のものである。記録膜２は、記録レーザ
光の照射により熱分解するような無機材料や有機色素材
料等からなる。特に、記録膜２は、真空成膜法で形成さ
れたものであって、記録レーザ光の照射時に熱分解を起
こす物質（熱分解物質）を含み、記録レーザ光の照射に
より該熱分解物質が熱分解し、複素屈折率の変化が隆起
変形よりも支配的に生じて情報の記録が行われるように
したものが好ましい。
【００１１】更に、記録膜２は、上記熱分解物質に加え
て、熱分解により生じた物質を記録膜２中に分散される
物質、および記録レーザ光の対し透明で記録膜２の光吸
収率を調整する物質、の中から選択された少なくとも１
つの物質を含んでいるものが好ましい。記録レーザ光の
照射時に熱分解を起こす物質としては、Ｃｕ−Ｎを用い
ることができる。また、Ｓｎ−Ｎ、Ａｇ−Ｎ、Ｎｉ−Ｎ
などの金属と窒素の化合物を用いることもできる。
て、熱分解により生じた物質を記録膜２中に分散される
物質、および記録レーザ光の対し透明で記録膜２の光吸
収率を調整する物質、の中から選択された少なくとも１
つの物質を含んでいるものが好ましい。記録レーザ光の
照射時に熱分解を起こす物質としては、Ｃｕ−Ｎを用い
ることができる。また、Ｓｎ−Ｎ、Ａｇ−Ｎ、Ｎｉ−Ｎ
などの金属と窒素の化合物を用いることもできる。
【００１２】また、熱分解により生じた物質を記録膜２
中に分散させる物質としては、Ｃ、Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃ
ｌ、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの少なくとも１種を含むガ
スを導入して形成された有機物質、例えばＣY ＨX （Ｙ
＝１〜５、Ｘ＝１〜１０）を主成分とするものを用いる
ことができ、具体的にはＣＨ4 を用いることができる。
さらに、記録膜２の光吸収率を調整する物質としては、
ＺｎＳ−ＳｉＯ2 を用いることができる。
中に分散させる物質としては、Ｃ、Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃ
ｌ、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの少なくとも１種を含むガ
スを導入して形成された有機物質、例えばＣY ＨX （Ｙ
＝１〜５、Ｘ＝１〜１０）を主成分とするものを用いる
ことができ、具体的にはＣＨ4 を用いることができる。
さらに、記録膜２の光吸収率を調整する物質としては、
ＺｎＳ−ＳｉＯ2 を用いることができる。
【００１３】記録膜２と反射膜４との間に介在する断熱
膜３は、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物及び有機高
分子から選択された少なくとも１つの物質を、真空成膜
法で形成したものを用いることができる。具体的には、
ＳｉＯ2 、ＳｉＣ、ＺｎＳ等の無機材料の透明膜をスパ
ッタ法で成膜したものを用いることができる。または、
Ｃ、Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃｌ、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの
少なくとも１種を含むガスを導入して形成された有機物
質、例えばＣY ＨX （Ｙ＝１〜５、Ｘ＝１〜１０）を主
成分とするものを用いることができ、具体的にはＣＨ4
のプラズマ重合によって成膜したものを用いることがで
きる。
膜３は、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物及び有機高
分子から選択された少なくとも１つの物質を、真空成膜
法で形成したものを用いることができる。具体的には、
ＳｉＯ2 、ＳｉＣ、ＺｎＳ等の無機材料の透明膜をスパ
ッタ法で成膜したものを用いることができる。または、
Ｃ、Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃｌ、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうちの
