JP2000167758A - ウェーハノッチ部の鏡面研磨装置 - Google Patents

ウェーハノッチ部の鏡面研磨装置

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JP2000167758A
JP2000167758A JP10345799A JP34579998A JP2000167758A JP 2000167758 A JP2000167758 A JP 2000167758A JP 10345799 A JP10345799 A JP 10345799A JP 34579998 A JP34579998 A JP 34579998A JP 2000167758 A JP2000167758 A JP 2000167758A
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wafer
notch
buff
turning
notch portion
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JP10345799A
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Satoru Kitsuta
知 橘田
Norio Kudo
紀夫 工藤
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Fujikoshi Machinery Corp
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Fujikoshi Machinery Corp
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハの供給或いは排出のための特別な搬
送手段を要せず、容易に構成できると共に、ノッチ部を
効率良く且つ好適に鏡面研摩すること。 【解決手段】 ウェーハ保持部20を介してウェーハ1
0を回動揺動させる回動手首機構26と、回動手首機構
26が先端の手首部に設けられたロボットアーム部28
と、ウェーハ保持部20によって保持されたウェーハ1
0を搬送すべく、ロボットアーム部28を旋回させる旋
回機構30と、ウェーハ10が供給されて位置決めがな
されるウェーハの供給部45と、バフ52が回転され、
旋回機構30によって搬送されたウェーハ10のノッチ
部12の内端面を研磨するように配設されたバフ装置5
0と、ノッチ部12の内端面が研磨された後、旋回機構
30によって搬送されたウェーハ10が排出されるウェ
ーハの排出部62とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハノッチ部
の鏡面研磨装置に関し、さらに詳細には、円形のウェー
ハをウェーハ保持部で保持し、該ウェーハの周縁に形成
されたノッチ部の内端面を、軸線を中心に回転するバフ
を接触させて鏡面研磨するウェーハノッチ部の鏡面研磨
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】シリコン等の半導体の材料となる円板状
のウェーハ(シリコンウェーハ)では、半導体チップの
加工上その結晶軸の方向を明確にしておく必要がある。
この結晶軸の方向を示すため、円形のウェーハの一部を
結晶軸の方向に切り欠くオリエンテーションフラット
(いわゆるオリフラ)を形成するか、単にウェーハの周
縁を小さなV字状に切り欠くノッチ部を設けるかしてい
る。近年では、ウェーハが大径化し、直径12インチの
ウェーハが出現している。このような大径のウェーハで
は、オリフラを設けたのでは廃棄される無駄な部分が多
くなることから、前記ノッチ部を設ける傾向にある。
【0003】シリコンウェーハは、高精度の表面加工が
必要であり、特にポリシング加工等では微細なゴミの発
生でも加工品質に大きく影響してくるため、装置自体が
無塵室等の設備の中に設置されていたり、様々な防塵対
