JP2000169296A - Device for peeling ingot - Google Patents

Device for peeling ingot

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JP2000169296A
JP2000169296A JP10350389A JP35038998A JP2000169296A JP 2000169296 A JP2000169296 A JP 2000169296A JP 10350389 A JP10350389 A JP 10350389A JP 35038998 A JP35038998 A JP 35038998A JP 2000169296 A JP2000169296 A JP 2000169296A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ingot
work plate
peeling
unit
slice base
Prior art date
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Application number
JP10350389A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Takatani
淳 高谷
Susumu Sawafuji
進 沢藤
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ingot-peeling device capable of automatically peeling an ingot from a work plate. SOLUTION: An ingot-adhered work plate IW carried in a delivery selection 12 is carried to a peeling section 14 by the use of the first carrying device 70 and then immersed in hot water to naturally peel the ingot, etc. The peeled ingot I and a slice space S are carried to a washing section 16 by the use of the second carrying device 100, washed, dried, and then recovered into an ingot- recovering section 20 and a slice space-recovering section 22, respectively. The separated work plate W is carried to the washing section, washed, dried, and then recovered into the ingot-recovering section 20.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はインゴット剥離装置
に係り、特にインゴット接着済みワークプレートからイ
ンゴット及びスライスベースを剥離するインゴット剥離
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ingot peeling apparatus, and more particularly to an ingot peeling apparatus for peeling an ingot and a slice base from a work plate having an ingot bonded thereto.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコン等の単結晶のインゴットをワイ
ヤソーで切断する場合、ウェーハが所望の結晶方位で切
断されるように結晶方位合わせが行われる。この結晶方
位合わせは、ワイヤソーに備えられたチルチング機構に
よって行う場合もあるが、近年では、特開平9−199
20号公報に開示されているように、インゴットをワー
クプレートに取り付ける際に結晶方位合わせを行うとい
う方法が採られている。しかしながら、この方法でイン
ゴットをワークプレートに取り付けると、取り付け後に
結晶方位が間違っていたことが判明した場合や取り付け
に失敗した場合、インゴットをワークプレートから剥離
し、初めから取付け作業をやり直さなければならなかっ
た。そして、従来はこのインゴットの剥離作業をオペレ
ータが手作業で行っていた。
2. Description of the Related Art When a single crystal ingot of silicon or the like is cut with a wire saw, the crystal orientation is adjusted so that the wafer is cut in a desired crystal orientation. In some cases, the crystal orientation is adjusted by a tilting mechanism provided in a wire saw.
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 20, a method is adopted in which a crystal orientation is adjusted when an ingot is mounted on a work plate. However, when the ingot is attached to the work plate in this way, if it is found that the crystal orientation was wrong after installation or if the attachment failed, the ingot must be peeled off the work plate and the installation work must be restarted from the beginning. Did not. Conventionally, an operator manually performs this ingot peeling operation.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インゴ
ットは年々大口径化しているので、オペレータが手作業
でインゴットを剥離する従来の剥離方法は極めて困難で
あり、また、大変危険を伴うという問題があった。本発
明は、このような事情を鑑みてなされたもので、インゴ
ットを自動で剥離することができるインゴット剥離装置
を提供することを目的とする。
However, since the diameter of the ingot is increasing year by year, the conventional peeling method in which the operator peels off the ingot by hand is extremely difficult and involves a great risk. Was. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an ingot peeling device capable of automatically peeling an ingot.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、インゴット接着済みワークプレートからイ
ンゴット及びスライスベースを剥離するインゴット剥離
装置において、インゴット接着済みワークプレートが搬
入される搬入部と、インゴット接着済みワークプレート
の接着剤を熱軟化させてスライスベース及びインゴット
を剥離する剥離部と、前記剥離部で剥離されたインゴッ
ト、スライスベース及びワークプレートが回収される回
収部と、前記搬入部に搬入されたインゴット接着済みワ
ークプレートを前記剥離部に搬送するとともに、該剥離
部で剥離されたワークプレートを前記回収部に搬送する
第1搬送部と、前記剥離部で剥離されたインゴットを前
記回収部に搬送するとともに、前記剥離部で剥離された
スライスベースを前記回収部に搬送する第2搬送部と、
からなることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided an ingot separating apparatus for separating an ingot and a slice base from a work plate to which an ingot has been bonded. A peeling unit that thermally softens the adhesive of the work plate to which the ingot has been bonded to peel the slice base and the ingot, a collecting unit that collects the ingot, the slice base, and the work plate peeled by the peeling unit; and the loading unit. A first transport unit that transports the ingot-bonded work plate carried into the peeling unit to the peeling unit, and transports the work plate peeled at the peeling unit to the collection unit, and transports the ingot peeled at the peeling unit to the While transporting to the collection unit, the slice base peeled at the peeling unit A second conveying unit for conveying the serial recovery unit,
It is characterized by consisting of.

【0005】本発明によれば、搬入部に搬入されたイン
ゴット接着済みワークプレートは、第1搬送部によって
剥離部に搬送される。そして、剥離部で接着剤が熱軟化
され、スライスベース及びインゴットが剥離される。剥
離されたインゴットとスライスベースは、それぞれ第2
搬送部によって回収部に回収され、また、ワークプレー
トは第1搬送部によって回収部に回収される。これによ
り、人手を介さず安全にインゴットの剥離作業を行うこ
とができる。
According to the present invention, the ingot-bonded work plate carried into the carry-in section is carried by the first carrying section to the peeling section. Then, the adhesive is thermally softened at the peeling portion, and the slice base and the ingot are peeled. The peeled ingot and slice base are each
The work part is collected by the collection part by the conveyance part, and the work plate is collected by the collection part by the first conveyance part. This allows the ingot to be peeled off safely without manual intervention.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って本発明に
係るインゴット剥離装置の実施の形態について詳説す
る。図1は、本発明に係るインゴット剥離装置の実施の
形態の構成を示す正面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an ingot peeling device according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a front view showing a configuration of an embodiment of an ingot peeling device according to the present invention.

【0007】同図に示すように、本実施の形態のインゴ
ット剥離装置10は、搬入部12、剥離部14、洗浄部
16、ワークプレート回収部18、インゴット回収部2
0、スライスベース回収部22、第1搬送部24及び第
2搬送部26から構成されている。搬入部12は、イン
ゴット接着済みワークプレートIWの受け入れを行う。
この搬入部12は搬入ステージ32を有している。後述
する第1搬送装置70のワークプレートホルダ90は、
この搬入ステージ32上に位置してインゴット接着済み
ワークプレートIWを受け取る。
As shown in FIG. 1, an ingot separating apparatus 10 according to the present embodiment includes a carry-in section 12, a peeling section 14, a cleaning section 16, a work plate collecting section 18, and an ingot collecting section 2.
0, a slice base recovery unit 22, a first transport unit 24, and a second transport unit 26. The loading unit 12 receives the work plate IW having the ingots bonded thereto.
The loading section 12 has a loading stage 32. The work plate holder 90 of the first transfer device 70, which will be described later,
The work plate IW on which the ingot is bonded is received on the carry-in stage 32.