少なくとも１種を含むガスを導入して形成された有機物
質、例えばＣY ＨX （Ｙ＝１〜５、Ｘ＝１〜１０）を主
成分とするものを用いることができ、具体的にはＣＨ4
のプラズマ重合によって成膜したものを用いることがで
きる。
【００１４】また、断熱膜３は、反射膜よりも低い熱伝
導率を持つ。具体的には、熱伝導率を１０Ｗ／ｍＫ以下
としている。また、その膜厚は、あまり薄いと十分な断
熱効果が得られず、あまり厚いと成膜に時間がかかる等
製造上の理由から、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることが
好ましい。なお、断熱膜３として記録膜２と同種の物質
を用いた場合には、記録膜２の記録特性に影響の無いよ
うに且つ断熱膜３を上記低熱伝導率とすべく、両膜２、
３の互いの組成比を変える。
導率を持つ。具体的には、熱伝導率を１０Ｗ／ｍＫ以下
としている。また、その膜厚は、あまり薄いと十分な断
熱効果が得られず、あまり厚いと成膜に時間がかかる等
製造上の理由から、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることが
好ましい。なお、断熱膜３として記録膜２と同種の物質
を用いた場合には、記録膜２の記録特性に影響の無いよ
うに且つ断熱膜３を上記低熱伝導率とすべく、両膜２、
３の互いの組成比を変える。
【００１５】反射膜４は、スパッタ法、蒸着法により形
成された金属反射膜、例えばＡｕ、Ａｇ、Ａｌ膜または
合金を用いることができる。また、金属反射膜の代わり
に光干渉多層反射膜を用いてもよい。樹脂保護膜５とし
ては、ＵＶ硬化樹脂などを用いることができる。かかる
構成を有する光情報記録媒体１００は、案内溝６が形成
された透明基板１の一面１ａ上に、記録膜２を真空成膜
法で形成し、その上に断熱膜３を真空成膜法で形成し、
その上に反射膜４をスパッタ法、蒸着法により形成し、
最後に、樹脂保護膜５を塗布、ＵＶ硬化することによ
り、製造される。
成された金属反射膜、例えばＡｕ、Ａｇ、Ａｌ膜または
合金を用いることができる。また、金属反射膜の代わり
に光干渉多層反射膜を用いてもよい。樹脂保護膜５とし
ては、ＵＶ硬化樹脂などを用いることができる。かかる
構成を有する光情報記録媒体１００は、案内溝６が形成
された透明基板１の一面１ａ上に、記録膜２を真空成膜
法で形成し、その上に断熱膜３を真空成膜法で形成し、
その上に反射膜４をスパッタ法、蒸着法により形成し、
最後に、樹脂保護膜５を塗布、ＵＶ硬化することによ
り、製造される。
【００１６】特に、上記の好ましい記録膜２の成膜方法
としては、熱分解を起こすもととなる物質をターゲット
とし、この物質と化合物を形成して熱分解を起こす物質
（上記熱分解物質）を生成するための原料ガスと、Ｃ、
Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃ１、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうち少なく
とも１種を含むガスを導入して反応性スパッタにより形
成することができる。また、上記の熱分解を起こすもと
となる物質と上記の光吸収率を調整する物質を異なるタ
ーゲットとして、反応性スパッタを行うこともできる。
としては、熱分解を起こすもととなる物質をターゲット
とし、この物質と化合物を形成して熱分解を起こす物質
（上記熱分解物質）を生成するための原料ガスと、Ｃ、
Ｈ、Ｆ、Ｓ、Ｏ、Ｃ１、Ｎ、Ｐ、Ｉ、Ｂｒのうち少なく
とも１種を含むガスを導入して反応性スパッタにより形
成することができる。また、上記の熱分解を起こすもと
となる物質と上記の光吸収率を調整する物質を異なるタ
ーゲットとして、反応性スパッタを行うこともできる。
【００１７】なお、記録膜２は、スパッタ法以外に、蒸
着法、イオンプレーティング法などを用いて成膜しても
よい。このように透明基板１上に記録膜２、断熱膜３、
反射膜４、樹脂保護膜５を形成することによって、情報