策が施されている。ウェーハ表面はポリシング前にラッ
プ加工を行っているが、ウェーハ外周部が研削された状
態のままではゴミ等が付着しやすく、この状態で加工す
ると、付着しているゴミが落ちてしまったり、ウェーハ
の粗面が欠けてしまったりして、加工品質を落としてし
まう。そのためウェーハの外周部を鏡面研摩することが
要求されている。ウェーハの外周部(周縁)にノッチ部
を設けた場合にあっては、そのノッチ部の内端縁もウェ
ーハの周縁の一部となることから、鏡面研磨することが
要求される。特に、半導体チップは益々高集積化してい
ることから、小さな発塵であっても与える影響が大きく
なり、ノッチ部の鏡面研摩も重要になってきている。
【0004】これに対して、従来は、先ず、円形のウェ
ーハの芯出し及びノッチ部の位置決めを行うセンタリン
グ装置に、カセットからウェーハを搬送する装置があっ
た。そして、そのセンタリング装置からウェーハをチャ
ックして加工ステージ(研磨ステージ)へ搬送すると共
にそのウェーハを離して置いてくるウェーハを供給する
ための搬送手段と、研磨ステージ内に設けられたウェー
ハのチャック部と、ウェーハのノッチ部の内端面に軸線
を中心に回転するバフを接触させて鏡面研磨するバフ装
置と、その研磨が終わったウェーハを受け取りに行って
チャックして所定の排出位置まで搬送すると共にそのウ
ェーハを離して排出するウェーハを排出するための搬送
手段とを備えるウェーハノッチ部の鏡面研磨装置が使用
されている。なお、研磨ステージと排出位置の間には、
通常、ウェーハ及びチャック部を洗浄する洗浄部が設け
られ、排出位置にはカセットによる収納部或いは次工程
への仮置部が設けられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のウェーハノッチ部の鏡面研磨装置にあっては、ウェ
ーハを供給するための特別な搬送手段と、ウェーハを排
出するための特別な搬送手段とを要することになり、装
置の構成が複雑化するという課題があった。また、少な
くとも3個のチャックによって、つかみ直しがなされ、
タクトタイムが長くなって効率が悪かった。さらに、バ
フの回転中心とウェーハの厚みの中心とにかかる芯合わ
せの調整が難しく、精度の高い研磨をすることが難しか
った。
【0006】そこで、本発明の目的は、ウェーハの供給
或いは排出のための特別な搬送手段を要せず、容易に構
成できると共に、ノッチ部を効率良く且つ好適に鏡面研
摩できるウェーハノッチ部の鏡面研磨装置を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために次の構成を備える。すなわち、本発明は、
円形のウェーハをウェーハ保持部で保持し、該ウェーハ
の周縁に形成されたノッチ部の内端面を、軸線を中心に
回転するバフを接触させて鏡面研磨するウェーハノッチ
部の鏡面研磨装置において、前記ウェーハ保持部が固定
され、該ウェーハ保持部に保持された前記ウェーハの平
面と平行で且つ前記ノッチ部を通る軸線を中心に、前記
ウェーハ保持部を介して前記ウェーハを回動揺動させる
回動手首機構と、該回動手首機構が、先端の手首部に設
けられたロボットアーム部と、前記ウェーハ保持部によ
って保持された前記ウェーハを搬送すべく、前記ロボッ
トアーム部を旋回させる旋回機構と、前記ウェーハが前
記ウェーハ保持部によって保持されるべく、前記ウェー
ハが供給されて該ウェーハの位置決めを行う位置決め機
構を備えるウェーハの供給部と、前記バフが、前記ロボ
ットアーム部の旋回軌跡の接線方向に直交する軸線を中
心に回転され、前記旋回機構によって搬送された前記ウ
ェーハのノッチ部の内端面を研磨するように配設された
バフ装置と、該バフ装置によって前記ノッチ部の内端面
が研磨された前記ウェーハが、前記旋回機構によって搬
送され、前記ウェーハ保持部による保持が解除されて排
出されるウェーハの排出部とを具備することを特徴とす
る。
【0008】また、前記回動手首機構と、前記ロボット
アーム部と、前記旋回機構とを構成要素とするアームロ
ボットが、垂直多関節ロボットであることで、ウェーハ
