JP2000129161A - Ｆｐｄ保護膜用コーティング液及びその調製方法 - Google Patents
Ｆｐｄ保護膜用コーティング液及びその調製方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】バインダの重合を抑制でき、ＭｇＯ粉末等が均
一に分散され、かつ安定したフラット・パネル・ディス
プレイ（ＦＰＤ）に用いられる保護膜を形成するための
コーティング液を得る。 【解決手段】ＦＰＤ保護膜１４用コーティング液は粉末
分散液とバインダ溶液の二液を混合して調製される。粉
末分散液はＭｇＯ粉末又は表面がフッ素改質されたＭｇ
Ｏ粉末と、アルコールを主成分とする溶媒又はアルコー
ルとエチレングリコール誘導体との混合溶媒と、エチレ
ングリコール誘導体を主成分とする分散剤とを混合して
調製される。またバインダ溶液はマグネシウムアルコキ
シド又はマグネシウムアセチルアセトネートを主成分と
するバインダと、アルコールを主成分とする溶媒又はア
ルコールとエチレングリコール誘導体との混合溶媒と、
エチレングリコール誘導体を主成分とする添加剤とを混
合して調製される。
一に分散され、かつ安定したフラット・パネル・ディス
プレイ（ＦＰＤ）に用いられる保護膜を形成するための
コーティング液を得る。 【解決手段】ＦＰＤ保護膜１４用コーティング液は粉末
分散液とバインダ溶液の二液を混合して調製される。粉
末分散液はＭｇＯ粉末又は表面がフッ素改質されたＭｇ
Ｏ粉末と、アルコールを主成分とする溶媒又はアルコー
ルとエチレングリコール誘導体との混合溶媒と、エチレ
ングリコール誘導体を主成分とする分散剤とを混合して
調製される。またバインダ溶液はマグネシウムアルコキ
シド又はマグネシウムアセチルアセトネートを主成分と
するバインダと、アルコールを主成分とする溶媒又はア
ルコールとエチレングリコール誘導体との混合溶媒と、
エチレングリコール誘導体を主成分とする添加剤とを混
合して調製される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＰＤＰ（plasma d
isplay panel：プラズマディスプレイパネル）、ＰＡＬ
Ｃ（plasma addressed liquid crystal display）等の
ＦＰＤ（flat panel display）に用いられる保護膜を形
成するためのコーティング液及びその調製方法に関し、
更に上記コーティング液を用いて作製されたＦＰＤ保護
膜及びそのＦＰＤ保護膜を有するＦＰＤに関するもので
ある。
isplay panel：プラズマディスプレイパネル）、ＰＡＬ
Ｃ（plasma addressed liquid crystal display）等の
ＦＰＤ（flat panel display）に用いられる保護膜を形
成するためのコーティング液及びその調製方法に関し、
更に上記コーティング液を用いて作製されたＦＰＤ保護
膜及びそのＦＰＤ保護膜を有するＦＰＤに関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のコーティング液として、
加水分解可能な反応部位を有する金属化合物からの部分
加水分解物より基本的に構成されるコーティング組成物
が開示されている（特開平８−３２５５２２号）。この
コーティング組成物では、上記部分加水分解物は加水分
解可能な反応部位を有する金属化合物が加水分解可能な
反応部位に対して化学量論量以下の水の存在下で加水分
解されることにより得られる。このように構成されたコ
ーティング組成物では、先ず加水分解可能な反応部位に
対して部分的に加水分解することにより、部分加水分解
物のゾルを作製し、次にこのゾルを基体上に塗布・焼成
して、対応する金属酸化物膜を作製することにより、膜
厚の薄い保護膜を得ることができる。上記部分加水分解
物のゾルは加水分解物が析出しないため、保護膜の膜強
