JP2000146003A - ガス遮断弁 - Google Patents

ガス遮断弁

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JP2000146003A
JP2000146003A JP10314897A JP31489798A JP2000146003A JP 2000146003 A JP2000146003 A JP 2000146003A JP 10314897 A JP10314897 A JP 10314897A JP 31489798 A JP31489798 A JP 31489798A JP 2000146003 A JP2000146003 A JP 2000146003A
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valve seat
valve
supporter
sub
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Hiroshi Terasawa
浩 寺澤
Takeshi Kamashita
剛 釜下
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Toshiba Corp
Toshiba Meter Techno Co Ltd
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Toshiba Corp
Toshiba Meter Techno Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 弁体を駆動するプランジャの円滑なスライド
移動を確保する。 【解決手段】 ソレノイド9のオンで吸引部21の吸引
解除時に、第1付勢ばね11によってプランジャ35を
前進させて副弁座41と接触し合う状態で弁体3を押圧
し、副弁座41と主弁座7を閉にする一方、ソレノイド
9のオフで吸引部21の吸引時に、プランジャ35を後
退させて副弁座41を開とし、同時に、第2付勢ばね1
3によって後退するプランジャ35と同じ方向へ押圧
し、主弁座7を開とする構成とし、前記プランジャ35
とプランジャガイド23との間に、摩擦抵抗の小さい材
質で形成されたプランジャサポータ37を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガスメータに内
蔵されたガス遮断弁に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ガスメータは、ガスの使用量の
計量・積算とともに、ガスの異常な流れを監視し、地震
あるいは故障等の異常発生時に、ガスの供給を停止し、
ガス漏れが起きるのを未然に防ぐガス遮断弁を備えてい
る。
【0003】ガス遮断弁は、遠隔操作により遮断及び復
帰の双方向に駆動できる機能を備えている。その中に
は、弁体に作用するガス圧の影響を軽減してから主弁座
が開となる構造を備えたものがある。
【0004】図11の(a),(b),(c)は、この
ような従来のガス遮断弁の構造を示したものである。
【0005】即ち、ガス供給通路101の主弁座103
を開閉する副弁座105を備えた弁体107と、プラン
ジャガイド109内にスライド自在に支持され、プラン
ジャガイド109内を前進・後退することで前記副弁座
105を開閉するプランジャ111と、前記プランジャ
ガイド109内に支持され、ソレノイド113のオン・
オフにより前記プランジャ111を吸引及び吸引解除す
る吸引部115と、前記ソレノイド113がオンで吸引
部115の吸引解除時に、前記副弁座105と接触し合
うプランジャ111を弁体107と一緒に押圧し、前記
副弁座105と主弁座103とを閉とする主ばね117
と、前記ソレノイド113がオフで吸引部115の吸引
時に、前記プランジャ111を後退させて前記副弁座1
05を開とする一方、後退するプランジャ111と同じ
方向へ前記弁体107を押圧し、主弁座103を開とす
る副ばね119とで構成されている。
【0006】そして、マイコンセンサ等で異常と判断さ
れた場合、ソレノイド113に電流を流すと、プランジ
ャ111の保持が解除され、プランジャ111が主ばね
117の力によって押し出され、副弁座105を閉とし
