JP2000150579A - フリップチップ実装方法 - Google Patents

フリップチップ実装方法

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JP2000150579A
JP2000150579A JP25585799A JP25585799A JP2000150579A JP 2000150579 A JP2000150579 A JP 2000150579A JP 25585799 A JP25585799 A JP 25585799A JP 25585799 A JP25585799 A JP 25585799A JP 2000150579 A JP2000150579 A JP 2000150579A
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chip
insulating layer
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insulating resin
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Koji Ito
▲鉱▼司 伊藤
Masanori Akita
雅典 秋田
Toshihiro Mori
俊裕 森
Richard H Estes
リチャード・エイチ・エステス
Minoru Wada
稔 和田
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Toray Engineering Co Ltd
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    • H01L2924/14Integrated circuits

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ICチップと回路基板間に介在せしめられる
絶縁層をICチップのバンプで突き破って直接、接合せ
しめるに際し、かかる絶縁層にボイドが発生するのを防
止すると共に信頼性が十分な状態に強固に接合できるよ
うにする。 【解決手段】 ICチップのバンプを導電性ペーストか
らなるポリマーバンプで構成し、かつ、このポリマーバ
ンプで、回路基板に絶縁性樹脂ペーストを印刷して形成
されている絶縁層を突き破って接合する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フリップチップ実
装方法、更に詳しくは、ICチップのバンプを回路基板
の電極に接合せしめるに際し、ICチップと回路基板間
に絶縁層を介在せしめるフリップチップ実装方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来、フリップチップ実装に関し、各種
の実装方法が提案されているが、その代表例として、I
Cチップと回路基板間に絶縁層を介在せしめる実装方法
が挙げられる。
【0003】この実装方法によると、ICチップを回路
基板に接合すると同時に、その接合箇所周辺を樹脂封止
(アンダーフィル)することができて実装工程の簡略化
を図ることができる等の効果を得ることができる。
【0004】その為、近時、この実装方法が注目されつ
つあるが、例えば、特開平4−345040号公報等に
おいては、かかる絶縁層を絶縁性樹脂フィルムで形成、
すなわち、ICチップと回路基板間に絶縁性樹脂フィル
ムを介在させる所謂、フィルム介在方式の実装方法が開
示されていると共に、絶縁性樹脂フィルムについて接着
性を有するものを用いることが特開平9−97815号
公報等において開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、これら公知
の実装方法は、いずれも、ICチップのAuバンプを挿
入する為のスルホールを多数、搾設した絶縁性樹脂フィ
ルムを用いているので、それの加工が煩わしく汎用性が
不十分である等の欠点を有している為、実用に供するこ
とが困難であった。
【0006】そこで、先願(特願平10−95463)
において、スルホールを設けていない絶縁性樹脂フィル
ムを用い、これをICチップの特殊なバンプ(ポリマー
バンプ)で突き破って接合する所謂、フィルム突き破り
方式の実装方法を提案した。
【0007】しかし、この改良方法も、ICチップを実
装する回路基板上に半硬化状態の絶縁性樹脂フィルムを
前もって張り付けた後に、ICチップのポリマーバンプ
とチップ面を介して、かかる絶縁性樹脂フィルムを加圧
加熱し、もって、前記樹脂フィルムを溶融流動化せしめ
て基板電極部の空隙に充填するが為に、回路基板の電極
及び/又は電極に接続されているリード部の根元等に、
絶縁の破壊や接続の信頼性低下に結びつく空気を抱き込
