JP2000149246A - 磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁変換特性に優れかつドロップアウトの極
めて少ない高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして
有用な二軸配向積層ポリエステルフィルムを提供する。 【解決手段】 ポリエチレンテレフタレート樹脂Ａから
なるベース層Ａおよび該ベース層Ａの一方の表面上に存
在する、バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性
剤を含有する塗膜層Ｂからなる積層フィルムであって、
該ベース層Ａが実質的に不活性微粒子を含まない二軸配
向フィルムであり、かつ該塗膜層Ｂの表面の中心線平均
粗さが５ｎｍ以下であり、そして該表面の長径が１０μ
ｍ以上の特大突起の密度が２０個／cm²以下であること
を特徴とする磁気記録媒体用積層ポリエステルフィル
ム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用積層
ポリエステルフィルムに関し、さらに詳しくは、電磁変
換特性に優れかつドロップアウトの極めて少ない磁気記
録媒体のベースフィルムとして有用な二軸配向積層ポリ
エステルフィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパ
ッタリングなどの物理沈着法またはメッキ法により非磁
性支持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体、お
よびメタル粉や酸化鉄粉などの針状磁性粉体を２μｍ以
下に塗布した薄層塗膜型磁気記録媒体の開発実用化が進
められている。

【０００３】金属薄膜型磁気記録媒体の例としては、特
開昭５４−１４７０１０号公報に非磁性材よりなる基材
上に付着された第１のＣｏ薄膜磁性層上に、非磁性材層
を介して前記第１のＣｏ薄膜磁性層の厚みより大なる厚
みの第２の Ｃｏ薄膜磁性層を形成した磁気記録媒体が
開示されており、また特開昭５２−１３４７０６号公報
にＣｏ−Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体が開示され
ている。

【０００４】薄層塗膜型磁気記録媒体の例としては、電
子通信学会技術報告ＭＲ９４−７８（１９９５−０２）
に極薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録が開
示れている。

【０００５】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く、記録波長も
長いために、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに
対して、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレー
ティングなどの薄膜形成手段によって形成される強磁性
金属薄膜は厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極
薄層塗布型の場合も、非磁性下地層を設けるものの０．
１３μｍの厚みのものが提供され非常に薄くなってい
る。

【０００６】このため、上記の高密度磁気記録媒体にお
いては、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が
磁性層の表面性に大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型
の磁気記録媒体の場合には、非磁性支持体の表面状態が
そのまま磁性層（磁気記録層）表面の凹凸として発現し
てしまう。

【０００７】さらに、金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、実際に使用されるときの重大な問題点として、金属
薄膜面の走行性向上がある。磁性体粉体を有機高分子バ
インダー中に混入させてベースフィルムに塗布してなる
塗布型磁気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤滑
剤を分散させて磁性層面の走行性を向上させることがで
きるが、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、このよう
な対策をとることができず、走行性を安定して保つのは
非常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなど
の欠点を有している。さらにこの場合には、繰り返し使
用時の出力低下が塗布型磁気記録媒体と比べて大きいと
いう欠点も存在する。

【０００８】一方、非磁性支持体（ベースフィルム）の
製膜、加工工程での搬送・傷付き、巻取り、巻出しとい
ったハンドリングの観点からは、フィルム表面が平滑す
ぎると、フィルム−フィルム相互の滑り性が悪化し、ブ
ロッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状
（ロールフォーメーション）が悪化し、製品歩留りの低
下、ひいては製品の製造コストの上昇をきたす。従っ
て、製造コストという観点では、非磁性支持体（ベース
フィルム）の表面はできるだけ粗いことが好ましい。

【０００９】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性の観点から平滑であることが要求され、反面、
ハンドリング性、フィルムコストの観点からは粗いこと
が要求される。

【００１０】そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体
を製造するには、上記二律背反する性質を同時に満足さ
せることが必要とされる。

【００１１】特開平５−１９４７７２号公報には、ポリ
エステルフィルムの一つの表面に連続薄膜よりなる、磁
性層のためのプライマー層が塗設してあり、該プライマ
ー層の連続薄膜の表面は（Ａ）平均粒径０．０６μｍ未
満の粒子を核とする高さ１３ｎｍ以下の小突起と（Ｂ）
平均粒径０．０６μｍ以上の粒子を核とする高さ３０ｎ
ｍ以下の大突起と（Ｃ）プライマー層を形成する樹脂の
みによる微小突起とを有し、これらの突起の数が下記式 ＡＮ ≧１．０×１０⁶（個／ｍｍ²） ＢＮ ≧１．０５×１０⁴（個／ｍｍ²） ＡＮ ≦−３．４×１０²×ＢＮ ＋１３．６×１０
⁶（個／ｍｍ²） ＣＮ ≦４．０×１０⁶（個／ｍｍ²） 〔ただし、ＡＮは小突起の数（個／ｍｍ²）、ＢＮは大
突起の数（個／ｍｍ²）、ＣＮは微小突起の数（個／ｍ
ｍ²）である。〕を満足し、そしてプライマー層を形成
する樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さ ＲａＳ
が１．１０ｎｍ以下であり、かつ前記連続薄膜の表面粗
さＲａが１〜１０ｎｍである、磁気記録媒体用ポリエス
テルフィルムが開示されている。

