JP2000162404A - 反射防止膜および該反射防止膜の製造方法 - Google Patents

反射防止膜および該反射防止膜の製造方法

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JP2000162404A
JP2000162404A JP10340312A JP34031298A JP2000162404A JP 2000162404 A JP2000162404 A JP 2000162404A JP 10340312 A JP10340312 A JP 10340312A JP 34031298 A JP34031298 A JP 34031298A JP 2000162404 A JP2000162404 A JP 2000162404A
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Kenji Ando
謙二 安藤
Minoru Otani
実 大谷
Yasuyuki Suzuki
康之 鈴木
Riyuuji Hiroo
竜二 枇榔
Hidehiro Kanazawa
秀宏 金沢
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外波長域で、レーザー照射耐久および耐環
境性能（経時的光学特性安定性能）に優れた広帯域幅の
反射防止膜を提供する。 【解決手段】 波長１６０ｎｍから３００ｎｍの範囲に
設計中心波長がある反射防止膜で、基材１が石英または
蛍石であり、Ａｌ2 Ｏ3 膜２、ＡｌＦ3 膜３、ＳｉＯ2
膜４、ＣａＦ2 膜５からなる膜構成であり、基板側から
数えて第１層、第２層、・・・という複数層からなる膜
構成で最終オーバーコート層の基板側にＳｉＯ2 膜４、
空気側にＣａＦ2 膜５の２層があり、そのＳｉＯ2 膜４
とＣａＦ2膜５の２層の総光学膜厚が設計中心波長の約
１／１０であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子の表面に
コーティングされる反射防止膜および該反射防止膜の製
造方法に関するものであり、特に波長３００ｎｍ以下の
紫外光に有効な反射防止膜および該反射防止膜の製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の紫外光用の反射防止膜としてフッ
化物膜を用いた特開昭６１−７７００１、特開平７−２
４４２０５、特開平７−２４４２１７がある。
【０００３】
【発明が解決しようとしている課題】フッ化物膜を用い
た特開平７−２４４２０５、特開平７−２４４２１７で
はフッ化物の高屈折率膜（ＮｄＦ3 ，ＬａＦ3 等）が耐
環境性（高温度、高湿度環境の特性安定性能）が酸化物
（Ａｌ2 Ｏ3 膜）に比べ劣るという問題点があった。し
たがって、ステッパーの屈折型投影光学系のように多数
枚のレンズを用いる光学系の場合、経時変化により１面
の反射防止特性が微小変化しても投影系全体では大きな
特性シフトになってしまうという問題点があった。さら
に真空紫外および紫外領域波長のレーザーを長期間照射
を行うと、反射防止膜の空気側最終層表面に膜が形成さ
れるという問題点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】Ａｌ2 Ｏ3 膜は紫外波長
域で利用可能な他の高屈折率膜材料の中で最も緻密な膜
が製造可能であり、反射防止膜の耐環境性能（光学特性
の経時的安定性）を向上させるためには高屈折率膜とし
てＡｌ2 Ｏ3 を用いることにより特性の安定化が著しく
向上することを見出していた。
【０００５】しかし、最終層のＡｌＦ3 が吸湿性がある
という問題により、湿度の高い環境で使用された場合、
経時的に変化してしまうという問題も使用環境によって
はあった。
【０００６】また、真空紫外および紫外領域の波長を長
期間照射すると反射防止膜表面に膜が形成されてしまう