み易く、従って、微細な気泡が抜けきらずに所謂、ボイ
ドが形成されてしまうといった欠点を有していた。
【0008】本発明は、かかる欠点に鑑み、それを解消
すべく鋭意検討の結果、絶縁性樹脂フィルムを用いて絶
縁層を形成することに代えて、回路基板に絶縁性樹脂ペ
ーストを印刷して絶縁層を形成することにより、ボイド
の発生を有効に防止することができることを見出し、こ
の点に基づいて本発明を完成し得たものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明に係る
フリップチップ実装方法は、請求項1に記載するよう
に、導電性ペーストからなるポリマーバンプを形成した
ICチップと回路基板間に絶縁層を介在せしめ、かつ、
前記ポリマーバンプで前記絶縁層を突き破って前記回路
基板の電極に直接、接合せしめるフリップチップ実装方
法において、前記絶縁層を、前記回路基板に絶縁性樹脂
ペーストを印刷して形成することを特徴とするものであ
る。
【0010】なお、絶縁性樹脂ペーストは、印刷性を付
与する為、適用する樹脂に所定の溶剤を混練して低粘度
化したものが一般的に用いられるが、その印刷に際して
は、ステンシルマスク版を用いるのが、印刷面の平滑性
と気泡の混入除去の観点から好ましい。
【0011】また、絶縁層は、絶縁性樹脂ペーストで印
刷形成した後、溶剤を気化させて半硬化状態にBステー
ジ化せしめ、この状態においてICチップの実装に供す
ることが好ましい。
【0012】なお、ウエハのICパッド部は、非導電性
のAl酸化膜が被覆された状態で市場に提供されるケー
スが多いが、その場合においては、導電性ペーストを印
刷してポリマーバンプを形成するに先立って前記非導電
性の薄膜を除去し、次いで、それにNi膜を介在させて
Au薄膜などの導電性の金属薄膜を形成した上で、この
ウエハに、ステンシルマスク版を用いて所定の導電性ペ
ーストを印刷すればよい。
【0013】また、ICチップを実装するに当たって
は、ICチップのポリマーバンプとチップ面を介してB
ステージ化した半硬化状態の絶縁性樹脂層を加圧加熱し
ながら、この絶縁樹脂層をポリマーバンプで突き破って
回路基板と接続導通せしめるが、その際、加熱加圧力に
よって基板が動いて位置ずれが生じ、これに基づいて接
続の不良を発生させないように回路基板を強固に固定し
得る吸気ステージで吸引保持するのが好ましい。
【0014】これは、特に、樹脂フィルム基板、すなわ
ち、ポリイミドフィルムや耐熱性の低いポリエステル樹
脂及びその変性物のフィルム基材などからなり、一般的
に、フレキシブル基板と呼ばれているような基板に対し
て用いるのが好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明においては、図1において
示されているように、ICチップ1のポリマーバンプ2
を、回路基板3の電極4に直接、接合(ボンディング)
せしめるが、その際、ポリマーバンプ2で絶縁層5を突
き破って接合する。なお、ポリマーバンプ2は、ICチ
ップ1の導電膜化処理された電極パッド6に導電性ペー
ストをスクリーン印刷して形成されている。
【0016】また、かかるスクリーン印刷の版材として
メタルマスクが好適であると共に、導電性ペーストは、
導電粒子(例えば、銀粒子等)を70%wt以上含有し
たもの(例えば、エポキシ系樹脂等)が用いられる。
【0017】一方、絶縁層5は、回路基板3上のICチ
ップ1を実装する箇所に絶縁性樹脂ペーストを印刷して
形成される。その為、基板電極リード線間の微小空隙に
対しても樹脂を十分に充填することができる。
【0018】なお、後述のBステージ化を省く為に、絶
縁性樹脂ペーストの粘度は、70,000cps〜20
0,000cps、一般には、90,000cps〜1
50,000cpsが好ましい。
【0019】70,000cps以下では粘度が低く、
ICチップ1のポリマーバンプ2で絶縁層5を加圧して
突き破って接合するときに絶縁層5の形状保持が難し
く、絶縁性樹脂ペーストがICチップ1の周辺に流れ出
して基板電極4とICチップ1間の間隙を適正に保持す
ることができないからである。
【0020】また、200,000cps以上では、粘
度が高すぎて基板電極リード線間の微小空隙に均一に流
し込むことが難しく、空気層を抱き込むことになると共
に平坦で平滑な印刷膜層を得ることができないからであ
る。
【0021】なお、絶縁層5は、電極厚みよりも厚く一
様に印刷形成されるが、その形成後に、必要ならば、上
述のように印刷形成した絶縁樹脂層をICチップ1で加
圧実装する前に、この絶縁樹脂層を予め加熱処理などの
方法で予備硬化、すなわち、一般的にBステージと云わ
れる状態に処理してから実装に供することもできる。特
に、絶縁性樹脂ペーストの粘度が上記した適性下限粘度
より低い樹脂ペーストを使う場合には、このBステージ
化処理が有効である。