【００１２】特開平５−２９８６７０号公報には、ポリ
エステルフィルムの一つの表面に連続薄膜よりなる、磁
性層のためのプライマー層が塗設してあり、該プライマ
ー層の連続薄膜の表面は（Ａ）平均粒径０．０６μｍ未
満の粒子を核とする高さ１３ｎｍ以下の小突起と（Ｂ）
平均粒径０．０６μｍ以上の粒子を核とする高さ３０ｎ
ｍ以下の大突起と（Ｃ）プライマー層を形成する樹脂の
みによる最大長径が０．３０μｍ以下の微小突起が形成
されており、これらの突起の数が下記式 ＡＮ ≧１．０×１０⁶（個／ｍｍ²） ＢＮ ≧１．０５×１０⁴（個／ｍｍ²） ＡＮ ≦−３．４×１０²×ＢＮ ＋１３．６×１０
⁶（個／ｍｍ²） １．０×１０（個／ｍｍ²）≦ＣＮ ≦１．０×１０
⁴（個／ｍｍ²） 〔ただし、ＡＮは小突起の数（個／ｍｍ²）、ＢＮは大
突起の数（個／ｍｍ²）、ＣＮは微小突起の数（個／ｍ
ｍ²）である。〕を満足し、前記プライマー層を形成す
る樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さＲａＳが
１．１０ｎｍ以下であり、さらに前記連続薄膜の表面粗
さＲａが１〜１０ｎｍであり、そして前記連続薄膜はフ
ィルムを１６０℃で５分間空気中で連続加熱したときに
フィルム表面上のポリエステルオリゴマー微結晶の析出
率を０．８％以下に抑制できる、磁気記録媒体用ポリエ
ステルフィルムが開示されている。

【００１３】上記の如きポリエステルフィルムによれ
ば、磁性層面側のベースフィルムの平滑化はある程度は
実現できるものの、ここ数年さらに高密度化の要求があ
り走行耐久性向上のために、磁性層面側のベースフィル
ム中に添加した粒子が電磁変換特性を悪化させるばかり
か、粒子の分散性が悪いために特大突起が多く、これが
ドロップアウトの原因となったり、磁気ヘッドの偏摩耗
を引き起こして出力が低下するなどの問題があった。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、電磁
変換特性に優れかつドロップアウトの極めて少ない高密
度磁気記録媒体のベースフィルムとして有用な二軸配向
積層ポリエステルフィルムを提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、ポリエチレンテレフタレート
樹脂Ａからなるベース層Ａおよび該ベース層Ａの一方の
表面上に存在する、バインダー樹脂、不活性微粒子およ
び界面活性剤を含有する塗膜層Ｂからなる積層フィルム
であって、該ベース層Ａが実質的に不活性微粒子を含ま
ない二軸配向フィルムであり、かつ該塗膜層Ｂの表面の
中心面平均粗さが５ｎｍ以下であり、そして該表面の長
径が１０μｍ以上の特大突起の数が２０個／cm²以下で
あることを特徴とする磁気記録媒体用積層ポリエステル
フィルムによって達成される。

【００１６】本発明においてベース層Ａを形成するポリ
エチレンテレフタレート樹脂は、主たる酸成分がテレフ
タル酸からなり、主たるグリコール成分がエチレングリ
コールからなる、フイルム形成性の線状ポリエステルで
ある。このポリエステルはホモポリエステルであって
も、コポリエステルであってもよい。

【００１７】コポリエステルの場合、例えば、ジエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、ポリエチレングリコール、１，４−シクロ
ヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコールなど
の他のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル
酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、
５−ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン
酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボ
ン酸成分などの共重合成分が挙げられる。これら共重合
成分の量は２０モル％以下、さらには１０モル％以下と
するのが好ましい。

【００１８】さらに、トリメリット酸、ピロメリット酸
等の三官能以上の多官能化合物を共重合させることもで
きる。この場合、ポリマーが実質的に線状である量、例
えば２モル％以下共重合させるのがよい。

【００１９】ベース層Ａを形成するポリエチレンテレフ
タレート樹脂Ａが実質的に不活性微粒子を含有しないと
は、不活性微粒子（以下、不活性微粒子Ａということが
ある）を０．００１重量％以上含まないということであ
る。該ポリエチレンテレフタレート樹脂に含まれる不活
性微粒子Ａは、該樹脂の製造時に用いられる触媒（化合
物）や安定剤に起因する微粒子（触媒残渣粒子）から主
としてなる。この不活性微粒子Ａを０．００１重量％以
上含むと、電磁変換特性が劣るので好ましくない。

【００２０】本発明の二軸配向積層ポリエステルフィル
ムは、ベース層Ａの一方の表面上に、バインダー樹脂、
不活性微粒子（以下、不活性微粒子Ｂということがあ
る）および界面活性剤（以下、界面活性剤Ｘということ
がある）を含有してなる塗膜層Ｂが存在する。

【００２１】前記バインダー樹脂としては、例えば、水
性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレ
タン樹脂などが好ましく挙げられ、特に水性ポリエステ
ル樹脂が好ましい。

【００２２】この水性ポリエステル樹脂としては、例え
ば、酸成分がイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−Ｎ
ａスルホイソフタル酸、２−Ｋスルホテレフタル酸、ト
リメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリ
ウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボン酸の
一種以上よりなり、グリコール成分が、例えばエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシ
リレングリコール、ジメチロールプロパン、ビスフェノ
ールＡのエチレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ化
合物の一種以上より主としてなるポリエステル樹脂が好
ましく用いられる。また、ポリエステル鎖にアクリル重
合体鎖を結合させたグラフトポリマーまたはブロックコ
ポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな分子内で
特定の物理的構成（ＩＰＮ、コアシェル）を形成したア
クリル変性ポリエステル樹脂も同様に用いられる。

【００２３】この水性ポリエステル樹脂としては、水に
溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いることがで
きるが、水に乳化、微分散するタイプのものが好まし
い。また、これらは親水性を付与するため分子内に例え
ばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単位
等が導入されていてもよい。