という問題も使用環境によってはあった。
【０００７】そこで、反射防止膜の最終層に湿気を防ぐ
層と付着膜形成防止層の効果を有する緻密なＳｉＯ2 と
疎水性を有するＣａＦ2 とを薄くオーバーコートした。
光学特性をさほど劣化させず防湿効果および付着膜形成
防止効果のあるＳｉＯ2 とＣａＦ2 の２層構成の総光学
膜厚としては、設計中心波長の約１／１０が適切である
との知見を得て本発明を完成したもので、本発明は、波
長１６０ｎｍから３００ｎｍの範囲に設計中心波長があ
る反射防止膜で、基材が石英または蛍石であり、Ａｌ2
Ｏ3 ，ＡｌＦ3 ，ＳｉＯ2 ，ＣａＦ2 からなる膜構成で
あり、基板側から数えて第１層、第２層、・・・という
複数層からなる膜構成で最終オーバーコート層の基板側
にＳｉＯ2 空気側にＣａＦ2 の２層があり、そのＳｉＯ
2 膜とＣａＦ2 膜２層の総光学膜厚が設計中心波長の約
１／１０であることを特徴とする反射防止膜を提案する
ものであり、５層構成の反射防止膜であって、各層の光
学的膜厚（屈折率×幾何学的膜厚）を基板側から数えて
第１層から第５層まで順にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ
５と表すとき、第１層と第３層がＡｌ2 Ｏ3 層であり、
第２層と第４層がＡｌＦ3 層で第５層のオーバーコート
層がＳｉＯ2 とＣａＦ2 であって、 ０．４０λ０≦ｄ１≦０．４５λ０ ０．３６λ０≦ｄ２≦０．４２λ０ ０．１９λ０≦ｄ３≦０．２４λ０ ０．０９λ０≦ｄ４≦０．１４λ０ ０．０９λ０≦ｄ５≦０．１１λ０ を満たすこと、６層構成の反射防止膜であって、各層の
光学的膜厚（屈折率×幾何学的膜厚）を基板側から数え
て第１層から第６層まで順にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，
ｄ５，ｄ６と表すとき、第１層と第３層と第５層がＡｌ
Ｆ層であり、第２層と第４層がＡｌ2 Ｏ3 層で第６のオ
ーバーコート層がＳｉＯ2 とＣａＦ2 であって、 ０．３６λ０≦ｄ１≦０．４１λ０ ０．３７λ０≦ｄ２≦０．４２λ０ ０．３２λ０≦ｄ３≦０．３７λ０ ０．１８λ０≦ｄ４≦０．２３λ０ ０．０９λ０≦ｄ５≦０．１４λ０ ０．０９λ０≦ｄ６≦０．１１λ０ を満たすこと、７層構成の反射防止膜であって、各層の
光学的膜厚（屈折率×幾何学的膜厚）を基板側から数え
て第１層から第７層まで順にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，
ｄ５，ｄ６，ｄ７と表すとき、第１層と第３層と第５層
がＡｌ2 Ｏ3 層であり、第２層と第４層と第６層がＡｌ
Ｆ3 層で第７のオーバーコート層がＳｉＯ 2 とＣａＦ2
であって、 ０．４１λ０≦ｄ１≦０．４６λ０ ０．３１λ０≦ｄ２≦０．３９λ０ ０．４４λ０≦ｄ３≦０．５０λ０ ０．０９λ０≦ｄ４≦０．２０λ０ ０．２３λ０≦ｄ５≦０．２８λ０ ０．１０λ０≦ｄ６≦０．１５λ０ ０．０９λ０≦ｄ７≦０．１１λ０ を満たすことを含む。
【０００８】また、本発明は、高屈折率層のＡｌ2 Ｏ3
層と低屈折率層のＡｌＦ3 層、ＳｉＯ2 層、ＣａＦ2 層
を真空蒸着法で製造することを特徴とする反射防止膜の
製造方法を提案するものであり、さらにアルミニウムタ
ーゲットを用い、ガス種を不活性ガスと酸素ガスとフッ
素系ガスとを切り替え、スパッタリング法によりＡｌ 2
Ｏ3 とＡｌＦ3 の膜製造し、ＳｉＯ2 膜はＳｉＯ2 ター
ゲットまたはＳｉターゲットを用い酸素ガスを主成分と
するスパッタリング法により製造し、さらにＣａＦ2 膜
はＣａＦ2 ターゲットを用い不活性ガスとフッ素ガスを
主成分とするスパッタリング法により製造することを特
徴とする反射防止膜の製造方法を提案するものであり、
前記不活性ガスがＡｒ，Ｈｅ，Ｘｅであることを含む。
【０００９】本発明によれば、高屈折膜としてＡｌ2 Ｏ
3 、低屈折率膜としてＡｌＦ3 ，ＳｉＯ，ＣａＦ2 を用