記録時に記録部の反射率が低下するようにした追記型の
光ディスクを構成することができる。この場合、記録膜
２および断熱膜３を真空成膜法を用いて形成することに
より、タクトタイムの短縮と生産歩留まりの向上を図る
ことができる。
着法、イオンプレーティング法などを用いて成膜しても
よい。このように透明基板１上に記録膜２、断熱膜３、
反射膜４、樹脂保護膜５を形成することによって、情報
記録時に記録部の反射率が低下するようにした追記型の
光ディスクを構成することができる。この場合、記録膜
２および断熱膜３を真空成膜法を用いて形成することに
より、タクトタイムの短縮と生産歩留まりの向上を図る
ことができる。
【００１８】そして、光情報記録媒体１００において、
図１の白抜き矢印に示す様に、記録レーザ光が照射され
ると、記録膜に吸収された光が熱エネルギーにかわり、
記録膜の熱分解による基板の変形によって記録部の反射
率を低下させ、信号（情報）を記録するものである。特
に、上記の好ましい記録膜２とした場合には、上記の熱
エネルギーにより熱分解物質が熱分解し、複素屈折率の
変化が隆起変形よりも支配的に生じて情報の記録が行わ
れる。
図１の白抜き矢印に示す様に、記録レーザ光が照射され
ると、記録膜に吸収された光が熱エネルギーにかわり、
記録膜の熱分解による基板の変形によって記録部の反射
率を低下させ、信号（情報）を記録するものである。特
に、上記の好ましい記録膜２とした場合には、上記の熱
エネルギーにより熱分解物質が熱分解し、複素屈折率の
変化が隆起変形よりも支配的に生じて情報の記録が行わ
れる。
【００１９】本実施形態では、この情報の記録時（記録
レーザ光の照射時）において、熱伝導率を１０Ｗ／ｍＫ
以下と反射膜４よりも低くした断熱膜３が、記録膜２と
反射膜４との間において熱伝導の障壁となり断熱効果を
発揮するため、記録膜２に吸収された熱エネルギーが反
射膜４を通って逃げるのを防止することができ、記録感
度のよい光情報記録媒体を得ることができる。
レーザ光の照射時）において、熱伝導率を１０Ｗ／ｍＫ
以下と反射膜４よりも低くした断熱膜３が、記録膜２と
反射膜４との間において熱伝導の障壁となり断熱効果を
発揮するため、記録膜２に吸収された熱エネルギーが反
射膜４を通って逃げるのを防止することができ、記録感
度のよい光情報記録媒体を得ることができる。
【００２０】また、光情報記録媒体としては、保護板も
しくは図１に示すものと同種の基板を接着剤、ＵＶ樹脂
等で貼り合わせた構造のものであってもよい。また、Ｄ
ＶＤ（デジタルビデオディスク）のような２枚張り合わ
せディスクにおいて、両方の基板に記録層を設けて片方
の面から２つの層の信号を読み出す片面２層方式のも
の、あるいは２層の信号面の基板を張り合わせた両面２
層方式のものであってもよい。
しくは図１に示すものと同種の基板を接着剤、ＵＶ樹脂
等で貼り合わせた構造のものであってもよい。また、Ｄ
ＶＤ（デジタルビデオディスク）のような２枚張り合わ
せディスクにおいて、両方の基板に記録層を設けて片方
の面から２つの層の信号を読み出す片面２層方式のも
の、あるいは２層の信号面の基板を張り合わせた両面２
層方式のものであってもよい。
【００２１】図２に、ＤＶＤにおける片面２層方式の構
造を示す。案内溝をもった透明基板１１に半透明の記録
膜１２と断熱膜１３と半透明の反射膜１４が形成され、
もう一方の案内溝をもった透明基板１５に反射膜１６と
断熱膜１７と記録膜１８が形成されている。２つの基板
１１、１５は、ＵＶ樹脂スペーサ１９で張り合わされて
いる。スペーサ１９の厚さは、３０〜８０ｎｍである。
記録・再生は、記録膜１２、１８のいずれかに記録・再
生レーザ（図中Ｒ１、Ｒ２）の焦点を合わせることによ
り行う。
造を示す。案内溝をもった透明基板１１に半透明の記録
膜１２と断熱膜１３と半透明の反射膜１４が形成され、
もう一方の案内溝をもった透明基板１５に反射膜１６と
断熱膜１７と記録膜１８が形成されている。２つの基板
１１、１５は、ＵＶ樹脂スペーサ１９で張り合わされて
いる。スペーサ１９の厚さは、３０〜８０ｎｍである。