度及び基板への密着性を向上できる。
加水分解可能な反応部位を有する金属化合物からの部分
加水分解物より基本的に構成されるコーティング組成物
が開示されている（特開平８−３２５５２２号）。この
コーティング組成物では、上記部分加水分解物は加水分
解可能な反応部位を有する金属化合物が加水分解可能な
反応部位に対して化学量論量以下の水の存在下で加水分
解されることにより得られる。このように構成されたコ
ーティング組成物では、先ず加水分解可能な反応部位に
対して部分的に加水分解することにより、部分加水分解
物のゾルを作製し、次にこのゾルを基体上に塗布・焼成
して、対応する金属酸化物膜を作製することにより、膜
厚の薄い保護膜を得ることができる。上記部分加水分解
物のゾルは加水分解物が析出しないため、保護膜の膜強
度及び基板への密着性を向上できる。
【０００３】また上記コーティング組成物を用いて作製
された保護膜を有する交流型プラズマディスプレイパネ
ルが特開平８−３２９８４４号公報に開示されている。
この交流型プラズマディスプレイパネルでは、ガス放電
空間を挟んで背面基板と前面基板とが対向配置され、一
方の基板又は両方の基板に誘電体層に覆われた互いに対
となる電極が形成され、誘電体層上に上記保護膜が形成
される。このように構成された交流型プラズマディスプ
レイパネルでは、加水分解可能な反応部位を有するアル
カリ土類金属化合物（例えば、マグネシウム化合物）か
らの部分加水分解物を基本的に含むコーティング液を、
基板を覆う誘電体層上に塗布した後に加熱することによ
り、保護膜としてアルカリ土類金属酸化物膜（例えば、
酸化マグネシウム膜）が形成される。このように保護膜
を化学的手法により簡易で安定かつ低温成膜温度でも十
分に成膜できる。また保護膜の膜強度及び基板への密着
性を向上でき、この保護膜を使用した交流型ＰＤＰでは
放電開始電圧や駆動電圧の低下を図ることができる。
された保護膜を有する交流型プラズマディスプレイパネ
ルが特開平８−３２９８４４号公報に開示されている。
この交流型プラズマディスプレイパネルでは、ガス放電
空間を挟んで背面基板と前面基板とが対向配置され、一
方の基板又は両方の基板に誘電体層に覆われた互いに対
となる電極が形成され、誘電体層上に上記保護膜が形成
される。このように構成された交流型プラズマディスプ
レイパネルでは、加水分解可能な反応部位を有するアル
カリ土類金属化合物（例えば、マグネシウム化合物）か
らの部分加水分解物を基本的に含むコーティング液を、
基板を覆う誘電体層上に塗布した後に加熱することによ
り、保護膜としてアルカリ土類金属酸化物膜（例えば、
酸化マグネシウム膜）が形成される。このように保護膜
を化学的手法により簡易で安定かつ低温成膜温度でも十
分に成膜できる。また保護膜の膜強度及び基板への密着
性を向上でき、この保護膜を使用した交流型ＰＤＰでは
放電開始電圧や駆動電圧の低下を図ることができる。
【０００４】一方、従来より、電子ビーム蒸着法やスパ
ッタリング法などの真空プロセスを用いてＦＰＤ保護膜
を形成する方法と比較し、低コストで量産性に優れた保
護膜の形成方法として、バインダ中にＭｇＯ粉末、Ｍｇ
(ＯＨ)2粉末、ＭｇＯ粉末及びＭｇ(ＯＨ)2の混合粉末、
或いは希土類酸化物粉末を含有したペースト又はコーテ
ィング液を用い、スクリーン印刷法、スピンコート法、
スプレーコート法などの湿式プロセスにより形成する方
法が提案されている（例えば特開平３−６７４３７号、
特開平７−２２０６４０号、特開平７−１４７１３６
号、特開平７−３３５１３４号、特開平８−１１１１７
７号、特開平８−１１１１７８号、特開平８−２１２９
１７号、特開平６−３２５６９６号、特開平８−１６７
３８１号、特開平８−２６４１２５号、特開平９−１２
９４０号、特開平９−１２９７６号、特開平８−９６７
１８号、特開平６−３１６６７１号、特開平９−２０８
８５１号など）。
ッタリング法などの真空プロセスを用いてＦＰＤ保護膜