い、上記の膜構成にすることにより、紫外光域での広帯
域幅の反射防止膜を提供することができ、高屈折率膜と
してＡｌ2 Ｏ3 を用い、かつ最終層を設計中心波長の約
１／１０の光学膜厚のＳｉＯ2 とＣａＦ2 の２層構成と
することにより、湿気等の耐環境性および長期レーザー
照射性能の優れた紫外波長域の反射防止膜を提供するこ
とができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。
【００１１】図１は本発明の反射防止膜の層構成の一例
を示す断面図である。
【００１２】本発明の反射防止膜は図１に示すように、
基材１が石英または蛍石からなり、基材１上には高屈折
率膜であるＡｌ2 Ｏ3 膜２と低屈折率膜であるＡｌＦ3
膜３とＳｉＯ2 膜４とＣａＦ2 膜５からなる層構成から
なり、波長１６０ｎｍから３００ｎｍの範囲に設計中心
波長がある反射防止膜であり、基板側から数えて第１
層、第２層、・・・という複数層からなる膜構成で最終
オーバーコート層の基板側にＳｉＯ2 膜４、空気側にＣ
ａＦ2 膜５との２層があり、そのＳｉＯ2 膜４とＣａＦ
2 膜５の２層の総光学膜厚が設計中心波長の約１／１０
としてなる反射防止膜である。
【００１３】Ａｌ2 Ｏ3 膜は紫外波長域で利用可能な他
の高屈折率膜材料の中で最も緻密な膜が製造可能であ
り、反射防止膜の耐環境性能（光学特性の経時的安定
性）を向上させるためには高屈折率膜としてＡｌ2 Ｏ3
を用いることにより特性の安定化が著しく向上すること
を見出していた。
【００１４】しかし、最終層のＡｌＦ3 が吸湿性がある
という問題により、湿度の高い環境で使用された場合、
経時的に変化してしまうという問題も使用環境によって
はあった。
【００１５】また、真空紫外および紫外領域の波長を長
期間照射すると反射防止膜表面に膜が形成されてしまう
という問題も使用環境によってはあった。
【００１６】そこで、反射防止膜の最終層に湿気を防ぐ
層と付着膜形成防止層の効果を有する緻密なＳｉＯ2 と
疎水性を有するＣａＦ2 とを薄くオーバーコートするこ
とにより光学特性をさほど劣化させず防湿効果および付
着膜形成防止効果のある反射防止膜が得られる。
【００１７】ＳｉＯ2 膜４とＣａＦ2 膜５の２層の構成
の総光学膜厚としては、設計中心波長の約１／１０が適
切である。
【００１８】具体的な膜構成としては、５層構成の反射
防止膜では、各層の光学的膜厚（屈折率×幾何学的膜
厚）を基板側から数えて第１層から第５層まで順にｄ
１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ５と表すとき、第１層と第３
層がＡｌ2 Ｏ3 層であり、第２層と第４層がＡｌＦ3 層
で第５層がＳｉＯ2 とＣａＦ2 の２層構成であって、 ０．４０λ０≦ｄ１≦０．４５λ０ ０．３６λ０≦ｄ２≦０．４２λ０ ０．１９λ０≦ｄ３≦０．２４λ０ ０．０９λ０≦ｄ４≦０．１４λ０ ０．０９λ０≦ｄ５≦０．１１λ０ を満たすときに光学的に広帯域な反射防止膜であり耐湿
気および膜形成防止に対しても良好である。
【００１９】また、６層構成の場合は、各層の光学的膜
厚（屈折率×幾何学的膜厚）を基板側から数えて第１層
から第６層まで順にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ５，ｄ
６と表すとき、第１層と第３層と第５層がＡｌＦ層であ
り、第２層と第４層がＡｌ2Ｏ3 層で第６層がＳｉＯ2
とＣａＦ2 の２層構成であって、 ０．３６λ０≦ｄ１≦０．４１λ０ ０．３７λ０≦ｄ２≦０．４２λ０ ０．３２λ０≦ｄ３≦０．３７λ０ ０．１８λ０≦ｄ４≦０．２３λ０ ０．０９λ０≦ｄ５≦０．１４λ０ ０．０９λ０≦ｄ６≦０．１１λ０ を満たすとよい。
【００２０】さらに、７層構成では、各層の光学的膜厚
（屈折率×幾何学的膜厚）を基板側から数えて第１層か
ら第７層まで順にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ５，ｄ