記録・再生は、記録膜１２、１８のいずれかに記録・再
生レーザ（図中Ｒ１、Ｒ２）の焦点を合わせることによ
り行う。
【００２２】図３にＤＶＤにおける両面２層方式の構造
を示す。案内溝をもった透明基板２１に半透明の記録膜
２２と断熱膜２３と半透明反射膜２４が形成され、その
上に２Ｐ法により案内溝をもったスペーサ２５が形成さ
れ、その上に記録膜２６、断熱膜２７、反射膜２８、保
護膜２９が形成されている。このような構造のディスク
が接着層３０により２枚張り合わせて構成されている。
スペーサ２５の厚さは、３０〜８０ｎｍである。記録・
再生は、両面のどちらかの記録膜に記録・再生レーザ
（図中、Ｒ３、Ｒ４）の焦点を合わせることにより行
う。
を示す。案内溝をもった透明基板２１に半透明の記録膜
２２と断熱膜２３と半透明反射膜２４が形成され、その
上に２Ｐ法により案内溝をもったスペーサ２５が形成さ
れ、その上に記録膜２６、断熱膜２７、反射膜２８、保
護膜２９が形成されている。このような構造のディスク
が接着層３０により２枚張り合わせて構成されている。
スペーサ２５の厚さは、３０〜８０ｎｍである。記録・
再生は、両面のどちらかの記録膜に記録・再生レーザ
（図中、Ｒ３、Ｒ４）の焦点を合わせることにより行
う。
【００２３】なお、図２及び図３における、透明基板、
記録膜、断熱膜、反射膜及び保護膜は、上記図１に示す
ものと同様のものとできることは勿論である。次に、本
発明の光情報記録媒体について、以下の実施例及び比較
例に基づいて更に具体的説明を行う。
記録膜、断熱膜、反射膜及び保護膜は、上記図１に示す
ものと同様のものとできることは勿論である。次に、本
発明の光情報記録媒体について、以下の実施例及び比較
例に基づいて更に具体的説明を行う。
【００２４】
【実施例】（実施例１）本実施例１及び後述の実施例２
は上記図１に示し光情報記録媒体１００に係るものであ
る。案内溝６を持った透明なポリカーボネイト基板１上
に、反応性高周波スパッタ法（反応性ＤＣスパッタ法で
もよい）により、ＣｕターゲットとＺｎＳ−ＳｉＯ 2 タ
ーゲットを同時にスパッタし、記録膜２を形成する。こ
のとき、ＡｒとＮ2ＣＨ4 のガスを導入する。スパッタ
パワーはＣｕターゲットが２００Ｗであり、ＺｎＳ−Ｓ
ｉＯ2 ターゲットが４００Ｗである。また、ガス圧は１
２Ｐａであり、ＡｒとＮ2 とＣＨ4 の比率は７：２：３
である。
は上記図１に示し光情報記録媒体１００に係るものであ
る。案内溝６を持った透明なポリカーボネイト基板１上
に、反応性高周波スパッタ法（反応性ＤＣスパッタ法で
もよい）により、ＣｕターゲットとＺｎＳ−ＳｉＯ 2 タ
ーゲットを同時にスパッタし、記録膜２を形成する。こ
のとき、ＡｒとＮ2ＣＨ4 のガスを導入する。スパッタ
パワーはＣｕターゲットが２００Ｗであり、ＺｎＳ−Ｓ
ｉＯ2 ターゲットが４００Ｗである。また、ガス圧は１
２Ｐａであり、ＡｒとＮ2 とＣＨ4 の比率は７：２：３
である。
【００２５】その後、ＳｉＯ2 （ＳｉＯ2 １００％）タ
ーゲットを用い、Ａｒガスで高周波スパッタ法（Ｓｉタ
ーゲットにＯ2 の反応性ＤＣスパッタ法でもよい）によ
り、ＳｉＯ2 からなる断熱膜３を成膜する。このときス
パッタパワーは４００Ｗ、ガス圧は１２Ｐａである。さ
らに、反射膜４としてＡｕを１００ｎｍ形成する。最後
に、樹脂保護膜５として、ＵＶ硬化樹脂をスピンコータ
で塗布し、紫外線を照射することにより、硬化させる。
ーゲットを用い、Ａｒガスで高周波スパッタ法（Ｓｉタ
ーゲットにＯ2 の反応性ＤＣスパッタ法でもよい）によ
り、ＳｉＯ2 からなる断熱膜３を成膜する。このときス
パッタパワーは４００Ｗ、ガス圧は１２Ｐａである。さ
らに、反射膜４としてＡｕを１００ｎｍ形成する。最後
に、樹脂保護膜５として、ＵＶ硬化樹脂をスピンコータ
で塗布し、紫外線を照射することにより、硬化させる。
【００２６】次に、実際に、この光ディスク（光情報記
録媒体）に記録を行い、断熱膜ありのものと無しのもの
の比較を行った。線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ信号を記録