【0008】剥離部14は、インゴット接着済みワーク
プレートIWからスライスベースS及びインゴットIを
剥離する。この剥離部14は熱水が貯留される熱水槽3
4を有している。インゴット接着済みワークプレートI
Wは、後述する第1搬送装置70のワークプレートホル
ダ90に保持された状態で、この熱水槽34の熱水中に
浸漬される。熱水中にインゴット接着済みワークプレー
トIWを浸漬させると、そのスライスベースS及びイン
ゴットIを接着している接着剤が熱軟化してスライスベ
ースS及びインゴットIを剥離させる。
[0008] The peeling section 14 peels the slice base S and the ingot I from the work plate IW to which the ingot has been bonded. The peeling part 14 is a hot water tank 3 in which hot water is stored.
Four. Ingot bonded work plate I
W is immersed in the hot water of the hot water tank 34 while being held by the work plate holder 90 of the first transfer device 70 described later. When the ingot-bonded work plate IW is immersed in hot water, the adhesive bonding the slice base S and the ingot I is thermally softened, and the slice base S and the ingot I are peeled off.

【0009】洗浄部16は、剥離部14で剥離されたイ
ンゴットI、スライスベースS及びワークプレートWを
洗浄する。この洗浄部16は一対のノズル36、36を
有している。ノズル36、36は図1及び図2に示すよ
うに、前記第2搬送部26の搬送路を挟んで左右対称位
置に配置されており、両端部を支持ブラケット38、3
8によって回動自在に支持されている。支持ブラケット
38、38の基端部にはノズル揺動用モータ40、40
が設置されており、その出力軸には駆動プーリ44、4
4が固着されている。一方、前記ノズル36、36の一
方端には従動プーリ46、46が固着されており、この
従動プーリ46、46と駆動プーリ44、44にベルト
48、48が巻き付けられている。したがって、前記ノ
ズル揺動用モータ42、42を駆動すると、その回転が
ベルト48、48を介して従動プーリ46、46に伝達
され、この結果ノズル36、36が回動する。洗浄時
は、前記ノズル36、36を一定の揺動角度で揺動させ
ながら前記第2搬送装置100によって搬送されてきた
インゴットI等に向けて洗浄液を噴射して該インゴット
I等を洗浄する。また、洗浄後は、同じくノズル36、
36を一定の揺動角度で揺動させながら圧縮エアを噴射
して乾燥させる。なお、ノズル36、36は圧縮エアと
洗浄液とを選択的に噴射できるように構成されている。
The cleaning unit 16 cleans the ingot I, the slice base S, and the work plate W peeled by the peeling unit 14. The cleaning unit 16 has a pair of nozzles 36,36. As shown in FIGS. 1 and 2, the nozzles 36, 36 are disposed at symmetrical positions with respect to the transport path of the second transport section 26, and the support brackets 38, 3 at both ends.
8 rotatably supported. Nozzle swing motors 40, 40 are provided at the base ends of the support brackets 38, 38.
Are installed on the output shaft, and drive pulleys 44, 4
4 is fixed. On the other hand, driven pulleys 46, 46 are fixed to one end of the nozzles 36, 36, and belts 48, 48 are wound around the driven pulleys 46, 46 and the driving pulleys 44, 44. Therefore, when the nozzle swing motors 42, 42 are driven, the rotation thereof is transmitted to the driven pulleys 46, 46 via the belts 48, 48, and as a result, the nozzles 36, 36 rotate. At the time of cleaning, the cleaning liquid is sprayed toward the ingot I and the like conveyed by the second conveyance device 100 while the nozzles 36 and 36 are being swung at a predetermined swing angle to clean the ingot I and the like. After cleaning, the nozzle 36
The compressed air is sprayed and dried while swinging 36 at a fixed swing angle. In addition, the nozzles 36, 36 are configured to be able to selectively jet the compressed air and the cleaning liquid.

【0010】ワークプレート回収部18は、ワークプレ
ート受台50を有しており、このワークプレート受台5
0上に洗浄乾燥されたワークプレートWが載置される。
インゴット回収部20は、インゴット受台52を有して
おり、このインゴット受台52上に洗浄乾燥されたイン
ゴットIが載置される。このインゴット受台52の下部
には一対のガイドロッド54、54が固着されており、
該ガイドロッド54、54は架台28に固定されたブッ
シュ56、56によって上下方向に摺動自在に支持され
ている。また、架台28には受台昇降用シリンダ58が
設置されており、該受台昇降用シリンダ58のロッド先
端部は前記インゴット受台52の下面中央部に連結され
ている。したがって、この受台昇降用シリンダ58を駆
動すると、前記インゴット受台52はガイドロッド54
に沿って上下動する。
The work plate collecting section 18 has a work plate receiving table 50.
The work plate W that has been washed and dried is placed on the work plate W.
The ingot collecting section 20 has an ingot receiving stand 52, and the ingot I that has been washed and dried is placed on the ingot receiving stand 52. A pair of guide rods 54, 54 are fixed to a lower portion of the ingot receiving table 52,
The guide rods 54 are supported by bushes 56 fixed to the gantry 28 so as to be slidable in the vertical direction. A pedestal elevating cylinder 58 is provided on the gantry 28, and the rod tip of the pedestal elevating cylinder 58 is connected to the center of the lower surface of the ingot pedestal 52. Therefore, when the pedestal elevating cylinder 58 is driven, the ingot pedestal 52 is
Move up and down along.

【0011】スライスベース回収部22は、スライスベ
ース受台60を有しており、このスライスベース受台6
0上に洗浄乾燥されたスライスベースSが載置される。
このスライスベース受台60の下部には受台昇降用シリ
ンダ64のロッドが固定されており、該受台昇降用シリ
ンダ64は架台28上に立設された支柱66の頂部に設
けられている。スライスベース受台60は、この受台昇
降用シリンダ64を駆動することにより上下動する。
The slice base collecting section 22 has a slice base receiving table 60, and this slice base receiving table 6
A slice base S that has been washed and dried is placed on the slice base S.
A rod of a cradle elevating cylinder 64 is fixed to a lower portion of the slice base pedestal 60, and the pedestal elevating cylinder 64 is provided on the top of a column 66 erected on the gantry 28. The slice base receiving table 60 moves up and down by driving the receiving table lifting / lowering cylinder 64.

