JP2000180766A - 光学走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像形成装置のフレームに取り付けた光学箱
の熱変形量及び光路変動を抑えることのできる光学走査
装置を提供すること。 【解決手段】 光学箱１２の中で比較的剛性の高い底面
部１４の外形頂点付近の角部から離れた比較的剛性の低
い部分に、画像形成装置のフレーム４８と固定するため
の固定部４４を設ける。これにより、画像形成装置内の
機内温度変動に伴い、フレーム４８と光学箱１２との線
膨張係数の差により光学箱１２に発生する応力に対する
各部（角部周辺、辺周辺）の変形を均一化でき、光路変
動においても最も悪い変形モードである、光学部品を取
り付ける部位、即ち底面部１４が傾く太鼓状ソリ変形を
小さくすることができる。このため、光学箱１２に保持
される光学部品の光軸に対する傾き変動が抑えられ、光
路変動が防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームを画
像情報に応じて被走査媒体上に走査露光することにより
画像を記録するレーザプリンタやディジタル複写機など
の画像記録装置に使用される光学走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に光学走査装置は光ビームを発生す
る半導体レーザ光源素子、偏向器、結像及び走査レン
ズ、反射鏡等の光学部品、及びそれらを保持収容する光
学箱で構成され、画像形成装置にねじで固定されてい
る。

【０００３】一般的な光学箱の画像形成装置への固定
は、図２２，２３に示すように、３点及び４点で固定さ
れている。なお、図２２，２３において、１００，１０
２は光学箱、１０４は固定位置を示す。

【０００４】また、固定位置は、図２３のように４点で
固定されている場合は、光学箱外形の頂点位置近傍に設
けられ、図２２のように３点で固定されている場合も少
なくとも２点は光学箱外形の頂点位置近傍に設けられて
いる。

【０００５】また、最近のカラー化に対応した画像形成
装置の光学走査装置としては特開平４−１２７１１６号
公報に示されるような複数の光源、走査光学系をもち一
つの光学箱に収容保持されているものが開示されてい
る。

【０００６】図２４に示すように、この光学走査装置１
０５も、光学箱１０６はカラー画像形成装置本体のフレ
ーム１０８に３点（１１０は固定位置を示す。）で固定
され、固定位置１１０は前記従来例同様、３点中２点は
光学箱外形の頂点位置近傍に設けられている。

【０００７】ところで、光学走査装置１０５は、感光体
上のスポット径や光量や走査線の位置等の特性値を満足
するために、光学走査装置１０５を構成している前述し
た光学部品を光学箱１０６に精度良く組付けると共に、
光源部や光学部品の姿勢調整を行い、レーザビーム光路
を理想状態になるように組み立て調整を行っている。

【０００８】しかし、光学走査装置１０５がカラー画像
形成装置のフレーム１０８に搭載され、画像形成プロセ
スが稼働される際は、カラー画像形成装置内の定着装置
から発生する熱や、カラー画像形成装置の設置環境によ
り光学走査装置１０５周辺の温度は光学走査装置組立調
整時から変化が生じる。

【０００９】この時、カラー画像形成装置のフレーム１
０８の材質の線膨張係数と、光学箱１０６の材質の線膨
張係数とに差がある時には、フレーム１０８と光学箱１
０６の伸縮量に差が生じる。

【００１０】特に、最近の光学走査装置の光学箱は、低
コスト化を狙い樹脂製のものが一般的である。

【００１１】したがって、光学箱１０６を樹脂成形品と
し、これを板金で形成されたフレーム１０８に固定する
と、樹脂製の光学箱１０６の方が金属製の板金のフレー
ム１０８より線膨張係数が十分大きいので、樹脂製の光
学箱１０６に大きな撓みが生じる。

【００１２】図２５（Ａ），（Ｂ）は樹脂製の光学箱１
１２が金属製の画像形成装置本体フレーム１１４にねじ
１１６で固定されている場合において、機内温度が上昇
した際の樹脂製の光学箱１１２の変形前後を模式的に示
した図である。

【００１３】機内温度に変化が生じると、樹脂製の光学
箱１１２の底面部は、図２５（Ｂ）に示すように太鼓状
にソリ変形をおこし、それに伴い回転多面鏡１１８やｆ
θレンズ群１２０や平面ミラー１２２の取り付け部位が
変位し、理想光路Ｌがずれて光路Ｌ’のようになってし
まい、光学走査装置の感光体上の特性値を満足できない
のはもちろんのこと、感光体上に光ビームが届かなくな
り白抜けなどの致命的画質不良を起こしてしまうことが
ある。

【００１４】特に、回転多面鏡１１８や平面ミラー１２
２等の反射ミラーの取り付け部位が変形により理想状態
より傾くと、光路に対して大きな影響を及ぼす。このよ
うに光学部品の取り付け部が傾くような光学箱１１２の
底部の矢印Ｚ方向のソリ変形が光路変動にとって大きな
影響を及ぼす。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】光学箱の温度変化によ
る変形は、線膨張係数の差から発生するので、光学箱、
光学箱を固定する画像形成装置フレームの材質、光学箱
と画像形成装置フレームの固定数、固定位置が影響を及
ぼす。

【００１６】図２６乃至図２８に、一般的な光学走査装
置の従来例の光学箱形状を簡易モデル化し、有限要素法
を用いて熱変形シュミレートした結果を示す。

【００１７】図２６は、簡易モデル形状を示す図であ
る。光学箱１２４の材質をポリカーボネイト樹脂材料、
光学箱１２４を鉄製の画像形成装置本体フレーム（図示
せず）にねじで固定されていることとし、固定位置１２
６（図面の黒丸）は従来通り４点固定の場合は光学箱外
形の頂点位置近傍に設け、３点固定の場合の２点は光学
箱外形の頂点位置近傍に設けた状態にて機内温度が３５
°Ｃ上昇した際のシュミレートを実施した。

【００１８】図２７及び図２８は、３点、４点で固定し
た場合のそれぞれの変形状態を示すシュミレート結果の
変形図である。この各図は前述したように特に光路変動
に大きく影響を及ぼすＹ方向（矢印Ｙ）の変形図を示
す。

【００１９】図２７及び図２８で明らかなように、光学
箱底面部がねじ固定点（固定位置１２６）との間で太鼓
上のソリ変形をしていることがわかる。

【００２０】つぎに、カラー画像形成装置に用いる光学
走査装置の光学箱形状を簡易モデル化し、熱変形シュミ
レートを実施した。

【００２１】カラー画像形成用の光学走査装置の光学箱
は、大きさ、精度、強度面の関係より、一般的に金属製
が使用されている。

【００２２】よって、光学箱材質をアルミニウム、画像
形成装置本体フレーム材質を鉄製とし、固定位置は従来
通り３点固定とし、機内温度が３５°Ｃ上昇した際のシ
ュミレートを実施した。