【００２４】前記不活性微粒子Ｂの種類は特に限定され
ないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが
好ましい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリ
コーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メ
ラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香
族ポリエステルなど）からなる粒子、二酸化ケイ素（シ
リカ）、炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。これ
らの中でも、特に好ましくは架橋シリコーン樹脂粒子、
シリカ、コアシェル型有機粒子（例えば、コア：架橋ポ
リスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子
など）が挙げられる。

【００２５】これら不活性微粒子Ｂは、平均粒径が１０
〜５０ｎｍの範囲にあるのが好ましい。平均粒径は、よ
り好ましくは１５〜４５ｎｍであり、さらに好ましくは
１８〜４０ｎｍである。

【００２６】これら不活性微粒子Ｂの使用量は、塗膜層
Ｂの固形分に基づいて、好ましくは０．５〜３０重量
％、より好ましくは２〜２０重量％である。

【００２７】塗膜層Ｂの面（ベース層Ａと接触していな
い面）上には、塗膜層Ｂ中に含有される不活性微粒子Ｂ
に基因する微細突起が好ましくは１〜４０個／μｍ²、
より好ましくは２〜２０個／μｍ²、特に好ましくは
２．５〜１８個／μｍ²、就中３〜１５個／μｍ²の数
（密度）で存在する。

【００２８】前記界面活性剤Ｘとしては、ノニオン系界
面活性剤が好ましく、特にアルキルアルコール、アルキ
ルフェニルアルコール、高級脂肪酸等に（ポリ）エチレ
ンオキサイドを付加、結合させたものが好ましい。

【００２９】これら界面活性剤としては、ポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル系化合物として日本油
脂株式会社製の商品名「ノニオンＮＳ−２３０」、「同
ＮＳ−２４０」、「同ＨＳ−２２０」、「同ＨＳ−２４
０」、三洋化成株式会社製の商品名「ノニポール２０
０」、「ノニポール４００」、「ノニポール５００」、
「オクタポール４００」；ポリオキシエチレンアルキル
エーテル系化合物として日本油脂株式会社製の商品名
「ノニオンＥ−２３０」、「同Ｋ−２２０」、「同Ｋ−
２３０」；高級脂肪酸のポリオキシエチレンエステル系
化合物として日本油脂株式会社製の商品名「ノニオンＳ
−１５．４」、「同Ｓ−４０」等を例示することができ
る。

【００３０】前記界面活性剤Ｘの量は、塗液固形分当
り、好ましくは１０〜５０重量％、より好ましくは１２
〜４０重量％、特に好ましくは１５〜３０重量％であ
る。界面活性剤Ｘの量が１０重量％（全固形分当り）未
満ではドロップアウトの原因となり得る粗大突起の発生
を抑えることができず、一方５０重量％（全固形分当
り）を超えると、発泡による筋状の塗布欠陥が発生す
る。

【００３１】そして界面活性剤Ｘは、好ましくは耐ブロ
ッキング性を良好にするため、ＪＩＳ Ｋ７２０６に準
じて測定した軟化点（界面活性剤を乾固させたもので測
定）が３０℃以上であることが好ましい。ただし、塗液
を塗布する際、塗布抜けが発生しないように塗液の表面
張力を下げるため、上記以外の界面活性剤Ｙを１０重量
％（全固形分当り）を超えない範囲で組み合わせて使用
してもよい。

【００３２】本発明の二軸配向積層ポリエステルフィル
ムは、前記のとおり、塗膜層Ｂの面上に、長径が１０μ
ｍ以上の特大突起が２０個／ｃｍ²以下の数（密度）で
存在する。好ましくは１０個／ｃｍ²以下である。

【００３３】この特大突起の数が２０個／ｃｍ²を超え
る場合、それ自身がドロップアウトの原因物となり、ま
た、ヘッドの偏摩耗を引き起こし易くなり、電磁変換特
性をも悪化させてしまうので好ましくない。

【００３４】さらに、この特大突起の中で、高さが１０
０ｎｍ以上の特大高突起がドロップアウトの原因になる
可能性が高く、該特大高突起の数は１０個／ｃｍ²以下
であることが好ましい。より好ましくは５個／ｃｍ²以
下である。

【００３５】これら特大突起の原因物は、主として製膜
時に外部から混入するゴミ、あるいはポリマーを重合す
る際に析出する触媒残渣粒子等である。

【００３６】これら特大突起を減少させるには、例え
ば、ポリマー製造時の触媒量を減らす方法や、触媒を触
媒溶液として反応系に添加する際に該溶液を高精度ろ過
し、未溶解物を除去してから添加する方法や、製膜時に
溶融ポリマーを押出口金から押出する前に高精度濾過を
行う方法を用いるのが好ましい。この中、溶融ポリマー
を高精度濾過する方法が好ましい。この溶融ポリマーの
高精度濾過では、フィルター特に金属繊維焼結フィルタ
ーの平均目開きを１５μｍ以下とするのが好ましい。但
し、目開きを小さくし過ぎると吐出量に限界ができて、
生産性が悪くなるので最適な平均目開きの金属繊維焼結
フィルタを使用するのが好ましい。かかる点から、金属
繊維焼結フィルターの平均目開きは１μｍ以上であるこ
とが好ましい。

【００３７】本発明における塗膜層Ｂの表面の中心線平
均粗さＷＲａは５ｎｍ以下である。この表面粗さが５ｎ
ｍを超えると、電磁変換特性が悪くなり好ましくない。

【００３８】本発明における二軸配向積層ポリエステル
フィルムは、ベース層Ａのもう一方の表面、すなわち、
塗膜層Ｂと接触していない表面上に、薄膜層Ｃを有する
のが好ましい。

【００３９】薄膜層Ｃは、好ましくは不活性微粒子（以
下、不活性微粒子Ｃということがある）を含有する。ま
た、薄膜層Ｃは塗膜層であることができ、また共押出し
による熱可塑性樹脂層であることができる。