たまま弁体107を主弁座103に押し付けることによ
り、遮断状態となり、ガスの供給を止めることができる
(図7(a))。一方、遠隔操作等で復帰させる場合
は、ソレノイド113に遮断時とは逆向きの電流を流
す。この時、プランジャ111は1次側のガス圧の影響
が少ないため、主ばね117の力と副ばね119の力の
和より強い電磁力であれば復帰できるが、弁体107は
ガス圧を全体で受けているため、そのままの状態を維持
することになる(図7(b))。副弁座105が開放さ
れている状態を維持することによって、ガスが副弁座1
05を通って2次側の圧力を上昇させるため、時間経過
に伴って弁体107に加わる圧力の影響が少なくなり、
副ばね119のばね力によって弁体107を離脱させ、
ガスの流通を復帰させることができる(図7(c))。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ガス遮断弁のプランジャ111は、プランジャガイド1
04に支持されてスライド移動する所から、プランジャ
111とプランジャガイド104とに摩擦抵抗が働く
と、摺動不良となり、正常で円滑な動作が達成できず、
信頼性の低下を招く。
【0008】このために、摩擦抵抗をきらってプランジ
ャ111とプランジャガイド109との間に遊びを作る
と、ガタ付きが発生し、このガタ付きは、副弁座105
とプランジャ111との正確な接触が困難となり、確実
な遮断状態が得られなくなる等の不具合いを招く。
【0009】そこで、この発明は、プランジャガイドに
対して、ガタ付くことなくプランジャの円滑なスライド
動作が得られるようにしたガス遮断弁を提供することを
目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明の請求項1は、副弁座を有すると共にガス
供給通路の主弁座を開閉する弁体と、プランジャガイド
内にスライド自在に支持され、プランジャガイド内を前
進・後退することで前記副弁座を開閉するプランジャ
と、前記プランジャガイド内に支持され、ソレノイドの
オン・オフにより前記プランジャを吸引及び吸引解除す
る吸引部と、前記ソレノイドがオンで吸引部の吸引解除
時に、前記副弁座と接触し合うプランジャを弁体と一緒
に前進させて前記副弁座と主弁座とを閉とする第1付勢
ばねと、前記ソレノイドがオフで吸引部の吸引時に、前
記プランジャを後退させて前記副弁座を開とする一方、
後退するプランシャと同じ方向へ前記弁体を押圧し、主
弁座を開とする第2付勢ばねとを有し、前記プランジャ
とプランジャガイドとの間に、摩擦抵抗の小さい材質で
形成されたプランジャサポータを設ける。
【0011】これにより、例えば、地震等の異常発生時
には、ソレノイドをオンとして吸引部によるプランジャ
の吸引を解除すると共に、第1付勢ばねのばね圧によ
り、副弁座と接触し合うプランジャを弁体と一緒に前進
させて、前記副弁座と主弁座とを閉として、ガスの流れ
を遮断する。
【0012】次に、ガスの流れを復帰させるには、ソレ
ノイドをオフにして吸引部により第1,第2付勢ばねの
ばね圧に抗して吸引し副弁座を開とする。この副弁座の
開により、弁体に作用する一次側と二次側の差圧が小さ
くなることで、圧縮された第2付勢ばねのばね圧によっ
て主弁座から弁体が離れるよう押圧する。これにより、
ガスの供給が再開された主弁座の開状態が得られると共
に、プランジャは、プランジャガイドによって、ガタ付
くことなく円滑なスライド移動が可能となり、安定した
弁体の開閉動作が得られる。また、プランジャによる副
弁座の確実な閉状態が得られる。
【0013】また、この発明の請求項2によれば、プラ
ンジャサポータを、複数に分割された中空の円筒形状と
する。
【0014】これにより、請求項1の効果に加えてプラ
ンジャサポータは、プランジャガイドとの接触領域が少
なくて済むため、接触領域の管理精度が容易となり、製
造性に優れる。
【0015】また、この発明の請求項3によれば、プラ
ンジャサポータを、吸引部と一体化した形状とする。
【0016】これにより、請求項1の効果に加えてプラ
ンジャサポータと吸引部とは一体化された一つの部品と
なるため、部品点数の削減が図れると共に、部品管理工
数の面で大変好ましいものとなる。
【0017】また、この発明の請求項4によれば、プラ