の位置を好適に微調整でき、精度の高い好適な鏡面研磨
を行うことができる。
【0009】また、前記バフ装置は、前記バフが前記ノ
ッチ部の内端面に所定の圧力で接触すべく、該バフを前
記ロボットアーム部の旋回軌跡の接線方向へ移動させる
と共に押圧させる押圧機構を備えることで、ロボットア
ーム部を移動させることなく、バフ側の移動によってノ
ッチ部の内端面へ同一の押圧条件で好適に接触すること
ができ、精度の高い好適な鏡面研磨を行うことができ
る。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面と共に詳細に説明する。図1は本発明にかか
るウェーハノッチ部の鏡面研磨装置の一実施例を説明す
る平面図であり、図2は図1の実施例の正面図である。
また、図3はノッチ部とバフの外周部との接触状態を説
明する正面図であり、図4は図3の平面図(a)及び側
面図(b)である。 本実施例は、半導体の原料である
円形のシリコンウェーハ(以下、「ウェーハ」という)
をウェーハ保持部20で保持し、そのウェーハ10の周
縁に形成されたノッチ部12の内端面を、軸線を中心に
回転するバフ52を接触させて鏡面研磨するウェーハノ
ッチ部の鏡面研磨装置である。なお、ノッチ部12の形
状は、通常はV字状に切り欠いたものであるが、特に限
定されるものではない。
【0011】ウェーハ保持部20は、ウェーハ10の外
径より小さく形成された円形の吸着面22を備え、図示
しない真空装置(減圧装置)に連結されており、真空吸
着(減圧吸着)によってウェーハ10を保持する。な
お、これに限定されることなく、例えば、複数の爪状の
保持部材を作動させることによって機械的にウェーハ1
0を保持することも可能である。
【0012】24はアームロボットであり、少なくと
も、回動手首機構26と、ロボットアーム部28と、旋
回機構30とを構成要素とする。回動手首機構26は、
ウェーハ保持部20が固定され、そのウェーハ保持部2
0に保持されたウェーハ10の平面と平行で且つノッチ
部12を通る軸線を中心に、ウェーハ保持部20を介し
てウェーハ10を回動揺動させる。ロボットアーム部2
8には、回動手首機構26が、先端の手首部28aに設
けられている。旋回機構30は、ウェーハ10を搬送す
べく、ロボットアーム部28を旋回させるように設けら
れている。
【0013】本実施例のアームロボット24は、図5に
示すような垂直多関節ロボットであり、固定基体部31
に対し、本体部32が鉛直軸33を中心に回動可能に設
けられており、その本体部32にロボットアーム部28
が取り付けられている。従って、本体部32が回動する
ことで、その上に支持されたロボットアーム部28が旋
回することになる。なお、ロボットアーム部28を支持
する本体部32の回動駆動は、内蔵された図示しない駆
動装置によってなされる。ロボットアーム部28は、本
体部32の先端側に設けられた第1の水平軸32aに上
下方向へ回動可能に装着された基端アーム34と、その
基端アーム34の先端側に設けられた第2の水平軸34
aに上下方向へ回動可能に装着された中間アーム35
と、その中間アーム35の先端側に設けられた第3の水
平軸35aに上下方向へ回動可能に装着された先端アー
ム38とによって構成されている。各アームは、内蔵さ
れた図示しない駆動装置によって回動駆動される。な
お、中間アーム35は、中間アームの基部36に対して
中間アームの先端部37が、その中間アーム35の長手
方向の軸線を中心に、内蔵された図示しない駆動装置に
よって回転可能に設けられている。
【0014】そして、ロボットアーム部28の先端であ
る先端アーム38の先端の手首部28aには、内蔵され
た図示しない駆動装置によって、先端アーム38の長手
方向の軸線(以下、「先端アーム軸線39」という)を
中心に回転する回転部40が露出して設けられている。
この回転部40に、先端アーム軸線39に平行な吸着面
にウェーハ10が吸着されるように、前記ウェーハ保持
部20が固定されている。なお、先端アーム軸線39