【0022】このBステージ化した状態の絶縁樹脂層
は、ポリマー中の溶剤を蒸発気化させることで形状保持
性が安定し、かつ、樹脂の硬化反応が十分に進行してい
ないために柔軟性に富んでいる。
【0023】その為、比較的小さな加圧力で、このBス
テージ化した樹脂層をICチップ1のポリマーバンプ2
で突き破ることができ、そして、突き破った後ないしは
突き破ると同時に樹脂の硬化反応を促進するために加熱
処理される。
【0024】なお、絶縁性樹脂ペーストは、熱硬化性、
熱可塑性又はそれらの混合物のいずれであってもよい
が、好ましくは、熱硬化性のものが用いられる。また、
絶縁性樹脂ペーストの印刷に際し、各種のマスク版を使
用することができるが、ステンシルマスク版を用いるの
が好ましい。
【0025】すなわち、通常のメッシュスクリーン版を
使用してもよいが、これを使用すると、メッシュ版の交
合部で空気を抱き込み易く、かつ、メッシュ版の糸形状
が印刷面に転写されて平滑で均一な表面が得難くて実装
後の微細ボイド混入の原因になり易い。
【0026】それに対し、ステンシルマスク版を用いる
ことにより、空気だまりを残存させないように基板電極
部の空隙に対して絶縁性樹脂ペーストを十分に充填する
ことが容易になるから、これの方が好ましい。
【0027】なお、絶縁性樹脂ペーストを印刷する領域
を特定化する必要性は特にない。一般にチップ実装の相
当領域に対し、チップサイズよりもやや大きめの面積を
目安に印刷すればよい。
【0028】また、絶縁性樹脂ペーストの印刷におい
て、回路基板3上のボンデイング相当部分の電極パッド
部を予めくり抜いて印刷し、ICチップ1のボンデイン
グに際し、ポリマーバンプ2を直接、回路電極パットと
接触せしめて導通させるようにしてもよい。
【0029】加えて、回路基板3が、ポリイミドフィル
ムや耐熱性の低いポリエステル樹脂及びその変性物のフ
ィルム基材などからなり、一般的にフレキシブル基板と
呼ばれているような樹脂フィルム基板の場合において
は、Bステージ化した半硬化状態の絶縁性樹脂層5をポ
リマーバンプ2で突き破って基板回路と接続せしめる際
に絶縁性樹脂層5の硬化反応を促進させる為に、局部的
に同時加熱しながら加圧してもよい。
【0030】これにより、加熱硬化設備ないしその工程
を割愛できて実装工程の効率を高めることができるので
極めて有効であるが、その際、回路基板3が動いて位置
ずれが生じ、これに基づいて接続不良が発生するのを防
止する為に、吸気ステージ7で吸引保持し強固に固定す
るのが好ましい。
【0031】なお、吸気ステージ7は、ステージの厚み
方向に連続気泡構造で、かつ、吸引表層部の全表面にわ
たって微細な空孔を容易に加工ができる焼結金属からな
るステージが特に好適である。
【0032】何故ならば、基板吸着部の空孔部面積を大
きく取れて真空吸引することができるので、基板ワーク
全面にわたって、むらなく大きな力で固定でき、その
為、位置ずれやしわ、及び吸引の跡をつけずに固定でき
るからである。
【0033】このように、吸気ステージ7に対して樹脂
フィルム基板を適用するのが最も好ましいが、他の回路
基板を適用してもよい。なお、ボンディングツール8
は、XYZの三軸方向に移動し得ると共に所定角度に回
転し得るように装着されており、しかも、ヒータを内蔵
(図示されていない)していると共にICチップ1を真
空吸引によって保持することができるように設けられて
いる。
【0034】よって、下方の回路基板3の電極4に対し
てICチップ1のポリマーバンプ2を精密に位置決めさ
せて熱圧着、すなわち、接合(ボンディング)すること
ができるが、その際、ICチップ1のポリマーバンプ2
で絶縁層5を突き破って良好に接合することができる。
なお、接合時の加熱温度及び加圧力は所定に制御され
る。
【0035】以上、詳述したように、本発明において
は、回路基板3に絶縁性樹脂ペーストを印刷して絶縁層
5を形成すると共に、この絶縁層5を、導電性ペースト
からなるポリマーバンプ2で突き破って直接、接合せし
めるから、絶縁層5の形成に際して問題視されていたボ
イドの発生を防止し得ると共に信頼性が十分な状態に強
固に接合することができる。
【0036】なお、ポリマーバンプ2は、従来のバン
プ、例えば、メッキ法により形成される半田バンプやA
uバンプ等との比較において、絶縁層5を突き破ること
ができる点においては、格別な差異が無いとしても、接
合時において回路基板3の電極との接触面積を広げ得る
状態に変形できるといった特性を有している点で著しく
異なり、加えて、バンプ表面が接合に適した状態で銀鱗
粒子が表面に析出して微細な凹凸面を形成しているとい
った特性を有していると共に、接合時において樹脂が接
着剤の役割をするといった特性を有している点において
も著しく異なっている。その為、信頼性が十分な状態に
強固に接合することができる。
【0037】
