JP2000178567A - 石炭ガス化複合発電プラントおよび石炭ガス化ガス精製設備 - Google Patents
石炭ガス化複合発電プラントおよび石炭ガス化ガス精製設備Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02E20/16—Combined cycle power plant [CCPP], or combined cycle gas turbine [CCGT]
- Y02E20/18—Integrated gasification combined cycle [IGCC], e.g. combined with carbon capture and storage [CCS]
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- Industrial Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】長時間安定してガス中の固形物を脱塵すること
ができる石炭ガス化複合発電プラントおよびガス精製設
備を供給する。 【解決手段】水洗浄塔の下部の水槽部を２槽構造にし、
ベンチュリスクラバ出口からの水と塔上部から流れ落ち
てくる気液接触後の水を混合しないよう、それぞれ別の
槽に一時的に貯める。さらに塔内を気液接触してきた水
を貯めた槽から、水を抜出し、ベンチュリスクラバ用の
洗浄水とする。
ができる石炭ガス化複合発電プラントおよびガス精製設
備を供給する。 【解決手段】水洗浄塔の下部の水槽部を２槽構造にし、
ベンチュリスクラバ出口からの水と塔上部から流れ落ち
てくる気液接触後の水を混合しないよう、それぞれ別の
槽に一時的に貯める。さらに塔内を気液接触してきた水
を貯めた槽から、水を抜出し、ベンチュリスクラバ用の
洗浄水とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、石炭をガス化して
発電する石炭ガス化複合発電プラントおよび石炭ガス化
ガス精製設備に関する。
発電する石炭ガス化複合発電プラントおよび石炭ガス化
ガス精製設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】化石燃料ガス化発電の一種である石炭ガ
ス化複合発電プラントは大きく分けて、石炭から生成ガ
スを発生させるガス化装置，生成ガスから固形物や硫黄
化合物等を除去し精製する脱硫装置，精製された燃焼ガ
スを燃焼させ発電する発電装置とから構成される。
ス化複合発電プラントは大きく分けて、石炭から生成ガ
スを発生させるガス化装置，生成ガスから固形物や硫黄
化合物等を除去し精製する脱硫装置，精製された燃焼ガ
スを燃焼させ発電する発電装置とから構成される。
【０００３】前述したガス化装置で生成される生成ガス
は、灰分や煤塵，未反応の炭素分を含む固形物（以下チ
ャーと称す）を同伴しているため、ガス化装置付属の乾
式脱塵装置であるサイクロンやフィルタにより比較的粒
子径の大きい固形物を除去している。しかし、サイクロ
ン及びフィルタを通過した生成ガス中にはまだ微細なチ
ャーや硫化カルボニルや硫化水素といった硫黄化合物、
さらにはアンモニア，ハロゲン化物，シアン等といった
ガス精製にとって好ましくない化学物質を同伴してい
る。このため、脱硫装置を構成するベンチュリスクラ
バ，水洗浄塔及び硫化水素吸収塔において残留チャーや
硫黄化合物等を除去している。
は、灰分や煤塵，未反応の炭素分を含む固形物（以下チ
ャーと称す）を同伴しているため、ガス化装置付属の乾
式脱塵装置であるサイクロンやフィルタにより比較的粒
子径の大きい固形物を除去している。しかし、サイクロ
ン及びフィルタを通過した生成ガス中にはまだ微細なチ
ャーや硫化カルボニルや硫化水素といった硫黄化合物、
さらにはアンモニア，ハロゲン化物，シアン等といった
ガス精製にとって好ましくない化学物質を同伴してい
る。このため、脱硫装置を構成するベンチュリスクラ
バ，水洗浄塔及び硫化水素吸収塔において残留チャーや
硫黄化合物等を除去している。
【０００４】なお、前述したようにガスからダストを除
去するものとしては、特開昭61−97014 号公報に記載の
ものがあり、これには第１段階では水蒸気で飽和後ガス
を加速し、同時にガス中のダクト微粒子に附加水を加え
ることによって、ダスト微粒子と水滴の間の高い相対速
度を達成しかつガスの温度よりも水の温度を低下させ、
以って水滴上に凝結せしめられる水蒸気によってサブミ
クロン微粒子の所望の分離を行い、かくして負荷された
ガス流をしかる後第１の沈降容器内の水の表面上を通過
させ、以って大部分のダスト含分を沈降容器内溜りに放
出し、しかる後第２段階において水との直接接触による
最終浄化および冷却をガス流に施し、しかる後かくして
利用された水を、場合により第２の沈降室を経さしめる
等によって、全体としてまたは部分的に第１段階に戻す
ものが開示されている。
去するものとしては、特開昭61−97014 号公報に記載の
ものがあり、これには第１段階では水蒸気で飽和後ガス
を加速し、同時にガス中のダクト微粒子に附加水を加え
ることによって、ダスト微粒子と水滴の間の高い相対速
度を達成しかつガスの温度よりも水の温度を低下させ、
以って水滴上に凝結せしめられる水蒸気によってサブミ
クロン微粒子の所望の分離を行い、かくして負荷された
ガス流をしかる後第１の沈降容器内の水の表面上を通過
させ、以って大部分のダスト含分を沈降容器内溜りに放
出し、しかる後第２段階において水との直接接触による
最終浄化および冷却をガス流に施し、しかる後かくして
利用された水を、場合により第２の沈降室を経さしめる
等によって、全体としてまたは部分的に第１段階に戻す
ものが開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これまでの
石炭ガス化発電プラントにおけるチャーフィルタは実績
が非常に少なく、現状では技術的にみてその信頼性は高
いとはいえない状況にある。
石炭ガス化発電プラントにおけるチャーフィルタは実績
が非常に少なく、現状では技術的にみてその信頼性は高
いとはいえない状況にある。
【０００６】特にプラント起動時においては、ガス化炉
で発生するガスは水分を含んでおり、機器内に凝縮水が
生じるとフィルタの詰まりが発生し、フィルタが正常に
機能しなくなる場合があった。フィルタが機能しなくな
ると、計画値以上の大量のチャーがそのままガスに混じ
ってベンチュリスクラバと水洗浄塔に流入することにな
る。この場合、ベンチュリスクラバと水洗浄塔を循環す
る水に含まれる固形物濃度が高くなり、ベンチュリスク
ラバの脱塵性能を低下させるとともに固形物がスクラバ
吹き出し部壁面に付着し、詰まりの原因となってしま
う。また、フィルタが機能しなくなることで、フィルタ
の後流に大量のチャーが流れ込んだ場合、その補修に関
してもチャーが水洗浄塔後流にまで流れ込むと後流側の
配管，装置機器の固形物付着除去作業が膨大となり、長
期にわたる補修期間を必要としていた。
で発生するガスは水分を含んでおり、機器内に凝縮水が
生じるとフィルタの詰まりが発生し、フィルタが正常に
機能しなくなる場合があった。フィルタが機能しなくな
ると、計画値以上の大量のチャーがそのままガスに混じ
ってベンチュリスクラバと水洗浄塔に流入することにな
る。この場合、ベンチュリスクラバと水洗浄塔を循環す
る水に含まれる固形物濃度が高くなり、ベンチュリスク
ラバの脱塵性能を低下させるとともに固形物がスクラバ