してみた結果、断熱膜無しのもの（図４参照）はレーザ
パワー（７８０ｎｍ）８ｍＷで記録可能であったのに対
し、断熱膜のあるもの（図５参照）は５ｍＷで記録可能
であった。
録媒体）に記録を行い、断熱膜ありのものと無しのもの
の比較を行った。線速１．４ｍ／ｓでＥＦＭ信号を記録
してみた結果、断熱膜無しのもの（図４参照）はレーザ
パワー（７８０ｎｍ）８ｍＷで記録可能であったのに対
し、断熱膜のあるもの（図５参照）は５ｍＷで記録可能
であった。
【００２７】なお、記録可能であるか否かの基準は、Ｃ
Ｄ規格、即ちＣＤの実用規格（ＣＤ−ＷＯ規格）で決め
た。ＣＤ規格は、反射率（未記録状態の反射率）が６５
％以上、振幅変調度が６０％以上、Ｃ／Ｎが４７ｄＢ以
上であり、本例では、振幅変調度が６０％以上、Ｃ／Ｎ
が４７ｄＢ以上を満足するレーザパワー範囲が、断熱膜
無しのもの（図４参照）では８ｍＷ以上、断熱膜のある
もの（図５参照）では５ｍＷ以上であり、断熱膜を設け
た本実施例の光情報記録媒体は、レーザパワーを低く、
即ち記録感度を向上できた。
Ｄ規格、即ちＣＤの実用規格（ＣＤ−ＷＯ規格）で決め
た。ＣＤ規格は、反射率（未記録状態の反射率）が６５
％以上、振幅変調度が６０％以上、Ｃ／Ｎが４７ｄＢ以
上であり、本例では、振幅変調度が６０％以上、Ｃ／Ｎ
が４７ｄＢ以上を満足するレーザパワー範囲が、断熱膜
無しのもの（図４参照）では８ｍＷ以上、断熱膜のある
もの（図５参照）では５ｍＷ以上であり、断熱膜を設け
た本実施例の光情報記録媒体は、レーザパワーを低く、
即ち記録感度を向上できた。
【００２８】また、ＥＦＭ信号の中でパルス幅の最も長
い信号であるＩ１１の振幅変調度は９０％となり、振幅
変調度６０％以上を必要とする上記ＣＤ規格を満足し、
良好な再生信号を得ることができた。 （実施例２）案内溝を持った透明なポリカーボネイト基
板１上に、反応性ＤＣスパッタ法により、Ｃｕターゲッ
トをスパッタし、記録膜２を形成する。このとき、Ｎ2
とＣ 5 Ｈ8 （イソプレン）ガスを導入する。スパッタパ
ワーは４ｋＷであり、また、ガス流量はＮ2 が８０ｓｃ
ｃｍ、Ｃ5 Ｈ8 が２５ｓｃｃｍである。
い信号であるＩ１１の振幅変調度は９０％となり、振幅
変調度６０％以上を必要とする上記ＣＤ規格を満足し、
良好な再生信号を得ることができた。 （実施例２）案内溝を持った透明なポリカーボネイト基
板１上に、反応性ＤＣスパッタ法により、Ｃｕターゲッ
トをスパッタし、記録膜２を形成する。このとき、Ｎ2
とＣ 5 Ｈ8 （イソプレン）ガスを導入する。スパッタパ
ワーは４ｋＷであり、また、ガス流量はＮ2 が８０ｓｃ
ｃｍ、Ｃ5 Ｈ8 が２５ｓｃｃｍである。
【００２９】その後、ＣｕターゲットをＮ2 とＣ5 Ｈ8
（イソプレン）ガスでスパッタして、Ｎ2 とＣ5 Ｈ8 と
からなる有機高分子にＣｕが微量含有されてなる断熱膜
３を成膜する。このとき、スパッタパワーは４ｋＷであ
り、ガス流量は、Ｎ2 が１００ｓｃｃｍ、Ｃ5 Ｈ8 が５
０ｓｃｃｍである。ここで、本例では記録膜２もＮ2と
Ｃ5 Ｈ8 とからなる有機高分子にＣｕが微量含有されて
なる膜であるが、Ｎ2とＣ5 Ｈ8 のガス流量を変えるこ
とにより、両膜２、３の組成比を変えている。
（イソプレン）ガスでスパッタして、Ｎ2 とＣ5 Ｈ8 と
からなる有機高分子にＣｕが微量含有されてなる断熱膜
３を成膜する。このとき、スパッタパワーは４ｋＷであ
り、ガス流量は、Ｎ2 が１００ｓｃｃｍ、Ｃ5 Ｈ8 が５
０ｓｃｃｍである。ここで、本例では記録膜２もＮ2と
Ｃ5 Ｈ8 とからなる有機高分子にＣｕが微量含有されて
なる膜であるが、Ｎ2とＣ5 Ｈ8 のガス流量を変えるこ
とにより、両膜２、３の組成比を変えている。
【００３０】さらに、反射膜４としてＡｕを１００ｎｍ
形成する。最後に、樹脂保護膜５として、ＵＶ硬化樹脂
をスピンコータで塗布し、紫外線を照射することによ
り、硬化させる。このディスクの評価を行った結果、上
記実施例１と同様に、レーザパワー５ｍＷでＣＤ規格を
