JP2000173456A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】無機粉末および有機成分とからなる隔壁用ペーストを凹部を有する成形型中に充填して成形体を形成した後、該成形体を粘着層が形成されたガラス基板上に転写して、隔壁パターンを形成するディスプレイ用基板の製造方法であって、前記隔壁用ペーストを構成する無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を５０〜９０重量％およびフィラーを１０〜５０重量％含有することを特徴とするディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項２】前記粘着層が室温以下のガラス転移点を有するアクリル系重合体を含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項３】 前記隔壁用ペーストを構成する無機粉末中に含まれるフィラーが、酸化チタン、アルミナ、チタン酸バリウム、ジルコニア、コーディエライト、ムライトおよび高融点ガラス粉末からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項４】 前記粘着層が無機粉末を含み、粘着層中の無機粉末が実質的にアルカリ金属を含まない無機粉末からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項５】 前記粘着層が無機粉末を含み、粘着層中の無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を主成分とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項６】前記粘着層中のガラス粉末が、下記の組成を含むことを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
酸化ビスマス ２０〜７０重量％
酸化珪素 ３〜３０重量％
酸化ホウ素 １０〜３０重量％
酸化亜鉛 ２〜４０重量％
酸化バリウム ８〜２０重量％
【請求項７】 前記粘着層が無機粉末を含み、前記粘着層中の無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を５０〜９０重量％、フィラーを１０〜５０重量％含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項８】前記粘着層中の無機粉末に含まれるフィラーがシリカ、チタニア、アルミナ、チタン酸バリウム、コーディエライト、ムライトおよびジルコニアからなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項７に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項９】前記隔壁用ペーストを構成する有機成分が感光性有機成分であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項１０】前記成形型が、金属製の基板とプラスチック材料の表層を有する複合シートであり、該プラスチック材料の表層に隔壁用ペーストを充填する凹部が形成されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項１１】前記プラスチック材料が、シリコーンゴムまたはフッ素系樹脂であることを特徴とする請求項１０に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項１２】プラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶ディスプレイおよび電子放出素子のいずれかを用いた画像表示装置に用いることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項１】無機粉末および有機成分とからなる隔壁用ペーストを凹部を有する成形型中に充填して成形体を形成した後、該成形体を粘着層が形成されたガラス基板上に転写して、隔壁パターンを形成するディスプレイ用基板の製造方法であって、前記隔壁用ペーストを構成する無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を５０〜９０重量％およびフィラーを１０〜５０重量％含有することを特徴とするディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項２】前記粘着層が室温以下のガラス転移点を有するアクリル系重合体を含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項３】 前記隔壁用ペーストを構成する無機粉末中に含まれるフィラーが、酸化チタン、アルミナ、チタン酸バリウム、ジルコニア、コーディエライト、ムライトおよび高融点ガラス粉末からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項４】 前記粘着層が無機粉末を含み、粘着層中の無機粉末が実質的にアルカリ金属を含まない無機粉末からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項５】 前記粘着層が無機粉末を含み、粘着層中の無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を主成分とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項６】前記粘着層中のガラス粉末が、下記の組成を含むことを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
酸化ビスマス ２０〜７０重量％
酸化珪素 ３〜３０重量％
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【請求項７】 前記粘着層が無機粉末を含み、前記粘着層中の無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を５０〜９０重量％、フィラーを１０〜５０重量％含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項８】前記粘着層中の無機粉末に含まれるフィラーがシリカ、チタニア、アルミナ、チタン酸バリウム、コーディエライト、ムライトおよびジルコニアからなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項７に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項９】前記隔壁用ペーストを構成する有機成分が感光性有機成分であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項１０】前記成形型が、金属製の基板とプラスチック材料の表層を有する複合シートであり、該プラスチック材料の表層に隔壁用ペーストを充填する凹部が形成されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項１１】前記プラスチック材料が、シリコーンゴムまたはフッ素系樹脂であることを特徴とする請求項１０に記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項１２】プラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶ディスプレイおよび電子放出素子のいずれかを用いた画像表示装置に用いることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のディスプレイ用基板の製造方法。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、無機粉末および有機成分とからなる隔壁用ペーストを凹部を有する成形型中に充填して成形体を形成した後、該成形体を粘着層が形成されたガラス基板上に転写して、隔壁パターンを形成するディスプレイ用基板の製造方法であって、前記隔壁用ペーストを構成する無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を５０〜９０重量％およびフィラーを１０〜５０重量％含有することを特徴とするディスプレイ用基板の製造方法によって達成される。
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、無機粉末および有機成分とからなる隔壁用ペーストを凹部を有する成形型中に充填して成形体を形成した後、該成形体を粘着層が形成されたガラス基板上に転写して、隔壁パターンを形成するディスプレイ用基板の製造方法であって、前記隔壁用ペーストを構成する無機粉末が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であるガラス粉末を５０〜９０重量％およびフィラーを１０〜５０重量％含有することを特徴とするディスプレイ用基板の製造方法によって達成される。
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| JP34718198A JP2000173456A (ja) | 1998-12-07 | 1998-12-07 | ディスプレイ用基板の製造方法 |
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|---|---|---|---|
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