JP2000178355A - ポリカーボネートの製造方法 - Google Patents

ポリカーボネートの製造方法

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JP2000178355A
JP2000178355A JP10361357A JP36135798A JP2000178355A JP 2000178355 A JP2000178355 A JP 2000178355A JP 10361357 A JP10361357 A JP 10361357A JP 36135798 A JP36135798 A JP 36135798A JP 2000178355 A JP2000178355 A JP 2000178355A
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Takahito Kimura
村 隆 人 木
Takayoshi Anamizu
水 孝 佳 穴
Akira Minami
暁 南
Tomoaki Shimoda
田 智 明 下
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GE Plastics Japan Ltd
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/20General preparatory processes
    • C08G64/30General preparatory processes using carbonates
    • C08G64/307General preparatory processes using carbonates and phenols

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  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】溶融成形時の熱安定性、色相安定性などの滞留
安定性に優れ、かつ異物含有量の少ないポリカーボネー
トを製造しうる方法を提供する。 【解決手段】ポリカーボネートが溶融状態にある間に、
不動態化処理された金属フィルターでポリカーボネート
を濾過するポリカーボネートの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、溶融時の熱安定性、色相
安定性などの滞留安定性に優れ、かつ異物含有量の少な
いポリカーボネートの製造方法に関する。
【0002】
【発明の技術的背景】ポリカーボネートは、耐衝撃性な
どの機械的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性などに優
れており、各種機械部品、光学用ディスク、自動車部品
などの用途に広く用いられている。特にメモリー用光デ
ィスク、光ファイバー、レンズなどの光学用途への期待
が大きく、種々の研究が盛んになされている。
【0003】このようなポリカーボネートの製造方法と
しては、ビスフェノールAなどのビスフェノール類とホ
スゲンとを直接反応させる方法(界面法)、あるいはビ
スフェノールAなどのビスフェノール類とジフェニルカ
ーボネートなどの炭酸ジエステルとを溶融重縮合反応
(エステル交換反応)させる方法などが知られている。
【0004】このうち、現在、ホスゲンを用いる界面法
が一般に実施されている。一方、溶融重縮合反応法は、
界面法と比較して安価にポリカーボネートを製造するこ
とができるという利点を有し、さらにまたホスゲンのよ
うな毒性物質を使用しないため、ポリカーボネートの製
造方法として大きく期待されている。
【0005】ところで、メモリー光ディスク用途などに
使用されるポリカーボネートには、不純物量や異物含量
が少なく、かつ優れた色相、透明性を有するポリカーボ
ネートが望まれている。このため、ポリカーボネートを
製造する際には、生成したポリカーボネートが溶融状態
にある間に、金属製フィルターで濾過することによっ
て、異物を取り除くことが行われている。しかしなが
ら、溶融状態のポリカーボネートを、従来の金属製フィ
ルターで濾過する場合、特に絶対濾過精度の小さいフィ
ルターで濾過する場合、濾過滞留時間が長くなると、ポ
リカーボネートの劣化や着色などが起こりやすくなった
り、また、金属製フィルターからFeイオンなどの金属
性不純物の混入したりして、ポリカーボネート溶融成形
時の熱安定性、色相安定性が悪化するなどの問題点があ
った。特に、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとの溶
融重縮合によって得られる芳香族ポリカーボネートは、
反応性の高い末端水酸基が多く存在しているため、従来
の金属製フィルターで濾過すると、金属フィルターから
わずかに溶出する金属イオンと末端水酸基との反応によ
って、ポリカーボネートの劣化や着色が起こりやすくな
る傾向があった。
【0006】本発明者らは、このような諸問題を鑑み、
鋭意研究を重ねた結果、生成したポリカーボネートが溶
融状態にある間に、不動態化処理がなされた金属製フィ
ルターを使用して濾過を行うことにより、異物を効率よ
く除去でき、成形時の熱安定性、色相安定性に優れたポ
リカーボネートが得られることを見出し、本発明を完成
するに至った。
【0007】
【発明の目的】本発明は、上記のような課題に基づいて
なされたものであり、溶融成形時の熱安定性、色相安定
性などの滞留安定性に優れ、かつ異物含有量の少ないポ
リカーボネートを製造しうる方法を提供することを目的
としている。
【0008】
【発明の概要】本発明に係るポリカーボネートの製造方
法は、ポリカーボネートが溶融状態にある間に、不動態
化処理された金属フィルターで、ポリカーボネートを濾
過することを特徴としている。
【0009】不動態化処理された金属フィルターを用い
てポリカーボネートを濾過する直前に、弱酸性有機化合
物で金属フィルターを洗浄することが好ましい。このよ