【実施例1】ウエハのICパッド部のAl酸化膜をあら
かじめ除去したのち、無電解メッキでNi膜厚2μm、
更に無電解メッキでAu膜厚0.3μmの導電性薄膜に
置換した後、そのパッド部に、銀粒子を70%以上含有
した熱硬化性エポキシ樹脂からなる導電ペースト(エポ
キシテクノロジー社製、品番称呼E2101)を、マス
ク厚み50μm、マスク孔径100μmのステンシルマ
スク版を使用して印刷しポリマーバンプを形成した。
【0038】次いで、かかるバンプを形成したウエハ
を、150℃の熱風オーブンで約1時間加熱し印刷され
た導電ペーストを完全に硬化させた。これにより、バン
プ底部の平均径が110μm、平均高さが40μmのバ
ンプ付きウエハを得た。なお、バンプ頂部は約15〜2
0μm程度の比較的平坦な部分があるものの一様な円錐
形状のバンプが得られた。
【0039】このウエハをダイシングソーで切断して個
々のICチップを得た。このチップは、回路基板とバン
プ間の接続抵抗を測定するためのものとして一般的に知
られているデイジイーチェン回路構造からなる導通評価
用のものである。なお、ICチップ1個あたりのバンプ
数は16個であった。
【0040】一方、厚さ10μmの銅箔が張り付けられ
たポリエステル基材を用いてエッチング法により銅配線
パターンを形成し、その銅配線上に更に無電解メッキ法
によりNi/Au金属層を形成し導通評価テスト用の回
路基板をつくった。
【0041】次いで、この回路基板のICチップ実装部
分に、絶縁性の熱硬化性エポキシ樹脂ペースト(エポキ
シテクノロジー社製、品番呼称TE154−9、粘度1
7,500cps、体積抵抗率1×1014Ω−cm)
を、ICチップサイズより多少大きめの印刷形状に仕上
がるように加工されたステンシルマスク版を使用して印
刷した。かかるマスク版の厚みは35μmであった。
【0042】次いで、絶縁性樹脂ペーストを印刷した回
路基板を、50℃の熱風オーブンで約15分間加熱し、
前記樹脂ペーストの粘着性が発現しない状態、すなわ
ち、半硬化状態のBステージ化にした。
【0043】次いで、この回路基板を、チップボンダー
の吸気ステージ、すなわち、その表層部まで連続気泡の
微細な空孔が多数設けられている焼結金属プレートから
なる吸気ステージ(SMC株式会社製のSPプレートを
使用)上に置き、かつ、真空吸引して回路基板を固定し
た後、回路基板のアライメントマークとICチップのア
ライメント用マークを上下2眼のCCDカメラを使用し
て位置合わせした。
【0044】次いで、220℃に加熱したボンデイング
ツールに真空吸引によってチャッキングしたICチップ
を、上記のBステージ化した絶縁樹脂膜を介して最大で
800gの荷重をかけて押圧した。そして、20秒経過
後、ボンデイングツールをエアーで5秒間冷却し、その
後、ツールを上昇させて押圧力を解放しボンデイングを
終了した。
【0045】次いで、回路基板とICバンプの間の接続
抵抗をデジタルマルチメーターで測定し、3端針子法に
より求めた結果、114〜338mΩであった。また、
ボンデイング後のICチップ先端部を観察したところ、
バンプ高さは約1/3程度変形して低くなり、バンプ先
端部が約40μmの径に拡大していた。また、基板電極
部のリード線間の空隙には、絶縁性樹脂が十分に充填さ
れており、かつ、チップ面にも微細な空気だまりが確認
出来なかった。
【0046】これらのことからして、回路基板の配線導
体パターンの所定位置にICチップが強固に接合され、
かつ、バンプ近傍や基板配線導体間に充填された樹脂層
には気泡が混在しないことが確認された。
【0047】
【実施例2】実施例1の導通評価用回路基板と同一の回
路基板について、そのICチップ実装部分に、絶縁性の
熱硬化性エポキシ樹脂ペースト(エポキシテクノロジー
社製、品番呼称TE154−9、粘度17,500cp
s、体積抵抗率1×1014Ω−cm)を、ICチップサ
イズより多少大きめの印刷形状に仕上がるように加工さ
れたポリエステル織布からなる350メッシュのスクリ
ーン版を使用して印刷した。なお、スクリーン版の厚み
は40μmであった。
【0048】次いで、絶縁性樹脂ペーストを印刷した回
路基板を、実施例1と同様に、50℃の熱風オーブンで
約15分間加熱し、このペーストの粘着性が発現しない
状態、すなわち、半硬化状態のBステージ化した。
【0049】そして、印刷された表面を観察した結果、
メッシュ版の糸形状が印刷面に転写され、かつ、メッシ
ュ版の糸交合部で空気を抱き込み、従って、平滑で均一
な表面が得られなかった。
【0050】また、それに実施例1と同一の条件でボン
デイングし、回路基板電極とICバンプの間の接続抵抗
を測定した結果、280〜660mΩの実用に耐える接
続抵抗が得られた。
【0051】しかし、微細ボイドの混入状態を確認した
ところ、基板電極部リード線間の一部分に、絶縁性樹脂