は、図に明らかなように、旋回機構30による旋回円に
よる平面に直交する平面内で、旋回軸である鉛直軸33
に交差する線となっている。換言すれば、アームロボッ
ト24の法線方向の軸線になっている。
【0015】また、図3及び4に示すように、先端アー
ム軸線39と、ウェーハ保持部20に保持されるウェー
ハ10の平面に平行で、且つ、そのウェーハ10に厚さ
方向の中心に仮想される面内でノッチ部12を通る軸線
(回動軸線42)とが、同軸に一致されて設けられてい
る。すなわち、鏡面研磨の対称となるノッチ部12が、
先端アーム軸線39である回動軸線42を中心に狭い範
囲で上下に揺動できるように、ウェーハ10がその直径
の半径分、回動軸線42から変位されてウェーハ保持部
20に保持されている。このようにウェーハ10を回動
軸線42からずらして保持させるために、ウェーハ保持
部20は、回転部40に、クランク状(又はL字状)の
取付部44を介して固定されている。なお、回動軸線4
2がノッチ部12を通るとは、ノッチ部12のどこかを
通過するか、ノッチ部12に接すること、或いはノッチ
部12の近傍を通過することであり、厳密な意味ではな
い。つまり、ノッチ部が、回動軸線42を中心に狭い範
囲で上下に揺動可能に、回動軸線42が少なくともノッ
チ部12の近傍を通るようにすればよい。
【0016】これにより、ロボットアーム部28の先端
の手首部28aに設けられ、ウェーハ保持部20に保持
されたウェーハ10の平面と平行で且つそのウェーハ1
0のノッチ部12を通る軸線(回動軸線42)を中心
に、ウェーハ保持部20を介してウェーハ10を回動揺
動させる回動手首機構26が構成されている。このよう
にウェーハ10を回動揺動させることで、内端面の上下
の角部の面取りを好適に行わせることが可能になる。ま
た、アームロボット24が、前述したような垂直多関節
ロボットであることで、ティーチングによって作動プロ
グラムを入力することができると共に、3次元空間につ
いて好適に運動制御できる。そして、指令値を適宜に変
更すれば、バフ装置50に対してウェーハ保持部20で
保持したウェーハ10の位置を容易に微調整できる。こ
のため、芯合わせ等の調整がワンタッチで簡単にでき、
精度の高い鏡面研磨を好適に行うことができる。
【0017】なお、本実施例では、回動軸線42と、先
端アーム軸線39とが、同軸になるように配されてお
り、ウェーハ10が上下方向に好適に揺動できるように
なっているが、本発明はこれに限定されるものではな
い。例えば、アームロボットのロボットアーム部が異な
る形態の場合として、先端アーム38の先端側に先端ア
ーム軸線39と交差する回動軸線42を有する回動機構
が設けられた際でも、その回動軸線42をバフ52の回
転平面に直交するように配置することができれば、ウェ
ーハ10を好適に揺動できる。
【0018】次にウェーハの供給部について説明する。
ウェーハの供給部45は、ウェーハ10がウェーハ保持
部20によって保持されるべく、ウェーハ10が供給さ
れてそのウェーハ10の位置決めを行う位置決め機構4
6を備える。47はカセットであり、この中にウェーハ
10が収納されている。48は移動機構であり、ベルト
コンベア状に構成されており、カセット47内のウェー
ハ10を位置決め機構46まで移動させる。
【0019】位置決め機構46には、固定された2つの
従動ローラ46a、径方向へ移動可能な1つのドライブ
ローラ46b、ノッチの検出センサー49、及び吸着パ
ッド60が備えられている。ドライブローラ46bは、
エアシリンダ等によって、位置決め機構46上に載置さ
れたウェーハ10の側面に所定の圧力で当接できるよう
に設けられている。また、このドライブローラ46b
は、ステッピングモータ等で回転して、2つの従動ロー
ラ46aと共にウェーハ10を径方向に挟んで、そのウ
ェーハ10を軸心を中心に回転させることができる。そ
して、ノッチの検出センサー49によって、ノッチ部1
2を検出し、ノッチ部12が所定の角度位置にきたとこ
ろでドライブローラ46bの回転を停止させることで、