うな弱酸性有機化合物としては、芳香族ヒドロキシ化合
物が好ましく、特にフェノールが好ましい。
【0010】ポリカーボネートを濾過する際に、金属フ
ィルターを、窒素雰囲気下で使用温度まで予め昇温する
ことが好ましい。不動態処理された金属フィルターで濾
過されたポリカーボネート中の金属不純物が50ppb
以下であるが好ましい。
【0011】また、金属フィルターの絶対濾過精度は、
50μm以下であるが好ましい。
【0012】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係るポリカーボネ
ートの製造方法について、具体的に説明する。
【0013】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
は、ポリカーボネートが、溶融状態にある間に、不動態
化処理された金属製フィルターで、ポリカーボネートを
濾過することを特徴としている。
【0014】このような本発明に係るポリカーボネート
の製造方法では、ビスフェノール類からポリカーボネー
トを製造する際に採用されている界面法、エステル交換
法などの公知の方法に、制限なく適用することが可能で
ある。特に、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとの溶
融重縮合させて得られるポリカーボネート(エステル交
換法)は、反応性の高い末端水酸基が多く存在している
ため、本発明の製造方法は、極めて有効的である。
【0015】以下、エステル交換法によって得られるポ
リカーボネートについて、詳細に説明する。ポリカーボネートの溶融重縮合 本発明に係るポリカーボネートの製造方法が好適に適用
されるポリカーボネートは、ビスフェノール類と炭酸ジ
エステルとをアルカリ性化合物触媒の存在下に溶融重縮
合させて得られたものである。
【0016】
【化1】
【0017】上記のような式[I]で示されるビスフェ
ノール類としては、具体的には、1,1-ビス(4-ヒドロキ
シフェニル)メタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)エタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパ
ン(以下ビスフェノールA)、2,2-ビス(4-ヒドロキシ
フェニル)ブタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)
オクタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)n-ブタン、ビス
(4-ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2-ビス
(4-ヒドロキシ-1-メチルフェニル)プロパン、1,1-ビ
ス(4-ヒドロキシ-t-ブチルフェニル)プロパン、2,2-
ビス(4-ヒドロキシ-3-ブロモフェニル)プロパンなど
のビス(ヒドロキシアリール)アルカン類、1,1-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどのビス
(ヒドロキシアリール)シクロアルカン類などが挙げら
れる。
【0018】また本発明では、上記式中、Xが−O−、
−S−、−SO−または−SO2−であるようなビスフ
ェノール類も挙げられ、たとえば4,4'-ジヒドロキシジ
フェニルエーテル、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチル
フェニルエーテルなどのビス(ヒドロキシアリール)エ
ーテル類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスルフィ
ドなどのビス(ヒドロキシジアリール)スルフィド類、
4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4'-ジヒ
ドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスルホキシドなどの
ビス(ヒドロキシジアリール)スルホキシド類、4,4'-
ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシ-
3,3'-ジメチルジフェニルスルホンなどのビス(ヒドロ
キシジアリール)スルホン類などを挙げることもでき
る。
【0019】またビスフェノール類として下記式[II]
で示される化合物も挙げられる。
【0020】
【化2】
【0021】(式中、Rfはハロゲン原子または炭素数
1〜10の炭化水素基またはハロゲン置換炭化水素基で
あり、nは0〜4の整数である。nが2以上のとき、R
fは同一であっても異なっていてもよい。) この式[II]で示されるビスフェノール類としては、具
体的に、レゾルシンおよび3-メチルレゾルシン、3-エチ
ルレゾルシン、3-プロピルレゾルシン、3-ブチルレゾル
シン、3-t-ブチルレゾルシン、3-フェニルレゾルシン、
3-クミルレゾルシン、2,3,4,6-テトラフルオロレゾルシ
ン、2,3,4,6-テトラブロムレゾルシンなどの置換レゾル
シン、カテコール、ハイドロキノンおよび3-メチルハイ
ドロキノン、3-エチルハイドロキノン、3-プロピルハイ
ドロキノン、3-ブチルハイドロキノン、3-t-ブチルハイ
ドロキノン、3-フェニルハイドロキノン、3-クミルハイ
ドロキノン、2,3,5,6-テトラメチルハイドロキノン、2,
3,5,6-テトラ-t-ブチルハイドロキノン、2,3,5,6-テト
ラフルオロハイドロキノン、2,3,5,6-テトラブロムハイ
ドロキノンなどの置換ハイドロキノンを挙げることがで
きる。
【0022】ビスフェノール類としては、さらに下記式
で示される2,2,2',2'-テトラヒドロ-3,3,3',3'-テトラ
メチル-1,1'-スピロビ-[IH-インデン]-6,6'-ジオールを
用いることもできる。
【0023】
【化3】
【0024】これらのうちでも、上記式[I]で示され
るビスフェノール類が好ましく、特にビスフェノールA