【００２３】図２９は光学箱１２８の簡易モデル形状、
図３０，図３１は変形状態を示すシュミレート結果の変
形図である。

【００２４】図３１に示すように、一般的な光学走査装
置の結果と同様に、ねじ固定点（固定位置１２６）の間
で光学箱１２８の底面が太鼓上にソリ変形していること
がわかる。

【００２５】また、変形モードは、光学箱１２８の中心
線Ｃ−Ｃを境に左右分けて見た場合、左右で変形が異な
っている。

【００２６】カラー画像形成装置の光学走査装置では、
一般的な単一の光ビームが感光体上を走査する際の特性
値に加え、各光ビームの位置特性が非常に重要となる。

【００２７】カラー画像形成装置は、図３２に示すよう
にイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及び
ブラック（ＢＫ）の各色に対応した感光体１３０Ｋ，
Ｙ，Ｍ，Ｃ上に光学走査装置からの各色に対応した光ビ
ームが照射走査され、静電潜像が形成され、現像装置１
３２Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃにより現像される。

【００２８】その後、画像は転写ベルト１３４上の転写
紙（図示せず）に重ね転写されたり、中間転写体を介し
て紙に転写され、定着装置１３８で定着される。

【００２９】よって、従来の光学走査装置のように、一
つの光学箱１３６に回転多面鏡１３８を中心に左右各色
に対応した走査光学系を設けた装置で、温度変化による
光学箱１３６の変形が左右で異なっていると、各走査線
の光路変動量が各光路により異なり、各光ビームの走査
位置（相対位置）がずれ、それに伴い色ずれが発生し、
カラー画質に大きく影響する。

【００３０】本発明は上記事実を考慮し、光学走査装置
において画像形成装置内の温度変化による光学箱の熱変
形量を抑制した、光路変動の小さい光学走査装置を提供
することが目的である。

【００３１】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の光学走
査装置は、光ビームの照射される像担持体を備えた画像
形成装置に用いられ、前記画像形成装置のフレームに固
定される光学箱を備えた光学走査装置であって、光ビー
ムを出射する光源、前記光ビームを偏向する偏向器、前
記偏向器で偏向された光ビームを前記像担持体上に結像
及び走査させるレンズ系、前記光源、偏向器及びレンズ
系を保持する光学箱、を備え、前記光学箱は、多角形の
底面部及び前記底面部の各辺に立設される壁面部を備え
ると共に、前記フレームに固定される固定部を少なくと
も３個以上有し、前記固定部は、前記底面部の辺の内の
底面部外形頂点から離間した部分に設けられ、前記１つ
の辺に対して前記固定部の数は２個以上無いことを特徴
としている。

【００３２】次に、請求項１に記載の光学走査装置の作
用を説明する。

【００３３】光学箱は、多角形の底面部及び底面部の各
辺に立設される壁面部を備えているので、底面部の外形
頂点付近の剛性は他の部分に比較して高い。

【００３４】したがって、底面部の辺の中でも、光学箱
の中で比較的剛性の高い底面部の外形頂点付近の角部か
ら離れた比較的剛性の低い部分に固定部を設け、この固
定部をフレームに固定すれば、光学走査装置を設けた画
像形成装置内の機内温度変動に伴い、フレームと光学箱
との線膨張係数の差により光学箱に発生する応力に対す
る各部（角部周辺、辺周辺）の変形を均一化でき、光路
変動においても最も悪い変形モードである、光学部品
（光源、偏向器及びレンズ系）を取る付ける部位、即ち
底面部が傾く太鼓状ソリ変形を小さくすることができ
る。

【００３５】このため、光学箱に保持される光学部品の
光軸に対する傾き変動が抑えられ、光路変動を防止する
ことができる。

【００３６】請求項２に記載の光学走査装置は、光ビー
ムの照射される像担持体を複数備えた画像形成装置に用
いられ、前記画像形成装置のフレームに固定される光学
箱と、前記光学箱に収容されて光ビームを出射する光
源、前記光ビームを偏向する単一の回転多面鏡を備えた
偏向器及び前記偏向器で偏向された前記光ビームを前記
像担持体上に主走査させる主走査レンズを備え、前記回
転多面鏡の異なる対称面の各々に複数の光ビームを入射
し、一方の面に入射した光ビームと他方の面に入射した
光ビームとを各々反対方向に反射し、反射した前記光ビ
ームが前記回転多面鏡の両側に配置された前記主走査レ
ンズを介して前記像担持体上に走査する光学走査装置で
あって、前記光学箱は、少なくとも前記回転多面鏡及び
前記主走査レンズとを保持する多角形の底面部及び前記
底面部の各辺に立設される壁面部を備えると共に、前記
フレームと固定される固定部が少なくとも４個以上設け
られ、前記固定部は、前記底面部の辺の内の底面部外形
頂点から離間した部分に設けられ、前記１つの辺に対し
て前記固定部の数は２個以上無く、前記複数の固定部
は、前記回転多面鏡の回転中心に対して実質的に点対称
の位置に設けられ、少なくとも４個以上設けられた固定
部のうちで前記回転中心に対して対称関係にある２つの
固定部を結んだ少なくとも１線が前記主走査レンズの光
軸と実質的に平行にあり、その他の残りの２つの固定部
を結んだ少なくとも１線が主走査方向に対して実質的に
平行である、ことを特徴としている。

【００３７】次に、請求項２に記載の光学走査装置の作
用を説明する。

【００３８】請求項２に記載の光学走査装置では、回転
多面鏡を境にして一方の側の光学系と他方の側の光学系
とが対称関係となる、即ち対称型光学系を構成してい
る。

【００３９】ここで、この対称光学系において、回転多
面鏡の回転中心に対して対称関係にある２つの固定部を
結んだ少なくとも１線が主走査レンズの光軸と実質的に
平行にあり、その他の残りの２つの固定部を結んだ少な
くとも１線が主走査方向に対して実質的に平行であるの
で、温度変動によって小さい変形が発生したとしても、
光学箱の前記固定点を結んだ各線上の部位は、各線を境
にして左右対称な形で変形をする。これにより、光学箱
に保持される光源、主走査レンズ等の光学部品の位置姿
勢変動が、上記各線に対しほぼ対称に変動するので、光
ビームに副走査方向の小さなずれが発生しても、光ビー
ムの走査両端を見たときに副走査方向の差は生じないの
で、走査線の傾き（スキュー）は発生しない。