を形成する方法と比較し、低コストで量産性に優れた保
護膜の形成方法として、バインダ中にＭｇＯ粉末、Ｍｇ
(ＯＨ)2粉末、ＭｇＯ粉末及びＭｇ(ＯＨ)2の混合粉末、
或いは希土類酸化物粉末を含有したペースト又はコーテ
ィング液を用い、スクリーン印刷法、スピンコート法、
スプレーコート法などの湿式プロセスにより形成する方
法が提案されている（例えば特開平３−６７４３７号、
特開平７−２２０６４０号、特開平７−１４７１３６
号、特開平７−３３５１３４号、特開平８−１１１１７
７号、特開平８−１１１１７８号、特開平８−２１２９
１７号、特開平６−３２５６９６号、特開平８−１６７
３８１号、特開平８−２６４１２５号、特開平９−１２
９４０号、特開平９−１２９７６号、特開平８−９６７
１８号、特開平６−３１６６７１号、特開平９−２０８
８５１号など）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の特
開平８−３２５５２２号公報に示されたコーティング組
成物及び特開平８−３２９８４４号公報に示された交流
型プラズマディスプレイパネルでは、保護膜を有機物の
熱分解により形成するため、結晶性が低く（アモルファ
ス）なる不具合があった。また、上記従来の特開平３−
６７４３７号公報等に示された湿式プロセスによる保護
膜の形成方法では、バインダが重合性を有するため、粉
末の分散時に生じる熱やＭｇＯ粉末等の表面に存在する
吸着水により、上記重合が進行してしまい安定なコーテ
ィング組成物を得ることが難しい問題点がある。この結
果、このコーティング組成物により作製された保護膜に
放射すじ、膜割れ、干渉むら等の欠陥が発生したり、保
護膜の透明性が不十分となる問題点があった。
開平８−３２５５２２号公報に示されたコーティング組
成物及び特開平８−３２９８４４号公報に示された交流
型プラズマディスプレイパネルでは、保護膜を有機物の
熱分解により形成するため、結晶性が低く（アモルファ
ス）なる不具合があった。また、上記従来の特開平３−
６７４３７号公報等に示された湿式プロセスによる保護
膜の形成方法では、バインダが重合性を有するため、粉
末の分散時に生じる熱やＭｇＯ粉末等の表面に存在する
吸着水により、上記重合が進行してしまい安定なコーテ
ィング組成物を得ることが難しい問題点がある。この結
果、このコーティング組成物により作製された保護膜に
放射すじ、膜割れ、干渉むら等の欠陥が発生したり、保
護膜の透明性が不十分となる問題点があった。
【０００６】本発明の目的は、バインダの重合を抑制で
き、ＭｇＯ粉末等が均一に分散され、かつ安定したコー
ティング液及びその調製方法を提供することにある。本
発明の別の目的は、強度、結晶性及び基板への密着性を
向上でき、放射すじや膜割れや干渉むら等の欠陥がな
く、しかも透明性の良好なＦＰＤ保護膜及びこのＦＰＤ
保護膜を有するＦＰＤを提供することにある。
き、ＭｇＯ粉末等が均一に分散され、かつ安定したコー
ティング液及びその調製方法を提供することにある。本
発明の別の目的は、強度、結晶性及び基板への密着性を
向上でき、放射すじや膜割れや干渉むら等の欠陥がな
く、しかも透明性の良好なＦＰＤ保護膜及びこのＦＰＤ
保護膜を有するＦＰＤを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
粉末分散液とバインダ溶液の二液を混合してなるＦＰＤ
保護膜用コーティング液であって、粉末分散液がＭｇＯ
粉末又は表面がフッ素改質されたＭｇＯ粉末と、アルコ
ールを主成分とする溶媒又はアルコールとエチレングリ
コール誘導体との混合溶媒と、エチレングリコール誘導
体を主成分とする分散剤とを混合して調製され、バイン
ダ溶液がマグネシウムアルコキシド又はマグネシウムア
セチルアセトネートを主成分とするバインダと、アルコ
ールを主成分とする溶媒又はアルコールとエチレングリ
コール誘導体との混合溶媒と、エチレングリコール誘導