【0012】第1搬送部24は、搬入部12に搬入され
たインゴット接着済みワークプレートIWを受け取り剥
離部14に搬送する。そして、その剥離部14でインゴ
ットIが剥離されたワークプレートWを洗浄部16に搬
送するとともに、該洗浄で洗浄乾燥されたワークプレー
トWをワークプレート回収部18に搬送する。この第1
搬送部24は一対の第1ガイドレール68、68上を走
行する第1搬送装置70を有している。
The first transport section 24 receives the ingot-attached work plate IW carried into the carry-in section 12 and transports it to the peeling section 14. Then, the work plate W from which the ingot I has been peeled by the peeling unit 14 is transported to the cleaning unit 16, and the work plate W washed and dried by the cleaning is transported to the work plate collecting unit 18. This first
The transport section 24 has a first transport device 70 that travels on a pair of first guide rails 68.

【0013】前記一対の第1ガイドレール68、68
は、図1に示すように架台28上に立設された支持プレ
ート72に沿って敷設されている。この一対の第1ガイ
ドレール68、68の間にはネジ棒74が配設されてお
り、該ネジ棒74の両端部は軸受部材75、75によっ
て回動自在に支持されている。そして、このネジ棒74
の一方端には第1サーボモータ76の出力軸が連結され
ており、該第1サーボモータ76を駆動することにより
ネジ棒74が回転する。
The pair of first guide rails 68, 68
Are laid along a support plate 72 erected on the gantry 28 as shown in FIG. A screw rod 74 is provided between the pair of first guide rails 68, 68, and both ends of the screw rod 74 are rotatably supported by bearing members 75, 75. And this screw rod 74
The output shaft of the first servomotor 76 is connected to one end of the first servomotor 76. The screw rod 74 rotates by driving the first servomotor 76.

【0014】一方、前記第1搬送装置70は走行フレー
ム80を有しており、該走行フレーム80は、図3に示
すように、リニアガイド82、82、…を介して前記第
1ガイドレール68、68上をスライド自在に支持され
ている。この走行フレーム80の背面部にはナット部材
80Aが固着されており、該ナット部材80Aは前記ネ
ジ棒74に螺合されている。したがって、前記第1サー
ボモータ76を駆動してネジ棒74を回転させれば、走
行フレーム80は第1ガイドレール68、68に沿って
横方向に走行する。
On the other hand, the first transfer device 70 has a traveling frame 80, and the traveling frame 80 is connected to the first guide rail 68 via linear guides 82, 82,... As shown in FIG. , 68 are slidably supported. A nut member 80A is fixed to the rear surface of the traveling frame 80, and the nut member 80A is screwed to the screw rod 74. Accordingly, when the first servomotor 76 is driven to rotate the screw rod 74, the traveling frame 80 travels along the first guide rails 68, 68 in the lateral direction.

【0015】走行フレーム80の正面部には、図3及び
図4に示すように、一対の支持アーム82、82が固着
されている。支持アーム82、82の先端部には、それ
ぞれ一対のブッシュ84、84が設けられており、該ブ
ッシュ84、84には、それぞれガイドロッド86、8
6が摺動自在に支持されている。この一対のガイドロッ
ド86、86は、その上端部がそれぞれ連結プレート8
8の下面部に連結されており、また、その下端部がそれ
ぞれワークプレートホルダ90の上面部に連結されてい
る。ワークプレートWは、このワークプレートホルダ9
0上に載置されることにより、ワークプレートホルダ9
0に保持される。
As shown in FIGS. 3 and 4, a pair of support arms 82 are fixed to the front portion of the traveling frame 80. A pair of bushes 84, 84 are provided at the distal ends of the support arms 82, 82, respectively. The bushes 84, 84 have guide rods 86, 8, respectively.
6 are slidably supported. The upper ends of the pair of guide rods 86 are connected to the connecting plate 8 respectively.
8 and a lower end thereof is connected to an upper surface of the work plate holder 90, respectively. The work plate W is mounted on the work plate holder 9.
0, the work plate holder 9
It is kept at 0.

【0016】また、前記走行フレーム80の正面部には
第1シリンダ92が配設されている。一方、前記連結プ
レート88の上部には第2シリンダ94が配設されてい
る。この第1シリンダ92と第2シリンダ94のロッド
は、ジョイント96を介して互いに連結されており、該
第1シリンダ92又は第2シリンダ94を駆動すること
によりワークプレートホルダ90が上下方向に移動す
る。なお、第2シリンダ94のストロークは第1シリン
ダ92のストロークに比べて短く設定されている。この
第2シリンダ94は、剥離を終えたインゴットIを第2
搬送装置100に受け渡すときなどに使用する。
A first cylinder 92 is disposed on the front of the traveling frame 80. On the other hand, a second cylinder 94 is disposed above the connection plate 88. The rods of the first cylinder 92 and the second cylinder 94 are connected to each other via a joint 96. When the first cylinder 92 or the second cylinder 94 is driven, the work plate holder 90 moves up and down. . The stroke of the second cylinder 94 is set shorter than the stroke of the first cylinder 92. The second cylinder 94 transfers the ingot I after peeling to the second cylinder 94.
It is used when transferring to the transport device 100.

【0017】前記のごとく構成された第1搬送部24に
おいて、ワークプレートホルダ90は第1シリンダ92
又は第2シリンダ94を駆動することにより上下方向に
移動し、第1サーボモータ76を駆動することにより横
方向に移動する。第2搬送部26は、剥離部14で剥離
されたインゴットI又はスライスベースSを洗浄部16
に搬送するとともに、該洗浄で洗浄乾燥されたインゴッ
トI又はスライスベースSをそれぞれインゴット回収部
20又はスライスベース回収部22に搬送する。この第
2搬送部26は一対の第2ガイドレール98、98上を
走行する第2搬送装置100を有している。
In the first transport unit 24 configured as described above, the work plate holder 90 is
Alternatively, it moves in the vertical direction by driving the second cylinder 94, and moves in the horizontal direction by driving the first servomotor 76. The second transport unit 26 cleans the ingot I or the slice base S peeled by the peeling unit 14 from the cleaning unit 16.
And the ingot I or the slice base S washed and dried by the washing is transferred to the ingot collecting section 20 or the slice base collecting section 22, respectively. The second transport section 26 has a second transport device 100 that travels on a pair of second guide rails 98, 98.