吹き出し部壁面に付着し、詰まりの原因となってしま
う。また、フィルタが機能しなくなることで、フィルタ
の後流に大量のチャーが流れ込んだ場合、その補修に関
してもチャーが水洗浄塔後流にまで流れ込むと後流側の
配管，装置機器の固形物付着除去作業が膨大となり、長
期にわたる補修期間を必要としていた。
【０００７】本発明は以上の点について鑑みなされたも
ので、その目的とするところは、長時間安定してガス中
の固形物を脱塵することができる石炭ガス化複合発電プ
ラントおよび石炭ガス化ガス精製設備を供給することに
ある。
ので、その目的とするところは、長時間安定してガス中
の固形物を脱塵することができる石炭ガス化複合発電プ
ラントおよび石炭ガス化ガス精製設備を供給することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は水洗浄塔の下部
の水槽部を２槽構造にし、ベンチュリスクラバ出口から
の水と塔上部から流れ落ちてくる気液接触後の水を混合
しないよう、それぞれ別の槽に一時的に貯め、さらに塔
内を気液接触してきた水を貯めた槽から、水を抜出し、
ベンチュリスクラバ用の洗浄水とすることを特徴とす
る。
の水槽部を２槽構造にし、ベンチュリスクラバ出口から
の水と塔上部から流れ落ちてくる気液接触後の水を混合
しないよう、それぞれ別の槽に一時的に貯め、さらに塔
内を気液接触してきた水を貯めた槽から、水を抜出し、
ベンチュリスクラバ用の洗浄水とすることを特徴とす
る。
【０００９】本発明は以下の石炭ガス化複合発電プラン
トを提供する。
トを提供する。
【００１０】本発明は、石炭をガス化するガス化装置
と、該ガス化装置で生成された石炭ガス化ガス中の粗粒
子固形物を捕集するサイクロンと、該サイクロンの後流
側に設置され石炭ガス化ガス中の微粒子固形物を捕集す
るチャーフィルタと、該チャーフィルタで微粒子固形物
を捕集されたガスを精製する石炭ガス化ガス精製設備
と、前記精製ガスを燃焼させ発電する発電装置とを有す
る石炭ガス化複合発電プラントにおいて、前記石炭ガス
化ガス精製設備は、石炭から生成された生成ガスに水を
噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラバ
と、前記ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを気
液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触さ
せる水洗浄塔とを有し、前記水洗浄塔の下部に前記気液
分離のため前記ベンチュリスクラバからの固形物を含む
ガスと水の混相流から気液分離された水を貯水する第１
の水槽部と、前記気液接触のため供給された洗浄水を貯
水する第２の水槽部とを備え、前記第１及び第２の水槽
部との間に両者を区画する仕切り部材が備えられた石炭
ガス化複合発電プラントを提供する。
と、該ガス化装置で生成された石炭ガス化ガス中の粗粒
子固形物を捕集するサイクロンと、該サイクロンの後流
側に設置され石炭ガス化ガス中の微粒子固形物を捕集す
るチャーフィルタと、該チャーフィルタで微粒子固形物
を捕集されたガスを精製する石炭ガス化ガス精製設備
と、前記精製ガスを燃焼させ発電する発電装置とを有す
る石炭ガス化複合発電プラントにおいて、前記石炭ガス
化ガス精製設備は、石炭から生成された生成ガスに水を
噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラバ
と、前記ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを気
液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触さ
せる水洗浄塔とを有し、前記水洗浄塔の下部に前記気液
分離のため前記ベンチュリスクラバからの固形物を含む
ガスと水の混相流から気液分離された水を貯水する第１
の水槽部と、前記気液接触のため供給された洗浄水を貯
水する第２の水槽部とを備え、前記第１及び第２の水槽
部との間に両者を区画する仕切り部材が備えられた石炭
ガス化複合発電プラントを提供する。
【００１１】本発明は、石炭をガス化するガス化装置
と、該ガス化装置で生成された石炭ガス化ガス中の粗粒
子固形物を捕集するサイクロンと、該サイクロンの後流
側に設置され石炭ガス化ガス中の微粒子固形物を捕集す
るチャーフィルタと、該チャーフィルタで微粒子固形物
を捕集されたガスを精製する石炭ガス化ガス精製設備
と、前記精製ガスを燃焼させ発電する発電装置とを有す
る石炭ガス化複合発電プラントにおいて、前記石炭ガス
化ガス精製設備は、石炭から生成された生成ガスに水を
噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラバ
と、前記ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを気
液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触さ
せる水洗浄塔とを有し、前記水洗浄塔の下部に前記気液
分離のため前記ベンチュリスクラバからの固形物を含む
ガスと水の混相流から気液分離された水を貯水する第１
の水槽部と、前記気液接触のため供給された洗浄水を貯
水する第２の水槽部とを備え、前記第１及び第２の水槽
部との間に両者を区画する仕切り部材を備え、前記第２
の水槽部に貯水された洗浄水を前記ベンチュリスクラバ
に供給する循環経路を備えた石炭ガス化複合発電プラン
トを提供する。
と、該ガス化装置で生成された石炭ガス化ガス中の粗粒
子固形物を捕集するサイクロンと、該サイクロンの後流
側に設置され石炭ガス化ガス中の微粒子固形物を捕集す
るチャーフィルタと、該チャーフィルタで微粒子固形物
を捕集されたガスを精製する石炭ガス化ガス精製設備
と、前記精製ガスを燃焼させ発電する発電装置とを有す
る石炭ガス化複合発電プラントにおいて、前記石炭ガス
化ガス精製設備は、石炭から生成された生成ガスに水を
噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラバ
と、前記ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを気
液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触さ
せる水洗浄塔とを有し、前記水洗浄塔の下部に前記気液
分離のため前記ベンチュリスクラバからの固形物を含む
ガスと水の混相流から気液分離された水を貯水する第１
の水槽部と、前記気液接触のため供給された洗浄水を貯
水する第２の水槽部とを備え、前記第１及び第２の水槽
部との間に両者を区画する仕切り部材を備え、前記第２
の水槽部に貯水された洗浄水を前記ベンチュリスクラバ
に供給する循環経路を備えた石炭ガス化複合発電プラン
トを提供する。
【００１２】加えて前記水洗浄塔は、第１及び第２の水
槽部に貯水された水の水位を調節する水位調節手段を設
けた石炭ガス化複合発電プラントを提供する。
槽部に貯水された水の水位を調節する水位調節手段を設
けた石炭ガス化複合発電プラントを提供する。
【００１３】加えて前記石炭ガス化複合発電プラント
は、サイクロンから石炭ガス化ガス精製設備へ石炭ガス
化ガスをバイパスするバイパス経路を設けた石炭ガス化
複合発電プラントを提供する。
は、サイクロンから石炭ガス化ガス精製設備へ石炭ガス
化ガスをバイパスするバイパス経路を設けた石炭ガス化