【００４０】また、回転多面鏡の異なる対称面に入射
し、偏向走査された光ビームで描かれる各走査線の変動
量も同量となり、走査線の位置の制御が簡単になる。

【００４１】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の光学走査装置において、前記複数の光ビームの各々に
対応して設けられ、前記光ビームの検知を行う複数の受
光素子と、前記複数の受光素子に前記複数の光ビームを
導く単一の反射鏡と、を備え、前記反射鏡は、前記固定
部の近傍に固定したことを特徴としている。

【００４２】次に、請求項３に記載の光学走査装置の作
用を説明する。

【００４３】請求項３に記載の光学走査装置では、各光
ビームを受光素子に導く反射鏡を各光ビーム毎ではなく
単一にすることで、各光ビーム毎に反射鏡を設け、複数
の反射鏡の固定部分を別々に設ける必要がないので、各
反射鏡の固定部分の精度のばらつきによる各光ビームの
反射光の相対差ばらつきを防止することができる。

【００４４】また、光学箱の固定部付近は温度変動によ
る光学箱の変形も殆どないところであるので、固定部付
近に反射鏡を固定することにより、反射鏡から受光素子
の間の光路の変動が実質的に生じない。

【００４５】したがって、温度変化によって画像形成装
置の像担持体上の走査線の位置ずれが発生したとして
も、光学走査装置内に設けられた光ビームのずれを検知
可能な受光素子で、像担持体上に走査線を描く光ビーム
のずれを正確に精度良く検知することができ、走査線の
ずれを正確に精度良く補正することが可能となる。

【００４６】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の光学走査装置において、前記受光素子及び前記光源に
連結される制御手段を備え、前記回転多面鏡の異なる対
称面の一方の面で反射された光ビームを検知する受光素
子は、入射した前記光ビームの主走査方向の位置及び副
走査方向の位置を検知可能であり、前記制御手段は、光
ビームの主走査方向の位置及び副走査方向の位置を検知
可能な受光素子の前記光ビームの副走査方向の位置検知
情報に基づいて、前記回転多面鏡の一方の面で反射され
る光ビームを出射する光源の光ビーム発射タイミングを
補正すると共に、前記回転多面鏡の他方の面で反射され
る光ビームを出射する光源の光ビーム発射タイミングを
補正することを特徴としている。

【００４７】次に、請求項４に記載の光学走査装置の作
用を説明する。

【００４８】請求項４に記載の光学走査装置では、回転
多面鏡の異なる対称面の一方の面で反射された光ビーム
を検知する受光素子は、入射した光ビームの主走査方向
の位置及び副走査方向の位置を検知することができる。

【００４９】制御手段は、光ビームの主走査方向の位置
及び副走査方向の位置を検知可能な受光素子の光ビーム
の副走査方向の位置検知情報に基づいて、回転多面鏡の
一方の面で反射される光ビームを出射する光源の光ビー
ム発射タイミングを補正すると共に、回転多面鏡の他方
の面で反射される光ビームを出射する光源の光ビーム発
射タイミングを補正する。

【００５０】ここで、前記請求項２，３に記載の光学走
査装置では、回転多面鏡の異なる対称面に入射し、走査
偏向される光ビームの温度変化による光路変動量が各光
ビームで同量となるので、回転多面鏡の異なる対称面の
一方の面で反射された光ビームを主走査方向の位置及び
副走査方向の位置を検知可能な受光素子で検知すれば、
この主走査方向の位置及び副走査方向の位置を検知可能
な受光素子で検知した副走査方向の位置検知情報を元に
して、回転多面鏡の異なる対称面の他方の面で反射され
た光ビームの副走査方向の位置を、主走査方向の位置及
び副走査方向の位置を検知可能な受光素子に入射する光
ビームの副走査方向の位置と共に補正することができ
る。したがって、全ての光ビームに対して副走査方向の
位置検知を行う必要がなくなり、温度変動によって像担
持体上の走査線が副走査方向にずれを生じても、少ない
受光素子数で、かつ簡単な制御で前記ずれを補正するこ
とができるようになる。

【００５１】請求項５に記載の発明は、請求項３または
請求項４に記載の光学走査装置において、前記光学箱
は、光学箱成形材料を注入するゲートを複数有し、前記
複数のゲートが前記主走査レンズの光軸と、前記主走査
レンズの光軸に対して直角で、かつ前記回転多面鏡の回
転中心を通る線と、に対して実質的に線対称に配置され
ているモールドで形成されていることを特徴としてい
る。

【００５２】次に、請求項５に記載の光学走査装置の作
用を説明する。

【００５３】請求項５に記載の光学走査装置では、光学
箱を、光学箱成形材料を注入するゲートを複数有し、複
数のゲートが主走査レンズの光軸と、主走査レンズの光
軸に対して直角で、かつ回転多面鏡の回転中心を通る線
と、に対して実質的に線対称に配置されているモールド
で形成したので、線膨張係数に異方性（樹脂の流動方向
と、この流動方向と直角方向とでは線膨張係数が異な
る。）を持った光学箱成形材料（例えば、合成樹脂）の
成形品としても主走査レンズの光軸を境にして一方の側
の変形モード及び変形量と他方の側の変形モード及び変
形量とを同じにできると共に、主走査レンズの光軸に対
して直角で、かつ回転多面鏡の回転中心を通る線を境に
して一方の側の変形モード及び変形量と他方の側の変形
モード及び変形量とを同じにできる。

【００５４】したがって、光学箱を樹脂成形品として
も、請求項３及び請求項４に記載の補正を正確に精度良
く行うことが可能となる。

【００５５】請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請
求項５に記載の光学走査装置において、前記光学箱に設
けられ前記底面部と対向する部分に形成された開口部
と、前記開口部を覆うカバー部材と、を備え、前記カバ
ー部材の前記光学箱に対する固定点を、前記光学箱の開
口部側の外形各辺の頂点位置付近に設けたことを特徴と
している。

【００５６】次に、請求項６に記載の光学走査装置の作
用を説明する。

【００５７】請求項６に記載の光学走査装置では、光学
箱の開口部を覆うカバー部材を設け、カバー部材の光学
箱に対する固定点を光学箱の開口部側の外形各辺の頂点
位置付近に設けたので、光学箱の頂点付近の剛性が向上
し、光学箱の開口部側の外形各辺の頂点付近が光学箱の
内外方向に振動するを抑え込むようにカバー部材が光学
箱の補強材として機能する。