【0018】前記一対の第2ガイドレール98、98
は、図1に示すように天井フレーム102に沿って配設
されており、該天井フレーム102は前記架台28上に
立設された支柱104、104に両端部が支持されてい
る。この一対の第2ガイドレール98、98の間にはネ
ジ棒106が配設されており、該ネジ棒106の両端部
は軸受部材108、108によって回動自在に支持され
ている。そして、このネジ棒106の一方端には第2サ
ーボモータ110の出力軸が連結されており、該第2サ
ーボモータ110を駆動することによりネジ棒106が
回転する。
The pair of second guide rails 98, 98
1 is arranged along a ceiling frame 102 as shown in FIG. 1, and both ends of the ceiling frame 102 are supported by columns 104, 104 erected on the gantry 28. A screw rod 106 is provided between the pair of second guide rails 98, 98, and both ends of the screw rod 106 are rotatably supported by bearing members 108, 108. An output shaft of a second servomotor 110 is connected to one end of the screw rod 106, and the screw rod 106 is rotated by driving the second servomotor 110.

【0019】一方、前記第2搬送装置100は一対のス
ライドフレーム112、112を有しており、該スライ
ドフレーム112、112は、図3及び図5に示すよう
に、それぞれリニアガイド114、114、…を介して
第2ガイドレール98、98上をスライド自在に支持さ
れている。前記スライドフレーム112、112の上面
部には、それぞれ連結部材116、116が固着されて
おり、該連結部材116、116には、それぞれアーム
開閉用シリンダ118、118のロッド先端部が連結さ
れている。このアーム開閉用シリンダ118、118
は、それぞれ走行フレーム120に固定されており、該
アーム開閉用シリンダ118、118を駆動することに
より、そのロッドの伸縮量に応じてスライドフレーム1
12、112が第2ガイドレール98、98上をスライ
ドする。
On the other hand, the second transporting device 100 has a pair of slide frames 112, 112. As shown in FIGS. 3 and 5, the slide frames 112, 112 have linear guides 114, 114, respectively. Are slidably supported on the second guide rails 98, 98 via. Connecting members 116, 116 are fixed to the upper surfaces of the slide frames 112, 112, respectively, and rod end portions of arm opening / closing cylinders 118, 118 are connected to the connecting members 116, 116, respectively. . This arm opening / closing cylinder 118, 118
Are fixed to the traveling frame 120, respectively, and by driving the arm opening / closing cylinders 118, 118, the slide frame 1
12 and 112 slide on the second guide rails 98 and 98.

【0020】前記走行フレーム120の上面部にはナッ
ト部材120Aが固着されており、該ナット部材120
Aは前記ネジ棒106に螺合されている。したがって、
前記第2サーボモータ110を駆動してネジ棒106を
回転させれば、走行フレーム120はスライドフレーム
112、112と共に第2ガイドレール98、98に沿
って横方向に走行する。
A nut member 120A is fixed to the upper surface of the running frame 120.
A is screwed to the screw rod 106. Therefore,
When the screw rod 106 is rotated by driving the second servo motor 110, the traveling frame 120 travels along the second guide rails 98, 98 along with the slide frames 112, 112 in the lateral direction.

【0021】前記スライドフレーム112、112の下
面部には、それぞれ搬送アーム122、122が設けら
れており、該搬送アーム122、122の先端部には、
それぞれ一対の爪124、124が固着されている。イ
ンゴットIは、この一対の搬送アーム122、122の
爪124、124の上に載置された状態で搬送され、ま
た、スライスベースSは、この一対の搬送アーム12
2、122に挟持された状態で搬送される。
Transfer arms 122, 122 are provided on the lower surfaces of the slide frames 112, 112, respectively.
Each of the pair of claws 124 is fixed. The ingot I is transported while being placed on the claws 124, 124 of the pair of transport arms 122, 122, and the slice base S is transported by the pair of transport arms 12
The sheet is conveyed while being sandwiched between 2, 122.

【0022】前記のごとく構成された第2搬送部26に
おいて、搬送アーム122、122は、アーム開閉用シ
リンダ118、118を駆動することにより開閉し、第
2サーボモータ110を駆動することにより横方向に移
動する。前記のごとく構成された本実施の形態のインゴ
ット剥離装置10の作用は次の通りである。
In the second transfer section 26 configured as described above, the transfer arms 122, 122 are opened and closed by driving the arm opening / closing cylinders 118, 118, and are driven in the horizontal direction by driving the second servomotor 110. Go to The operation of the ingot peeling device 10 according to the present embodiment configured as described above is as follows.

【0023】初期状態において、第1搬送装置70は搬
入部12に位置するとともに、そのワークプレートホル
ダ90が搬入部12の搬入ステージ32上に位置してい
る。また、第2搬送装置100は洗浄部16に位置して
おり、インゴット受台52とスライスベース受台60
は、それぞれ最下部の位置(図1において実線で示す位
置)に位置している。
In the initial state, the first transfer device 70 is located at the loading section 12, and its work plate holder 90 is located on the loading stage 32 of the loading section 12. Further, the second transfer device 100 is located in the washing unit 16, and the ingot receiving table 52 and the slice base receiving table 60 are disposed.
Are located at the lowest positions (the positions indicated by solid lines in FIG. 1).

【0024】まず、インゴット接着済みワークプレート
IWを搬入部12に搬入し、その搬入ステージ32上に
位置したワークプレートホルダ90にセットする。これ
により、インゴット接着済みワークプレートIWがイン
ゴット剥離装置10にセットされる。以下、装置を稼働
すると自動的に剥離作業が実施される。まず、第1搬送
装置70の第1シリンダ92が駆動され、ワークプレー
トホルダ90が所定量上昇する。この結果、インゴット
接着済みワークプレートIWが所定高さの位置まで持ち
上げられる。次に、第1サーボモータ76が駆動され、
第1搬送装置70が図1中左方向に移動する。そして、
熱水槽34の上方位置で停止する。
First, the work plate IW to which the ingot has been adhered is carried into the carry-in section 12, and is set on the work plate holder 90 located on the carry-in stage 32. Thus, the ingot-bonded work plate IW is set in the ingot peeling device 10. Hereinafter, the peeling operation is automatically performed when the apparatus is operated. First, the first cylinder 92 of the first transfer device 70 is driven, and the work plate holder 90 is raised by a predetermined amount. As a result, the work plate IW to which the ingot is bonded is lifted to a position at a predetermined height. Next, the first servomotor 76 is driven,
The first transfer device 70 moves to the left in FIG. And
It stops at a position above the hot water tank 34.