十分に満たす性能が得られ、記録時に記録膜で吸収した
エネルギーが反射膜を通って逃げるのを断熱膜にて防止
し、記録感度のよい光情報記録媒体を得ることができ
た。
形成する。最後に、樹脂保護膜５として、ＵＶ硬化樹脂
をスピンコータで塗布し、紫外線を照射することによ
り、硬化させる。このディスクの評価を行った結果、上
記実施例１と同様に、レーザパワー５ｍＷでＣＤ規格を
十分に満たす性能が得られ、記録時に記録膜で吸収した
エネルギーが反射膜を通って逃げるのを断熱膜にて防止
し、記録感度のよい光情報記録媒体を得ることができ
た。
【００３１】（実施例３）本実施例３は上記図２に示す
片面２層方式のＤＶＤ構造に係るものである。案内溝を
もった厚さ０．６ｍｍの透明基板１１に、実施例１と同
様の方法で、半透明の記録膜１２を１１０ｎｍ形成し、
その上に断熱膜１３としてＳｉＯ2 膜を１００ｎｍ形成
し、さらにＳｉＣの半透明の反射膜１４を６０ｎｍ形成
する。このとき反射膜１４単独の透過率は、６０％であ
った。
片面２層方式のＤＶＤ構造に係るものである。案内溝を
もった厚さ０．６ｍｍの透明基板１１に、実施例１と同
様の方法で、半透明の記録膜１２を１１０ｎｍ形成し、
その上に断熱膜１３としてＳｉＯ2 膜を１００ｎｍ形成
し、さらにＳｉＣの半透明の反射膜１４を６０ｎｍ形成
する。このとき反射膜１４単独の透過率は、６０％であ
った。
【００３２】もう一方の案内溝をもった厚さ０．６ｍｍ
の透明基板１５に、反射膜１６としてＡｕを８０ｎｍ形
成し、その上に実施例１と同様の方法で、断熱膜１７と
してＳｉＯ2 膜を１００ｎｍ形成し、さらに記録膜１８
を１１０ｎｍ形成する。２つの基板１１、１５を液体状
のＵＶ樹脂で張り合わせ、スピンナーでＵＶ樹脂を振り
切り、スペーサ１９の厚さを５５μｍにする。次に、Ｕ
Ｖ照射し、硬化させる。
の透明基板１５に、反射膜１６としてＡｕを８０ｎｍ形
成し、その上に実施例１と同様の方法で、断熱膜１７と
してＳｉＯ2 膜を１００ｎｍ形成し、さらに記録膜１８
を１１０ｎｍ形成する。２つの基板１１、１５を液体状
のＵＶ樹脂で張り合わせ、スピンナーでＵＶ樹脂を振り
切り、スペーサ１９の厚さを５５μｍにする。次に、Ｕ
Ｖ照射し、硬化させる。
【００３３】このときの記録膜１２の反射率（図２中の
Ｒ１で示す光の経路によるもの）は２４％であり、基板
１１を通した記録膜１８の反射率（図２中のＲ２で示す
光の経路によるもの）は２３％であった。線速３．８４
ｍ／ｓにおいて、波長６３５ｎｍのレーザにより、ＤＶ
Ｄ信号を記録した結果、記録膜１２は６ｍＷで記録で
き、このときのジッターは７ｎｓであった。同様に、記
録膜１８の記録パワーは５ｍＷであり、このときのジッ
ターは８ｎｓであった。
Ｒ１で示す光の経路によるもの）は２４％であり、基板
１１を通した記録膜１８の反射率（図２中のＲ２で示す
光の経路によるもの）は２３％であった。線速３．８４
ｍ／ｓにおいて、波長６３５ｎｍのレーザにより、ＤＶ
Ｄ信号を記録した結果、記録膜１２は６ｍＷで記録で
き、このときのジッターは７ｎｓであった。同様に、記
録膜１８の記録パワーは５ｍＷであり、このときのジッ
ターは８ｎｓであった。
【００３４】このように、本実施例３においても、記録
時に記録膜で吸収したエネルギーが反射膜を通って逃げ
るのを断熱膜にて防止し、記録感度のよい光情報記録媒
体を得ることができた。 （実施例４）本実施例４は上記図３に示す両面２層方式
のＤＶＤ構造に係るものである。
時に記録膜で吸収したエネルギーが反射膜を通って逃げ
るのを断熱膜にて防止し、記録感度のよい光情報記録媒
体を得ることができた。 （実施例４）本実施例４は上記図３に示す両面２層方式
のＤＶＤ構造に係るものである。
【００３５】案内溝をもった厚さ０．６ｍｍの透明基板
２１に、実施例１と同様の方法で、半透明の記録膜２２
を１１０ｎｍ形成し、その上に断熱膜２３としてＳｉＯ
2 膜を１００ｎｍ形成し、さらにその上にＳｉＣの半透
明の反射膜２４を６０ｎｍ形成する。このとき半透明の
反射膜２４単独の透過率は、６０％であった。この半透
明の反射膜２３上にＵＶ樹脂を付け、案内溝のあるスタ