【００４０】薄膜層Ｃが塗膜層Ｃであるとき、塗膜層Ｃ
はバインダー樹脂および不活性微粒子Ｃからなることが
でき、またさらに界面活性剤を含有してなることができ
る。

【００４１】バインダー樹脂、不活性微粒子Ｃおよび界
面活性剤としては、塗膜層Ｂについて説明したバインダ
ー樹脂、不活性微粒子Ｂ及び界面活性剤Ｘと同様のもの
を使用することができる。

【００４２】不活性微粒子Ｃとしては、平均粒径が好ま
しくは０．０１〜０．１μｍ、より好ましくは０．０２
〜０．０８μｍ、特に好ましくは０．０２〜０．０６μ
ｍのものが用いられる。また不活性微粒子Ｃの量は、好
ましくは０．５〜３０重量％、より好ましくは１〜２０
重量％、特に好ましくは２〜１０重量％である。この場
合、界面活性剤としては、界面活性剤Ｘを単独で用いる
ことができ、あるいは組合せて用いることができる。そ
れ故、薄膜層Ｃの組成は塗膜層Ｂと同じ組成であること
ができる。

【００４３】また、薄膜層Ｃは不活性微粒子Ｃを含有す
るポリエチレンテレフタレート樹脂層からなり、そして
ベース層Ａとの共押出しにより形成されてもよい。前記
薄膜層Ｃの厚みと不活性微粒子Ｃの平均粒径との間に
は、好ましくは、下記式

【００４４】

【数２】 ０．００１≦（ｄｃ）³ ×Ｃｃ×ｔｃ≦１００ 〔ここで、ｄｃ（μｍ）は不活性微粒子Ｃの平均粒径で
あり、Ｃｃ（重量％）は不活性微粒子Ｃの含有量であ
り、そして、ｔｃ（ｎｍ）は薄膜層Ｃの厚みである。〕
を満足する。また、薄膜層Ｃが塗膜層の場合、上記関係
は、より好ましくは

【００４５】

【数３】 ０．００１≦（ｄｃ）³ ×Ｃｃ×ｔｃ≦０．１ であり、共押出し層の場合、上記関係は、より好ましく
は

【００４６】

【数４】０．１≦（ｄｃ）³ ×Ｃｃ×ｔｃ≦１００ である。

【００４７】この場合、共押出しにより形成される薄膜
層Ｃは不活性微粒子Ｃを含む。該不活性微粒子Ｃは下記
の平均粒径を有し、下記の量含有される。

【００４８】該不活性微粒子Ｃの平均粒径ｄＣは０．１
〜１μｍ、さらに０．１５〜０．８μｍ、特に０．２〜
０．７μｍであることが好ましい。また、この平均粒径
ｄＣを有する不活性微粒子Ｃの含有量は、薄膜層Ｃに対
し、０．０００１〜１重量％、さらには０．００１〜
０．５重量％、特に０．００５〜０．１重量％であるこ
とが好ましい。

【００４９】前記不活性微粒子Ｃとしては、例えば
（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹
脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン−
ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイ
ミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル等
からなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、三二酸化
アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化マグ
ネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、（３）金
属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例えば、カーボン
ブラック、グラファイト、ダイアモンド等）、および
（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナ
イト等）が好ましく挙げられる。これらのうち特に、架
橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂
粒子、三二酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタ
ン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、ダイアモンドおよびカオリンが好
ましく、とりわけ、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリ
スチレン樹脂粒子、アルミナ、二酸化チタン、二酸化ケ
イ素および炭酸カルシウムが好ましい。

【００５０】さらに、不活性微粒子が２種以上の粒子か
らなる場合、上記不活性微粒子Ｃの平均粒径ｄＣよりも
小さい平均粒径の第２、第３の粒子として、例えば、コ
ロイダルシリカ、α、γ、δ、θ等の結晶形態を有する
アルミナなどの微粒子を好ましく用いることができる。
また、平均粒径ｄＣを有する不活性微粒子Ｃとして例示
した粒子種のうち、平均粒径の小さい微細粒子も用いる
ことができる。

【００５１】この微細粒子の平均粒径は５〜４００ｎ
ｍ、さらには１０〜３００ｎｍ、特に３０〜２５０ｎｍ
の範囲にあり、かつ前記平均粒径ｄＣよりも５０ｎｍ以
上、さらには１００ｎｍ以上、特に１５０ｎｍ以上小さ
いことが好ましい。第２、第３の粒子（微細粒子）の含
有量は、薄膜層Ｃに対し、０．００５〜１重量％、さら
には０．０１〜０．７重量％、特に０．０５〜０．５重
量％であることが好ましい。

【００５２】ベース層Ａと薄膜層Ｃのポリエチレンテレ
フタレートとしては、ｏ−クロロフェノール中の溶液と
して、３５℃で測定して求めた固有粘度が約０．４〜
０．９のものが好ましい。

【００５３】本発明における積層ポリエステルフィルム
は、上記薄膜層Ｃの存在によって、エア抜け指数（株式
会社東洋精機製、ベック平滑度試験機を用いて測定した
「空気漏れ指数」）１〜１５ｍ／ｈｒを示すのが好まし
い。

【００５４】本発明における積層フィルムは、上記薄膜
層Ｃが存在し、かつ、上記範囲のエア抜け指数を示すこ
とにより、電磁変換特性を損なうことなく、フィルムの
ハンドリング性、巻取り性の向上がより一層達成され
る。

【００５５】本発明において積層ポリエステルフィルム
の全厚みは、通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０
〜１２μｍ、さらに好ましくは４．０〜１２μｍであ
る。薄膜層Ｃの層厚みは、積層フィルムの全厚みの１／
２以下、さらに１／３以下、特に１／４以下であること
が好ましい。そして薄膜層Ｃの層厚みは５ｎｍ以上であ
ることが好ましい。また、塗膜層Ｂの層厚みは１〜１０
０ｎｍ、さらに２〜５ｎｍ、特に３〜１０ｎｍ、就中３
〜８ｎｍであることが好ましい。