が好ましい。また、炭酸ジエステルとして、具体的に
は、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネー
ト、ビス(クロロフェニル)カーボネート、m-クレジル
カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス(ジフェ
ニル)カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチル
カーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシ
ルカーボネートなどを用いることができ、これらを2種
以上併用することもできる。これらのうちでも特にジフ
ェニルカーボネートが好ましく用いられる。
【0025】このような炭酸ジエステル中には、ジカル
ボン酸あるいはジカルボン酸エステルが含有されていて
もよい。具体的に、炭酸ジエステルは、ジカルボン酸あ
るいはジカルボン酸エステルを好ましくは50モル%以
下、さらに好ましくは30モル%以下の量で含有してい
てもよい。
【0026】このようなジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニルなど
の芳香族ジカルボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、デカン二酸、ドデカン二酸、セバシン酸ジフェ
ニル、デカン二酸ジフェニル、ドデカン二酸ジフェニル
などの脂肪族ジカルボン酸類、シクロプロパンジカルボ
ン酸、1,2-シクロブタンジカルボン酸、1,3-シクロブタ
ンジカルボン酸、1,2-シクロペンタンジカルボン酸、1,
3-シクロペンタンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シ
クロヘキサンジカルボン酸、シクロプロパンジカルボン
酸ジフェニル、1,2-シクロブタンジカルボン酸ジフェニ
ル、1,3-シクロブタンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シ
クロペンタンジカルボン酸ジフェニル、1,3-シクロペン
タンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シクロヘキサンジカ
ルボン酸ジフェニル、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸
ジフェニル、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニ
ルなどの脂環族ジカルボン酸類を挙げることができる。
炭酸ジエステルは、これらのジカルボン酸あるいはジカ
ルボン酸エステルを2種以上含有していてもよい。
【0027】上記炭酸ジエステルとビスフェノール類と
は、炭酸ジエステルがビスフェノール類1モルに対し
て、通常1.00〜1.30モル、好ましくは1.01〜
1.20モルとなるように混合される。
【0028】このとき、炭酸ジエステルとビスフェノー
ル類との混合液中に、溶融重縮合触媒が含まれていても
よい。溶融重縮合触媒としては、通常、(a)アルカリ金
属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物(以下
(a) アルカリ(土類)金属化合物ともいう)が使用され
る。
【0029】(a) アルカリ(土類)金属化合物として
は、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の有機酸塩、
無機酸塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコ
ラートなどが好ましく用いられる。
【0030】具体的には、アルカリ金属化合物として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水
素二リチウム、ビスフェノールAの二ナトリウム塩、二
カリウム塩、二リチウム塩、フェノール類のナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙げられ、アルカリ
土類金属化合物としては、水酸化カルシウム、水酸化バ
リウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、
炭酸水素カルシウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグ
ネシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、
炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウ
ム、酢酸カルシウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウ
ム、酢酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ス
テアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステ
アリン酸ストロンチウムなどが挙げられる。これら化合
物を2種以上併用することもできる。
【0031】このようなアルカリ(土類)金属化合物
は、ビスフェノール類1モルに対して、1×10-8〜1
×10-3モル、好ましくは1×10-7〜2×10-6
ル、さらに好ましくは1×10-7〜8×10-7モルの量
で、溶融重縮合反応中に含まれていることが望ましい。
また、溶融重縮合反応の原料であるビスフェノール類中
に予めアルカリ(土類)金属化合物が含まれている場
合、溶融重縮合反応時に存在するアルカリ(土類)金属
化合物の量が、ビスフェノール類1モルに対して、前記
範囲となるように添加量を制御することが望ましい。
【0032】また、溶融重縮合触媒として、上記のよう
な(a)アルカリ(土類)金属化合物に加えて(b)塩基性化
