JP2000162634A5

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Info

Publication number: JP2000162634A5
Application number: JP1999025008A
Authority: JP
Filing date: 1999-02-02
Publication date: 2004-07-15
Anticipated expiration: 2019-02-02

Description

【発明の名称】電気光学装置及びその製造方法、ＴＦＴアレイ基板並びに電子機器

Claims

基板上に複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線と前記各データ線に対応して設けられた薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに対応して設けられた画素電極と、前記薄膜トランジスタの少なくともチャネル領域を平面的に覆うように配置された導電性の遮光膜と、前記走査線と前記データ線の少なくとも一方に信号を供給するための周辺回路と、前記周辺回路に接続された周辺配線とを備えており、
前記周辺配線は、前記遮光膜を形成する第１導電膜を含む第１配線部と、前記薄膜トランジスタ、前記データ線及び前記走査線を構成する複数の薄膜の少なくとも一つの導電膜を含む第２配線部とを有することを特徴とする電気光学装置。
前記第１配線部は前記薄膜トランジスタ、前記データ線及び前記走査線を構成する複数の薄膜のうちの少なくとも一つの第２導電膜と前記第１導電膜とを有し、前記第２配線部は前記薄膜トランジスタ、前記データ線及び前記走査線を構成する複数の薄膜のうちの前記第２導電膜とは異なる第３導電膜を含むことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
前記第２導電膜は、前記第１導電膜よりも高抵抗であることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
前記遮光膜と前記薄膜トランジスタとの間に介在する第１層間絶縁膜と、
前記第２導電膜と前記第３導電膜との間に介在する第２層間絶縁膜と
を更に備えており、
前記第１配線部は、前記第２配線部の一部に電気接続されると共に前記第１配線部の他部に対し前記第１及び第２層間絶縁膜を夫々介して立体的に交差する中継配線からなることを特徴とする請求項２又は３に記載の電気光学装置。
前記周辺配線は、外部回路接続端子から前記画像信号を供給するための画像信号線を含み、
前記周辺回路は、前記画像信号をサンプリングするためのサンプリング回路と、該サンプリング回路を所定タイミングで駆動して前記画像信号線上の前記画像信号を前記サンプリング回路を介して前記複数のデータ線に供給させるデータ線駆動回路と、前記走査線を駆動する走査線駆動回路とを含むことを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
前記画像信号は、Ｎ（但し、Ｎは２以上の自然数）シリアル−パラレル変換されており、前記画像信号線は、並列にＮ本設けられており、該Ｎ本の画像信号線は、相互に交差する箇所において前記中継配線を含むことを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
前記データ線駆動回路から前記サンプリング回路にサンプリング回路駆動信号を供給するための複数のサンプリング回路駆動信号線を更に備えており、
該サンプリング回路駆動信号線は、少なくとも前記画像信号線に交差する箇所が前記中継配線からなることを特徴とする請求項５又は６に記載の電気光学装置。
前記１配線部を構成する前記第１導電膜及び前記第２導電膜は、前記第１層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して相互に電気接続されていることを特徴とする請求項２から７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記第３導電膜は前記データ線を形成する金属膜からなり、
前記第２導電膜は前記走査線を形成するポリシリコン膜からなることを特徴とする請求項２から８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記基板に対向する対向基板との間に前記電気光学物質が挟持されて、前記基板と対向基板とはシール材により接着されてなり、
前記シール材に対向する前記基板上のシール領域には、電気光学物質の周囲に渡って少なくとも前記第１導電膜、前記第２導電膜及び前記第３導電膜が積層されており、
前記シール領域を介して引き出される前記データ線及び前記走査線側の引き出し配線部は夫々、前記第１導電膜と第２導電膜と第３導電膜のうちの少なくとも１つからなることを特徴とする請求項２から９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記第１配線部において、前記第１導電膜が前記第２導電膜により覆われていることを特徴とする請求項２から１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
基板上に複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線及び前記各データ線に対応して設けられた薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに対応して設けられた画素電極と、前記薄膜トランジスタの少なくともチャネル領域を平面的に覆う位置に設けられた導電性の遮光膜と、画像信号を供給する複数の画像信号線と、該複数の画像信号線に供給される前記画像信号をサンプリングして前記複数のデータ線の各々に供給するサンプリング回路とを備えており、