【００５６】本発明の二軸配向積層ポリエステルフィル
ムは、従来から知られている、あるいは、当業界に蓄積
されている方法に準じて得ることができる。そのうち、
ベース層Ａと薄膜層Ｃとの積層構造は共押出し法により
製造するのが好ましく、そして、塗膜層Ｂの積層は塗布
法により行うのが好ましい。

【００５７】例えば、押出し口金内または口金以前（一
般に、前者はマルチマニホールド方式、後者はフィード
ブロック方式と呼ぶ）で、ポリエチレンテレフタレート
Ａと、不活性微粒子Ｃを微分散含有させたポリエチレン
テレフタレートＣをそれぞれさらに高精度濾過したの
ち、溶融状態にて積層複合し、前述の好適な厚み比の積
層構造となし、次いで、口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋
７０）℃の温度でフィルム状に共押出した後、４０〜９
０℃の冷却ロールで急冷固化して未延伸積層フィルムを
得る。しかる後に、該未延伸積層フィルムを常法に従っ
て一軸方向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜
（Ｔｇ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｇ：該ポリエステ
ルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好
ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで前記
方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で
２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５
倍の倍率で延伸する。さらに必要に応じて縦方向および
／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２
段、３段、４段、あるいは多段の延伸を行うとよい。全
延伸倍率は、面積延伸倍率として、通常９倍以上、好ま
しくは１２〜３５倍、さらに好ましくは１５〜３０倍で
ある。さらに引き続いて、二軸配向積層フィルムを（Ｔ
ｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、１８０
〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法
安定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒が
好ましい。

【００５８】上記の方法において、前述の不活性微粒子
Ｂ、バインダー樹脂、界面活性剤Ｘを含む塗液、好まし
くは水性塗液を塗布する。塗布は最終延伸処理を施す以
前のポリエステル樹脂層Ａの表面に行い、塗布後にはフ
ィルムを少なくとも一軸方向に延伸するのが好ましい。
この延伸の前ないし途中で塗膜は乾燥される。その中
で、塗布は未延伸積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積
層フィルム、特に縦（一軸）延伸積層フィルムに行うの
が好ましい。

【００５９】塗布方法としては特に限定されないが、例
えば、ロールコート法、ダイコート法等が好ましく挙げ
られる。

【００６０】上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は、
０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．
５〜４重量％であることが好ましい。そして、塗液（好
ましくは水性塗液）には、本発明の効果を妨げない範囲
で、他の成分、例えば、他の界面活性剤、安定剤、分散
剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することができる。

【００６１】なお、積層フィルムの製造に際し、ポリエ
チレンテレフタレート樹脂に、所望により不活性粒子以
外の添加剤、例えば、安定剤、着色剤、溶融ポリマーの
固有抵抗調整剤等を添加含有させることができる。

【００６２】本発明において、磁気記録媒体としてのヘ
ッドタッチ、走行耐久性を初めとする各種機能を向上さ
せ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムのヤン
グ率を縦方向および横方向でそれぞれ４５０ｋｇ／ｍｍ
²以上および６００ｋｇ／ｍｍ²以上、さらには４８０ｋ
ｇ／ｍｍ²以上および６８０ｋｇ／ｍｍ²とするのが好ま
しい。また、ポリエチレンテレフタレート層Ａの結晶化
度は３０〜５０％であることが望ましい。下限を下回る
と、熱収縮率が大きくなるし、一方、上限を上回ると、
フィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイドピン表面
と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。

【００６３】本発明によれば、前記した二軸配向積層ポ
リエステルフィルムをベースフィルムとする磁気記録媒
体、すなわち、前記した二軸配向積層ポリエステルフィ
ルムおよび該積層フィルムの塗膜層Ｂ上に存在する磁性
層からなる磁気記録媒体が同様に提供される。

【００６４】本発明の磁気記録媒体を製造する実施態様
は以下のとおりである。前記二軸配向積層ポリエチレン
テレフタレートフィルムの塗膜層Ｂの表面に、真空蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法に
より、鉄、コバルト、クロム、または、これらを主成分
とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜層を
形成し、また、その表面に、目的、用途、必要に応じ
て、ダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護
層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに必
要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知の方法でバックコー
ト層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／
Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、
エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体
とすることができる。

【００６５】この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号
記録のＨｉ８、ディジタル信号記録のディジタルビデオ
カセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳ
ＩＶ用テープ媒体として極めて有用である。

【００６６】前記二軸配向積層ポリエステルフィルムの
塗膜層Ｂの表面に、また、鉄または鉄を主成分とする針
状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニール、塩化ビ
ニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一に
分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜
１μｍとなるように塗布し、さらに必要により、薄膜層
Ｃ側の表面に公知の方法でバックコート層を設けること
により、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の
電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの
少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とするこ
とができる。また、必要に応じてベース層Ａの上に、該
メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒
子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダ
ー中に分散、塗設することもできる。

【００６７】このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナロ
グ信号記録の８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−
ＶＨＳ、ディジタル信号記録のディジタルビデオカセッ
トレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、
ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用の磁気テープ
として極めて有用である。

【００６８】前記二軸配向積層ポリエステルフィルムの
塗膜層Ｂの表面に、また、酸化鉄または酸化クロム等の
針状微細磁性粉、またはバリウムフェライト等の板状微
細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニ
ール共重合体等のバインダーに均一に分散し、磁性層厚
みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるよう
に塗布し、さらに必要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知
の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波
長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優
れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録
用酸化物塗布型磁気記録媒体とすることができる。ま
た、必要に応じて層Ｃの上に、該磁性粉含有磁性層の下
地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層
を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設する
こともできる。