ウェーハの位置決めができる。なお、吸着パッド60
は、ウェーハ10が、2つの従動ローラ46aとドライ
ブローラ46bとによって挟まれるまで、浮き上がるこ
とのないように吸引して保持するように設けられてい
る。
【0020】次にバフ装置50について説明する。バフ
装置50は、ウェーハ10の円弧状の搬送経路中に設け
られており、図3に明らかなように、円板状のバフ52
が、ロボットアーム部28の旋回軌跡54の接線方向に
直交する軸線55を中心に、駆動モータ56によって回
転される。そして、旋回機構30によって搬送されたウ
ェーハ10のノッチ部12の内端面に、バフ52の外周
部が接触して擦れ合い、その面を鏡面研磨するように配
設されている。なお、図1に示した旋回軌跡54は、ア
ームロボット24の旋回軸(鉛直軸33)を中心にする
円弧であり、軸線55は鉛直軸33に直交する関係にな
っている。また、バフ52の厚さ方向の中心平面と、ウ
ェーハ10の平面とが直交すると共に、そのバフ52の
中心平面を延長した面内に、ウェーハ10の軸芯が存在
する位置関係になっている。これにより、バフ52の外
周部が、V字状等のノッチ部12へ、その正面から両側
対称に、ウェーハ10の平面と直交する面と平行に、進
入することができ、そのノッチ部12を均一に鏡面研磨
することができる。なお、接線方向に直交する方向とは
法線方向であり、円弧の軌跡の接線方向に直交する方向
とは径方向を意味する。
【0021】また、このバフ装置50は、バフ52がノ
ッチ部12の内端面に所定の圧力で接触すべく、そのバ
フ52をロボットアーム部28の旋回軌跡54の接線方
向へ移動させると共に押圧させる押圧機構58を備え
る。本実施例の押圧機構58は、往復の直線移動をガイ
ドする直動ガイドと、シリンダ装置58aによって構成
されている。これにより、ロボットアーム部28を旋回
方向に移動させることなく、バフ52側の旋回軌跡54
の接線方向の移動によってノッチ部12の内端面へ同一
の押圧条件で好適に接触することができる。従って、精
度の高い好適な鏡面研磨を行うことができる。なお、押
圧機構58としては、錘を利用してもよいのは勿論であ
る。
【0022】なお、このバフ装置50はボックス状のカ
バー59中に配設されており、そのカバー59のアーム
ロボット24側の面には、シャッター59aが設けられ
いる。そのシャッター59aを開閉することで、ウェー
ハ保持部20に保持されたウェーハ10の出し入れを行
い、研磨工程時には閉じて、研磨屑或いは研磨液の飛散
を防止している。また、このバフ装置50内には、スラ
リーと呼ばれる研磨液が、ノッチ部12とバフ52が擦
れ合う研磨部へ向けて供給されるように、研磨液の噴出
ノズルが配設されている。さらに、カバー59自体の洗
浄を行うため、洗浄液を噴出する洗浄ノズル等が設けら
れている。
【0023】次にウェーハの排出部62について説明す
る。ウェーハの排出部62は、バフ装置50によってノ
ッチ部12の内端面が研磨されたウェーハ10が、旋回
機構30によって搬送され、ウェーハ保持部20による
保持が解除されて排出される部位となっている。64は
仮受部であり、ウェーハ10が一旦載置される部位であ
って、この仮受部64に置かれたウェーハ10は、次工
程の保持装置等によって保持され、次の工程へ移送され
るのである。また、66は洗浄部であり、シャワーノズ
ル66aが配設されている。この洗浄部66では、ウェ
ーハ10が、バフ装置50からウェーハの排出部62へ
搬送される際には、そのウェーハ10を洗浄する。そし
て、ウェーハ保持部20が、ウェーハの排出部62から
元の位置に戻る途中では、ウェーハ保持部20の吸着面
22を洗浄するように作動する。
【0024】ところで、本実施例のアームロボット24
は垂直多関節ロボットであるため、以上に説明した回動
軸線42を中心にした回動及び鉛直軸33を中心にした
旋回動の他に、前後動及び上下動を自由に行うことがで
きる。このため、ウェーハ10を適宜な移送軌跡に沿わ
せて搬送させることができる。