合物を併用されていてもよい。このような(b)塩基性化
合物としては、たとえば高温で易分解性あるいは揮発性
の含窒素塩基性化合物が挙げられ、具体的には、以下の
ような化合物を挙げることができる。
【0033】テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
(Me4NOH)、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
(Et4NOH)、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
(Bu4NOH)、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド(φ−CH2(Me)3NOH)などのアルキル、アリール、
アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオキシ
ド類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル
ベンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三級アミン
類、R2NH(式中Rはメチル、エチルなどのアルキ
ル、フェニル、トルイルなどのアリール基などである)
で示される二級アミン類、RNH2(式中Rは上記と同
じである)で示される一級アミン類、4-ジメチルアミノ
ピリジン、4-ジエチルアミノピリジン、4-ピロリジノピ
リジンなどのピリジン類、2-メチルイミダゾール、2-フ
ェニルイミダゾールなどのイミダゾール類、あるいはア
ンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド
(Me4NBH4)、テトラブチルアンモニウムボロハイドラ
イド(Bu4NBH4)、テトラブチルアンモニウムテトラフ
ェニルボレート(Bu4NBPh4)、テトラメチルアンモニウ
ムテトラフェニルボレート(Me4NBPh4)などの塩基性
塩。
【0034】これらのうち、テトラアルキルアンモニウ
ムヒドロキシド類が好ましく用いられる。上記のような
(b) 含窒素塩基性化合物は、ビスフェノール類1モルに
対して、1×10-6〜1×10-1モル好ましくは1×1
-5〜1×10-2モルの量で用いることができる。
【0035】またさらに触媒として、(c)ホウ酸化合物
を用いることもできる。このような(c) ホウ酸化合物と
しては、ホウ酸およびホウ酸エステルなどを挙げること
ができる。
【0036】ホウ酸エステルとしては、下記一般式で示
されるホウ酸エステルを挙げることができる。 B(OR)n(OH)3-n 式中、Rはメチル、エチルなどのアルキル、フェニルな
どのアリールなどであり、nは1,2または3である。
【0037】このようなホウ酸エステルとしては、具体
的には、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸
トリブチル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリヘプチ
ル、ホウ酸トリフェニル、ホウ酸トリトリル、ホウ酸ト
リナフチルなどが挙げられる。
【0038】このような(c) ホウ酸またはホウ酸エステ
ルは、ビスフェノール類1モルに対して、1×10-8
1×10-1モル、好ましくは1×10-7〜1×10-2
ル、さらに好ましくは1×10-6〜1×10-4モルの量
で用いることができる。
【0039】溶融重縮合触媒としては、たとえば(a)ア
ルカリ(土類)金属化合物と(b)含窒素塩基性化合物と
を組合せて、さらには(a)アルカリ(土類)金属化合物
と(b)含窒素塩基性化合物と(c)ホウ酸またはホウ酸エス
テルとの三者を組合せて用いることが好ましい。
【0040】触媒として、上記のような量の(a)アルカ
リ(土類)金属化合物と(b)含窒素塩基性化合物とを組
合せて用いると、重縮合反応を十分な速度で進行させる
ことができるとともに、高分子量のポリカーボネートを
高い重合活性で生成させることができて好ましい。
【0041】なお、(a)アルカリ(土類)金属化合物と
(b)含窒素塩基性化合物とを併用する場合、あるいは(a)
アルカリ(土類)金属化合物と(b)含窒素塩基性化合物
と(c)ホウ酸またはホウ酸エステルとを併用する場合、
各触媒成分を混合したものを、ビスフェノール類と炭酸
ジエステルとの溶融混合物に添加してもよく、また、個
別にビスフェノール類と炭酸ジエステルとの溶融混合物
に添加してもよい。
【0042】以上のようなビスフェノール類と炭酸ジエ
ステル類とを上記溶融重縮合触媒の存在下に溶融重縮合
を行う。なお、ビスフェノール類と炭酸ジエステル類は
予め、混合液中の微粒子などの不純物をフッ素系樹脂メ
ンブレンフィルターを用いて除去してもよい。
【0043】ビスフェノール類と炭酸ジエステルとの重
縮合反応は、従来知られている重縮合反応条件と同様な
条件下で行なうことが可能であり、たとえば2段以上の
反応段で行うことができる。
【0044】具体的には、第一段目の反応を80〜25
0℃、好ましくは100〜230℃、さらに好ましくは
120〜190℃の温度で、0.01〜5時間、好まし
くは0.01〜4時間、さらに好ましくは0.01〜3
時間、常圧下、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとを
反応させる。次いで反応系を減圧にしながら反応温度を
高めて、ビスフェノール類と炭酸ジエステルとの反応を
行ない、最終的には5mmHg以下、好ましくは1mmHg
以下の減圧下で、240〜320℃でビスフェノール類
と炭酸ジエステルとの重縮合反応を行なう。
【0045】上記のような重縮合反応は、連続式で行な
ってもよく、バッチ式で行なってもよい。また上記の反
応を行なうに際して用いられる反応装置は、槽型であっ
ても管型であっても塔型であってもよい。
【0046】また、ポリカーボネートを製造するに際し
て、上記のようなビスフェノール類と炭酸ジエステルと