複合発電プラントを提供する。
【００１４】また、本発明は以下の石炭ガス化ガス精製
設備を提供する。
設備を提供する。
【００１５】本発明は、前記水洗浄塔の下部に前記気液
分離のため前記ベンチュリスクラバからの固形物を含む
ガスと水の混相流から気液分離された水を貯水する第１
の水槽部と、前記気液接触のため供給された洗浄水を貯
水する第２の水槽部とを備え、前記第１及び第２の水槽
部との間に両者を区画する仕切り部材が備えられた石炭
ガス化ガス精製設備を提供する。
分離のため前記ベンチュリスクラバからの固形物を含む
ガスと水の混相流から気液分離された水を貯水する第１
の水槽部と、前記気液接触のため供給された洗浄水を貯
水する第２の水槽部とを備え、前記第１及び第２の水槽
部との間に両者を区画する仕切り部材が備えられた石炭
ガス化ガス精製設備を提供する。
【００１６】本発明は、石炭から生成された生成ガスに
水を噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラ
バと、前記ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを
気液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触
させる水洗浄塔とを有する石炭ガス化ガス精製設備にお
いて、前記水洗浄塔の下部に前記気液分離のため前記ベ
ンチュリスクラバからの固形物を含むガスと水の混相流
から気液分離された水を貯水する第１の水槽部と、前記
気液接触のため供給された洗浄水を貯水する第２の水槽
部とを備え、前記第１及び第２の水槽部との間に両者を
区画する仕切り部材を備え、前記第２の水槽部に貯水さ
れた洗浄水を前記ベンチュリスクラバに供給する循環経
路を備えた石炭ガス化ガス精製設備を提供する。
水を噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラ
バと、前記ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを
気液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触
させる水洗浄塔とを有する石炭ガス化ガス精製設備にお
いて、前記水洗浄塔の下部に前記気液分離のため前記ベ
ンチュリスクラバからの固形物を含むガスと水の混相流
から気液分離された水を貯水する第１の水槽部と、前記
気液接触のため供給された洗浄水を貯水する第２の水槽
部とを備え、前記第１及び第２の水槽部との間に両者を
区画する仕切り部材を備え、前記第２の水槽部に貯水さ
れた洗浄水を前記ベンチュリスクラバに供給する循環経
路を備えた石炭ガス化ガス精製設備を提供する。
【００１７】加えて前記水洗浄塔は、第１及び第２の水
槽部に貯水された水の水位を調節する水位調節手段を設
けた石炭ガス化ガス精製設備を提供する。
槽部に貯水された水の水位を調節する水位調節手段を設
けた石炭ガス化ガス精製設備を提供する。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例による石炭
ガス化複合発電プラントを図１を用いて説明する。図１
は本発明の脱塵システムを適用した石炭ガス化複合発電
プラントの系統図である。全体は、石炭処理装置，酸素
製造装置（いずれも図示せず），ガス化装置，脱硫装
置，石炭ガス化ガスを燃焼させ発電する発電装置から構
成される。
ガス化複合発電プラントを図１を用いて説明する。図１
は本発明の脱塵システムを適用した石炭ガス化複合発電
プラントの系統図である。全体は、石炭処理装置，酸素
製造装置（いずれも図示せず），ガス化装置，脱硫装
置，石炭ガス化ガスを燃焼させ発電する発電装置から構
成される。
【００１９】ガス化装置は、ガス化炉６，熱回収ボイラ
７，サイクロン８から構成される。ガス化炉６には、粉
砕された石炭１０１と酸化剤として酸素１０３が供給さ
れ、石炭のガス化反応が生じ、水素や一酸化炭素を主成
分とする可燃性の生成ガス１０４が発生する。ガス化炉
６内の高温（約１６００℃）により、石炭中に数〜１０
数％程度含まれる灰分は溶融し、ガス化炉６下部から取
り出され、水冷粉砕されて、ガラス状の固形物であるス
ラグ１０５となる。生成ガス１０４は約1000℃の高温で
あるため、廃熱回収ボイラ７により約４００℃に冷却さ
れる。生成ガス１０４は、スラグ１０５として取り出さ
れなかった灰分や煤塵，未反応の炭素分を含む固形物
（以下チャーと称す）を同伴しているため、ガス化装置
付属の乾式脱塵装置として、サイクロン８により比較的
粒子径の大きい固形物を除去する。回収されたチャー１
０６はガス化炉６に再供給して灰分を溶融してスラグ10
5とし、また、未反応の炭素分を反応させる。
７，サイクロン８から構成される。ガス化炉６には、粉
砕された石炭１０１と酸化剤として酸素１０３が供給さ
れ、石炭のガス化反応が生じ、水素や一酸化炭素を主成
分とする可燃性の生成ガス１０４が発生する。ガス化炉
６内の高温（約１６００℃）により、石炭中に数〜１０
数％程度含まれる灰分は溶融し、ガス化炉６下部から取
り出され、水冷粉砕されて、ガラス状の固形物であるス
ラグ１０５となる。生成ガス１０４は約1000℃の高温で
あるため、廃熱回収ボイラ７により約４００℃に冷却さ
れる。生成ガス１０４は、スラグ１０５として取り出さ
れなかった灰分や煤塵，未反応の炭素分を含む固形物
（以下チャーと称す）を同伴しているため、ガス化装置
付属の乾式脱塵装置として、サイクロン８により比較的
粒子径の大きい固形物を除去する。回収されたチャー１
０６はガス化炉６に再供給して灰分を溶融してスラグ10
5とし、また、未反応の炭素分を反応させる。
【００２０】脱硫装置は、ベンチュリスクラバ３４，水
洗浄塔１０，硫化カルボニル転換器１２，硫化水素吸収
塔１３、並びに、熱交換器類等から構成される。集塵後
のガス中には、サイクロン８で除去できなかった固形物
や、石炭中に含まれていた硫黄分から生成した硫化カル
ボニル，硫化水素、さらにはアンモニア，ハロゲン化物
等が含まれている。固形物は下流の装置での閉塞や磨耗
等の原因となり、硫黄化合物はガスを燃焼した際に硫黄
酸化物という有害なガスを発生させる原因となる。また
アンモニア，ハロゲン化物は後流側機器の触媒や硫化水
素吸収液の劣化の原因にもなるので、脱硫装置ではこれ
らを除去する。
洗浄塔１０，硫化カルボニル転換器１２，硫化水素吸収
塔１３、並びに、熱交換器類等から構成される。集塵後
のガス中には、サイクロン８で除去できなかった固形物
や、石炭中に含まれていた硫黄分から生成した硫化カル
ボニル，硫化水素、さらにはアンモニア，ハロゲン化物
等が含まれている。固形物は下流の装置での閉塞や磨耗
等の原因となり、硫黄化合物はガスを燃焼した際に硫黄
酸化物という有害なガスを発生させる原因となる。また
アンモニア，ハロゲン化物は後流側機器の触媒や硫化水
素吸収液の劣化の原因にもなるので、脱硫装置ではこれ
らを除去する。
【００２１】サイクロン８を通過した生成ガスは、ベン
チュリスクラバ３４で約１５０℃〜２００℃に冷却され
ると同時に生成ガス中のダストが、水側に捕捉される。
なお、ベンチュリスクラバ３４は高圧下で微細な固形物
（粒子径１ミクロン以下）を捕捉するのに優れた機能を
有する。ベンチュリスクラバを出た気液２相流体である
ベンチュリスクラバ出口水１３４は、水洗浄塔１０でさ
らに微細なチャーが水洗除去されるとともにアンモニア
やハロゲン化物，シアン等の化学物質の吸収を行う。水