【0025】以上の構成からなるウェーハノッチ部の鏡
面研磨装置によれば、ロボットアーム部28によるウェ
ーハ10の搬送の途中に、ノッチ部12を好適に研磨で
きる。すなわち、一台のアームロボット24で、ノッチ
部12の研磨工程の前後にかかる搬送、及び回動揺動を
行うことができ、効率よくノッチ部12の研磨ができる
という効果を奏する。また、従来のように複数の搬送装
置、及び複数のチャック装置を要しないため、装置の構
成を簡単なものにすることができる。
【0026】また、ウェーハ保持部20側では、旋回軌
跡54方向には移動しないで、ウェーハ10に上下の回
動揺動運動を行わせ、バフ装置50側では、旋回軌跡5
4の接線方向にバフ52を移動させてノッチ部12へ押
圧させる構成になっている。従って、簡単な構成で、ウ
ェーハ10の平面と、薄板円形状のバフ52の平面とが
直交する位置関係を好適に維持でき、ノッチ部12の内
端面にかかる研磨精度を向上できる。さらに、垂直多関
節ロボットによる場合は、バフ52に対するウェーハ1
0のノッチ部の位置調整が容易であり、好適に研磨でき
る。
【0027】次に本実施例の作動状態について簡単に説
明する。先ず、初期状態では、ウェーハ保持部20は待
機位置Aにあって、ドライブローラ46b及びバフ52
は後退位置にある。起動ボタンが押されて始動すると、
先ず、移動機構48によってウェーハ10が位置決め機
構46へローディングされ、その位置決め機構46にお
いてウェーハ10のセンタリングと、ノッチ部12に位
置決めがなされる。次に、ロボットアーム部28が作動
して、ウェーハ保持部20が前進してウェーハ10を吸
着し、一旦後退してバフ装置50側へ旋回機構30によ
って旋回し、次に前進してバフ装置50内の研磨加工位
置Bにウェーハ10を進入させる。なお、ウェーハ10
の搬送は、原則的にウェーハ10を水平にした状態でな
される。
【0028】バフ52による研磨工程では、図3に示す
ように、先ず、ウェーハ10の研磨加工の開始(及び終
了)位置Cは水平になっており、バフ52は時計回転方
向Fに回転している。次に、ウェーハ10を回動手首機
構26によって早送りHで下方位置Dへ回動する。そし
て、バフ52を前進Pさせてノッチ部12へ当接させ、
研磨液を供給し、研磨工程が開始し、ウェーハ10を遅
送りKで時計回転方向へ回動させて、主にノッチ部12
の下面側を鏡面研磨する。次に、開始時位置Cに戻った
ところで、ウェーハ10の回動送りを停止すると共に、
バフ52を後退させる。そして、バフ52を反時計回転
方向Gに回転させ、前進させて再びノッチ部12へ当接
させ、ウェーハ10を遅送りLで時計回転方向へ上方位
置Eまで回動させて、主にノッチ部12の上面側を鏡面
研磨する。次いで、バフ52を後退させる共に、ウェー
ハ10を早送りMで水平な終了位置Cへ戻し、バフ52
の回転及び研磨液の供給が停止して一連の鏡面研磨工程
が終了する。
【0029】次に、ロボットアーム部28が作動して、
ウェーハ保持部20が後退し、回動手首機構26によっ
て反転し、旋回機構30によってウェーハ10を旋回移
動させて洗浄部66上に位置させる。洗浄部66ではウ
ェーハ10がシャワー洗浄によって洗浄される。そし
て、ウェーハ10は、さらに旋回移動されて、仮受部6
4上でウェーハ保持部20による吸着が真空破壊によっ
て解除される。これにより、ウェーハ10が、仮受部6
4上に載置される。その後、ウェーハ保持部20は、旋
回機構30によって洗浄部66まで戻され、その吸着面
22が洗浄され、さらに待機位置Aに戻されて一連の工
程が終了する。この工程サイクルを繰り返すことで、ノ
ッチ部12の鏡面研磨を順次自動的に行うことができ
る。
【0030】以上、本発明につき好適な実施例を挙げて
種々説明してきたが、本発明はこの実施例に限定される
ものではなく、発明の精神を逸脱しない範囲内で多くの
改変を施し得るのは勿論のことである。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、一台のロボットアーム