６，ｄ７と表すとき、第１層と第３層と第５層がＡｌ2
Ｏ3 層であり、第２層と第４層と第６層がＡｌＦ3 層で
第７層がＳｉＯ2 とＣａＦ2 の２層構成であって、 ０．４１λ０≦ｄ１≦０．４６λ０ ０．３１λ０≦ｄ２≦０．３９λ０ ０．４４λ０≦ｄ３≦０．５０λ０ ０．０９λ０≦ｄ４≦０．２０λ０ ０．２３λ０≦ｄ５≦０．２８λ０ ０．１０λ０≦ｄ６≦０．１５λ０ ０．０９λ０≦ｄ７≦０．１１λ０ を満たすとよい。
【００２１】膜形成方法は、真空蒸着法でもよい結果を
得られるが、スパッタ法により緻密な膜形成が可能とな
り耐環境性能および長期レーザー照射性能はより向上す
ることができる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。
【００２３】（実施例１）高屈折率膜Ａｌ2 Ｏ3 と低屈
折率膜ＡｌＦ3 ，ＳｉＯ2 ，ＣａＦ2 を用い、設計中心
波長λ０＝１９３ｎｍの紫外光に対する５層反射防止膜
構成を表１に示した。合成石英基板を用い、表１の膜厚
で反射防止膜を製作した。製作した反射特性を測定した
結果を、図２に示す。反射率０．５％以下の波長帯域幅
が約３７ｎｍと広いことが確認された。
【００２４】
【表１】 （実施例２）設計中心波長λ０＝１９３ｎｍの紫外光に
対する６層構成の反射防止膜構成を表２に示した。合成
石英基板を用い、表２の膜厚で反射防止膜を製作した。
製作した反射防止膜の反射特性を測定した結果を、図３
に示す。波長２００ｎｍ以下の真空紫外波長域でも、反
射率０．５％以下の波長帯域幅が約３９ｎｍと広い膜構
成が可能であることが確認された。
【００２５】
【表２】 （実施例３）設計中心波長λ０＝１９３ｎｍの紫外光に
対する７層構成の反射防止膜構成を表３に示した。蛍石
基板を用い、表３の膜厚で反射防止膜を製作し、その反
射特性を測定した。図４に反射率光学特性測定結果を示
す。波長２００ｎｍ以下の真空紫外波長域でも、反射率
０．５％以下の波長帯域幅が４６ｎｍと広い膜構成が可
能であることが確認された。
【００２６】
【表３】 （実施例４）高屈折率膜Ａｌ2 Ｏ3 と低屈折率膜ＡｌＦ
3 ，ＳｉＯ2 ，ＣａＦ2 を用い、設計中心波長λ０＝２
４８ｎｍの紫外光に対する５層反射防止膜構成を表４に
示した。合成石英基板を用い、表４の膜厚で反射防止膜
を製作し、その反射特性を測定した。図５に反射率光学
特性測定結果を示す。反射率０．５％以下の波長帯域幅
が約５０ｎｍと広いことが確認された。
【００２７】
【表４】 （実施例５）設計中心波長λ０＝２４８ｎｍの紫外光に
対する６層構成の反射防止膜構成を表５に示した。合成
石英基板を用い、表５の膜厚で反射防止膜を製作し、そ
の反射特性を測定した。図６に反射率光学特性測定結果
を示す。波長２００ｎｍから３００ｎｍの紫外波長域で
も、反射率０．５％以下の波長帯域幅が５７ｎｍと広い
膜構成が可能であることが確認された。
【００２８】
【表５】 （実施例６）設計中心波長λ０＝２４８ｎｍの紫外光に
対する７層構成の反射防止膜構成を表６に示した。合成
石英基板を用い、表６の膜厚で反射防止膜を製作し、そ
の反射特性を測定した。図７に反射率光学特性測定結果
を示す。波長２００ｎｍから３００ｎｍの紫外波長域で
も、反射率０．５％以下の波長帯域幅が約６９ｎｍと広
い膜構成が可能であることが確認された。
【００２９】
【表６】 （実施例７）実施例１から６の反射防止膜は、真空蒸着
法およびスパッタリング法で製作した。
【００３０】真空蒸着は、真空度を１０-5Ｐａ以下まで
排気後、Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 は酸素ガスを約２０ＳＣ
ＣＭ導入し電子銃で蒸着し、ＡｌＦ3 およびＣａＦ2 は
高真空状態で抵抗加熱で蒸着した。基板温度は２００℃
以上加熱した。
【００３１】スパッタリングは９９．９９９％のアルミ