【００５８】このため、高速、高解像度対応により回転
多面鏡の回転数が上がっても、光学箱の振動による走査
線振れを防止することができる。

【００５９】

【発明の実施の形態】［第１の実施形態］本発明の光学
走査装置の第１の実施形態を図面にしたがって説明す
る。

【００６０】図２に示すように、本実施形態の光学走査
装置１０は上部が開放された光学箱１２を備えている。

【００６１】光学箱１２は、多角形、本実施形態では台
形の底面部１４を備え、この底面部１４の各辺には側壁
１６が一体的に立設されている。

【００６２】この光学箱１２には、半導体レーザ１８、
この半導体レーザ１８から出射されたレーザビームＬＢ
を整形するコリメータレンズ２０及び開口絞り２２が収
容されている。

【００６３】開口絞り２２のレーザビーム出射側には、
シリンドリカルレンズ２４が隣接して取り付けられてて
おり、レーザビームＬＢをｆθレンズ群２６を介して副
走査方向にのみ回転多面鏡２８の偏向面で収束させる。

【００６４】シリンドリカルレンズ２４を通過したレー
ザビームＬＢは、主走査方向及び副走査方向に所定の角
度をもつ平面ミラー３０で折り返され、ｆθレンズ群２
６を通じて回転多面鏡２８に正面入射される（主走査方
向に沿って走査範囲の中央から回転中心に向かって入射
する。）。

【００６５】このｆθレンズ群２６は、回転多面鏡２８
によって反射偏向されたレーザビームＬＢを感光体３２
上に光スポットとして集光させると共に、光スポットを
感光体３２の表面で等速移動させる。

【００６６】このように、光学走査装置１０では、回転
多面鏡２８へ入射し反射するレーザビームＬＢがｆθレ
ンズ群２６を２度通過する、いわゆる正面入射ダブルパ
ス光学系を採用している。

【００６７】回転多面鏡２８で偏向され、ｆθレンズ群
２６を２度通過したレーザビームＬＢは、主走査方向に
矩形状とされた長尺の平面ミラー３３で主に副走査方向
に反射される。

【００６８】この平面ミラー３３の近傍には、主走査方
向の走査線位置を検知するセンサー３４（図１では図示
せず）へレーザビームＬＢを導くミラー３６（図１では
図示せず）が配置されている。

【００６９】また、平面ミラー３３で反射されたレーザ
ビームＬＢは、副走査方向にのみパワーを有するシリン
ドリカルミラー３８で反射され感光体３２に至る。

【００７０】シリンドリカルミラー３８は、回転多面鏡
２８の反射面倒れに起因する副走査方向の位置ずれを補
正する役目を果たしている。なお、半導体レーザ１８、
コリメータレンズ２０、開口絞り２２、シリンドリカル
レンズ２４、ｆθレンズ群２６、回転多面鏡２８、平面
ミラー３０、平面ミラー３３、センサー３４、ミラー３
６、シリンドリカルミラー３８は、全て光学箱１２の底
面部１４に取り付けられている。

【００７１】ここで、光学走査装置１０の感光体３２上
の光スポット、走査線特性を満足するには、レーザビー
ムＬＢの光路を理想状態に調整、維持することが重要で
ある。

【００７２】特に、光路上流側の平面ミラー３０、回転
多面鏡２８、長尺の平面ミラー３３の姿勢は重要であ
り、これら反射鏡が光学箱１２の底面部１４の変形に伴
う取付部の変形により姿勢（特に副走査方向の傾き）を
崩すと、感光体３２までの光路が理想よりも大きくずれ
てしまう。

【００７３】図１及び図２に示すように、光学箱１２に
は、底面部１４の各辺の中央部分に対応して固定部４０
が設けられている。

【００７４】この固定部４０には、ボルト孔４２が形成
されており、このボルト孔４２を挿通したボルト４４が
画像形成装置のフレーム４８のネジ孔に螺合することに
よってフレーム４８に光学箱１２、即ち光学走査装置１
０が固定されている。

【００７５】本実施形態の光学箱１２の大きさは、Ｌ1
が１５０mm、Ｌ2 が２２０mm、Ｌ3が２５０mm、、高さ
Ｈが５０mmである。

【００７６】本実施形態の光学箱１２は、ポリカーボネ
ート樹脂（線膨張係数３．３×１０ ^-5mm／°Ｃ）の成形
品あり、画像形成装置のフレーム４８は鉄（線膨張係数
１．１７×１０^-5mm／°Ｃ）で形成されている。

【００７７】なお、画像形成装置の機内温度変化は、各
構成モジュール（例えば、加熱定着装置、モータ類）よ
り発生する熱や装置の設置環境最悪時を考慮に入れる
と、光学走査装置１０の周辺は光学走査装置調整組立環
境より例えば３５°Ｃ程度の温度上昇を想定しなければ
ならない。

【００７８】これらの条件を元に、光学箱１２の周辺が
３５°Ｃ上昇したときの光学箱１２の変形を有限要素法
によりシュミレートした。

【００７９】図３は、光学箱１２全体のＹ方向（矢印
Ｙ）の変形状態を示した図である。また、参考に前記条
件において従来の固定方法（光学箱外形の頂点位置近傍
にて光学箱をフレームに固定）の場合についての光学箱
１２’の変形のシュミレーション結果を図４に示す。

【００８０】また、図５は、図３及び図４の変形図を矢
印Ｓの断面で見たときの変形量を表したグラフである。

【００８１】本実施形態のように固定した光学箱１２
は、従来の固定方法で固定された光学箱１２’の変形と
比較して底面部の変形が小さいと共に、全体の変形モー
ドは全体的な伸びは発生するものの、局所的変形（撓
み）が無いことが分かる。

【００８２】これは前述したように、光学箱１２のなか
でも比較的剛性の高い底面部１４の頂点１４Ａ付近で光
学箱１２を固定せず、頂点より十分に離れた比較的剛性
の低い箇所にてフレーム４８に固定したので（この結
果、光学箱１２の中でも比較的剛性の低い箇所がフレー
ム４８に拘束されることによって剛性が上がる。）、光
学箱１２全体の系としては剛性の均一化が図られ、その
ため、光学箱１２の伸縮により発生する応力による変形
も均一化され、全体的に変形量が減少し、局所的な変形
も小さくなる。

【００８３】この切断面Ｓの変形位置は、図２の光学走
査装置１０における回転多面鏡２８へ入射するレーザビ
ームＬＢの位置（ｆθレンズ群２６の光軸）とほぼ同じ
位置であり、前述した平面ミラー３０、回転多面鏡２
８、長尺の平面ミラー３３の取り付け部位付近に位置し
ている。

【００８４】これらの結果を元に実施形態に係る固定方
法と、従来の固定方法による各反射鏡の姿勢変動を算出
し、光路変動に置き換えてみると、従来の固定方法で
は、光路上流側の平面ミラー３０の副走査方向の角度変
動量は約０．１°初期状態より傾くことになり、光路変
動はこの平面ミラー３０の影響だけでもシリンドリカル
ミラー３８の直前の位置で１mm以上もずれる結果とな
る。