部等を含む装置で、ウェーハのノッチ部の研磨工程の前
後にかかる搬送、及び鏡面研磨工程での回動揺動を行う
ことができる。すなわち、ウェーハの搬送の途中で、ノ
ッチ部を好適に研磨でき、効率がよいという著効を奏す
る。また、従来のような複数の搬送装置、及び複数のチ
ャック装置等を要しないため、装置の構成を簡単にでき
るという著効も奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるウェーハノッチ部の鏡面研磨装
置の一実施例を説明する平面図である。
【図2】図1の実施例の正面図である。
【図3】本発明にかかるノッチ部とバフとの接触状態を
説明する正面説明図である。
【図4】図3の平面及び側面の説明図である。
【図5】図1の実施例に利用されたアームロボットを説
明する斜視図である。
【符号の説明】
10 ウェーハ 12 ノッチ部 20 ウェーハ保持部 22 吸着面 24 アームロボット 26 回動手首機構 28 ロボットアーム部 30 旋回機構 40 回転軸 42 回動軸線 45 ウェーハの供給部 46 位置決め機構 50 バフ装置 52 バフ 54 旋回軌跡 58 押圧機構 62 ウェーハの排出部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円形のウェーハをウェーハ保持部で保持
    し、該ウェーハの周縁に形成されたノッチ部の内端面
    を、軸線を中心に回転するバフを接触させて鏡面研磨す
    るウェーハノッチ部の鏡面研磨装置において、 前記ウェーハ保持部が固定され、該ウェーハ保持部に保
    持された前記ウェーハの平面と平行で且つ前記ノッチ部
    を通る軸線を中心に、前記ウェーハ保持部を介して前記
    ウェーハを回動揺動させる回動手首機構と、 該回動手首機構が、先端の手首部に設けられたロボット
    アーム部と、 前記ウェーハ保持部によって保持された前記ウェーハを
    搬送すべく、前記ロボットアーム部を旋回させる旋回機
    構と、 前記ウェーハが前記ウェーハ保持部によって保持される
    べく、前記ウェーハが供給されて該ウェーハの位置決め
    を行う位置決め機構を備えるウェーハの供給部と、 前記バフが、前記ロボットアーム部の旋回軌跡の接線方
    向に直交する軸線を中心に回転され、前記旋回機構によ
    って搬送された前記ウェーハのノッチ部の内端面を研磨
    するように配設されたバフ装置と、 該バフ装置によって前記ノッチ部の内端面が研磨された
    前記ウェーハが、前記旋回機構によって搬送され、前記
    ウェーハ保持部による保持が解除されて排出されるウェ
    ーハの排出部とを具備することを特徴とするウェーハノ
    ッチ部の鏡面研磨装置。
  2. 【請求項2】 前記回動手首機構と、前記ロボットアー
    ム部と、前記旋回機構とを構成要素とするアームロボッ
    トが、垂直多関節ロボットであることを特徴とする請求
    項1記載のウェーハノッチ部の鏡面研磨装置。
  3. 【請求項3】 前記バフ装置は、前記バフが前記ノッチ
    部の内端面に所定の圧力で接触すべく、該バフを前記ロ
    ボットアーム部の旋回軌跡の接線方向へ移動させると共
    に押圧させる押圧機構を備えることを特徴とする請求項
    1又は2記載のウェーハノッチ部の鏡面研磨装置。
JP10345799A 1998-12-04 1998-12-04 ウェーハノッチ部の鏡面研磨装置 Pending JP2000167758A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109822419A (zh) * 2019-03-04 2019-05-31 天通日进精密技术有限公司 晶圆转移装置及晶圆转移方法
JP7421405B2 (ja) 2020-04-22 2024-01-24 株式会社ディスコ 加工装置

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