ともに、1分子中に3個以上の官能基を有する多官能化
合物を用いることもできる。多官能化合物としては、フ
ェノール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物
が好ましく、特にフェノール性水酸基を3個含有する化
合物が好ましい。このような多官能化合物としては、た
とえば1,1,1-トリス(4-ヒドロキシフェニル) エタン、
2,2',2"-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ジイソプロピ
ルベンゼン、α-メチル-α,α',α'-トリス(4-ヒドロキ
シフェニル)-1,4-ジエチルベンゼン、α, α',α"-トリ
ス(4-ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピル
ベンゼン、フロログリシン、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ
(4-ヒドロキシフェニル)-ヘプタン-2、1,3,5-トリ(4
-ヒドロキシフェニル) ベンゼン、2,2-ビス-[4,4-(4,
4'-ジヒドロキシフェニル)-シクロヘキシル]-プロパ
ン、トリメリット酸、1,3,5-ベンゼントリカルボン酸、
ピロメリット酸などが挙げられる。
【0047】これらのうちでは、1,1,1-トリス(4-ヒド
ロキシフェニル) エタン、α,α',α"-トリス(4-ヒドロ
キシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなどが
好ましく用いられる。
【0048】このような多官能化合物は、ビスフェノー
ル類1モルに対して、通常0.03モル以下、好ましく
は0.001〜0.02モル、さらに好ましくは0.00
1〜0.01モルの量で用いることができる。
【0049】ポリカーボネートを製造する際には、上記
のような芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルと
ともに、末端封止剤を使用してもよい。このような末端
封止剤として、得られるポリカーボネートの分子末端に
下記一般式[I]で表わされる末端基を導入しうるアリ
ロキシ化合物が用いられる。
【0050】ArO− …[I] 式中、Arは炭素原子数6〜50の芳香族炭化水素基を
表す。芳香族炭化水素基は特に限定されず、フェニル基
およびナフチル基、アンスラニル基などの縮合環であっ
てもよく、さらにこれら芳香環と飽和炭化水素および/
または複素原子とで環を形成していてもよい。また、こ
れらの芳香族環は、ハロゲン、炭素原子数1〜9のアル
キル基で置換されていてもよい。
【0051】このようなアリロキシ化合物として、具体
的には、フェノール、ジフェニルカーボネート、p-tert
-ブチルフェノール、p-tert-ブチルフェニルフェニルカ
ーボネート、p-tert-ブチルフェニルカーボネート、p-
クミルフェノール、p-クミルフェニルフェニルカーボネ
ート、p-クミルフェニルカーボネート、2,2,4-トリメチ
ル-4-(4-ヒドロキシフェニル)クロマン、2,2,4,6-テト
ラメチル-4-(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)クロ
マン、2,2,3-トリメチル-3-(4-ヒドロキシフェニル)ク
ロマン、2,2,3,6-テトラメチル-3-(3,5-ジメチル-4-ヒ
ドロキシフェニル)クロマン、2,4,4-トリメチル-2-(2
-ヒドロキシフェニル)クロマン、2,4,4,6-テトラメチ
ル-2-(3,5-ジメチル-2-ヒドロキシフェニル)クロマン
などのクロマン化合物を挙げることができる。
【0052】上記のようなアリロキシ化合物は、単独で
使用することもできるし、組み合わせて使用することも
できる。このようなアリロキシ化合物は、通常、芳香族
ジヒドロキシ化合物1モルに対して、0.01〜0.2モ
ル、好ましくは0.02〜0.15モル、さらに好ましく
は0.02〜0.1モルの量で用いられることが望まし
い。
【0053】末端封止剤としてアリロキシ化合物をこの
ような量で用いることにより、得られるポリカーボネー
トの分子末端は、1〜95%、好ましくは10〜95
%、さらに好ましくは20〜90%の割合で、上記一般
式[I]で表される末端基で封止される。
【0054】上記のように、一般式[I]で表される末
端基が、上記割合で導入されたポリカーボネートは、耐
熱性に優れるとともに、低分子量でも耐衝撃性などの機
械的特性に優れる。
【0055】末端封止剤として、上記のようなアリロキ
シ化合物とともに、必要に応じて下記一般式[III]で
表される脂肪族炭化水素ユニットを導入可能な脂肪族モ
ノカルボキシ化合物を用いてもよい。
【0056】
【化4】
【0057】式中、Rは炭素原子数10〜30のアルキ
ルであり、直鎖状であっても、分岐状であってもよく、
またハロゲンで置換されてもよい。このような脂肪族モ
ノカルボキシ化合物として、具体的には、ウンデカン
酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ペンタデカン酸、パル
ミチン酸、ヘプタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン
酸、ヘネイコサノイック酸、トリコサノイック酸、メリ
シック酸などのアルキルモノカルボン酸、ステアリン酸
メチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸フェニルな
どの上記アルキルモノカルボン酸のメチルエステル、エ
チルエステル、フェニルエステルなどのアルキルモノカ
ルボン酸エステルを挙げることができる。
【0058】これらは、単独で用いてもよく、これらを
組み合わせて用いてもよい。上記のような脂肪族モノカ
ルボキシ化合物は、通常、芳香族ジヒドロキシ化合物1
モルに対して、0.01〜0.20モルの量で、好ましく
は0.02〜0.15モルの量で、さらに好ましくは0.