体を主成分とする添加剤とを混合して調製されたことを
特徴とする。この請求項１に記載されたＦＰＤ保護膜用
コーティング液では、分散剤はＭｇＯ粉末等を粉末分散
液中に十分にかつ均一に分散させるために添加され、添
加剤はバインダの重合を抑制して安定化させる安定化剤
として作用する。この結果、粉末分散液の調製時に重合
性を有するバインダが存在しないので、ＭｇＯ粉末等の
分散による発熱やＭｇＯ粉末等の表面における吸着水の
存在によっても、上記バインダの重合が進行することは
ない。またこの粉末分散液をバインダ溶液と混合して
も、バインダは既に添加剤により安定化しているので、
バインダの重合が進行することはなく、ＭｇＯ粉末等が
均一に分散された安定なコーティング液を得ることがで
きる。
粉末分散液とバインダ溶液の二液を混合してなるＦＰＤ
保護膜用コーティング液であって、粉末分散液がＭｇＯ
粉末又は表面がフッ素改質されたＭｇＯ粉末と、アルコ
ールを主成分とする溶媒又はアルコールとエチレングリ
コール誘導体との混合溶媒と、エチレングリコール誘導
体を主成分とする分散剤とを混合して調製され、バイン
ダ溶液がマグネシウムアルコキシド又はマグネシウムア
セチルアセトネートを主成分とするバインダと、アルコ
ールを主成分とする溶媒又はアルコールとエチレングリ
コール誘導体との混合溶媒と、エチレングリコール誘導
体を主成分とする添加剤とを混合して調製されたことを
特徴とする。この請求項１に記載されたＦＰＤ保護膜用
コーティング液では、分散剤はＭｇＯ粉末等を粉末分散
液中に十分にかつ均一に分散させるために添加され、添
加剤はバインダの重合を抑制して安定化させる安定化剤
として作用する。この結果、粉末分散液の調製時に重合
性を有するバインダが存在しないので、ＭｇＯ粉末等の
分散による発熱やＭｇＯ粉末等の表面における吸着水の
存在によっても、上記バインダの重合が進行することは
ない。またこの粉末分散液をバインダ溶液と混合して
も、バインダは既に添加剤により安定化しているので、
バインダの重合が進行することはなく、ＭｇＯ粉末等が
均一に分散された安定なコーティング液を得ることがで
きる。
【０００８】請求項２に係る発明は、請求項１に係る発
明であって、更にエチレングリコール誘導体がジエタノ
ールアミンであることを特徴とする。この請求項２に記
載されたＦＰＤ保護膜用コーティング液では、ＭｇＯ粉
末等はジエタノールアミンにより粉末分散液中に十分に
かつ均一に分散される。
明であって、更にエチレングリコール誘導体がジエタノ
ールアミンであることを特徴とする。この請求項２に記
載されたＦＰＤ保護膜用コーティング液では、ＭｇＯ粉
末等はジエタノールアミンにより粉末分散液中に十分に
かつ均一に分散される。
【０００９】請求項３に係る発明は、ＭｇＯ粉末又は表
面がフッ素改質されたＭｇＯ粉末と、アルコールを主成
分とする溶媒又はアルコールとエチレングリコール誘導
体との混合溶媒と、エチレングリコール誘導体を主成分
とする分散剤とを混合して粉末分散液を調製し、マグネ
シウムアルコキシド又はマグネシウムアセチルアセトネ
ートを主成分とするバインダと、アルコールを主成分と
する溶媒又はアルコールとエチレングリコール誘導体と
の混合溶媒と、エチレングリコール誘導体を主成分とす
る添加剤とを混合してバインダ溶液を調製し、粉末分散
液とバインダ溶液を混合するＦＰＤ保護膜用コーティン
グ液の調製方法である。この請求項３に記載されたＦＰ
Ｄ保護膜用コーティング液の調製方法では、電子ビーム
蒸着法やスパッタリング法による保護膜の形成方法のよ
うな大掛かりな装置を必要とせずに、比較的容易にかつ
短時間でコーティング液を調製することができる。
面がフッ素改質されたＭｇＯ粉末と、アルコールを主成
分とする溶媒又はアルコールとエチレングリコール誘導
体との混合溶媒と、エチレングリコール誘導体を主成分
とする分散剤とを混合して粉末分散液を調製し、マグネ