【００６９】この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジ
タル信号記録のデータストリーマー用ＱＩＣ等の高密度
酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。

【００７０】上述のＷ−ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、また、ＤＶＣはディジタルのＨ
ＤＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明
の二軸配向積層ポリエステルフィルムはこれらＨＤＴＶ
対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフィル
ムと言うことができる。

【００７１】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。なお、実施例および比較例における
「部」および「％」は、特に断らない限り重量基準であ
り、本発明における物性値および特性は、それぞれ以下
の方法で測定し、かつ、定義されるものである。

【００７２】（１）固有粘度 オルソクロロフェノール溶液中３５℃で測定した値から
求める。

【００７３】（２）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．
０６μｍ以上） 株式会社島津製作所製、商品名「ＣＰ−５０型セントリ
フュグル パーティクル サイズ アナライザー（Ｃｅ
ｎｔｒｉｆｕｇａｌ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ Ａ
ｎａｌｙｓｅｒ）」を用い測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に計算した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（単行
本「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、
頁２４２〜２４７参照）。

【００７４】（３）粒子の平均粒径ＩＩ（平均粒径：
０．０６μｍ未満） 平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、光散乱方を用いて
測定する。すなわち、ニコンプイントゥルメント株式会
社（Ｎｉｃｏｍｐ ＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓＩｎｃ．）
製の商品名「ＮＩＣＯＭＰ ＭＯＤＥＬ ２７０ＳＵＢ
ＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬＥ ＳＩＺＥＲ」により求
められる全粒子の５０重量％の点にある粒子の「等価球
直径」をもって表示する。

【００７５】（４）ポリエチレンテレフタレート樹脂
Ａ、Ｃ層の厚みおよび全体の厚み フィルム全体の厚みは、マイクロメーターにてランダム
に１０点測定し、その平均値を用いる。層Ａ、Ｃの厚み
は、薄い側の層厚みを以下に述べる方法にて測定し、ま
た厚い側の層の厚みは、全体の厚みより塗膜層および薄
い側の厚みを引き算して求める。

【００７６】すなわち、二次イオン質量分析装置（ＳＩ
ＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層から深さ５，００
０ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子
に起因する金属元素（Ｍ＋）とポリエステルの炭素元素
（Ｃ＋）の濃度比（Ｍ＋／Ｃ＋）を粒子濃度とし、表面
から深さ５，０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表
層では表面という界面のために粒子濃度は低く、表面か
ら遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場
合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上昇して安定
値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この
分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値
２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の
場合は、粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この
深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、当
該層の層厚みとする。

【００７７】但し、薄い側の層が樹脂Ａに相当する場合
は、金属元素（Ｍ＋）として、樹脂Ｃ中の粒子の元素を
用いて濃度比が０から上昇して安定値２になる時の（安
定値２）／２となる深さをもって層厚みとする。

【００７８】測定条件は以下のとおりである。 測定装置 二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：パーキン・エル
マー株式会社（ＰＥＲＫＩＮ ＥＬＭＥＲ ＩＮＣ．）
製、「６３００」 測定条件 一次イオン種 ：Ｏ₂＋ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ 一次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０−９Ｔｏｒｒ Ｅ−ＧＵＮＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ

【００７９】なお、表層から５，０００ｎｍの範囲に最
も多く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子
粒子の場合は、ＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面か
らエッチングしながらＦＴ−ＩＲ（フーリエトランスフ
ォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電
分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を
求める。

【００８０】（５）塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子（Ｂ）
による微細突起密度（３５，０００倍で測定） フィルム表面の微細突起密度の測定は走査型電子顕微鏡
により行う。すなわち、積層フィルムの塗膜層Ｂの表面
写真を倍率 ３５，０００倍にてランダムに２５枚撮影
し、表面突起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ
²当りの突起数に換算し、この値を塗膜層Ｂ表面の不活
性微粒子（Ｂ）による微細突起密度とする。

【００８１】（６）中心面平均粗さ ＷＲａ ＷＹＫＯ株式会社製の非接触三次元粗さ計、商品名「Ｔ
ＯＰＯ−３Ｄ」を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２
４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ²）の条件にて
測定を行い、表面粗さのプロフィル（オリジナルデー
タ）を得る。同粗さ計内蔵ソフトによる表面解析によ
り、ＷＲａは以下の式により計算されアウトプットされ
た値を用いる。

【００８２】

【数５】

【００８３】また、Ｚｊｋは、測定方向（２４２μ
ｍ）、それと直交する方向（２３９μｍ）をそれぞれＭ
分割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置
における三次元粗さチャート上の高さである。

【００８４】（７）突起の密度 アルミニウムを０．５μｍ厚みに蒸着した塗膜層Ｂの表
面を、株式会社ニコン（ＮＩＫＯＮ ＣＯＲＰ．）製の
光学顕微鏡、商品名「ＯＰＴＩＰＨＯＴ」を用いて、微
分干渉法により倍率２００倍にて１ｃｍ×５ｃｍの範囲
を観察し、長径が１０μｍ以上の大きさの突起をカウン
トし、１ｃｍ²当りの個数に換算して突起の密度とす
る。

【００８５】（８）特大突起の高さ 前記(7)でカウントした突起をＷＹＫＯ株式会社製の非
接触三次元粗さ計、商品名「ＴＯＰＯ−３Ｄ」を用い
て、測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μｍ
（０．０５８ｍｍ²）の条件にて測定を行い、表面粗さ
のプロフィル（オリジナルデータ）を得る。同粗さ計内
蔵ソフトによる表面解析により、ベースラインからの最
高高さの値をもって突起高さとする。