ンジャサポータの外周面又は内周面のいずれか一方に、
長手方向に連続する空気抜き溝を設ける。
【0018】これにより、請求項1の効果に加えて、例
えばプランジャが後退する時に、プランジャガイド内に
押し込められた空気は、空気抜き溝から外へ逃げるた
め、プランジャの円滑なスライド移動が可能となる。
【0019】また、この発明の請求項5によれば、プラ
ンジャサポータを、第1付勢ばねの一方のばね端部を支
持する主ばね受けと一体形状とする。
【0020】これにより、請求項1の効果に加えて、プ
ランジャサポータと主ばね受けとは一体化された一つの
部品となるため、部品点数の削減が図れると共に、部品
管理工数の面で大変好ましいものとなる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図1の図面を参照しながら
この発明の第1の実施形態について具体的に説明する。
【0022】図1はガスメータ内に配置されたガス遮断
弁1を示している。ガス遮断弁1の弁体3は、ガス供給
通路5の主弁座7に対して接・離自在となっていて、主
弁座7との接触時は閉、主弁座7から離れた時は開の状
態となり、ソレノイド9と第1及び第2付勢ばね11,
13によって開閉自在に制御される。
【0023】ソレノイド9は、図外のマイコンセンサ等
により異常な揺れやガスの流れを感知することで、オン
・オフに制御されるもので、ヨーク15の底部中央凹部
17にマグネット19が嵌め込まれ、マグネット19の
中央孔内に吸引部21の凸部が挿入される形で磁力によ
って固定されている。パイプ状のプランジャガイド23
の一部領域は第1のOリング25を介して前記吸引部2
1に嵌め込まれると共に、プランジャガイド23には、
ソレノイドコイル27、押え用のプレート29、第2の
Oリング31、フランジ33の順に通された構造となっ
ており、フランジ33はガスメータ(図示していない)
に取付け可能となっている。
【0024】一方、プランジャガイド23内には、前記
吸引部21によって吸引されるプランジャ35がスライ
ド自在に挿入され、他端部はプランジャガイド35の外
に延長されている。
【0025】プランジャガイド23とプランジャ35と
の間には、摩擦抵抗の小さい合成樹脂材で作られた円筒
状のプランジャサポータ37が設けられた構造となって
いる。
【0026】プランジャガイド23から延長されたプラ
ンジャ35の延長部35aは、プランジャ35の本体よ
り細い径に作られていて、前記弁体3の中央部位置を貫
通している。弁体3の中央部位の貫通孔は、副通路39
となっていて副弁座41にプランジャ35の径が細くな
る段差部43が接触し合うことで副弁座41の閉状態が
確保されるようになっている。
【0027】プランジャ35には、前記弁体3を挟んで
前記した第1付勢ばね11と第2付勢ばね13が配置さ
れている。
【0028】第1付勢ばね11は、コイルばねとなって
いて一端は、フランジ33の垂直面と、他端は前記プラ
ンジャ35の外周面に設けられた主ばね受け45とそれ
ぞれ弾接している。なお、主ばね受け45は、前記プラ
ンジャ35の周溝内に係合された支持リング47によっ
て保持されている。
【0029】第2付勢ばね13は、コイルばねとなって
いて一端は、前記弁体3側に設けられた第1の副ばね受
け49と、他端は前記プランジャ35の延長部35aに
設けられた第2の副ばね受け51とそれぞれ弾接してい
る。なお、第2の副ばね受け51は、前記延長部35a
の周溝内に係合された支持リング53によって保持され
ている。
【0030】このように構成されたガス遮断弁1におい
て、通常時にあっては、図1(C)に示す如く、ソレノ
イド9はオフで、吸引部21によりプランジャ35は吸
引され、第1付勢ばね11は圧縮され、ばねエネルギー
が蓄えられた状態にある。この時、主弁座7は開の状態
にあってガス供給通路5には矢印の如くガスが流れるよ
うになる。
【0031】一方、例えば、地震等の異常時において、
ソレノイド9がオンとなり、吸引部21によるプランジ
ャ35の吸引を解除すると、図1(A)に示す如く、第
1付勢ばね11のばね圧によって、プランジャ35は副
弁座41を閉とした接触状態で前進(矢印)し、弁体3
は主弁座7を閉とする。これにより、ガス供給通路5へ
のガスの流れが遮断される。
【0032】次に、ガスの供給を復帰させるには、図1