【００８５】これに対し、本実施形態の結果から上記同
様に光路変動を算出すると、前記従来の固定方法での変
動量の約１／２となり、光学特性を満足できる変動量に
抑えることができる。

【００８６】また、この実施形態の固定方法による光路
変動は、実際のモデルにて温度変化を与えて光路変動を
実際測定した結果とほぼシュミレート結果と同じ値を示
し、感光体３２上の光ビーム特性に関しても特性要求値
を満足することが確認された。

【００８７】なお、図６に示すように、光学箱１２の開
放側に、開口部を覆うカバー部材５０を取り付けても良
い。

【００８８】カバー部材５０は、光学箱１２よりも剛性
の高い材質、例えば鉄等の剛性の高い金属で形成するこ
とが好ましい。

【００８９】このカバー部材５０は、光学箱１２の外形
各辺の頂点位置付近に、ねじ５２で固定されている。

【００９０】ここで、光学箱１２を上記のように固定す
ると、図１の矢印Ｖ方向に光学箱１２の角部が振動する
振動モードが発生する。

【００９１】この振動モードの固有値は、一般的な光学
走査装置の回転多面鏡駆動モータの周波数では殆ど影響
はないが、高速高解像度化対応のモーターでは影響する
可能性がある。

【００９２】しかしながら、図６に示すように、光学箱
１２にカバー部材５０を固定することにより、カバー部
材５０が補強材として機能し、光学走査装置１０全体と
しての剛性を向上することができ、前述した振動モード
を防止することができる。 ［第２の実施形態］本発明の光学走査装置の第２の実施
形態を図面にしたがって説明する。なお、第１の実施形
態と同一構成には同一符号を付し、その説明は省略す
る。

【００９３】図９に示すように、本実施形態の光学走査
装置６０は上部が開放された光学箱６２を備えている。

【００９４】光学箱６２は、長方形の底面部６４を備
え、この底面部６４の各辺には側壁６６が一体的に立設
されている。

【００９５】図７に示すように、本実施形態の光学走査
装置６０は、光学箱６２の底面部６４（図７では図示せ
ず）の中心部分に回転多面鏡２８を備えており、その両
側に半導体レーザ１８Ａ，Ｂ、反射ミラー２９、反射ミ
ラー３０、ｆθレンズ群２６、長尺の平面ミラー３３
Ａ，Ｂ、シリンドリカルミラー３８Ａ，Ｂを対称的に配
置している。

【００９６】回転多面鏡２８の両側（矢印Ｌ方向及び矢
印Ｒ方向）には、半導体レーザ１８Ａの反射ミラー２９
を介したレーザビームＬＢａ及び半導体レーザ１８Ｂの
レーザビームＬＢｂが、反射ミラー３０、ｆθレンズ群
２６を介して入射するが、レーザビームＬＢａとレーザ
ビームＬＢｂとは副走査方向の入射角が異なる。

【００９７】例えば、矢印Ｒ方向側の半導体レーザ１８
Ａから出射して偏向されたレーザビームＬＢａは、ｆθ
レンズ群２６を通過後、平面ミラー３３Ａで反射されて
回転多面鏡２８を飛び越えた後に、シリンドリカルミラ
ー３８Ａにより反射されて反対側のｆθレンズ群２６の
近傍を通過して感光体３２Ｋに導かれる。

【００９８】一方、矢印Ｒ方向側の半導体レーザ１８Ｂ
から出射して偏向されたレーザビームＬＢｂは、ｆθレ
ンズ群２６を通過後、平面ミラー３３Ｂで反射されて回
転多面鏡２８を飛び越えた後に、シリンドリカルミラー
３８Ｂにより反射されて反対側のｆθレンズ群２６の近
傍を通過して感光体３２Ｙに導かれる。

【００９９】本実施形態も、回転多面鏡２８で反射偏向
されたレーザビームＬＢａ及びレーザビームＬＢｂが成
す走査角の中心から回転多面鏡２８の回転中心に向かっ
てレーザビームＬＢａ及びレーザビームＬＢｂを入射さ
せるいわゆる正面入射ダブルパス光学系とされている。

【０１００】回転多面鏡２８に入射する２本のレーザビ
ームにうち、副走査方向の入射角が大きいレーザビーム
ＬＢａは、入射角が小さいレーザビームＬＢｂより回転
多面鏡２８上においては、高さ方向で下側に入射するよ
うに構成したので、予め回転多面鏡２８上においてレー
ザビームＬＢａとレーザビームＬＢｂとの間の副走査方
向の間隔を確保することができ、回転多面鏡２８により
反射偏向されたレーザビームＬＢａとレーザビームＬＢ
ｂとの間隔が広がっていくことと合わせて、ｆθレンズ
群２６を通過した後のレーザビームＬＢａとレーザビー
ムＬＢｂとの間隔を一層確保し易いようにして下流側の
光学部品（平面ミラー３３、シリンドリカルミラー３８
等）の配置を容易にしている。

【０１０１】また、本実施形態においても、シリンドリ
カルミラー３８Ａ，Ｂで反射されたレーザビームＬＢａ
及びレーザビームＬＢｂは、ｆθレンズ群２６の近傍を
通過、即ち光学走査装置６０の内部を再度通過するよう
にしたので、光学走査装置６０の高さ方向の寸法を小さ
くできると共に、光学走査装置６０と感光体３２Ｋ，
Ｙ，Ｍ，Ｃとの距離を近接配置できる。

【０１０２】なお、前述したように、矢印Ｒ方向側の半
導体レーザ１８Ａから出射したレーザビームＬＢａはブ
ラック（ＢＫ）に対応した感光体３２Ｋ上を、矢印Ｒ方
向側の半導体レーザ１８Ｂから出射したレーザビームＬ
Ｂｂはイエロー（Ｙ）に対応した感光体３２Ｙ上を、ま
た、矢印Ｌ方向側の半導体レーザ１８Ｂから出射したレ
ーザビームＬＢｂはマゼンタ（Ｍ）に対応した感光体３
２Ｍ上を、矢印Ｌ方向側の半導体レーザ１８Ａから出射
したレーザビームＬＢａはシアン（Ｃ）に対応した感光
体３２Ｃ上を走査される。

【０１０３】図９及び図１０に示すように、底面部６４
の辺の中央部分に対応して固定部６８Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄが
設けられている。

【０１０４】なお固定部６８には、ボルト孔７０が形成
されており、このボルト孔７０を挿通したボルト４４
（図示せず）が画像形成装置のフレーム４８のネジ孔
（図示せず）に螺合することによってフレーム４８に光
学箱６２、即ち光学走査装置６０が固定されている。