洗過程で最終的に生成ガスは約１２０℃〜１４０℃に冷
却される。生成ガス中の硫化カルボニルは、硫化カルボ
ニル転換器１２で硫化水素に転換される。硫化カルボニ
ル転換器１２は、硫化カルボニルをガス中の水分と反応
させて硫化水素に転換する触媒を充填した反応容器であ
る。この触媒は１６０℃から250℃の温度範囲で作用す
るために、生成ガスはガス／ガス熱交換器２６とガス加
熱用熱交換器２３で上記の作用温度に加熱される。最終
的にガス中の硫化水素は硫化水素吸収塔１３で除去され
る。硫化水素吸収液１０８は、約４０℃で作用する。こ
のため、硫化カルボニル転換器１２を出た生成ガスは、
ガス／ガス熱交換器２６とガス冷却用熱交換器２４で、
約４０℃に冷却される。この冷却過程で生じた凝縮水
は、図示しない凝縮水除去器で除去される。さらに、第
２水洗塔１９により第１水洗塔で除去しきれなかったア
ンモニアを除去する。硫黄化合物を除去された精製ガス
１０９は、ガス加熱用熱交換器２５でさらに加熱され
て、ガスタービン燃料ガスとしてガスタービン燃焼器１
５に供給され、ガスタービン１７を駆動することにより
発電機１８にて発電する。
チュリスクラバ３４で約１５０℃〜２００℃に冷却され
ると同時に生成ガス中のダストが、水側に捕捉される。
なお、ベンチュリスクラバ３４は高圧下で微細な固形物
（粒子径１ミクロン以下）を捕捉するのに優れた機能を
有する。ベンチュリスクラバを出た気液２相流体である
ベンチュリスクラバ出口水１３４は、水洗浄塔１０でさ
らに微細なチャーが水洗除去されるとともにアンモニア
やハロゲン化物，シアン等の化学物質の吸収を行う。水
洗過程で最終的に生成ガスは約１２０℃〜１４０℃に冷
却される。生成ガス中の硫化カルボニルは、硫化カルボ
ニル転換器１２で硫化水素に転換される。硫化カルボニ
ル転換器１２は、硫化カルボニルをガス中の水分と反応
させて硫化水素に転換する触媒を充填した反応容器であ
る。この触媒は１６０℃から250℃の温度範囲で作用す
るために、生成ガスはガス／ガス熱交換器２６とガス加
熱用熱交換器２３で上記の作用温度に加熱される。最終
的にガス中の硫化水素は硫化水素吸収塔１３で除去され
る。硫化水素吸収液１０８は、約４０℃で作用する。こ
のため、硫化カルボニル転換器１２を出た生成ガスは、
ガス／ガス熱交換器２６とガス冷却用熱交換器２４で、
約４０℃に冷却される。この冷却過程で生じた凝縮水
は、図示しない凝縮水除去器で除去される。さらに、第
２水洗塔１９により第１水洗塔で除去しきれなかったア
ンモニアを除去する。硫黄化合物を除去された精製ガス
１０９は、ガス加熱用熱交換器２５でさらに加熱され
て、ガスタービン燃料ガスとしてガスタービン燃焼器１
５に供給され、ガスタービン１７を駆動することにより
発電機１８にて発電する。
【００２２】次に、図１に示した水洗浄塔１０の詳細に
ついて図２を用いて説明する。図２は、本発明の第１の
実施例である水洗浄塔の構成図である。
ついて図２を用いて説明する。図２は、本発明の第１の
実施例である水洗浄塔の構成図である。
【００２３】サイクロンを通過した生成ガスはベンチュ
リ入口生成ガス１１０として、ベンチュリスクラバ３４
に入る。ベンチュリスクラバには、第１の水洗塔である
水洗浄塔１０の下部に設けられた水槽であるＡ槽３５に
貯水された水を塔出口水133として循環水ポンプ１１に
よって供給される。ポンプアップされた供給水はベンチ
ュリスクラバ入口水１３２としてベンチュリスクラバ喉
部３７に注入され水滴となり、高速気流と水滴との間の
速度差による慣性衝突により気流中のチャーは水滴に捕
集される。水を捕集媒体とする洗浄集じん装置の中でも
ベンチュリスクラバはサブミクロン粒子まで高効率に捕
集できる特徴を持つ。スクラバ出口では、高濃度なチャ
ーを含む水とガスの混相流であるベンチュリスクラバ出
口水134が塔下部に設けられたバブリング管３２によっ
てＢ槽３６にバブリングしながら入る。バブリングによ
りさらにここで脱塵が行われる。
リ入口生成ガス１１０として、ベンチュリスクラバ３４
に入る。ベンチュリスクラバには、第１の水洗塔である
水洗浄塔１０の下部に設けられた水槽であるＡ槽３５に
貯水された水を塔出口水133として循環水ポンプ１１に
よって供給される。ポンプアップされた供給水はベンチ
ュリスクラバ入口水１３２としてベンチュリスクラバ喉
部３７に注入され水滴となり、高速気流と水滴との間の
速度差による慣性衝突により気流中のチャーは水滴に捕
集される。水を捕集媒体とする洗浄集じん装置の中でも
ベンチュリスクラバはサブミクロン粒子まで高効率に捕
集できる特徴を持つ。スクラバ出口では、高濃度なチャ
ーを含む水とガスの混相流であるベンチュリスクラバ出
口水134が塔下部に設けられたバブリング管３２によっ
てＢ槽３６にバブリングしながら入る。バブリングによ
りさらにここで脱塵が行われる。
【００２４】バブリングにより水面下に出てきたバブリ
ング後の生成ガス１４０には殆どチャーは含まれておら
ず、隔壁５２の上部に設けられた複数個の開口部である
ガス通過部５３から隔壁５２を通過して充填層入口生成
ガス１４２として充填層３１および棚段３０において第
一水洗浄塔供給水１３１と気液接触しながら塔上部に向
かって流れ、そこでわずかではあるが更なる脱塵と、主
な目的であるアンモニア（ＮＨ3 ），ハロゲン化物（Ｈ
Ｃｌ，ＨＦ），ＨＣＮ等の吸収を行った後、第一水洗浄
塔生成ガス１０７として第１の水洗浄塔１０から排出さ
れる。
ング後の生成ガス１４０には殆どチャーは含まれておら
ず、隔壁５２の上部に設けられた複数個の開口部である
ガス通過部５３から隔壁５２を通過して充填層入口生成
ガス１４２として充填層３１および棚段３０において第
一水洗浄塔供給水１３１と気液接触しながら塔上部に向
かって流れ、そこでわずかではあるが更なる脱塵と、主
な目的であるアンモニア（ＮＨ3 ），ハロゲン化物（Ｈ
Ｃｌ，ＨＦ），ＨＣＮ等の吸収を行った後、第一水洗浄
塔生成ガス１０７として第１の水洗浄塔１０から排出さ
れる。
【００２５】塔下部は仕切り板５０によりＡ槽３５，Ｂ
槽３６とに分離されており流体的に隔離されている。Ａ
槽３５の液面レベルは調製器４０により弁３０３を制御
して行われる。またＢ槽３６の液面レベルは調製器４１
により弁３０４を制御して抜出し水１３７を調節するこ
とによって行われる。ここでＢ槽３６に溜まる水はベン
チュリスクラバからきた高濃度のダストを含み汚れた水
である。その抜出し水１３７は排水処理設備に送られ
る。一方、Ａ槽３５の水は塔上部からの供給水である第
一水洗浄塔供給水１３１が脱塵後の殆どチャーを含まな
い充填層入口生成ガス１４２と棚段３０および充填層３
１と気液接触して、若干の脱塵と化学物質の吸収を行っ
た後、充填層出口落下水１３６となって溜まったもので
あり、液中のチャー濃度はＢ水槽３６に比べてはるかに
小さく汚れの少ない状態の水である。なお、隔壁５２の
上部に設けられた開口部であるガス通過部５３には開口
部の周囲にせきを設け、さらにキャップ５４が覆ってい
るため、落下液である充填層出口落下水１３６はキャッ
プ５４により直接ガス通過部５３に入ることはなくガス
通過部５３の周囲に落下する。落下した水はせきにより
やはりガス通過部５３には流入しない構造となってい
る。このためＢ槽３６に充填層出口落下水１３６が流れ
落ちることが防止でき、強制的にＡ槽３５に流れ落ちる
ことになる。
槽３６とに分離されており流体的に隔離されている。Ａ
槽３５の液面レベルは調製器４０により弁３０３を制御