【0025】次に、第1シリンダ92が駆動されてワー
クプレートホルダ90が所定量下降する。この結果、ワ
ークプレートホルダ90に保持されたインゴット接着済
みワークプレートIWが熱水槽34に貯留された熱水中
に浸漬される。浸漬は所定時間継続して行われ、この結
果、インゴットIとスライスベースS及びスライスベー
スSとワークプレートWを接着している接着剤が熱軟化
して、インゴットIとスライスベースSが剥離される。
Next, the first cylinder 92 is driven to lower the work plate holder 90 by a predetermined amount. As a result, the ingot-bonded work plate IW held by the work plate holder 90 is immersed in the hot water stored in the hot water tank. The immersion is continuously performed for a predetermined time, and as a result, the adhesive bonding the ingot I and the slice base S and the adhesive bonding the slice base S and the work plate W are thermally softened, and the ingot I and the slice base S are separated. .

【0026】インゴット接着済みワークプレートIWが
熱水槽34内に浸漬されてから所定時間が経過すると、
第2サーボモータ110が駆動され、第2搬送装置10
0が熱水槽34の上方位置に移動する。このとき、第2
搬送装置100の搬送アーム122、122は拡径状態
(間隔が最も開いた状態)にある。次に、第1シリンダ
92が駆動され、ワークプレートホルダ90が所定量上
昇する。この結果、熱水中からインゴット接着済みワー
クプレートIWが所定高さの位置まで引き上げられる。
次に、アーム開閉用シリンダ118、118が駆動さ
れ、第2搬送装置100の搬送アーム122、122が
互いに近づく方向に移動する。この結果、ワークプレー
トホルダ90によって持ち上げられたインゴットIの下
側位置に搬送アーム122、122の爪124、124
が位置する。次に、第2シリンダ94が駆動され、ワー
クプレートホルダ90が所定量下降する。この結果、ス
ライスベースSから剥離されたインゴットIが搬送アー
ム122、122の爪124、124に受け渡される。
When a predetermined time has passed since the ingot-bonded work plate IW was immersed in the hot water tank 34,
When the second servomotor 110 is driven, the second transfer device 10
0 moves to a position above the hot water tank 34. At this time, the second
The transfer arms 122 and 122 of the transfer device 100 are in a diameter-expanded state (a state where the interval is the longest). Next, the first cylinder 92 is driven, and the work plate holder 90 is raised by a predetermined amount. As a result, the ingot-bonded work plate IW is pulled up from the hot water to a position at a predetermined height.
Next, the arm opening / closing cylinders 118 are driven, and the transfer arms 122, 122 of the second transfer device 100 move in directions approaching each other. As a result, the claws 124, 124 of the transfer arms 122, 122 are located below the ingot I lifted by the work plate holder 90.
Is located. Next, the second cylinder 94 is driven, and the work plate holder 90 is lowered by a predetermined amount. As a result, the ingot I peeled from the slice base S is transferred to the claws 124 of the transfer arms 122.

【0027】インゴットIが搬送アーム122、122
の爪124、124に受け渡されると、第1シリンダ9
2が駆動されてワークプレートホルダ90が所定量下降
する。この結果、ワークプレートホルダ90に保持され
たワークプレートWとスライスベースSが再び熱水中に
浸漬される。また、これと同時に第2シリンダ94が駆
動され、ワークプレートホルダ90が元の高さの位置に
復帰する。
The ingots I are transport arms 122, 122
Of the first cylinder 9
2 is driven to lower the work plate holder 90 by a predetermined amount. As a result, the work plate W and the slice base S held by the work plate holder 90 are immersed again in hot water. At the same time, the second cylinder 94 is driven, and the work plate holder 90 returns to the original height position.

【0028】一方、インゴットIを受け取った第2搬送
装置100は、図1中左方向に移動して、洗浄部16の
上方位置で停止する。そして、この第2搬送装置100
が洗浄部16の上方位置で停止すると洗浄が開始され
る。すなわち、搬送アーム122、122に保持された
インゴットに向けてノズル36、36から洗浄液が噴射
され、これによりインゴットIが洗浄される。なお、こ
の際ノズル36、36は一定角度で揺動しながらインゴ
ットIに向けて洗浄液を噴射する。
On the other hand, the second transporting device 100 that has received the ingot I moves leftward in FIG. 1 and stops at a position above the cleaning unit 16. Then, the second transfer device 100
Is stopped at a position above the washing section 16, washing is started. That is, the cleaning liquid is sprayed from the nozzles 36 toward the ingot held by the transfer arms 122, 122, whereby the ingot I is cleaned. At this time, the nozzles 36 and 36 spray the cleaning liquid toward the ingot I while swinging at a fixed angle.

【0029】洗浄液の噴射は所定時間継続して行われ
る。そして所定時間経過後、洗浄液の噴射が停止され、
続いてインゴットIに向けて圧縮エアが噴射される。イ
ンゴットIは、この噴射された圧縮エアによって乾燥さ
れる。なお、この圧縮エアを噴射する場合も、ノズル3
6、36は一定角度で揺動しながらインゴットIに向け
て圧縮エアを噴射する。洗浄液の噴射と同様に圧縮エア
の噴射も所定時間継続して行われ、所定時間経過後、噴
射が停止される。
The injection of the cleaning liquid is performed continuously for a predetermined time. After a lapse of a predetermined time, the injection of the cleaning liquid is stopped,
Subsequently, compressed air is injected toward ingot I. The ingot I is dried by the injected compressed air. In addition, when this compressed air is injected, the nozzle 3
6, 36 inject compressed air toward the ingot I while swinging at a fixed angle. As with the cleaning liquid injection, the compressed air injection is also continued for a predetermined time, and after the predetermined time has elapsed, the injection is stopped.

【0030】インゴットIの洗浄、乾燥が終了すると、
第2搬送装置100は、図1中左方向に移動して、イン
ゴット回収部20の上方で停止する。そして、この第2
搬送装置100がインゴット回収部20の上方に停止す
ると、受台昇降用シリンダ58が駆動され、インゴット
受台52が所定量上昇する。この結果、搬送アーム12
2、122の爪124、124に保持されていたインゴ
ットIがインゴット受台52上に載置される。次に、ア
ーム開閉用シリンダ118、118が駆動され、搬送ア
ーム122、122が互いに離れる方向に移動する。こ
の結果、搬送アーム122、122の爪124、124
からインゴット受台52上にインゴットIが受け渡され
る。次に、受台昇降用シリンダ58が駆動され、インゴ
ット受台52が所定量下降する。これにより、インゴッ
トIがインゴット回収部20に回収される。
When washing and drying of the ingot I are completed,
The second transporting device 100 moves leftward in FIG. 1 and stops above the ingot collecting unit 20. And this second
When the transport device 100 stops above the ingot collecting section 20, the cylinder 58 for raising and lowering the cradle is driven, and the cradle 52 is raised by a predetermined amount. As a result, the transfer arm 12
The ingot I held by the claws 124, 124 is placed on the ingot receiving table 52. Next, the arm opening / closing cylinders 118, 118 are driven, and the transfer arms 122, 122 move in directions away from each other. As a result, the claws 124, 124 of the transfer arms 122, 122
The ingot I is delivered to the ingot receiving table 52 from the. Next, the cradle elevating cylinder 58 is driven, and the ingot cradle 52 is lowered by a predetermined amount. As a result, the ingot I is collected by the ingot collecting unit 20.