02〜0.10モルの量で用いることが望ましい。
【0059】なお、以上のような末端封止剤は、合計で
芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、0.2モル
以上の量で用いると、重合速度が低下することがある。
以上のようにして得られる反応生成物(ポリカーボネー
ト)の20℃塩化メチレン中で測定した極限粘度は、通
常0.10〜1.0dl/g好ましくは0.30〜0.65dl
/gである。
【0060】このような反応生成物(ポリカーボネー
ト)のメルトフローレートは、高粘度品では、温度30
0℃、荷重1.2kgで測定して1〜70g/10分、好ま
しくは2〜50g/10分であり、低粘度品では、温度2
50℃、荷重1.2kgで測定して同様に測定して5〜2
0g/10分、好ましくは8〜16g/10分であることが
望ましい。
【0061】本発明で使用されるポリカーボネートは、
上記のようにして得られる反応生成物を冷却することな
く重縮合反応後ただちに、下記のようなpKa値が3以
下であるイオウ含有酸性化合物および/または該酸性化
合物から形成される誘導体(以下酸性化合物ということ
もある)が添加されていてもよい。
【0062】イオウ含有酸性化合物および該酸性化合物
から形成される誘導体としては、亜硫酸、硫酸、スルフ
ィン酸系化合物、スルホン酸系化合物およびこれらの誘
導体を挙げることができる。具体的に、亜硫酸誘導体と
しては、ジメチル亜硫酸、ジエチル亜硫酸、ジプロピル
亜硫酸、ジブチル亜硫酸、ジフェニル亜硫酸などを挙げ
ることができる。
【0063】硫酸誘導体としては、ジメチル硫酸、ジエ
チル硫酸、ジプロピル硫酸、ジブチル硫酸、ジフェニル
硫酸などを挙げることができる。スルフィン酸系化合物
としては、ベンゼンスルフィン酸、トルエンスルフィン
酸、ナフテレンスルフィン酸などを挙げることができ
る。
【0064】またスルホン酸系化合物およびこの誘導体
としては、下記一般式[IV]で表わされる化合物または
そのアンモニウム塩を挙げることができる。
【0065】
【化5】
【0066】式中、Rgは炭素数1〜50の炭化水素基
またはハロゲン置換炭化水素基であり、Rhは水素原子
または炭素数1〜50の炭化水素基またはハロゲン置換
炭化水素基であり、nは0〜3の整数である。
【0067】これらを2種以上併用することもできる。
このうち酸性化合物として、上記一般式[IV]で表され
るスルホン酸系化合物およびこの誘導体が好ましく用い
られる。
【0068】本発明で使用される(A)ポリカーボネー
トには、以上のような酸性化合物を、反応生成物に対
し、0.1〜4.5ppm、好ましくは0.2〜3ppmの量
で含んでいる。
【0069】このような量で酸性合物が反応生成物(ポ
リカーボネート)に配合されていると、ポリカーボネー
ト中に残存する触媒のアルカリ性金属化合物が中和、あ
るいは弱められて、最終的に滞留安定性および耐水性が
さらに向上されたポリカーボネートを得ることができ
る。
【0070】上記の酸性化合物とともに水が添加されて
いてもよい。水の量は、反応生成物(ポリカーボネー
ト)に対して5〜1000ppm 好ましくは10〜500
ppm さらに好ましくは20〜300ppm の量で添加する
ことが望ましい。
【0071】反応生成物と酸性化合物との混練は、一軸
押出機、二軸押出機、スタティックミキサーなどの通常
の混練機により行われ、これらの混練機はベント付きで
もベントなしでも有効に使用される。具体的には、重縮
合反応により得られた反応生成物が反応器内または押出
機内で溶融状態にある間に、酸性化合物と水とを添加す
ることが好ましい。
【0072】濾過処理 本発明では、このように生成したポリカーボネートが溶
融状態にある間に、ポリカーボネートを、不動態化処理
された金属製フィルターで濾過する。
【0073】本発明において濾過処理に使用される金属
フィルターは、通常使用されているものを特に制限なく
使用することが可能であり、具体的にはキャンドルタイ
プ、プリーツタイプ、リーフディスクタイプ等が挙げら
れる。このうち、溶融ポリマーの滞留や偏流の少ないリ
ーフディスクタイプの金属フィルターが好ましい。
【0074】このような金属フィルターの材質は、腐食
あるいは剥離を生じないような金属であればよく、例え
ば工業的に入手容易なステンレススチール、ハステロイ
(商品名)、ニッケル等のステンレス鋼、ニッケル合金
などが挙げられる。
【0075】本発明で用いられる金属フィルターの濾過
精度は、生成したポリカーボネートに含まれる異物の大
きさ、含有数、フィルターの圧損によっても異なるが、
通常は50μm以下、さらに好ましくは10μm以下が
好ましい。
【0076】本発明では、予め使用されるビスフェノー
ル類や炭酸ジエステルなどの重縮合原料や溶融粘度が低
いオリゴマーの段階で濾過処理を行うことも効果的であ
り、溶融ポリマーを濾過するフィルターの交換回数を低