して行われる。またＢ槽３６の液面レベルは調製器４１
により弁３０４を制御して抜出し水１３７を調節するこ
とによって行われる。ここでＢ槽３６に溜まる水はベン
チュリスクラバからきた高濃度のダストを含み汚れた水
である。その抜出し水１３７は排水処理設備に送られ
る。一方、Ａ槽３５の水は塔上部からの供給水である第
一水洗浄塔供給水１３１が脱塵後の殆どチャーを含まな
い充填層入口生成ガス１４２と棚段３０および充填層３
１と気液接触して、若干の脱塵と化学物質の吸収を行っ
た後、充填層出口落下水１３６となって溜まったもので
あり、液中のチャー濃度はＢ水槽３６に比べてはるかに
小さく汚れの少ない状態の水である。なお、隔壁５２の
上部に設けられた開口部であるガス通過部５３には開口
部の周囲にせきを設け、さらにキャップ５４が覆ってい
るため、落下液である充填層出口落下水１３６はキャッ
プ５４により直接ガス通過部５３に入ることはなくガス
通過部５３の周囲に落下する。落下した水はせきにより
やはりガス通過部５３には流入しない構造となってい
る。このためＢ槽３６に充填層出口落下水１３６が流れ
落ちることが防止でき、強制的にＡ槽３５に流れ落ちる
ことになる。
【００２６】以上のように本実施例によれば、ベンチュ
リ入口生成ガス１１０に含まれるチャー量が増加しても
ベンチュリスクラバ３４の洗浄水として使われるベンチ
ュリスクラバ入口水１３２，塔出口水１３３のチャー濃
度は常に低濃度の状態に保つことができる。このため、
ベンチュリスクラバ３４の脱塵性能の低下や水中のチャ
ーによるベンチュリスクラバ喉部３７における水の吹き
出し穴の詰まりを未然に防止できる。これにより、長時
間安定してベンチュリスクラバでの集塵を行うことがで
き、ガス中の大量固形物を脱塵できるのでプラントの信
頼性を向上させることができる。
リ入口生成ガス１１０に含まれるチャー量が増加しても
ベンチュリスクラバ３４の洗浄水として使われるベンチ
ュリスクラバ入口水１３２，塔出口水１３３のチャー濃
度は常に低濃度の状態に保つことができる。このため、
ベンチュリスクラバ３４の脱塵性能の低下や水中のチャ
ーによるベンチュリスクラバ喉部３７における水の吹き
出し穴の詰まりを未然に防止できる。これにより、長時
間安定してベンチュリスクラバでの集塵を行うことがで
き、ガス中の大量固形物を脱塵できるのでプラントの信
頼性を向上させることができる。
【００２７】さらに本実施例によれば、ベンチュリスク
ラバ３４の洗浄水としてベンチュリスクラバ入口水１３
２，塔出口水１３３を用いているので、水洗浄塔へ供給
する第一水洗浄塔供給水１３１およびベンチュリスクラ
バ３４への水供給水量を抑制することができるので、ユ
ーティリティ設備や、排水処理設備の負荷増加を抑制す
ることができる。また、本実施例では水洗浄塔１０の水
溜まり部を仕切り板５０によって２つに分離しているの
で、仕切り板５０間の熱移動により、ベンチュリ出口の
高温水が溜まるＢ水槽３５の温度がＡ水槽３６で冷やさ
れることで、水溜り部でのバブリングによる前記物質
(アンモニア，ハロゲン化物，シアン等)の化学吸収が促
進されるという石炭ガス化複合発電プラントおよび、石
炭ガス化ガス精製設備における特有の効果を奏する。こ
れにより、水洗浄塔１０の上部に設置される棚段３０，
充填層３１の負荷が減り水洗浄塔全体の構造をより小型
化することができる。また、特開昭61−97014 号公報に
記載のものは容器を別々に２つ分離した構造となってい
るが、本発明では水洗浄塔内の下部に水槽部を形成して
おり容器接続配管等を少なくできるので、装置の信頼性
を高めることができる。
ラバ３４の洗浄水としてベンチュリスクラバ入口水１３
２，塔出口水１３３を用いているので、水洗浄塔へ供給
する第一水洗浄塔供給水１３１およびベンチュリスクラ
バ３４への水供給水量を抑制することができるので、ユ
ーティリティ設備や、排水処理設備の負荷増加を抑制す
ることができる。また、本実施例では水洗浄塔１０の水
溜まり部を仕切り板５０によって２つに分離しているの
で、仕切り板５０間の熱移動により、ベンチュリ出口の
高温水が溜まるＢ水槽３５の温度がＡ水槽３６で冷やさ
れることで、水溜り部でのバブリングによる前記物質
(アンモニア，ハロゲン化物，シアン等)の化学吸収が促
進されるという石炭ガス化複合発電プラントおよび、石
炭ガス化ガス精製設備における特有の効果を奏する。こ
れにより、水洗浄塔１０の上部に設置される棚段３０，
充填層３１の負荷が減り水洗浄塔全体の構造をより小型
化することができる。また、特開昭61−97014 号公報に
記載のものは容器を別々に２つ分離した構造となってい
るが、本発明では水洗浄塔内の下部に水槽部を形成して
おり容器接続配管等を少なくできるので、装置の信頼性
を高めることができる。
【００２８】また、水洗浄塔とは別に独立して、ベンチ
ュリスクラバへ汚れの少ない水を供給する非循環方式と
比べても、本実施例によれば、水の供給系統が新たに増
えることによるシステムの複雑化や、プラントのユーテ
ィリティの増加といった問題を解消することができる。
ュリスクラバへ汚れの少ない水を供給する非循環方式と
比べても、本実施例によれば、水の供給系統が新たに増
えることによるシステムの複雑化や、プラントのユーテ
ィリティの増加といった問題を解消することができる。
【００２９】ここで集塵率を更に高めるためには、少し
第一水洗浄塔供給水１３１を増やして、その一部をベン
チュリスクラバの洗浄水であるベンチュリスクラバ入口
水１３２として加える手段も本発明で可能である。これ
により、ベンチュリスクラバの水／ガス比が大きくなる
ので、さらに脱塵性能を向上させることができる。この
場合、ユーティリティや排水の設備も少し大きくなる
が、ベンチュリスクラバと水洗塔とに別々に独立して洗
浄水を供給する非循環方式よりも供給水量を少なくでき
る。
第一水洗浄塔供給水１３１を増やして、その一部をベン
チュリスクラバの洗浄水であるベンチュリスクラバ入口
水１３２として加える手段も本発明で可能である。これ
により、ベンチュリスクラバの水／ガス比が大きくなる
ので、さらに脱塵性能を向上させることができる。この
場合、ユーティリティや排水の設備も少し大きくなる
が、ベンチュリスクラバと水洗塔とに別々に独立して洗
浄水を供給する非循環方式よりも供給水量を少なくでき
る。
【００３０】なお、ベンチュリスクラバの本数は本実施
例では一本であるがプラント負荷に応じて、即ちガス量
の大小，生成ガス中のチャー濃度の大小に応じて、ベン
チュリスクラバ喉部の適用流速範囲に合うよう口径の異
なるものを複数個配置させ、使い分けを行っても構わな
い。また、ベンチュリスクラバは大きな圧損が必要であ
るが、径が０.１ 〜１ミクロンの微細な固形物の集塵
（高温，高圧下）には適している。もし集塵すべき固形
物の径がそれより大きい場合や圧損がとれない場合、ベ
ンチュリスクラバの代わりに他の洗浄集塵装置として、
たとえば低圧損のエゼクターを用いてもよい。
例では一本であるがプラント負荷に応じて、即ちガス量
の大小，生成ガス中のチャー濃度の大小に応じて、ベン
チュリスクラバ喉部の適用流速範囲に合うよう口径の異
なるものを複数個配置させ、使い分けを行っても構わな
い。また、ベンチュリスクラバは大きな圧損が必要であ
るが、径が０.１ 〜１ミクロンの微細な固形物の集塵
（高温，高圧下）には適している。もし集塵すべき固形
物の径がそれより大きい場合や圧損がとれない場合、ベ
ンチュリスクラバの代わりに他の洗浄集塵装置として、
たとえば低圧損のエゼクターを用いてもよい。