ンパーを押し付け、スピン回転によりスペーサ２５の厚
さを５５ｎｍにする。次に、ＵＶ照射により硬化させ、
スタンパーを剥離する。
２１に、実施例１と同様の方法で、半透明の記録膜２２
を１１０ｎｍ形成し、その上に断熱膜２３としてＳｉＯ
2 膜を１００ｎｍ形成し、さらにその上にＳｉＣの半透
明の反射膜２４を６０ｎｍ形成する。このとき半透明の
反射膜２４単独の透過率は、６０％であった。この半透
明の反射膜２３上にＵＶ樹脂を付け、案内溝のあるスタ
ンパーを押し付け、スピン回転によりスペーサ２５の厚
さを５５ｎｍにする。次に、ＵＶ照射により硬化させ、
スタンパーを剥離する。
【００３６】さらに、実施例１と同様の方法で、記録膜
２６を１１０ｎｍ形成し、その上に断熱膜２７としてＳ
ｉＯ2 膜を１００ｎｍ形成し、さらにその上に反射膜２
８としてＡｕを８０ｎｍ形成し、さらに保護層２９を形
成する。そして、上記のようにした形成された２つの基
板を、接着層３０となる液体状のＵＶ樹脂で張り合わ
せ、スピンナーで樹脂を振り切り、次に、ＵＶ照射し、
硬化させる。
２６を１１０ｎｍ形成し、その上に断熱膜２７としてＳ
ｉＯ2 膜を１００ｎｍ形成し、さらにその上に反射膜２
８としてＡｕを８０ｎｍ形成し、さらに保護層２９を形
成する。そして、上記のようにした形成された２つの基
板を、接着層３０となる液体状のＵＶ樹脂で張り合わ
せ、スピンナーで樹脂を振り切り、次に、ＵＶ照射し、
硬化させる。
【００３７】このときの記録膜２２の反射率（図３中の
Ｒ３で示す光の経路によるもの）は２４％であり、基板
２１を通した記録膜２６の反射率（図３中のＲ４で示す
光の経路によるもの）は２３％であった。線速３．８４
ｍ／ｓにおいて、波長６３５ｎｍのレーザにより、ＤＶ
Ｄ信号を記録した結果、記録膜２２は６ｍＷで記録で
き、このときのジッターは７ｎｓであった。同様に、記
録膜２６の記録パワーは５ｍＷであり、このときのジッ
ターは８ｎｓであった。
Ｒ３で示す光の経路によるもの）は２４％であり、基板
２１を通した記録膜２６の反射率（図３中のＲ４で示す
光の経路によるもの）は２３％であった。線速３．８４
ｍ／ｓにおいて、波長６３５ｎｍのレーザにより、ＤＶ
Ｄ信号を記録した結果、記録膜２２は６ｍＷで記録で
き、このときのジッターは７ｎｓであった。同様に、記
録膜２６の記録パワーは５ｍＷであり、このときのジッ
ターは８ｎｓであった。
【００３８】このように、本実施例４においても、記録
時に記録膜で吸収したエネルギーが反射膜を通って逃げ
るのを断熱膜にて防止し、記録感度のよい光情報記録媒
体を得ることができた。
時に記録膜で吸収したエネルギーが反射膜を通って逃げ
るのを断熱膜にて防止し、記録感度のよい光情報記録媒
体を得ることができた。
【図１】本発明の一実施形態を示す光情報記録媒体の模
式的な断面構成面である。
式的な断面構成面である。
【図２】ＤＶＤにおける片面２層方式の構造を示す図で
ある。
ある。
【図３】ＤＶＤにおける両面２層方式の構造を示す図で
ある。
ある。
【図４】本発明の実施例１において、断熱膜がない場合
の、反射率、振幅変調度、Ｃ／Ｎの、記録レーザパワー
依存性の測定結果を示す図である。
の、反射率、振幅変調度、Ｃ／Ｎの、記録レーザパワー
依存性の測定結果を示す図である。
【図５】本発明の実施例１において、断熱膜がある場合
の、反射率、振幅変調度、Ｃ／Ｎの、記録レーザパワー
依存性の測定結果を示す図である。
の、反射率、振幅変調度、Ｃ／Ｎの、記録レーザパワー
依存性の測定結果を示す図である。
１、１１、１５、２１…透明基板、２、１２、１８、２
２、２６…記録膜、３、１３、１７、２３、２７…断熱
膜、４、１４、１６、２４、２８…反射膜。
２、２６…記録膜、３、１３、１７、２３、２７…断熱
膜、４、１４、１６、２４、２８…反射膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川井 正一 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソー内 Ｆターム(参考） 5D029 MA28 5D121 AA03 EE01