【0031】一方、前記インゴット受台52が下降する
と、第2搬送装置100は図1中右方向に移動して、熱
水槽34の上方で停止する。この際、搬送アーム12
2、122は開いたまま移動する。次に、第1シリンダ
92が駆動され、ワークプレートホルダ90が所定量上
昇する。この結果、熱水中からスライスベースSとワー
クプレートWが所定高さの位置まで引き上げられる。次
に、アーム開閉用シリンダ118、118が駆動され、
第2搬送装置100の搬送アーム122、122が互い
に近づく方向に移動する。この結果、ワークプレートホ
ルダ90によって持ち上げられたスライスベースSが搬
送アーム122、122によって挟持される。次に、第
2シリンダ94が駆動され、ワークプレートホルダ90
が所定量下降する。この結果、ワークプレートWから剥
離されたスライスベースSが搬送アーム122、122
に受け渡される。
On the other hand, when the ingot receiving table 52 is lowered, the second transfer device 100 moves rightward in FIG. 1 and stops above the hot water tank 34. At this time, the transfer arm 12
2, 122 move open. Next, the first cylinder 92 is driven, and the work plate holder 90 is raised by a predetermined amount. As a result, the slice base S and the work plate W are raised from the hot water to a position at a predetermined height. Next, the arm opening / closing cylinders 118 are driven,
The transfer arms 122 of the second transfer device 100 move in directions approaching each other. As a result, the slice base S lifted by the work plate holder 90 is held by the transfer arms 122. Next, the second cylinder 94 is driven, and the work plate holder 90 is moved.
Decreases by a predetermined amount. As a result, the slice bases S separated from the work plate W are transported by the transfer arms 122, 122.
Passed to.

【0032】スライスベースSが搬送アーム122、1
22に受け渡されると、第1シリンダ92が駆動されて
ワークプレートホルダ90が所定量下降する。この結
果、ワークプレートホルダ90に保持されたワークプレ
ートWが再び熱水中に浸漬される。また、これと同時に
第2シリンダ94が駆動され、ワークプレートホルダ9
0が元の高さの位置に復帰する。
The slice base S is composed of the transfer arms 122, 1
When the work plate holder 90 is transferred, the first cylinder 92 is driven and the work plate holder 90 is lowered by a predetermined amount. As a result, the work plate W held by the work plate holder 90 is immersed again in hot water. At the same time, the second cylinder 94 is driven, and the work plate holder 9 is moved.
0 returns to the original height position.

【0033】一方、スライスベースSを受け取った第2
搬送装置100は、図1中左方向に移動して、洗浄部1
6の上方位置で停止する。そして、この第2搬送装置1
00が洗浄部16の上方位置で停止すると洗浄が開始さ
れる。すなわち、搬送アーム122、122に保持され
たスライスベースSに向けてノズル36、36から洗浄
液が噴射され、これによりスライスベースSが洗浄され
る。なお、この場合もノズル36、36は一定角度で揺
動しながらスライスベースSに向けて洗浄液を噴射す
る。
On the other hand, the second receiving the slice base S
The transport device 100 moves to the left in FIG.
6. Stop at the position above 6. Then, the second transfer device 1
When 00 stops at a position above the cleaning unit 16, cleaning is started. That is, the cleaning liquid is sprayed from the nozzles 36 toward the slice base S held by the transfer arms 122, 122, and thereby the slice base S is cleaned. In this case as well, the nozzles 36 and 36 eject the cleaning liquid toward the slice base S while swinging at a fixed angle.

【0034】洗浄液の噴射は所定時間継続して行われ
る。そして、所定時間経過後、洗浄液の噴射が停止さ
れ、続いてスライスベースSに向けて圧縮エアが噴射さ
れる。スライスベースSは、この噴射された圧縮エアに
よって乾燥される。なお、この圧縮エアを噴射する場合
も、ノズル36、36は一定角度で揺動しながらスライ
スベースSに向けて圧縮エアを噴射する。圧縮エアの噴
射の所定時間継続して行われ、所定時間経過後、圧縮エ
アの噴射が停止される。
The injection of the cleaning liquid is performed continuously for a predetermined time. After a lapse of a predetermined time, the ejection of the cleaning liquid is stopped, and then the compressed air is ejected toward the slice base S. The slice base S is dried by the injected compressed air. Also in the case of injecting the compressed air, the nozzles 36, 36 also inject the compressed air toward the slice base S while swinging at a fixed angle. The injection of the compressed air is continuously performed for a predetermined time, and after the predetermined time has elapsed, the injection of the compressed air is stopped.

【0035】スライスベースSの洗浄、乾燥が終了する
と、第2搬送装置100は、図1中左方向に移動して、
スライスベース回収部22の上方で停止する。そして、
この第2搬送装置100がスライスベース回収部22の
上方に停止すると、受台昇降用シリンダ64が駆動さ
れ、スライスベース受台60が所定量上昇する。この結
果、搬送アーム122、122に保持されていたスライ
スベースSがスライスベース受台60上に載置される。
次に、アーム開閉用シリンダ118、118が駆動さ
れ、搬送アーム122、122が互いに離れる方向に移
動する。この結果、搬送アーム122、122からスラ
イスベース受台60上にスライスベースSが受け渡され
る。次に、受台昇降用シリンダ64が駆動され、スライ
スベース受台60が所定量下降する。これにより、スラ
イスベースSがスライスベース回収部22に回収され
る。
When the washing and drying of the slice base S are completed, the second transport device 100 moves to the left in FIG.
It stops above the slice base collection unit 22. And
When the second transporting device 100 stops above the slice base collecting section 22, the cradle lifting cylinder 64 is driven, and the slice base cradle 60 is raised by a predetermined amount. As a result, the slice base S held by the transfer arms 122, 122 is placed on the slice base receiving table 60.
Next, the arm opening / closing cylinders 118, 118 are driven, and the transfer arms 122, 122 move in directions away from each other. As a result, the slice base S is transferred from the transfer arms 122 to the slice base receiving table 60. Next, the cradle lifting cylinder 64 is driven, and the slice base cradle 60 is lowered by a predetermined amount. As a result, the slice base S is collected by the slice base collection unit 22.