【００３１】図３は本発明の第２の実施例である水洗浄
塔の構造図である。ここでは充填層出口落下水１３６は
一旦、隔壁５２により塔内の周辺部に溜められ、ここに
溜められた水１３９は塔外に抜き出され、別置の圧力容
器３８に貯められる。この圧力容器３８からの塔出口水
１３３は循環水ポンプ１１によりベンチュリスクラバ入
口水１３２としてベンチュリスクラバ３４に供給され
る。後の動作は先に述べた第１の実施例と同様であり、
ベンチュリ入口生成ガス１１０はベンチュリスクラバ３
４で生成ガス中のダストを水側に捕捉され、高濃度なチ
ャーを含む水とガスの混相流であるベンチュリスクラバ
出口水１３４が塔下部に設けられたバブリング管３２に
よって水槽部３３にバブリングしながら入る。バブリン
グ後の生成ガス１４０はキャップ５４に覆われたガス通
過部５３を通過し、棚段３０および充填層３１において
塔上部からの供給水である第一水洗浄塔供給水１３１と
気液接触して、若干の脱塵と化学物質の吸収を行い、塔
頂より第一水洗塔出口生成ガス１０７として排出され
る。
塔の構造図である。ここでは充填層出口落下水１３６は
一旦、隔壁５２により塔内の周辺部に溜められ、ここに
溜められた水１３９は塔外に抜き出され、別置の圧力容
器３８に貯められる。この圧力容器３８からの塔出口水
１３３は循環水ポンプ１１によりベンチュリスクラバ入
口水１３２としてベンチュリスクラバ３４に供給され
る。後の動作は先に述べた第１の実施例と同様であり、
ベンチュリ入口生成ガス１１０はベンチュリスクラバ３
４で生成ガス中のダストを水側に捕捉され、高濃度なチ
ャーを含む水とガスの混相流であるベンチュリスクラバ
出口水１３４が塔下部に設けられたバブリング管３２に
よって水槽部３３にバブリングしながら入る。バブリン
グ後の生成ガス１４０はキャップ５４に覆われたガス通
過部５３を通過し、棚段３０および充填層３１において
塔上部からの供給水である第一水洗浄塔供給水１３１と
気液接触して、若干の脱塵と化学物質の吸収を行い、塔
頂より第一水洗塔出口生成ガス１０７として排出され
る。
【００３２】以上のように本実施例によれば、ベンチュ
リ入口生成ガス１１０に含まれるチャー量が増加しても
ベンチュリスクラバ３４の洗浄水として使われるベンチ
ュリスクラバ入口水１３２，塔出口水１３３のチャー濃
度は常に低濃度の状態に保つことができる。このため、
ベンチュリスクラバ３４の脱塵性能の低下や水中のチャ
ーによるベンチュリスクラバ喉部３７における水の吹き
出し穴の詰まりを未然に防止できる。これにより、長時
間安定してベンチュリスクラバでの集塵が行えることが
でき、ガス中の大量固形物を脱塵できるのでプラントの
信頼性を向上させることができる。
リ入口生成ガス１１０に含まれるチャー量が増加しても
ベンチュリスクラバ３４の洗浄水として使われるベンチ
ュリスクラバ入口水１３２，塔出口水１３３のチャー濃
度は常に低濃度の状態に保つことができる。このため、
ベンチュリスクラバ３４の脱塵性能の低下や水中のチャ
ーによるベンチュリスクラバ喉部３７における水の吹き
出し穴の詰まりを未然に防止できる。これにより、長時
間安定してベンチュリスクラバでの集塵が行えることが
でき、ガス中の大量固形物を脱塵できるのでプラントの
信頼性を向上させることができる。
【００３３】さらに本実施例によれば、ベンチュリスク
ラバ３４の洗浄水としてベンチュリスクラバ入口水１３
２，塔出口水１３３を用いているので、水洗浄塔へ供給
する第一水洗浄塔供給水１３１の水供給水量を抑制する
ことができる。これにより、ユーティリティ，排水処理
設備の増加を抑制することができる。
ラバ３４の洗浄水としてベンチュリスクラバ入口水１３
２，塔出口水１３３を用いているので、水洗浄塔へ供給
する第一水洗浄塔供給水１３１の水供給水量を抑制する
ことができる。これにより、ユーティリティ，排水処理
設備の増加を抑制することができる。
【００３４】なお、本実施例による水洗浄塔は、生成ガ
ス量が少なく従って水洗浄塔の塔径が小さい、即ちプラ
ント規模の小さい場合に適用されるもので、第１の実施
例のような仕切り板５０がないので、スペース面からメ
ンテナンスを容易に行うことができる。
ス量が少なく従って水洗浄塔の塔径が小さい、即ちプラ
ント規模の小さい場合に適用されるもので、第１の実施
例のような仕切り板５０がないので、スペース面からメ
ンテナンスを容易に行うことができる。
【００３５】図４は本発明の第３の実施例である水洗浄
塔の構造図である。本実施例では、充填層出口落下水１
３６は塔下部の水槽部３３に溜められる。水槽部３３に
溜められた水は、塔出口水１３３として塔下部より循環
水ポンプ１１によりベンチュリスクラバ３４に送られ
る。ベンチュリスクラバ入口水１３２はベンチュリスク
ラバ３４に送られ、ここでベンチュリ入口生成ガス１１
０中のダストを水側に捕捉してスクラバ出口で高濃度な
チャーを含む水とガスの混相流であるベンチュリスクラ
バ出口水１３４となって圧力容器３９に一旦貯えられ
る。次に圧力容器３９内で分離したガス１４３は水洗浄
塔１０に送られ、水槽部３３でバブリング管３２により
バブリングして脱塵を行った後、バブリング後の生成ガ
ス１４０は棚段３０および充填層３１において塔上部か
らの供給水である第一水洗浄塔供給水１３１と気液接触
して、若干の脱塵と化学物質の吸収を行い、塔頂より第
一水洗塔出口生成ガス１０７として排出される。本実施
例では、先に述べた第１および第２の実施例と比べ、水
洗浄塔１０の内部構造がより簡単になり、装置自体の信
頼性を高めるだけでなく、製作コストの面からも有利と
なる。
塔の構造図である。本実施例では、充填層出口落下水１
３６は塔下部の水槽部３３に溜められる。水槽部３３に
溜められた水は、塔出口水１３３として塔下部より循環
水ポンプ１１によりベンチュリスクラバ３４に送られ
る。ベンチュリスクラバ入口水１３２はベンチュリスク
ラバ３４に送られ、ここでベンチュリ入口生成ガス１１
０中のダストを水側に捕捉してスクラバ出口で高濃度な
チャーを含む水とガスの混相流であるベンチュリスクラ
バ出口水１３４となって圧力容器３９に一旦貯えられ
る。次に圧力容器３９内で分離したガス１４３は水洗浄
塔１０に送られ、水槽部３３でバブリング管３２により
バブリングして脱塵を行った後、バブリング後の生成ガ
ス１４０は棚段３０および充填層３１において塔上部か
らの供給水である第一水洗浄塔供給水１３１と気液接触
して、若干の脱塵と化学物質の吸収を行い、塔頂より第
一水洗塔出口生成ガス１０７として排出される。本実施
例では、先に述べた第１および第２の実施例と比べ、水
洗浄塔１０の内部構造がより簡単になり、装置自体の信
頼性を高めるだけでなく、製作コストの面からも有利と
なる。
【００３６】図５は本発明の他の実施例である石炭ガス
化複合発電プラントの系統図である。本実施例では、熱
回収ボイラ７，サイクロン８の出口側にチャーフィルタ
９及び、精製ガス１０９と熱交換を行うガス／ガス熱交
換器２２を備えている。また、サイクロン８とチャーフ
ィルタ９の間にベンチュリスクラバ３４へ生成ガスをバ
イパスするバイパスライン１１３を設けている。本図は
フィルタバイパス運転状態のものを示しており、弁３０
０，３０１は開状態（白抜き）、弁３０２は閉状態（黒
塗り）となっている。このバイパスライン１１３は、チ
ャーフィルタ９の不調時，故障時、あるいはプラント起
動時にベンチュリスクラバ３４へ生成ガスをバイパスす
るためのものである。
化複合発電プラントの系統図である。本実施例では、熱
回収ボイラ７，サイクロン８の出口側にチャーフィルタ