【０１０５】図１０に示すように、光学箱６２の大きさ
は、Ｌ1 が２２０mm、Ｌ2 が約２８０mm、高さＨが９０
mmであり、底面部６４には、前述したレーザビームＬＢ
ａ，ＬＢｂを通過させるための矢印Ｆ方向及び矢印Ｂ方
向（矢印Ｌ方向及び矢印Ｒ方向と直交する方向）に長く
形成されたスリット７２が４本形成されている。

【０１０６】図１１及び図１２に示すように、固定部６
８Ａと固定部６８Ｃ、固定部６８Ｂと固定部６８Ｄは、
互いに回転多面鏡２８（図１０では図示せず）の回転中
心Ｐに対して点対称の位置に設けられ、対称点を結んだ
線、本実施形態では固定部６８Ｂと固定部６８Ｄとを結
んだ線Ｇが、ｆθレンズ群２６の光軸と実質的に一致
し、その他の対称点、即ち固定部６８Ａと固定部６８Ｄ
とを結んだ線Ｈが主走査方向（矢印Ｆ方向及び矢印Ｂ方
向）と実質的に平行になっている。

【０１０７】また、本実施形態では、固定部６８Ａ及び
固定部６８Ｃの各頂点位置からの距離はＬ2 ／２（即ち
辺の中央）に設けられており、固定部６８Ｂ及び固定部
６８Ｄの各頂点位置からの距離はＬ1 ／２（即ち辺の中
央）に設けられている。

【０１０８】また、本実施形態の光学箱６２は、アルミ
ニウム（線膨張係数２．３９×１０ ^-5mm／°Ｃ）で形成
されており、画像形成装置のフレーム４８は鉄（線膨張
係数１．１７×１０^-5mm／°Ｃ）で形成されている。

【０１０９】これらの条件を元に、光学箱６２の周辺が
３５°Ｃ温度上昇したときの光学箱６２の変形を有限要
素法によりシュミレートした。

【０１１０】図１３は、光学箱６２全体のＹ方向（矢印
Ｙ）の変形状態を示した図である。また、参考に、前記
状態においては、従来の固定方法（光学箱外形の頂点位
置近傍にて光学箱をフレームに固定）の場合についての
光学箱６２’の変形のシュミレーション結果を図１４に
示す。

【０１１１】図１５は図１３、図１４の変形図を矢印Ｓ
の断面で見たときの各位置における変形量を示したグラ
フであり、図１６は図１３、図１４の変形図を矢印Ｗの
断面で見たときの各位置における変形量を表したグラフ
である。

【０１１２】なお、図１５の切断面Ｓの位置は、図１１
の光学走査装置６０におけるｆθレンズ群２６の光軸と
ほぼ同じ位置であり、前述した平面ミラー３０、回転多
面鏡２８、長尺の平面ミラー３３Ａ，Ｂの取り付け部位
を通っている。

【０１１３】本実施形態のように光学箱６２を固定した
場合は、光学箱６２に設けられたレーザビーム通過用の
スリット７２周辺で変形が見られるものの、第１の実施
形態と同様に、従来の固定位置での変形と比較して底面
部６４の変形が小さいと共に、全体の変形モードは全体
的な伸びは発生するものの、局部的変形（撓み）が無い
ことが分かる。

【０１１４】これらの結果を元に実施形態に係る固定方
法と、従来の固定方法による、各反射鏡の姿勢変動を算
出し、光路変動に置き換えてみると、従来の固定方法で
は、シリンドリカルミラー３８の直前の位置で、レーザ
ビームが１mm以上副走査方向にずれてしまう。

【０１１５】これに対し、本実施形態の結果から上記同
様に光路変動を算出すると、前記従来の固定方法での変
動量の約１／４となり、光学特性を満足できる変動量に
抑えることができる。

【０１１６】また、図１６のグラフで示すように、切断
面Ｗ方向においても変形量は大きく改善されていること
が分かった。

【０１１７】また、本実施形態の固定方法による光路変
動は、実際のモデルにて温度変化を与えて光路変動を実
際測定した結果とほぼシュミレート結果と同じ値を示
し、感光体３２上の光ビーム特性に関しても特性要求値
を満足することが確認された。

【０１１８】なお、光学箱６２の上部開口部分を、前述
した光学走査装置１０と同様に、カバー部材（図示せ
ず）で覆うようにしても良い。

【０１１９】カバー部材は、光学箱６２よりも剛性の高
い材質、例えば鉄等の剛性の高い金属で形成し、図９に
示すように、光学箱６２の外形各辺の頂点位置付近Ｊ1
、Ｊ2 、Ｊ3 、Ｊ4 にねじで固定する。

【０１２０】カバー部材の取り付けられていない光学箱
６２の固定部６８をフレーム４８に固定すると、図１１
に示すように、矢印Ｖ方向に光学箱６２の角部が振動す
る振動モードが発生する。

【０１２１】しかしながら、本実施形態のように光学箱
６２にカバー部材を固定することにより、カバー部材が
補強材として機能し、光学走査装置６０全体としての剛
性を向上することができる。したがって、前述した振動
モードを防止し、高速化に対応できる。

【０１２２】また、この光学走査装置６０には、図９、
１１、１２に示すように、シリンドリカルミラー３８
Ａ，Ｂで反射されて、感光体３２Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃに向か
うレーザビームＬＢａ，ＬＢｂの走査線位置を検知する
受光素子７４Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃに導くための受光素子導光
ミラー７６を、各レーザビーム毎ではなく、単一に底面
部６４に設けている。

【０１２３】このように構成することで、各レーザビー
ム毎に受光素子導光ミラーを設け、この受光素子導光ミ
ラーの保持部を別々に設ける必要がないので、各保持部
の精度のばらつきによる各レーザビームの相対差ばらつ
きを防止することができる。

【０１２４】なお、受光素子導光ミラー７６の保持部７
８は固定部６８Ｃ近傍に設けられている。

【０１２５】図１６に示すように、この固定部６８Ｃ近
傍（グラフの右端付近）は、温度変化による光学箱６２
の変形も殆ど無いので、ここに受光素子導光ミラー７６
を固定することにより、受光素子導光ミラー７６から受
光素子７４Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃの間の光路の変動が実質的に
生じない。

【０１２６】したがって、温度変化による感光体３２
Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃ上の走査線の位置ずれが発生したとして
も、光学走査装置６０内の受光素子７４Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃ
で、感光体３２Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃ上の走査線のずれを検知
でき、受光素子７４Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃの検知情報と基づい
て走査線のずれを補正することが可能となる。