ニウムターゲットを用い、Ａｌ2 Ｏ 3 を成膜するときは
酸素ガスを主成分とするプロセスガスを用い、ＡｌＦ3
を成膜するときはＸｅガスおよびＮＦ3 混合ガスを用い
た。ＡｌＦ3 成膜時はＡｒ，Ｈｅ等の他の不活性ガスお
よび不活性ガス希釈のＦ2 ガスやＣＦ4 等のフッ素系ガ
スでも可能である。また、ＳｉＯ2 やＣａＦ2 は、合成
石英ターゲットや単結晶ＣａＦ2 ターゲットを用いＡｌ
Ｆ3 と同様なプロセスで成膜を行った。
【００３２】したがって、Ａｌ2 Ｏ3 ターゲットでガス
のみを切り替えＡｌ2 Ｏ3 とＡｌＦ 3 を成膜し、ＳｉＯ
2 膜およびＣａＦ2 膜はＳｉＯ2 ，ＣａＦ2 ターゲット
を用いて成膜した。
【００３３】（比較例１）表１−６の反射防止膜（Ａ
群）と最終層にオーバーコート膜のＳｉＯ2 とＣａＦ2
がない膜構成の反射防止膜（Ｂ群）の耐環境性を比較す
るため、６０℃−相対湿度９０％の環境下に１０００時
間放置し、外観、密着性の比較を行った。
【００３４】６０℃−相対湿度９０％の環境下に１００
０時間放置した結果は、共に有意差はなかったが、２０
００時間放置ではＢ群反射防止膜は、外観に曇りが生じ
はめているものが見られた。
【００３５】（比較例２）表１−６の反射防止膜（Ａ
群）と最終層にオーバーコート膜のＳｉＯ2 とＣａＦ2
がない膜構成の反射防止膜（Ｂ群）の設計中心波長と同
じ波長のレーザーを照射して外観および特性を比較し
た。
【００３６】１９３ｎｍのＡｒＦレーザー照射強度は、
５ｍｊ／ｃｍ2 で１×１０10パルス回照射した。また２
４８ｎｍのＫｒＦレーザー照射強度は２０ｍｊ／ｃｍ2
で１×１０10パルス回照射した。
【００３７】結果は、Ａ群Ｂ群共にＫｒＦレーザー照射
では有意差はなかったが、ＡｒＦレーザー照射のＢ群反
射防止膜のみ、外観に曇りが観測され膜付着が確認され
た。
【００３８】
【発明の効果】オーバーコート層の総膜厚が設計中心波
長の１／１０の光学膜厚で基板側にＳｉＯ2 とＣａＦ2
層が空気側の最終層となる膜構成にすることにより、耐
環境性の優れた紫外用反射防止膜を提供することができ
た。また、膜構成を最適化することにより５，６，７層
構造の広帯域幅の紫外用反射防止膜およびその製造方法
を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止膜の層構成の一例を示す断面
図である。
【図２】合成石英基板上の設計中心波長１９３ｎｍの５
層反射防止膜の反射率特性図である。
【図３】合成基板上の設計中心波長１９３ｎｍの６層反
射防止膜の反射率特性図である。
【図４】合成基板上の設計中心波長１９３ｎｍの７層反
射防止膜の反射率特性図である。
【図５】合成石英基板上の設計中心波長２４８ｎｍの５
層反射防止膜の反射率特性図である。
【図６】合成石英基板上の設計中心波長２４８ｎｍの６
層反射防止膜の反射率特性図である。
【図７】合成石英基板上の設計中心波長２４８ｎｍの７
層反射防止膜の反射率特性図である。
【符号の説明】
１ 基材 ２ Ａｌ2 Ｏ3 膜 ３ ＡｌＦ3 膜 ４ ＳｉＯ2 膜 ５ ＣａＦ2 膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 康之 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 枇榔 竜二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 金沢 秀宏 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA09 BB01 CC01 CC03 CC06 DD04

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 波長１６０ｎｍから３００ｎｍの範囲に
    設計中心波長がある反射防止膜で、基材が石英または蛍
    石であり、Ａｌ2 Ｏ3 ，ＡｌＦ3 ，ＳｉＯ2，ＣａＦ2