９及び、精製ガス１０９と熱交換を行うガス／ガス熱交
換器２２を備えている。また、サイクロン８とチャーフ
ィルタ９の間にベンチュリスクラバ３４へ生成ガスをバ
イパスするバイパスライン１１３を設けている。本図は
フィルタバイパス運転状態のものを示しており、弁３０
０，３０１は開状態（白抜き）、弁３０２は閉状態（黒
塗り）となっている。このバイパスライン１１３は、チ
ャーフィルタ９の不調時，故障時、あるいはプラント起
動時にベンチュリスクラバ３４へ生成ガスをバイパスす
るためのものである。
【００３７】しかし、本実施例ではチャーフィルタ９へ
ガスを通過させることなく、サイクロン８からベンチュ
リスクラバ３４へ生成ガスをバイパスさせている。この
ため、起動時のガス化炉を軽油焚きから石炭に切替える
場合、従来はフィルタの切替えも同時に行う必要があっ
たが、本実施例によれば、フィルタの切替えが遅れて大
量のチャーを含んだ生成ガスが水洗浄塔へ流れ込んでき
ても、ベンチュリスクラバに供給される供給水のチャー
濃度は常に低濃度の状態に保つことができるので、ベン
チュリスクラバや水洗浄塔が詰りを起こすことなく、長
時間安定してガス中の大量固形物を脱塵することができ
る。また、従来のプラント起動運転時に行っていた、ガ
スの露点以上に装置を予熱してするといったプロセスが
不要となり、起動時の運転の煩雑さを解消することがで
きる。
ガスを通過させることなく、サイクロン８からベンチュ
リスクラバ３４へ生成ガスをバイパスさせている。この
ため、起動時のガス化炉を軽油焚きから石炭に切替える
場合、従来はフィルタの切替えも同時に行う必要があっ
たが、本実施例によれば、フィルタの切替えが遅れて大
量のチャーを含んだ生成ガスが水洗浄塔へ流れ込んでき
ても、ベンチュリスクラバに供給される供給水のチャー
濃度は常に低濃度の状態に保つことができるので、ベン
チュリスクラバや水洗浄塔が詰りを起こすことなく、長
時間安定してガス中の大量固形物を脱塵することができ
る。また、従来のプラント起動運転時に行っていた、ガ
スの露点以上に装置を予熱してするといったプロセスが
不要となり、起動時の運転の煩雑さを解消することがで
きる。
【００３８】
【発明の効果】本発明により、ベンチュリスクラバには
常に低チャー濃度の水を供給するので、長時間安定して
ガス中の固形物を脱塵することができる石炭ガス化複合
発電プラントおよび石炭ガス化ガス精製設備を実現でき
るという効果が達成される。
常に低チャー濃度の水を供給するので、長時間安定して
ガス中の固形物を脱塵することができる石炭ガス化複合
発電プラントおよび石炭ガス化ガス精製設備を実現でき
るという効果が達成される。
【図１】本発明の一実施例である石炭ガス化ガス精製設
備を適用した石炭ガス化複合発電プラントの系統図であ
る。
備を適用した石炭ガス化複合発電プラントの系統図であ
る。
【図２】本発明の一実施例である図１に示したプラント
の水洗浄塔の構成図である。
の水洗浄塔の構成図である。
【図３】本発明の一実施例である図１に示したプラント
の他の実施例である水洗浄塔の構成図である。
の他の実施例である水洗浄塔の構成図である。
【図４】本発明の他の一実施例である図１に示したプラ
ントの更に他の実施例である水洗浄塔の構成図である。
ントの更に他の実施例である水洗浄塔の構成図である。
【図５】本発明の他の実施例である脱塵システムを適用
した石炭ガス化複合発電プラントの系統図である。
した石炭ガス化複合発電プラントの系統図である。
６…ガス化炉、７…熱回収ボイラ、８…サイクロン、９
…チャーフィルタ、１０…水洗浄塔、１１…循環水ポン
プ、１２…硫化カルボニル転換器、１３…硫化水素吸収
塔、１４…吸収液循環ポンプ、１５…ガスタービン燃焼
器、１６…空気圧縮機、１７…ガスタービン、１８…発
電機、２２，２６…ガス／ガス熱交換器、２３，２５，
２６…ガス加熱用熱交換器、２４…ガス冷却用熱交換
器、３０…棚段、３１…充填層、３２…バブリング管、
３３…水槽部、３４…ベンチュリスクラバ、３５…Ａ
槽、３６…Ｂ槽、３７…ベンチュリスクラバ喉部、３
８，３９…圧力容器、４０〜４３…液面レベル調節器、
５０…仕切り板、５２…隔壁、５３…ガス通過部、５４
…キャップ、１０１…石炭、１０３…酸素、１０４…生
成ガス、１０５…スラグ、１０６…回収チャー、１０７
…第一水洗塔出口生成ガス、１０８…硫化水素吸収液、
１０９…精製ガス、１１０…ベンチュリ入口生成ガス、
１１１…ガスタービン用空気、１１２…ガスタービン出
口排ガス、113…バイパスライン、１３１…第一水洗浄
塔供給水、１３２…ベンチュリスクラバ入口水、１３３
…塔出口水、１３４…ベンチュリスクラバ出口水、１３
５…棚段出口水、１３６…充填層出口落下水、１４０…
バブリング後の生成ガス、１４１…充填層出口生成ガ
ス、１４２…充填層入口生成ガス、３００〜３０４…
弁。
…チャーフィルタ、１０…水洗浄塔、１１…循環水ポン
プ、１２…硫化カルボニル転換器、１３…硫化水素吸収
塔、１４…吸収液循環ポンプ、１５…ガスタービン燃焼
器、１６…空気圧縮機、１７…ガスタービン、１８…発
電機、２２，２６…ガス／ガス熱交換器、２３，２５，
２６…ガス加熱用熱交換器、２４…ガス冷却用熱交換
器、３０…棚段、３１…充填層、３２…バブリング管、
３３…水槽部、３４…ベンチュリスクラバ、３５…Ａ
槽、３６…Ｂ槽、３７…ベンチュリスクラバ喉部、３
８，３９…圧力容器、４０〜４３…液面レベル調節器、
５０…仕切り板、５２…隔壁、５３…ガス通過部、５４
…キャップ、１０１…石炭、１０３…酸素、１０４…生
成ガス、１０５…スラグ、１０６…回収チャー、１０７
…第一水洗塔出口生成ガス、１０８…硫化水素吸収液、
１０９…精製ガス、１１０…ベンチュリ入口生成ガス、
１１１…ガスタービン用空気、１１２…ガスタービン出
口排ガス、113…バイパスライン、１３１…第一水洗浄
塔供給水、１３２…ベンチュリスクラバ入口水、１３３
…塔出口水、１３４…ベンチュリスクラバ出口水、１３
５…棚段出口水、１３６…充填層出口落下水、１４０…
バブリング後の生成ガス、１４１…充填層出口生成ガ
ス、１４２…充填層入口生成ガス、３００〜３０４…
弁。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ０２Ｃ 3/28 Ｆ０２Ｃ 3/28 6/18 6/18 Ａ (72)発明者 大友 伸策 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 和田 克夫 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 山口 哲夫 茨城県日立市幸町三丁目１番１号 株式会 社日立製作所日立工場内 Ｆターム(参考） 4H060 AA02 BB23 BB25 CC01 DD13 DD14 DD21 DD24 FF04 GG01
Claims (7)
- 【請求項１】石炭をガス化するガス化装置と、該ガス化
装置で生成された石炭ガス化ガス中の粗粒子固形物を捕
集するサイクロンと、該サイクロンの後流側に設置され
石炭ガス化ガス中の微粒子固形物を捕集するチャーフィ
ルタと、該チャーフィルタで微粒子固形物を捕集された
ガスを精製する石炭ガス化ガス精製設備と、前記精製ガ
スを燃焼させ発電する発電装置とを有する石炭ガス化複
合発電プラントにおいて、 前記石炭ガス化ガス精製設備は、石炭から生成された生
成ガスに水を噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュ
リスクラバと、前記ベンチュリスクラバから導かれた生
成ガスを気液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して
気液接触させる水洗浄塔とを有し、 前記水洗浄塔の下部に前記気液分離のため前記ベンチュ
リスクラバからの固形物を含むガスと水の混相流から気
液分離された水を貯水する第１の水槽部と、前記気液接
触のため供給された洗浄水を貯水する第２の水槽部とを
備え、前記第１及び第２の水槽部との間に両者を区画す
る仕切り部材が備えられていることを特徴とする石炭ガ
ス化複合発電プラント。 - 【請求項２】石炭をガス化するガス化装置と、該ガス化
装置で生成された石炭ガス化ガス中の粗粒子固形物を捕
集するサイクロンと、該サイクロンの後流側に設置され
石炭ガス化ガス中の微粒子固形物を捕集するチャーフィ
ルタと、該チャーフィルタで微粒子固形物を捕集された
ガスを精製する石炭ガス化ガス精製設備と、前記精製ガ
スを燃焼させ発電する発電装置とを有する石炭ガス化複
合発電プラントにおいて、 前記石炭ガス化ガス精製設備は、石炭から生成された生
成ガスに水を噴霧しガス中の固形物を捕集するベンチュ
リスクラバと、前記ベンチュリスクラバから導かれた生
成ガスを気液分離し、分離後のガスに洗浄水を供給して
気液接触させる水洗浄塔とを有し、 前記水洗浄塔の下部に前記気液分離のため前記ベンチュ
リスクラバからの固形物を含むガスと水の混相流から気
液分離された水を貯水する第１の水槽部と、前記気液接
触のため供給された洗浄水を貯水する第２の水槽部とを
備え、前記第１及び第２の水槽部との間に両者を区画す
る仕切り部材を備え、前記第２の水槽部に貯水された洗
浄水を前記ベンチュリスクラバに供給する循環経路を備
えたことを特徴とする石炭ガス化複合発電プラント。 - 【請求項３】前記水洗浄塔は、第１及び第２の水槽部に
貯水された水の水位を調節する水位調節手段を設けたこ
とを特徴とする請求項１または２に記載の石炭ガス化複
合発電プラント。 - 【請求項４】前記石炭ガス化複合発電プラントは、サイ
クロンから石炭ガス化ガス精製設備へ石炭ガス化ガスを
バイパスするバイパス経路を設けたことを特徴とする請
求項１または２に記載の石炭ガス化複合発電プラント。 - 【請求項５】石炭から生成された生成ガスに水を噴霧し
ガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラバと、前記
ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを気液分離
し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触させる水
洗浄塔とを有する石炭ガス化ガス精製設備において、 前記水洗浄塔の下部に前記気液分離のため前記ベンチュ
リスクラバからの固形物を含むガスと水の混相流から気
液分離された水を貯水する第１の水槽部と、前記気液接
触のため供給された洗浄水を貯水する第２の水槽部とを
備え、前記第１及び第２の水槽部との間に両者を区画す
る仕切り部材が備えられていることを特徴とする石炭ガ
ス化ガス精製設備。 - 【請求項６】石炭から生成された生成ガスに水を噴霧し
ガス中の固形物を捕集するベンチュリスクラバと、前記
ベンチュリスクラバから導かれた生成ガスを気液分離
し、分離後のガスに洗浄水を供給して気液接触させる水
洗浄塔とを有する石炭ガス化ガス精製設備において、 前記水洗浄塔の下部に前記気液分離のため前記ベンチュ
リスクラバからの固形物を含むガスと水の混相流から気
液分離された水を貯水する第１の水槽部と、前記気液接
触のため供給された洗浄水を貯水する第２の水槽部とを
備え、前記第１及び第２の水槽部との間に両者を区画す
る仕切り部材を備え、前記第２の水槽部に貯水された洗
浄水を前記ベンチュリスクラバに供給する循環経路を備
えたことを特徴とする石炭ガス化ガス精製設備。 - 【請求項７】前記水洗浄塔は、第１及び第２の水槽部に
貯水された水の水位を調節する水位調節手段を設けたこ
とを特徴とする請求項６または７に記載の石炭ガス化ガ
ス精製設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35722398A JP2000178567A (ja) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | 石炭ガス化複合発電プラントおよび石炭ガス化ガス精製設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35722398A JP2000178567A (ja) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | 石炭ガス化複合発電プラントおよび石炭ガス化ガス精製設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000178567A true JP2000178567A (ja) | 2000-06-27 |
Family
ID=18453019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35722398A Pending JP2000178567A (ja) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | 石炭ガス化複合発電プラントおよび石炭ガス化ガス精製設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000178567A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005179611A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Toho Gas Co Ltd | 燃料ガスの製造方法 |
| JP2011504978A (ja) * | 2007-11-27 | 2011-02-17 | アルストム テクノロジー リミテッド | 水素を多く含む第二の燃料を用いてガスタービン設備を動作させる装置及び方法 |
| CN102071071A (zh) * | 2010-11-25 | 2011-05-25 | 山西天和煤气化科技有限公司 | 一种流化床煤气化粗煤气冷却除尘的方法 |
| WO2012046542A1 (ja) * | 2010-10-05 | 2012-04-12 | 株式会社日立製作所 | Ｃｏ２分離回収装置並びにｃｏ２分離回収装置を備えた石炭ガス化複合発電プラント |
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| CN104403702A (zh) * | 2014-11-24 | 2015-03-11 | 水煤浆气化及煤化工国家工程研究中心 | 一种用于合成气除灰的装置 |
| CN108441266A (zh) * | 2018-05-08 | 2018-08-24 | 科林未来能源技术(北京)有限公司 | 一种合成气的洗涤除尘装置及其洗涤除尘工艺 |
-
1998
- 1998-12-16 JP JP35722398A patent/JP2000178567A/ja active Pending
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