Claims (5)
- 【請求項１】 透明な基板（１、１１、１５、２１）の
一面上に、記録膜（２、１２、１８、２２、２６）、反
射膜（４、１４、１６、２４、２８）を順次積層し、前
記基板の他面側から記録レーザ光を照射することによ
り、前記記録膜に情報を記録する光情報記録媒体におい
て、 前記記録膜と前記反射膜との間には、前記反射膜よりも
低い熱伝導率を持つ断熱膜（３、１３、１７、２３、２
７）が介在されていることを特徴とする光情報記録媒
体。 - 【請求項２】 前記断熱膜（３、１３、１７、２３、２
７）の熱伝導率が１０Ｗ／ｍＫ以下のものであることを
特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項３】 前記断熱膜（３、１３、１７、２３、２
７）は、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物及び有機高
分子から選択された少なくとも１つの物質よりなること
を特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒
体。 - 【請求項４】 前記断熱膜（３、１３、１７、２３、２
７）の膜厚は、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることを特徴
とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載の光情報
記録媒体。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１つに記載
の光情報記録媒体を製造する方法であって前記記録膜
（２、１２、１８、２２、２６）上に、真空成膜法を用
いて前記断熱膜（３、１３、１７、２３、２７）を形成
した後、その上に、前記反射膜（４、１４、１６、２
４、２８）を成膜することを特徴とする光情報記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10356479A JP2000182278A (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10356479A JP2000182278A (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000182278A true JP2000182278A (ja) | 2000-06-30 |
Family
ID=18449229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10356479A Pending JP2000182278A (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000182278A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100994943B1 (ko) | 2002-08-29 | 2010-11-18 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 다층 광 데이터 저장매체 및 이를 이용한 다층 기록방법 |
-
1998
- 1998-12-15 JP JP10356479A patent/JP2000182278A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100994943B1 (ko) | 2002-08-29 | 2010-11-18 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 다층 광 데이터 저장매체 및 이를 이용한 다층 기록방법 |
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