【０１２７】また、若干の光路変動が生じても、前述し
たようにレーザビームＬＢａ，ＬＢｂを受光素子７４
Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃへ導く受光素子導光ミラー７６を単一と
しているので、各レーザビーム（４本）の変動は同一に
なる。

【０１２８】さらに、回転多面鏡２８の両側に配置され
た対称光学系の一方の側（矢印Ｒ方向側）のレーザビー
ムＬＢａ，ＬＢｂの走査線位置を検知する本実施形態の
受光素子７４Ｋ及び受光素子７４Ｙは、それぞれ主副走
査両方向の位置を検出する機能も有している。

【０１２９】このように構成することで、各走査線の位
置ずれが重要であるカラー画像形成装置においては、初
期調整後、装置内温度変化による走査線の位置ずれ（副
走査方向）が許容値外になっても、本実施形態の固定方
法により対称光学系の両方の光ビームの変動量は同一と
なるため、一方側（受光素子７４Ｋ及び受光素子７４Ｙ
に入射しない側）のレーザビームＬＢａ，ＬＢｂを、光
学走査装置６０内の受光素子７４Ｋ及び受光素子７４Ｙ
の検知情報に基づいて補正することが可能となる。

【０１３０】図２０に示すように、画像形成装置には、
メインコントロール７７が設けられており、メインコン
トロール７７には、ラインシンクカウンタ７９Ｋ，Ｙ，
Ｍ，Ｃ、ページシンクカウンタへ８０Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃ、
受光素子７４Ｋ，Ｙ，Ｍ，Ｃ、半導体レーザ１８Ａ，
Ｂ、回転多面鏡２８の駆動モータ２８Ｍ等が接続されて
いる。

【０１３１】レーザビームＬＢａ，ＬＢｂの副走査方向
の位置合わせは、図２０に示すように、各レーザビーム
毎に設けられたページシンクカウンタへ８０Ｋ，Ｙ，
Ｍ，Ｃの設定データにより行うとができ、前述したよう
な温度変化による走査線位置ずれの補正制御は、レーザ
ビームＬＢａ，ＬＢｂの変動を受光素子７４Ｋ及び受光
素子７４Ｙでモニタし、変動があった場合は、ページン
グカウンタＫ，Ｙへの設定データを更新して補正を行う
ことができる。

【０１３２】この場合、矢印Ｌ方向側の半導体レーザ１
８Ａ，Ｂから出射するレーザビームＬＢａ，ＬＢｂの変
動と、矢印Ｒ方向側の半導体レーザ１８Ａ，Ｂから出射
するレーザビームＬＢａ，ＬＢｂの変動とは同一となる
が、位置ずれ方向は逆になるのでページングカウンタ
Ｍ，Ｃへ与えるデータは逆のデータとなる。 ［他の実施形態］前記第２の実施形態の光学箱６２で
は、各固定部６８の各頂点位置からの距離は、各頂点間
の距離をＬｎとすると、Ｌｎ／２（即ち辺の中央）とし
たが、図１７の変形図で示すように、本実施形態の光学
箱８２では、各固定部６８を各頂点位置からＬｎ／４の
位置に設けている。

【０１３３】ここで、図１７の光学箱８２を矢印Ｓの断
面で見たときの変形量を図１８、矢印Ｗの断面で見たと
きの変形量を図１９に示す。

【０１３４】本実施形態の光学箱８２では、変形モード
が固定部６８を各頂点位置からＬｎ／２に設けたとき
（第２の実施形態）とは異なるものの、Ｌｎ／２（即ち
辺の中央）で固定するよりもさらに変形量がＳ方向、Ｗ
方向共に小さくなっている。

【０１３５】このように、頂点から大きく離れた箇所で
なくとも頂点近傍を避け、かつ各辺に固定部６８を１点
のみとすることで光学箱８２の変形量を小さくできるこ
とが分かる。

【０１３６】なお、第２の実施形態では、光学箱６２の
材質はアルミニウムを使用したが、樹脂材料を使用した
場合の光学箱８４の例を図２１に示す。

【０１３７】この光学箱８４は、合成樹脂の成形品であ
り、この光学箱８４を成形するためのモールド（図示せ
ず）のゲート数は６点である。

【０１３８】ゲート位置Ｒは、ｆθレンズ群２６（図示
せず）の光軸Ｇ及び、この光軸Ｇに直角で、かつ回転多
面鏡２８（図示せず）の回転中心Ｐを通る線Ｍに対して
線対称に配置されている。

【０１３９】これにより、樹脂が持っている線膨張の異
方性（樹脂の流動方向と、この流動方向と直角方向とで
は線膨張係数が異なる。）が大きくても、ゲート位置Ｒ
を前述したように配置すれば、対称光学系の各光学系を
構成する光学部品の取り付け部の変形モード及び変形量
は同量となる。

【０１４０】このため、第２の実施形態で説明した温度
変動による感光体３２（図示せず）上の走査線の位置ず
れが発生した場合の補正が可能となる。

【０１４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学走査
装置は上記の構成としたので、画像形成装置に取り付
け、装置内の温度変動で発生する光学箱の変形により発
生する光路変動を防止できる、という優れた効果を有す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施形態に係る光学走査装置
の平面図である。