減することができる。これらの濾過処理に使われるフィ
ルターは、汎用されているものでよく、フラットタイ
プ、シリンダータイプ、キャンドルタイプ等が挙げら
れ、絶対濾過精度は20μm以下、さらに好ましくは5
μm以下が好ましい。絶対濾過精度は20μmを越える
ものを使用すると、反応生成物であるポリカーボネート
の詰まりがすぐに起こることがある。
【0077】本発明で使用される金属フィルターには、
使用時に腐食や劣化によって金属イオンがポリカーボネ
ート中に溶け出すことを防ぐため、不動態化処理が行わ
れている。不動態とは金属表面が酸化皮膜で覆われた状
態をいい、緻密で安定な保護性を有し、金属を環境から
保護する。ステンレス鋼の不導態化処理の方法として
は、(1)硝酸その他強力な酸化剤を含む不動態化剤溶
液に浸漬または溶液を吹き付ける方法、(2)酸素また
は清浄な空気中における低温加熱による方法、(3)酸
化剤を含む溶液中における陽極分極による方法が挙げら
れるが、一般的には(1)の方法がもっとも多く用いら
れている。
【0078】以上のような不動態化処理が行われている
と、金属フィルターからの金属イオンによる着色がな
く、色相安定性、耐熱性に優れたポリカーボネートを製
造することができる。
【0079】このような不動態化処理は、塩水噴霧法、
孔食電位法等で確認できるが、より簡便な検査法として
西山ステンレスケミカル(株)製のフェロチェック試薬
により確認することができる。
【0080】本発明では、ポリカーボネートを不導態化
処理された金属フィルターで濾過する前に、予め、金属
フィルターを弱酸性有機化合物で洗浄することが好まし
い。このような弱酸性有機化合物としては、芳香族ヒド
ロキシ化合物が好ましく、特にフェノールが好ましい。
なお、フェノールによる洗浄は、通常、フェノールが溶
融状態で80〜100℃で加熱して行われる。この処理
を行うことにより、フィルター使用直後に起こる樹脂の
色付きを最小限に抑えることができる。
【0081】本発明では、さらに金属フィルターを使用
する前に、窒素雰囲気下で濾過温度まで昇温しておくこ
とが望ましい。濾過温度は、製造するポリカーボネート
の溶融温度によって異なるが、具体的には、290〜3
50℃の範囲であることが望ましい。このように金属フ
ィルターを濾過温度まで昇温しておくことにより、急激
な圧損を生じてフィルターを変形させることなく、効率
よく生成物の濾過処理を行うことができる。
【0082】使用後、目詰まりを生じて異物の捕集効率
が低下した金属フィルターは、再生処理によって機能を
回復させ、再使用することができる。このような再生処
理として具体的には、400〜500℃で加熱処理、酸
性剤による酸洗浄、および超音波洗浄などが挙げられ
る。金属フィルターの再生は、通常、フィルターの差圧
の上昇を目安として実施される。
【0083】このように、不導態化処理された金属フィ
ルターで濾過されたフィルター中の金属不純物量は、5
0ppb以下、好ましくは10ppb以下であることが
好ましい。
【0084】なお、ポリカーボネートは、不動態化処理
がされた金属製フィルターで濾過する前あるいは濾過し
た後に必要に応じて[E]添加剤とが配合されていても
よい。
【0085】添加される[E]添加剤としては、具体的
に、耐熱安定剤、エポキシ化合物、紫外線吸収剤、離型
剤、着色剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキ
ング剤、滑剤、防曇剤、天然油、合成油、ワックス、有
機系充填剤、無機系充填剤などを挙げられる。
【0086】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
では、反応生成物であるポリカーボネートを、不動態化
処理がなされた金属製フィルターを用いて濾過している
ので、金属製フィルターからFeイオンなどの金属性不
純物の混入したりすることがなく、溶融重合法によって
製造されたポリカーボネートであっても、濾過滞留時間
が短くて済み、ポリカーボネートの劣化・着色などが抑
制される。
【0087】
【発明の効果】本発明によれば、溶融時の熱安定性、色
相安定性などの滞留安定性に優れ、かつ異物含有量の少
ないポリカーボネートを効率よく製造することができ
る。こうして得られたポリカーボネートは、シートなど
の建築材料、自動車用ヘッドランプレンズ、眼鏡などの
光学用レンズ類、光ディスクなどの光学用記録材料に好
適に使用することができる。
【0088】
【実施例】次に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0089】本発明において、実施例で製造されたポリ
カーボネート中のMFR、初期色相(初期YI値)およ
び滞留色相(滞留YI値)は、以下のようにして測定さ
れる。MFR JIS K-7210の方法に準拠して、温度250℃、荷重1.