【００８６】（９）ヤング率 東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品
名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に
調節された室内において、長さ３００ｍｍ、幅１２．７
ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張
り、引っ張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用い
て、次の式によって計算する。

【００８７】

【数６】Ｅ＝Δσ／Δε 〔ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ²）、Δσは直線
上の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ
２点間のひずみ差である。〕

【００８８】（１０）エア抜け性 株式会社東洋製機製、ベック平滑度試験機を用いて、ま
ず、フィルム４０枚を重ね合わせ、そのうち試料台最上
部にくる１枚を除いて、残り３９枚に直径５ｍｍφの孔
をあけ、試料台にセットする。このとき孔の中心部が試
料台の中心にくるようにする。この状態で、０．５ｋｇ
／ｃｍ²の荷重を加え、真空到達度を５５０ｍｍＨｇに
設定する。５５０ｍｍＨｇに到達した後、常圧に戻ろう
とするため、フィルムとフィルム間を空気が流れ込んで
いく。このとき、１時間の間３０秒毎に降下していく真
空度（ｍｍＨｇ）を測定し、測定時間（ｈｒ）に対する
真空度を直線近似したときの直線の傾き（＝ｍｍＨｇ／
ｈｒ）を空気漏れ指数Ｇとする。

【００８９】（１１）磁気テープの製造および特性評価 二軸配向積層フィルムの塗膜層Ｂの表面に、真空蒸着法
によりコバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μｍの厚
みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、そ
の表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、さ
らに含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに樹
脂層Ｃ側の表面に公知方法でバックコート層を設ける。
その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカ
セットにローディングする。次いで、以下の市販の機器
を用いてテープの特性を測定する。

【００９０】使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダ
ー：ソニー株式会社製、商品名「ＥＤＶ−６０００」 Ｃ／Ｎ測定：シバソク株式会社製、ノイズメーター Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着
テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、下記の基準で判定する。 ○：市販８ｍｍテープ対比＋５ｄＢ以上 △：市販８ｍｍテープ対比＋１ｄＢ以上＋５ｄＢ未満 ×：市販８ｍｍテープ対比＋１ｄＢ未満

【００９１】ドロップアウト シバソク株式会社製のドロップアウトカウンターを使用
して、３μｓｅｃ／１０ｄＢ以上のドロップアウトを１
０分間測定し、１分当りの個数に換算する。下記の基準
で判定する。 ○：ドロップアウト ６ケ／分未満 ×：ドロップアウト ６ケ／分以上

【００９２】走行耐久性 前記した蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録
し、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件下でテープ走行
速度４１ｍ／分、巻き戻し速度４１ｍ／分の走行を１回
とし、合計２００回繰り返した後の出力変動を調べる。
この出力変動から次の基準で判定する。 ◎：２００回繰り返し後の出力変動が０ｄＢ〜−０．３
ｄＢ ○：２００回繰り返し後の出力変動が−０．３ｄＢ〜−
０．６ｄＢ ×：２００回繰り返し後の出力変動が−０．６ｄＢ以下

【００９３】［実施例１］酢酸マグネシウム４水塩０．
０４５部及び酢酸カルシウム１水塩０．００３５部をそ
れぞれエチレングリコールに溶解させて目開き０．１μ
ｍのフィルターにて高精度ろ過してエステル交換反応触
媒として用いて、ジメチルテレフタレート１００部とエ
チレングリコール７０部を１５０℃から２４０℃に徐々
に昇温しながら攪拌下エステル交換反応させ、その後ト
リメチルホスフェート０．０１１部を添加し、実質的に
エステル交換反応を終了させた。

【００９４】次いで、反応生成物にトリメリット酸チタ
ン０．０２３部を加え、昇温しながら（最終温度２８５
℃）真空下重合反応せさせ固有粘度０．６０のポリエチ
レンテレフタレートＡを得た。

【００９５】さらに、ジメチルテレフタレート１００部
とエチレングリコール７０部を、酢酸マグネシウム４水
塩０．０５５部及び酢酸カルシウム１水塩０．０５０部
をエステル交換反応触媒として用いて上記と同じ反応条
件でエステル交換反応させ、その後トリメチルホスフェ
ート０．０１１部を添加し、実質的にエステル交換反応
を終了させた後、トリメリット酸チタン０．０２３部を
加え、平均粒径０．５μｍの球状シリコーン粒子と、平
均粒径０．１μｍの球状シリカをポリマー中の濃度がそ
れぞれ０．０７ｗｔ％と０．２ｗｔ％となるように添加
し、上記と同じ重合条件で重合反応させて固有粘度０．
６０のポリエチレンテレフタレートＣを得た。

【００９６】このポリエチレンテレフタレートＡ、Ｃを
それぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出し機に供
給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、樹脂Ａは
平均目開き１０μｍの鋼線フィルターで、樹脂Ｃは平均
目開き３０μｍの鋼線フィルターでそれぞれ高精度濾過
した後、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、
樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｃを積層させ、急冷して厚さ８
９μｍの未延伸積層フィルムを得た。

【００９７】得られた未延伸積層フィルムを予熱し、さ
らに低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて
３．３倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの層
Ａ面側に高松油脂（株）製のアクリル変性ポリエステル
「ＩＮ−１７０−６」（軟化点５７℃）を６５部、日本油
脂（株）製の「ノニオンＮＳ−２４０」（軟化点４６
℃）を２９部、日本油脂（株）製「ノニオンＮＳ−２０
８．５」（軟化点１０℃以下）を１部、平均粒径３０ｎ
ｍのアクリルフィラーを５部含む組成の水性塗液（全固
形分濃度１．０重量％）をキスコート法により塗布し、
続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．
２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２２０℃
の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二軸配
向ポリエステルフィルムを得た。層Ａ、Ｃの厚みについ
ては、２台の押出し機の吐出量によりＣ層が１．０μｍ
となるように調整した。このフィルムのヤング率は縦方
向５００ｋｇ／ｍｍ²、横方向７００ｋｇ／ｍｍ²であっ
た。