【0036】一方、前記スライスベース受台60が下降
すると、第1シリンダ92が駆動され、ワークプレート
ホルダ90が所定量上昇する。この結果、熱水中からワ
ークプレートWが所定高さの位置まで引き上げられる。
次に、第1サーボモータ76が駆動され、第1搬送装置
70が図1中左方向に移動して、洗浄部16の上方位置
で停止する。そして、このワークプレートホルダ90に
保持されたワークプレートWに対して洗浄が行われる。
すなわち、搬送アーム122、122に保持されたワー
クプレートWに向けてノズル36、36から洗浄液が噴
射され、これによりワークプレートWが洗浄される。な
お、この場合においてもノズル36、36は一定角度で
揺動しながらワークプレートWに向けて洗浄液を噴射す
る。
On the other hand, when the slice base receiving table 60 is lowered, the first cylinder 92 is driven, and the work plate holder 90 is raised by a predetermined amount. As a result, the work plate W is pulled up from the hot water to a position at a predetermined height.
Next, the first servomotor 76 is driven, and the first transfer device 70 moves leftward in FIG. 1 and stops at a position above the cleaning unit 16. Then, the work plate W held by the work plate holder 90 is cleaned.
That is, the cleaning liquid is sprayed from the nozzles 36 toward the work plate W held by the transfer arms 122, 122, whereby the work plate W is cleaned. In this case as well, the nozzles 36 and 36 spray the cleaning liquid toward the work plate W while swinging at a fixed angle.

【0037】洗浄液の噴射は所定時間継続して行われ、
所定時間経過後、洗浄液の噴射が停止され、続いてワー
クプレートWに向けて圧縮エアが噴射される。ワークプ
レートWは、この噴射された圧縮エアによって乾燥され
る。なお、この圧縮エアを噴射する場合も、ノズル3
6、36は一定角度で揺動しながらワークプレートWに
向けて圧縮エアを噴射する。圧縮エアの噴射は所定時間
継続して行われ、所定時間経過後、圧縮エアの噴射が停
止される。
The injection of the cleaning liquid is performed continuously for a predetermined time.
After a lapse of a predetermined time, the injection of the cleaning liquid is stopped, and then the compressed air is injected toward the work plate W. The work plate W is dried by the injected compressed air. In addition, when this compressed air is injected, the nozzle 3
6, 36 inject compressed air toward the work plate W while swinging at a fixed angle. The injection of the compressed air is continuously performed for a predetermined time, and after the predetermined time has elapsed, the injection of the compressed air is stopped.

【0038】ワークプレートWの洗浄、乾燥が終了する
と、第1搬送装置70は、図1中左方向に移動して、ワ
ークプレート回収部18の上方で停止する。そして、こ
の位置に第1搬送装置70が停止すると、第1シリンダ
92が駆動され、ワークプレートホルダ90が所定量下
降する。この結果、ワークプレートホルダ90に保持さ
れていたワークプレートWがワークプレート受台50上
に載置され、回収される。
When the washing and drying of the work plate W are completed, the first transfer device 70 moves to the left in FIG. 1 and stops above the work plate collection unit 18. When the first transfer device 70 stops at this position, the first cylinder 92 is driven, and the work plate holder 90 is lowered by a predetermined amount. As a result, the work plate W held by the work plate holder 90 is placed on the work plate receiving table 50 and collected.

【0039】以上の工程により、インゴットIの剥離作
業は終了する。オペレータは、それぞれの回収部に回収
されたインゴットI、スライスベースS、ワークプレー
トWを搬出する。このように、本実施の形態のインゴッ
ト剥離装置10によれば、インゴット接着済みワークプ
レートIWから自動でインゴットI、スライスベースS
を剥離し、洗浄、乾燥させて回収することができる。し
たがって、安全にインゴットの剥離作業を実施すること
ができるとともに、オペレータの労力も軽減される。
With the above steps, the ingot I stripping operation is completed. The operator unloads the collected ingot I, slice base S, and work plate W to the respective collecting sections. As described above, according to the ingot peeling apparatus 10 of the present embodiment, the ingot I and the slice base S are automatically obtained from the ingot-bonded work plate IW.
Can be removed, washed and dried to collect. Therefore, the ingot peeling operation can be performed safely, and the labor of the operator is reduced.

【0040】また、本装置をインゴットマウント装置
(ワークプレートWにスライスベースSを介してインゴ
ットIを接着する装置)及びX線結晶方位測定装置(イ
ンゴットの結晶方位を測定する装置)と組み合わせるこ
とにより、インゴットのワークプレートへの接着を自動
化するシステムを構築することができる。すなわち、各
装置間を自動搬送装置で結び、相互にインゴット等を搬
送可能に構成する。そして、まず、インゴットマウント
装置でワークプレートにインゴットを接着する。次い
で、そのワークプレートに接着したインゴットの結晶方
位をX線結晶方位測定装置で測定する。そして、その測
定の結果、所望の結晶方位で接着されていれば、そのま
ま次工程(ワイヤソーによる切断工程)に搬出し、所望
の結晶方位で接着されていない場合は、インゴット剥離
装置によってインゴット等を剥離する。そして、剥離し
たインゴット等を再びインゴットマウント装置に搬送し
て接着をやり直す。このようなシステムを構築すること
により、結晶方位がズレて切断されることを未然に防止
することができ、効率的にウェーハを製造することがで
きるようになる。
The present apparatus is combined with an ingot mounting apparatus (an apparatus for bonding the ingot I to the work plate W via the slice base S) and an X-ray crystal orientation measuring apparatus (an apparatus for measuring the crystal orientation of the ingot). A system for automating the bonding of the ingot to the work plate can be constructed. That is, the respective devices are connected by an automatic transport device, and the ingots and the like can be transported to each other. Then, first, the ingot is bonded to the work plate by the ingot mounting device. Next, the crystal orientation of the ingot bonded to the work plate is measured by an X-ray crystal orientation measurement device. Then, as a result of the measurement, if it is bonded in a desired crystal orientation, it is carried out to the next step (cutting step using a wire saw) as it is, and if it is not bonded in the desired crystal orientation, the ingot or the like is removed by an ingot peeling device. Peel off. Then, the peeled ingot or the like is transported again to the ingot mounting device, and bonding is performed again. By constructing such a system, it is possible to prevent the crystal orientation from being shifted and being cut, and to efficiently manufacture a wafer.