2kgで測定した。初期色相 得られたポリカーボネートを用いて、3mm厚の射出成
形板をシリンダー温度290℃、射出圧力1000kg/
cm、1サイクル45秒、金型温度100℃で成形し、
X、Y、Z値を日本電色工業(株)製のColorand Color
Difference Meter ND-1001 DPを用いて透過法で測定
し、下式により黄色度(YI)を測定した。
【0090】YI=100(1.277X−1.060Z)/Y滞留色相 得られたポリカーボネートをシリンダー温度290℃で
15分滞留させた後、3mm厚の射出成形板をシリンダ
ー温度290℃、射出圧力1000kg/cm、1サイクル
45秒、金型温度100℃で成形し、X、Y、Z値を日
本電色工業(株)製のColorand Color Difference Mete
r ND-1001 DPを用いて透過法で測定し、下式により黄色
度(YI)を測定した。
【0091】YI=100(1.277X−1.060Z)/Y
【0092】
【実施例1】[ポリカーボネートの重合]ポリカーボネ
ートの重合は、原料のミキシング用の撹拌槽を一基、前
重合槽を二基、横型重合槽を二基、二軸押出機を1基備
え付けられたものを使用した。二軸押出機にはリーフデ
ィスクフィルター(ステンレススチール製、絶対濾過精
度10μm、日本ポール社製)を設置した。この金属製
フィルターは、設置前に不動態処理剤、ADパッシブ#
300S(西山ステンレスケミカル(株)製)によって
不動態化処理を行い、設置後、窒素気流下で使用温度ま
で予め昇温した。
【0093】なお、各々の反応条件は、下記の通りであ
る。
【0094】
【表1】
【0095】溶融状態のビスフェノールA(供給速度3
6.0kg/hr)、蒸留後に直接配管にて送液されて
きた溶融状態のジフェニルカーボネート(供給速度3
4.7kg/hr)とを、上記温度に保った原料ミキシ
ング用の攪拌槽に連続的に供給し、触媒としてテトラメ
チルアンモニウムヒドロキシドを0.11モル(2.5
×10-4モル/モル-ビスフェノールA)と水酸化ナト
リウムを0.00044モル(1.0×10-6モル/モ
ル-ビスフェノールA)の量で添加して、均一溶液を作
製した。
【0096】次いで、作製した均一溶液を、前重合槽、
横型攪拌重合槽に連続して供給して、上記反応条件下に
ポリカーボネートの重縮合を行った。2時間毎に測定さ
れるMFRを監視しながら、横型攪拌重合槽Aと横型攪
拌重合槽Bの圧力を調整し、できるだけ目標のMFR
(11.0g/10分)を外れないように運転し、二軸押出
機で安定剤として、亜リン酸エステル、離型剤としてグ
リシジルモノステアレートを添加し混練したのち、上記
不動態化処理された金属製フィルターで濾過し、ペレタ
イズした。
【0097】得られたポリカーボネートの初期YI値お
よび滞留YI値を表2に示す。
【0098】
【実施例2】実施例1において、金属製フィルターとし
て、不動態化処理したのち、溶融フェノールによる洗浄
を行ったものを使用した以外は実施例1と同様にしてポ
リカーボネートを製造した。
【0099】結果を表2に示す。
【0100】
【比較例1】実施例1において、金属製フィルターとし
て、不動態化処理していないものを使用した以外は実施
例1と同様にしてポリカーボネートを製造した。
【0101】結果を表2に示す。
【0102】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 南 暁 千葉県市原市千種海岸3番地 日本ジーイ ープラスチックス株式会社千葉事業所内 (72)発明者 下 田 智 明 千葉県市原市千種海岸3番地 日本ジーイ ープラスチックス株式会社千葉事業所内 Fターム(参考) 4J029 AA09 AB04 AD10 AE01 BB04A BB04B BB05A BB05B BB12A BB13A BB13B BC09 BD09A BF14A BG08X BH02 DB11 DB13 HC04A HC05A KE05 KH03 LB05

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ポリカーボネートが溶融状態にある間に、
    不動態化処理された金属フィルターで、ポリカーボネー
    トを濾過することを特徴とするポリカーボネートの製造
    方法。
  2. 【請求項2】不動態化処理された金属フィルターを用い
    てポリカーボネートを濾過する直前に、弱酸性有機化合
    物で金属フィルターを洗浄することを特徴とする請求項
    1に記載のポリカーボネートの製造方法。
  3. 【請求項3】前記弱酸性有機化合物が芳香族ヒドロキシ
    化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載
    のポリカーボネートの製造方法。
  4. 【請求項4】前記芳香族ヒドロキシ化合物ヒドロキシ化
    合物がフェノールであることを特徴とする請求項1〜3
    のいずれかに記載のポリカーボネートの製造方法。
  5. 【請求項5】ポリカーボネートを濾過する際に、金属フ
    ィルターを、窒素雰囲気下で使用温度まで予め昇温する
    ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポリ
    カーボネートの製造方法。
  6. 【請求項6】不動態処理された金属フィルターで濾過さ
    れたポリカーボネート中の金属不純物が50ppb以下
    であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載
    のポリカーボネートの製造方法。
  7. 【請求項7】金属フィルターの絶対濾過精度が50μm
    以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに
    記載のポリカーボネートの製造方法。
  8. 【請求項8】ポリカーボネートが、ビスフェノール類と
    炭酸ジエステルの溶融重縮合して得られたものであるこ
    とを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のポリカ
    ーボネートの製造方法。
  9. 【請求項9】ビスフェノール類がビスフェノールAであ
    ることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のポ
    リカーボネートの製造方法。
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