【００９８】この二軸配向積層フィルムの表面特性、こ
のフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性
を表１に示す。

【００９９】［比較例１］ポリエチレンテレフタレート
Ａを作成する際、エステル交換反応触媒として酢酸マグ
ネシウム４水塩０．０６５部及び酢酸カルシウム１水塩
０．０６０部を溶解したエチレングリコール溶液を高精
度ろ過せずに用いた他は、実施例１と同様にして二軸配
向積層フィルムを得た。

【０１００】この二軸配向積層フィルムおよびこのフィ
ルムを用いた強磁性薄膜蒸着テープの特性を表１に示
す。表１から明らかなように、このフィルムは長径１０
μｍ以上の突起が多いために、テープとしたときのドロ
ップアウトが多くなってしまった。

【０１０１】［比較例２］ポリエチレンテレフタレート
樹脂Ａを溶融押出しする際に、平均目開き２０μｍの鋼
線フィルターでろ過する以外は実施例１と同様にして二
軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。得
られたフィルムの特性等を表１に示した。

【０１０２】［比較例３］ポリエチレンテレフタレート
樹脂Ａとして、トリメリット酸チタンを加えた後に、平
均粒径０．０６μｍの球状シリカのエチレングリコール
スラリーをポリマー中の濃度が０．１ｗｔ％となる様に
加えた以外は実施例１と同様にして二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを得た。得られたフィルムの
特性等を表１に示した。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】表１から明らかなように、実施例の二軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルムは、優れた電磁
変換特性を示すとともに、ドロップアウトの原因となる
特大突起が少なく、優れている。一方、比較フィルム
は、これらの特性を同時に満足できていない。

【０１０５】

【発明の効果】本発明によれば、電磁変換特性に優れか
つドロップアウトの極めて少ない高密度磁気記録媒体の
ベースフィルムとして有用な二軸配向積層ポリエステル
フィルムを提供することことができる。

フロントページの続き (72)発明者 大澤 利文 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝 人株式会社相模原研究センター内 Ｆターム(参考） 4F100 AK25B AK42A AK42C AR00D AS00B AS00C BA02 BA03 BA04 BA10A BA10C CA18B CA18C CA23B DE01B DE01C EH20 EH46C EJ38A GB90 JA20B JD02 JG06D JK15B JM02C YY00 YY00B YY00C 4F210 AA24 AB10 AB11 AC03 AE01 AE04 AG03 AH38 QA03 QC16 QG01 QG11 QG15 QG18 QW07 5D006 CB01 CB05 CB07 CB08 FA02 FA09

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリエチレンテレフタレート樹脂Ａから
   なるベース層Ａおよび該ベース層Ａの一方の表面上に存
   在する、バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性
   剤を含有する塗膜層Ｂからなる積層フィルムであって、
   該ベース層Ａが実質的に不活性微粒子を含まない二軸配
   向フィルムであり、かつ該塗膜層Ｂの表面の中心面平均
   粗さが５ｎｍ以下であり、そして該表面の長径が１０μ
   ｍ以上の特大突起の数が２０個／cm²以下であることを
   特徴とする磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム。
2. 【請求項２】 塗布層Ｂ表面の特大突起の中で突起高さ
   が１００ｎｍ以上の特大高突起の数が１０個／ｃｍ²以
   下である請求項１に記載の磁気記録媒体用積層ポリエス
   テルフィルム。
3. 【請求項３】 塗膜層Ｂ表面の、該層中の不活性微粒子
   に基因する微細突起の数が１〜４０個／μｍ²である請
   求項１または２に記載の磁気記録媒体用積層ポリエステ
   ルフィルム。
4. 【請求項４】 ベース層Ａの塗膜層Ｂと接触していない
   側の面上に、薄膜層Ｃがさらに存在する請求項１に記載
   の磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム。
5. 【請求項５】 薄膜層Ｃがバインダー樹脂、不活性微粒
   子および界面活性剤からなる塗膜層である請求項４に記
   載の磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム。
6. 【請求項６】 薄膜層Ｃが不活性微粒子を含有するポリ
   エチレンテレフタレート樹脂層からなり、そしてベース
   層Ａとの共押出しにより形成されている請求項４に記載
   の磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム。
7. 【請求項７】 薄膜層Ｃが下記式 【数１】 ０．００１≦（ｄｃ）³ ×Ｃｃ×ｔｃ≦１００ 〔ここで、ｄｃ（μｍ）は薄膜層Ｃ中の不活性微粒子の
   平均粒径であり、Ｃｃ（重量％）は該不活性微粒子の含
   有量であり、そして、ｔｃ（ｎｍ）は薄膜層Ｃの厚みで
   ある。〕を満足する請求項６に記載の磁気記録媒体用積
   層ポリエステルフィルム。
8. 【請求項８】 積層フィルムがエア抜け指数１〜１５ｍ
   ｍＨｇ／ｈｒを示す請求項４に記載の磁気記録媒体用積
   層ポリエステルフィルム。
9. 【請求項９】 請求項１に記載の積層ポリエステルフィ
   ルムおよび該フィルムの塗膜層Ｂ上に存在する磁性層か
   らなる磁気記録媒体。
10. 【請求項１０】 磁気記録媒体がアナログ信号記録のＨ
    ｉ８またはディジタル信号記録のデジタルビデオカセッ
    トレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ｍｍもしくはＤＤＳ
    ＩＶ用である請求項９に記載の磁気記録媒体。