【0041】なお、本実施の形態のインゴット剥離装置
10では、インゴットI等を洗浄、乾燥してから回収す
るようにしているが、熱水槽34で剥離したあと、その
まま各回収部に回収するように構成してもよい。すなわ
ち、洗浄部16の設置は任意である。また、本実施の形
態のインゴット剥離装置10では、剥離したインゴット
I等は受台に回収する構成としているが、コンベア等を
設置して自動的に搬出できるように構成してもよい。ま
た、搬出したインゴット等を複数本ストックできる構成
にしてもよい。
In the ingot peeling apparatus 10 of the present embodiment, the ingot I and the like are collected after being washed and dried. May be configured. That is, the installation of the cleaning unit 16 is optional. Further, in the ingot peeling device 10 of the present embodiment, the peeled ingot I and the like are configured to be collected in the receiving tray, but a configuration may be adopted in which a conveyor or the like is installed so that the ingot can be automatically carried out. Further, a configuration may be employed in which a plurality of unloaded ingots or the like can be stocked.

【0042】さらに、本実施の形態のインゴット剥離装
置10では、剥離したインゴットI、スライスベース
S、ワークプレートWをそれぞれ個別に回収するように
しているが、分別せずに一か所で回収するようにしても
よい。また、本実施の形態のインゴット剥離装置10で
は、インゴット接着済みワークプレートWを熱水中に浸
漬させることにより、そのインゴットI及びスライスベ
ースSを接着している接着剤を熱軟化させてインゴット
IとスライスベースSを剥離するようにしているが、こ
の他、ヒーターで熱して接着剤を熱軟化させてもよい。
Further, in the ingot peeling apparatus 10 of the present embodiment, the peeled ingot I, slice base S, and work plate W are individually recovered, but are recovered at one place without being separated. You may do so. In addition, in the ingot peeling apparatus 10 of the present embodiment, the work piece W having the ingot bonded thereto is immersed in hot water, so that the adhesive bonding the ingot I and the slice base S is thermally softened to thereby remove the ingot I. Although the slice base S is peeled off, the adhesive may be softened by heating with a heater.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
接着に失敗したインゴットを人手を介さず安全にワーク
プレートから剥離し、回収することができる。
As described above, according to the present invention,
The ingot that has failed to adhere can be safely separated from the work plate without human intervention and collected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】インゴット剥離装置の構成を示す正面図FIG. 1 is a front view showing the configuration of an ingot peeling device.

【図2】洗浄部の構成を示す側面図FIG. 2 is a side view showing a configuration of a cleaning unit.

【図3】第1搬送装置と第2搬送装置の構成を示す側面
FIG. 3 is a side view showing a configuration of a first transport device and a second transport device.

【図4】第1搬送装置の構成を示す正面図FIG. 4 is a front view showing the configuration of a first transfer device.

【図5】第2搬送装置の構成を示す正面図FIG. 5 is a front view showing the configuration of a second transfer device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…インゴット剥離装置 12…搬入部 14…剥離部 16…洗浄部 18…ワークプレート回収部 20…インゴット回収部 22…スライスベース回収部 34…熱水槽 36…ノズル 50…ワークプレート受台 52…インゴット受台 60…スライスベース受台 70…第1搬送装置 90…ワークプレートホルダ 100…第2搬送装置 122…搬送アーム I…インゴット S…スライスベース W…ワークプレート IW…インゴット接着済みワークプレート DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Ingot peeling apparatus 12 ... Carry-in part 14 ... Peeling part 16 ... Cleaning part 18 ... Work plate collection part 20 ... Ingot collection part 22 ... Slice base collection part 34 ... Hot water tank 36 ... Nozzle 50 ... Work plate receiving stand 52 ... Ingot Receiving stand 60 ... Slice base receiving stand 70 ... First transfer device 90 ... Work plate holder 100 ... Second transfer device 122 ... Transfer arm I ... Ingot S ... Slice base W ... Work plate IW ... Ingot bonded work plate

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 インゴット接着済みワークプレートから
インゴット及びスライスベースを剥離するインゴット剥
離装置において、 インゴット接着済みワークプレートが搬入される搬入部
と、 インゴット接着済みワークプレートの接着剤を熱軟化さ
せてスライスベース及びインゴットを剥離する剥離部
と、 前記剥離部で剥離されたインゴット、スライスベース及
びワークプレートが回収される回収部と、 前記搬入部に搬入されたインゴット接着済みワークプレ
ートを前記剥離部に搬送するとともに、該剥離部で剥離
されたワークプレートを前記回収部に搬送する第1搬送
部と、 前記剥離部で剥離されたインゴットを前記回収部に搬送
するとともに、前記剥離部で剥離されたスライスベース
を前記回収部に搬送する第2搬送部と、からなることを
特徴とするインゴット剥離装置。
1. An ingot peeling device for peeling an ingot and a slice base from a work plate on which an ingot is bonded, wherein a loading section into which the work plate on which the ingot is bonded is loaded, and an adhesive of the work plate on which the ingot is bonded is thermally softened and sliced. A separating unit for separating the base and the ingot; a collecting unit for collecting the ingot, the slice base, and the work plate separated by the separating unit; and a transfer of the ingot-bonded work plate carried into the carry-in unit to the peeling unit. A first transport unit that transports the work plate peeled off by the peeling unit to the collecting unit; and a transport unit that transports the ingot peeled off by the peeling unit to the collecting unit, and the slice that is peeled off by the peeling unit. A second transport unit that transports the base to the collection unit. Ingot peeling apparatus characterized.
【請求項2】 前記剥離部で剥離されたインゴット、ス
ライスベース及びワークプレートを洗浄する洗浄部を備
え、該洗浄部で洗浄後、前記回収部で回収することを特
徴とする請求項1記載のインゴット剥離装置。
2. The cleaning device according to claim 1, further comprising a cleaning unit for cleaning the ingot, the slice base, and the work plate peeled off by the peeling unit, wherein the cleaning unit recovers the ingot, the slice base, and the work plate. Ingot peeling device.
【請求項3】 前記回収部は、 剥離されたインゴットが回収されるインゴット回収部
と、 剥離されたスライスベースが回収されるスライスベース
回収部と、 剥離されたワークプレートが回収されるワークプレート
回収部と、からなり、それぞれ分別して回収されること
を特徴とする請求項1又は2記載のインゴット剥離装
置。
3. An ingot collecting section for collecting a peeled ingot, a slice base collecting section for collecting a peeled slice base, and a work plate collecting for collecting a peeled work plate. The ingot peeling device according to claim 1 or 2, wherein the device is separated and collected.
JP10350389A 1998-12-09 1998-12-09 Device for peeling ingot Pending JP2000169296A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100936191B1 (en) * 2007-08-24 2010-01-11 하나실리콘(주) Ingot cleaning apparatus and ingot cleaning method

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