前記画像信号線と前記サンプリング回路とを接続する配線の少なくとも一部は、前記遮光膜と同一膜の第１導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。
前記サンプリング回路にサンプリング回路駆動信号を供給するサンプリング回路駆動信号線の少なくとも一部は、前記第１導電膜からなることを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。
基板上に複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線と前記各データ線に対応して設けられた薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに対応して設けられた画素電極と、前記薄膜トランジスタの少なくともチャネル領域を平面的に覆うように配置された導電性の遮光膜と、前記走査線と前記データ線の少なくとも一方に信号を供給するための周辺回路と、前記周辺回路に接続された周辺配線とを備えており、
前記周辺配線は、前記遮光膜を形成する第１導電膜を含む第１配線部と、前記薄膜トランジスタ、前記データ線及び前記走査線を構成する複数の薄膜の少なくとも一つの導電膜を含む第２配線部とを有することを特徴とするＴＦＴアレイ基板。
基板上に複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線及び前記各データ線に対応して設けられた薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに対応して設けられた画素電極と、前記薄膜トランジスタの少なくともチャネル領域を平面的に覆う位置に設けられた導電性の遮光膜と、画像信号を供給する複数の画像信号線と、該複数の画像信号線に供給される前記画像信号をサンプリングして前記複数のデータ線の各々に供給するサンプリング回路とを備えており、
前記画像信号線と前記サンプリング回路とを接続する配線の少なくとも一部は、前記遮光膜と同一膜の第１導電膜からなることを特徴とするＴＦＴアレイ基板。
一対の基板間に電気光学物質が挿入されてなり、該一対の基板の一方の基板上には、複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線及び前記各データ線に接続された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極と、前記薄膜トランジスタの少なくともチャネル領域を平面的に覆う位置に設けられた導電性の遮光膜と、画像信号を供給する複数の画像信号線と、該複数の画像信号線に供給される前記画像信号をサンプリングして前記複数のデータ線の各々に供給するサンプリング回路とを備えた電気光学装置の製造方法において、
前記画像信号線と前記サンプリング回路とを接続する配線の一部となる第１導電膜と前記遮光膜とを同一材料により形成する工程と、
前記第１導電膜及び前記遮光膜の上に第１層間絶縁膜を形成する工程と、
該第１層間絶縁膜上に前記走査線を形成すると共に前記第１層間絶縁膜に形成したコンタクトホールを介して前記第１導電膜に接続される第２導電膜を形成する工程と、
前記走査線及び前記第２導電膜上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第２層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタに接続される前記データ線及び前記第２導電膜に接続される前記画像信号線を形成する工程と
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
一対の基板間に電気光学物質が挿入されてなり、該一対の基板の一方の基板上には、複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線及び前記各データ線に接続された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極と、前記薄膜トランジスタの少なくともチャネル領域を平面的に覆う位置に設けられた導電性の遮光膜と、画像信号を供給する複数の画像信号線と、該複数の画像信号線に供給される前記画像信号をサンプリングして前記複数のデータ線の各々に供給するサンプリング回路とを備えた電気光学装置の製造方法において、
前記画像信号線と前記サンプリング回路とを接続する配線の一部となる第１導電膜と前記遮光膜とを同一材料により形成する工程と、
該第１導電膜及び前記遮光膜の上に第１層間絶縁膜を形成する工程と、
該第１層間絶縁膜上に前記薄膜トランジスタのソース及びドレインとなる半導体層、ゲート絶縁膜並びにゲート電極を順次積層形成する工程と、
前記ゲート電極上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第２層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタに接続される前記データ線を形成し、前記第１及び第２層間絶縁膜のコンタクトホールを介して前記第１導電膜に接続される画像信号線を形成する工程と
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
請求項１から１３に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。