【図２】 本発明の第１の実施形態に係る光学走査装置
の斜視図である。

【図３】 本発明の第１の実施形態に係る光学走査装置
の光学箱の変形を示す斜視図である。

【図４】 第１の実施形態に係る光学走査装置の光学箱
に従来の固定方法を適用した際の変形を示す斜視図であ
る。

【図５】 図３に示す光学箱及び図４に示す光学箱の変
形量を示すグラフである。

【図６】 第１の実施形態に係る光学走査装置の光学箱
にカバー部材を設けた斜視図である。

【図７】 第２の実施形態に係る光学走査装置の光学系
の斜視図である。

【図８】 第２の実施形態に係る光学走査装置の光学系
の正面図である。

【図９】 第２の実施形態に係る光学走査装置の斜視図
である。

【図１０】 第２の実施形態に係る光学走査装置の光学
箱の斜視図である。

【図１１】 第２の実施形態に係る光学走査装置の平面
図である。

【図１２】 第２の実施形態に係る光学走査装置の側面
図である。

【図１３】 第２の実施形態に係る光学走査装置の光学
箱の変形を示す斜視図である。

【図１４】 第２の実施形態に係る光学走査装置の光学
箱に従来の固定方法を適用した際の変形を示す斜視図で
ある。

【図１５】 図１３に示す光学箱及び図１４に示す光学
箱の変形量（Ｓ方向）を示すグラフである。

【図１６】 図１３に示す光学箱及び図１４に示す光学
箱の変形量（Ｗ方向）を示すグラフである。

【図１７】 他の実施形態に係る光学走査装置の光学箱
の変形を示す斜視図である。

【図１８】 図１７に示す光学箱の変形量（Ｓ方向）を
示すグラフである。

【図１９】 図１７に示す光学箱の変形量（Ｗ方向）を
示すグラフである。

【図２０】 走査線の補正を行う制御部分のブロック図
である。

【図２１】 さらに他の実施形態に係る光学走査装置の
樹脂製光学箱の平面図である。

【図２２】 従来の光学走査装置の固定位置を示す平面
図である。

【図２３】 従来の他の光学走査装置の固定位置を示す
平面図である。

【図２４】 従来のカラー画像形成装置用の光学走査装
置の固定位置を示す平面図である。

【図２５】 （Ａ）は光学箱変形前の光学走査装置の光
学系の光路を示す側面図であり、（Ｂ）は光学箱変形後
の光学系の光路を示す側面図である。

【図２６】 従来の光学箱の簡易モデル形状を示す斜視
図である。

【図２７】 ３点で固定された従来の光学箱の変形形状
を示す斜視図である。

【図２８】 ４点で固定された従来の光学箱の変形形状
を示す斜視図である。

【図２９】 従来の他の光学箱の簡易モデル形状を示す
斜視図である。

【図３０】 ３点で固定された従来の他の光学箱の変形
形状を示す斜視図である。

【図３１】 ３点で固定された従来の他の光学箱の変形
形状を示す側面図である。

【図３２】 従来のカラー画像形成装置の構成図であ
る。

【符号の説明】

１０ 光学走査装置 １２ 光学箱 １４ 底面部 １６ 側壁（壁面部） １８ 半導体レーザ（光源） ２６ ｆθレンズ群（主走査レンズ，レンズ系） ２８ 回転多面鏡（偏向器） ３２ 感光体（像担持体） ４０ 固定部 ４８ フレーム ５０ カバー部材 ６０ 光学走査装置 ６２ 光学箱 ６４ 底面部 ６６ 側壁（壁面部） ６８ 固定部 ７４ 受光素子 ７６ 受光素子導光ミラー（反射鏡） ８４ 光学箱 Ｒ ゲート位置

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ビームの照射される像担持体を備えた
   画像形成装置に用いられ、前記画像形成装置のフレーム
   に固定される光学箱を備えた光学走査装置であって、 光ビームを出射する光源、前記光ビームを偏向する偏向
   器、前記偏向器で偏向された光ビームを前記像担持体上
   に結像及び走査させるレンズ系、前記光源、偏向器及び
   レンズ系を保持する光学箱、を備え、 前記光学箱は、多角形の底面部及び前記底面部の各辺に
   立設される壁面部を備えると共に、前記フレームに固定
   される固定部を少なくとも３個以上有し、 前記固定部は、前記底面部の辺の内の底面部外形頂点か
   ら離間した部分に設けられ、 前記１つの辺に対して前記固定部の数は２個以上無いこ
   とを特徴とする光学走査装置。
2. 【請求項２】 光ビームの照射される像担持体を複数備
   えた画像形成装置に用いられ、前記画像形成装置のフレ
   ームに固定される光学箱と、前記光学箱に収容されて光
   ビームを出射する光源、前記光ビームを偏向する単一の
   回転多面鏡を備えた偏向器及び前記偏向器で偏向された
   前記光ビームを前記像担持体上に主走査させる主走査レ
   ンズを備え、前記回転多面鏡の異なる対称面の各々に複
   数の光ビームを入射し、一方の面に入射した光ビームと
   他方の面に入射した光ビームとを各々反対方向に反射
   し、反射した前記光ビームが前記回転多面鏡の両側に配
   置された前記主走査レンズを介して前記像担持体上に走
   査する光学走査装置であって、 前記光学箱は、少なくとも前記回転多面鏡及び前記主走
   査レンズとを保持する多角形の底面部及び前記底面部の
   各辺に立設される壁面部を備えると共に、前記フレーム
   と固定される固定部が少なくとも４個以上設けられ、 前記固定部は、前記底面部の辺の内の底面部外形頂点か
   ら離間した部分に設けられ、 前記１つの辺に対して前記固定部の数は２個以上無く、 前記複数の固定部は、前記回転多面鏡の回転中心に対し
   て実質的に点対称の位置に設けられ、少なくとも４個以
   上設けられた固定部のうちで前記回転中心に対して対称
   関係にある２つの固定部を結んだ少なくとも１線が前記
   主走査レンズの光軸と実質的に平行にあり、その他の残
   りの２つの固定部を結んだ少なくとも１線が主走査方向
   に対して実質的に平行である、ことを特徴とする光学走
   査装置。
3. 【請求項３】 前記複数の光ビームの各々に対応して設
   けられ、前記光ビームの検知を行う複数の受光素子と、 前記複数の受光素子に前記複数の光ビームを導く単一の
   反射鏡と、 を備え、 前記反射鏡は、前記固定部の近傍に固定したことを特徴
   とする請求項２に記載の光学走査装置。
4. 【請求項４】 前記受光素子及び前記光源に連結される
   制御手段を備え、 前記回転多面鏡の異なる対称面の一方の面で反射された
   光ビームを検知する受光素子は、入射した前記光ビーム
   の主走査方向の位置及び副走査方向の位置を検知可能で
   あり、 前記制御手段は、光ビームの主走査方向の位置及び副走
   査方向の位置を検知可能な受光素子の前記光ビームの副
   走査方向の位置検知情報に基づいて、前記回転多面鏡の
   一方の面で反射される光ビームを出射する光源の光ビー
   ム発射タイミングを補正すると共に、前記回転多面鏡の
   他方の面で反射される光ビームを出射する光源の光ビー
   ム発射タイミングを補正することを特徴とする請求項３
   に記載の光学走査装置。
5. 【請求項５】 前記光学箱は、光学箱成形材料を注入す
   るゲートを複数有し、前記複数のゲートが前記主走査レ
   ンズの光軸と、前記主走査レンズの光軸に対して直角
   で、かつ前記回転多面鏡の回転中心を通る線と、に対し
   て実質的に線対称に配置されているモールドで形成され
   ていることを特徴とする請求項３または請求項４に記載
   の光学走査装置。
6. 【請求項６】 前記光学箱に設けられ前記底面部と対向
   する部分に形成された開口部と、 前記開口部を覆うカバー部材と、を備え、 前記カバー部材の前記光学箱に対する固定点を、前記光
   学箱の開口部側の外形各辺の頂点位置付近に設けたこと
   を特徴とする請求項１乃至請求項５に記載の光学走査装
   置。