(B)に示す如く、ソレノイド9をオフとして吸引部2
1によりプランジャ35を吸引し、第1,第2付勢ばね
11,13のばね圧に抗して前記プランジャ35を後退
(矢印)させる。この時、副弁座41は開の状態となる
ため、副通路39を介してガス供給通路5へガスが流れ
ることで、時間の経過に伴って弁体3に加わる一次側と
二次側の圧力差がなくなり、圧力の影響が小さくなる結
果、第2付勢ばね13のばね圧によって後退したプラン
ジャ35と同じ方向へ弁体3を押圧し、主弁座41を開
とする。これにより、ガス供給通路5へのガスの流れを
復帰させることができる(図1(C))。
【0033】これら一連の動作において、プランジャ3
5は、プランジャサポータ37によってガタ付くことな
く円滑なスライド移動が可能となり、迅速なガスの供給
及び遮断状態が得られる。また、動作電圧を下げること
が出来ると共に、プランジャ35による副弁座41の確
実な閉状態が得られるようになる。
【0034】図2は、この発明にかかるガス遮断弁1で
使用されるプランジャサポータ37の第2の実施形態を
示したものである。
【0035】即ち、プランジャサポータ37を複数、こ
の実施形態では前後2箇所の中空円筒形状となってお
り、プランジャ35とプランジャガイド23との間に設
けた構造とするものである。
【0036】なお、他の構成要素は、第1の実施形態と
同一のため同一符号を付して詳細な説明を省略する。
【0037】したがって、この第2の実施形態によれ
ば、第1の実施形態の作用、効果に加えて、プランジャ
サポータ37の接触面積が少なくて済むため、プランジ
ャガイド23に対する精度管理が容易となり、製造性に
優れる。
【0038】図3は、この発明にかかるガス遮断弁1に
使用されるプランジャサポータ37の第3の実施形態を
示したものである。
【0039】即ち、プランジャサポータ37の外周面
に、長手方向に沿って空気抜き溝55を設ける。
【0040】空気抜き溝55は、図4に示す如く、セレ
ション軸形状、あるいは図5に示す如くスプライン軸形
状となっている。
【0041】なお、他の構成要素は、第1の実施形態と
同一のため、同一符号を付して詳細な説明を省略する。
【0042】したがって、この第3の実施形態によれ
ば、第1の実施形態の作用、効果に加えて、例えば、吸
引部21によってプランジャ35を吸引する時、プラン
ジャガイド23内の空気は、圧縮作用を受けることな
く、空気抜き溝55を介して外へ逃げる。同時に、プラ
ンジャサポータ37の外周は、プランジャガイド23に
対して摩擦抵抗が小さい線接触と相俟ってプランジャ3
5の円滑なスライド移動が可能となる。
【0043】図6は、この発明にかかるガス遮断弁1に
使用されるプランジャサポータ37の第4の実施形態を
示したものである。
【0044】即ち、プランジャサポータ37の一方を延
長し、吸引部21の外周溝内に係合させた一体形状とす
るものである。
【0045】なお、他の構成要素は第1の実施形態と同
一のため同一符号を付して詳細な説明を省略する。
【0046】したがって、この第4の実施形態によれ
ば、第1の実施形態の作用、効果に加えて、プランジャ
サポータ37と吸引部21とを一つの部品にできるた
め、部品点数を少なくすることができると共に、部品管
理工数の面でも大変好ましいものとなる。
【0047】なお、この第4の実施形態にあっては、図
7,図8,図9に示す如く、プランジャサポータ37の
内側に、セレションタイプあるいはスプラインタイプの
空気抜き溝57を設けることで、プランジャ35の円滑
なスライド移動が可能となる。
【0048】図10は、この発明にかかるガス遮断弁1
に使用されるプランジャサポータ37の第5の実施形態
を示したものである。
【0049】即ち、プランジャサポータ37の一方をプ
ランジャ33より外へ延長し、その延長端部を、主ばね
受け59に形成した一体形状とするものである。
【0050】なお、他の構成要素は、第1の実施形態と
同一のため同一符号を付して詳細な説明を省略する。
【0051】したがって、この第5の実施形態によれ
ば、第1の実施形態の作用、効果に加えて、プランジャ
サポータ37と主ばね受け59とを一体形状にできるた
め、部品点数を少なくすることができる。また、組付け
が容易となり組付け性、部品管理工数の面で大変好まし