    からなる膜構成であり、基板側から数えて第１層、第２
    層、・・・という複数層からなる膜構成で最終オーバー
    コート層の基板側にＳｉＯ2 空気側にＣａＦ2 の２層が
    あり、そのＳｉＯ2 膜とＣａＦ2 膜２層の総光学膜厚が
    設計中心波長の約１／１０であることを特徴とする反射
    防止膜。
  2. 【請求項２】 ５層構成の反射防止膜であって、各層の
    光学的膜厚を基板側から数えて第１層から第５層まで順
    にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ５と表すとき、第１層と
    第３層がＡｌ2 Ｏ3 層であり、第２層と第４層がＡｌＦ
    3 層で第５層のオーバーコート層がＳｉＯ2 とＣａＦ2
    であって、 ０．４０λ０≦ｄ１≦０．４５λ０ ０．３６λ０≦ｄ２≦０．４２λ０ ０．１９λ０≦ｄ３≦０．２４λ０ ０．０９λ０≦ｄ４≦０．１４λ０ ０．０９λ０≦ｄ５≦０．１１λ０ を満たす請求項１に記載の反射防止膜。
  3. 【請求項３】 ６層構成の反射防止膜であって、各層の
    光学的膜厚（屈折率×幾何学的膜厚）を基板側から数え
    て第１層から第６層まで順にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，
    ｄ５，ｄ６と表すとき、第１層と第３層と第５層がＡｌ
    Ｆ層であり、第２層と第４層がＡｌ2 Ｏ3 層で第６のオ
    ーバーコート層がＳｉＯ2 とＣａＦ2であって、 ０．３６λ０≦ｄ１≦０．４１λ０ ０．３７λ０≦ｄ２≦０．４２λ０ ０．３２λ０≦ｄ３≦０．３７λ０ ０．１８λ０≦ｄ４≦０．２３λ０ ０．０９λ０≦ｄ５≦０．１４λ０ ０．０９λ０≦ｄ６≦０．１１λ０ を満たす請求項１に記載の反射防止膜。
  4. 【請求項４】 ７層構成の反射防止膜であって、各層の
    光学的膜厚（屈折率×幾何学的膜厚）を基板側から数え
    て第１層から第７層まで順にｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，
    ｄ５，ｄ６，ｄ７と表すとき、第１層と第３層と第５層
    がＡｌ2 Ｏ3層であり、第２層と第４層と第６層がＡｌ
    Ｆ3 層で第７のオーバーコート層がＳｉＯ2 とＣａＦ2
    であって、 ０．４１λ０≦ｄ１≦０．４６λ０ ０．３１λ０≦ｄ２≦０．３９λ０ ０．４４λ０≦ｄ３≦０．５０λ０ ０．０９λ０≦ｄ４≦０．２０λ０ ０．２３λ０≦ｄ５≦０．２８λ０ ０．１０λ０≦ｄ６≦０．１５λ０ ０．０９λ０≦ｄ７≦０．１１λ０ を満たす請求項１に記載の反射防止膜。
  5. 【請求項５】 高屈折率層のＡｌ2 Ｏ3 層と低屈折率層
    のＡｌＦ3 層、ＳｉＯ2 層、ＣａＦ2 層を真空蒸着法で
    製造することを特徴とする反射防止膜の製造方法。
  6. 【請求項６】 アルミニウムターゲットを用い、ガス種
    を不活性ガスと酸素ガスとフッ素ガスとを切り替え、ス
    パッタリング法によりＡｌ2 Ｏ3 とＡｌＦ3の膜製造
    し、ＳｉＯ2 膜はＳｉＯ2 ターゲットまたはＳｉターゲ
    ットを用い酸素ガスを主成分とするスパッタリング法に
    より製造し、さらにＣａＦ2 膜はＣａＦ 2 ターゲットを
    用い不活性ガスとフッ素系ガスを主成分とするスパッタ
    リング法により製造することを特徴とする反射防止膜の
    製造方法。
  7. 【請求項７】 前記不活性ガスがＡｒ，Ｈｅ，Ｘｅであ
    る請求項６に記載の反射防止膜の製造方法。
JP10340312A 1998-11-30 1998-11-30 反射防止膜および該反射防止膜の製造方法 Pending JP2000162404A (ja)

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