が充填されていないと共に、チップ面にも微細な空気だ
まりが形成されていた。
【0052】このことからして、絶縁性樹脂ペーストの
印刷は、スクリーン版を用いる場合よりも、実施例1の
ように、ステンシルマスク版を用いる場合の方が有利で
あることがわかる。
【0053】
【比較例】実施例1の導通評価用回路基板と同一の回路
基板について、そのICチップ実装部分に絶縁性樹脂ペ
ーストを印刷した回路基板を、直径1mmの真空吸引孔
が縦横10mm間隔の配列で全面にわたってドリル加工
されている吸気ステージ(連続気泡からなる多孔質の吸
気ステージと異なるもの)上にセットし、真空吸引して
回路基板を固定した後、実施例1と同様の方法でICチ
ップを接合(ボンデイング)した。
【0054】その際、実施例1のそれと同一のICチッ
プを、220℃に加熱したボンデングヘッドで真空吸着
し、ポリマーバンプで基板電極上のBステージ化した半
硬化状態の絶縁性樹脂層を突き破って基板回路と接続せ
しめるように3.2kgの力で加熱加圧しながら約20
秒間、押圧した。
【0055】その結果、ICチップの外周辺の約10m
mから15mmの部分で回路基板が吸気ステージ上で波
打ち変形が生じた。また、実装後、回路基板の電極とI
Cチップのバンプ間の接続抵抗を測定したが、導通抵抗
を測定できなかった。更に、回路基板とICチップとを
引き離し、回路基板の電極部の状態を観察したところ、
接合個所周辺の基板電極部に位置ずれが生じていた。
【0056】このことからして、接合時に回路基板の電
極部が局部的に加熱、かつ、加圧される為に変形して位
置ずれしてしまうことを確認できたと共に、かかる変形
によって生ずる力よりも大きな吸引保持力で回路基板を
保持する必要があることが判明した。
【0057】
【発明の効果】上述の如く、請求項1〜6に記載の発明
によると、ICチップと回路基板間に介在せしめられる
絶縁層をICチップのバンプで突き破って直接、接合せ
しめるに際し、かかる絶縁層にボイドが発生するのを防
止し得ると共に信頼性が十分な状態に強固に接合するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】絶縁層を形成した回路基板にICチップを接合
する態様を示す図である。
【符号の説明】
1 ICチップ 2 ポリマーバンプ 3 回路基板 4 電極 5 絶縁層 6 電極パッド 7 吸気ステージ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード・エイチ・エステス アメリカ合衆国ニューハンプシャー州 03076ペルハム・ブラックストーンサーク ル15 (72)発明者 和田 稔 埼玉県北足立郡小針新宿1457

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電性ペーストからなるポリマーバンプ
    を形成したICチップと回路基板間に絶縁層を介在せし
    め、かつ、前記ポリマーバンプで前記絶縁層を突き破っ
    て前記回路基板の電極に直接、接合せしめるフリップチ
    ップ実装方法において、前記絶縁層を、前記回路基板に
    絶縁性樹脂ペーストを印刷して形成することを特徴とす
    るフリップチップ実装方法。
  2. 【請求項2】 絶縁性樹脂ペーストの印刷に際してステ
    ンシルマスク版を用いることを特徴とする請求項1に記
    載のフリップチップ実装方法。
  3. 【請求項3】 絶縁層を形成した後、Bステージ化する
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載のフリップチッ
    プ実装方法。
  4. 【請求項4】 ポリマーバンプを、ステンシルマスク版
    を用いて印刷形成することを特徴とする請求項1,2又
    は3に記載のフリップチップ実装方法。
  5. 【請求項5】 回路基板を連続気泡からなる多孔質の吸
    気ステージで吸引保持することを特徴とする請求項1,
    2,3又は4に記載のフリップチップ実装方法。
  6. 【請求項6】 回路基板が樹脂フィルム基板であること
    を特徴とする請求項5に記載のフリップチップ実装方
    法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006177925A (ja) * 2004-11-25 2006-07-06 Denso Corp 圧力センサおよびその製造方法
JP2007009022A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Sekisui Chem Co Ltd シート状接着剤、電子部品装置の製造方法及び電子部品装置

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