いものとなる。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のガス遮
断弁によれば、弁体を駆動するプランジャを、プランジ
ャサポータによってガタ付くことなく円滑にスライド移
動させることが可能となり、ガス遮断弁の信頼性の向上
が図れる。また、プランジャによる副弁座の確実な閉状
態が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかるガス遮断弁の第1の実施形態
を示した概要断面図。
【図2】ガス遮断弁に使用されるプランジャサポータを
複数に分割した第2の実施形態を示した概要断面図。
【図3】ガス遮断弁に使用されるプランジャサポータの
外周に空気抜き溝を設けた第3の実施形態を示した概要
断面図。
【図4】図3において、空気抜き溝をセレション軸形状
とした一部分の斜視図。
【図5】図3において、空気抜き溝をスプライン軸形状
とした一部分の斜視図。
【図6】ガス遮断弁に使用されるプランジャサポータを
吸引部と一体形状とした第4の実施形態を示した概要断
面図。
【図7】吸引部と一体形状としたプランジャサポータの
内側に空気抜き溝を設けた図6と同様の概要断面図。
【図8】図7の空気抜き溝をセレション軸形状とした一
部分の斜視図。
【図9】図7の空気抜き溝をスプライン軸形状とした一
部分の斜視図。
【図10】ガス遮断弁に使用されるプランジャサポータ
と主ばね受けとを一体形状とした第5の実施形態を示し
た概要断面図。
【図11】従来のガス遮断弁を示した概要断面図。
【符号の説明】
3 弁体 7 副弁座 9 ソレノイド 11 第1付勢ばね 13 第2付勢ばね 21 吸引部 23 プランジャガイド 35 プランジャ 37 プランジャサポータ 41 副弁座
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 釜下 剛 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 株式会社 東芝柳町工場内 Fターム(参考) 3H052 AA01 BA35 CA13 CD03 EA01 3H106 DA07 DA09 DA23 DB12 DB23 DB32 DC02 DC17 DD03 EE24 GA18 GA22 GA25 GB09 GB10 KK15

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 副弁座を有すると共にガス供給通路の主
    弁座を開閉する弁体と、プランジャガイド内にスライド
    自在に支持され、プランジャガイド内を前進・後退する
    ことで前記副弁座を開閉するプランジャと、前記プラン
    ジャガイド内に支持され、ソレノイドのオン・オフによ
    り前記プランジャを吸引及び吸引解除する吸引部と、前
    記ソレノイドがオンで吸引部の吸引解除時に、前記副弁
    座と接触し合うプランジャを弁体と一緒に前進させて前
    記副弁座と主弁座とを閉とする第1付勢ばねと、前記ソ
    レノイドがオフで吸引部の吸引時に、前記プランジャを
    後退させて前記副弁座を開とする一方、後退するプラン
    シャと同じ方向へ前記弁体を押圧し、主弁座を開とする
    第2付勢ばねとを有し、前記プランジャとプランジャガ
    イドとの間に、摩擦抵抗の小さい材質で形成されたプラ
    ンジャサポータを設けたことを特徴とするガス遮断弁。
  2. 【請求項2】 プランジャサポータは、複数に分割され
    た中空の円筒形状であることを特徴とする請求項1記載
    のガス遮断弁。
  3. 【請求項3】 プランジャサポータは、吸引部と一体化
    した形状であることを特徴とする請求項1記載のガス遮
    断弁。
  4. 【請求項4】 プランジャサポータの外周面又は内周面
    のいずれか一方に、長手方向に連続する空気抜き溝を設
    けたことを特徴とする請求項1又は3のいずれかに記載
    のガス遮断弁。
  5. 【請求項5】 プランジャサポータは、第1付勢ばねの
    一方のばね端部を支持する主ばね受けと一体形状である
    ことを特徴とする請求項1記載のガス遮断弁。
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