シウムアルコキシド又はマグネシウムアセチルアセトネ
ートを主成分とするバインダと、アルコールを主成分と
する溶媒又はアルコールとエチレングリコール誘導体と
の混合溶媒と、エチレングリコール誘導体を主成分とす
る添加剤とを混合してバインダ溶液を調製し、粉末分散
液とバインダ溶液を混合するＦＰＤ保護膜用コーティン
グ液の調製方法である。この請求項３に記載されたＦＰ
Ｄ保護膜用コーティング液の調製方法では、電子ビーム
蒸着法やスパッタリング法による保護膜の形成方法のよ
うな大掛かりな装置を必要とせずに、比較的容易にかつ
短時間でコーティング液を調製することができる。
【００１０】請求項４に係る発明は、図１に示すよう
に、請求項１又は２記載のＦＰＤ保護膜用コーティング
液を用いて作製されたＦＰＤ保護膜である。この請求項
４に記載されたＦＰＤ保護膜では、コーティング液中に
均一に分散した粉末が焼結によりバインダ中のマグネシ
アにて結合されて保護膜が形成されるため、強度が良好
で、かつ結晶性及び基板への密着性の高い保護膜を得る
ことができる。また保護膜に放射すじや膜割れや干渉む
ら等の欠陥がなく、保護膜の外観は良好であり、保護膜
の透明性も良好である。
に、請求項１又は２記載のＦＰＤ保護膜用コーティング
液を用いて作製されたＦＰＤ保護膜である。この請求項
４に記載されたＦＰＤ保護膜では、コーティング液中に
均一に分散した粉末が焼結によりバインダ中のマグネシ
アにて結合されて保護膜が形成されるため、強度が良好
で、かつ結晶性及び基板への密着性の高い保護膜を得る
ことができる。また保護膜に放射すじや膜割れや干渉む
ら等の欠陥がなく、保護膜の外観は良好であり、保護膜
の透明性も良好である。
【００１１】請求項５に係る発明は、図１に示すよう
に、請求項１又は２記載のＦＰＤ保護膜用コーティング
液を用いて作製されたＦＰＤ保護膜を有するＦＰＤであ
る。この請求項５に記載されたＦＰＤ保護膜を有するＦ
ＰＤでは、ＦＰＤの特性を向上できる。
に、請求項１又は２記載のＦＰＤ保護膜用コーティング
液を用いて作製されたＦＰＤ保護膜を有するＦＰＤであ
る。この請求項５に記載されたＦＰＤ保護膜を有するＦ
ＰＤでは、ＦＰＤの特性を向上できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を説明す
る。ＦＰＤ保護膜用コーティング液は粉末と粉末用溶媒
と分散剤とを混合して調製された粉末分散液と、バイン
ダとバインダ用溶媒と添加剤とを混合して調製されたバ
インダ溶液の二液を混合して得られる。粉末としてはＭ
ｇＯ粉末又は表面がフッ素改質されたＭｇＯ粉末［以
下、改質ＭｇＯ粉末という］が用いられ、粉末用溶媒と
してはアルコールを主成分とする溶媒又はアルコールと
エチレングリコール誘導体との混合溶媒が用いられ、分
散剤としてはエチレングリコール誘導体を主成分とする
分散剤が用いられる。ＭｇＯ粉末及び改質ＭｇＯ粉末の
平均粒径は５０Å〜５μｍ、好ましくは１００Å〜２０
００Åである。また改質ＭｇＯ粉末とは、表面がフッ化
物層にて被覆されたＭｇＯ粉末であり、このフッ化物層
はＭｇＯとガス状フッ素化剤との反応によって得ること
ができ、ガス状フッ素化剤としては反応性の高さや汎用
性の観点からフッ素ガス又はフッ化水素を用いることが
好ましい。
る。ＦＰＤ保護膜用コーティング液は粉末と粉末用溶媒
と分散剤とを混合して調製された粉末分散液と、バイン
ダとバインダ用溶媒と添加剤とを混合して調製されたバ
インダ溶液の二液を混合して得られる。粉末としてはＭ
ｇＯ粉末又は表面がフッ素改質されたＭｇＯ粉末［以
下、改質ＭｇＯ粉末という］が用いられ、粉末用溶媒と
してはアルコールを主成分とする溶媒又はアルコールと
エチレングリコール誘導体との混合溶媒が用いられ、分
散剤としてはエチレングリコール誘導体を主成分とする
分散剤が用いられる。ＭｇＯ粉末及び改質ＭｇＯ粉末の
平均粒径は５０Å〜５μｍ、好ましくは１００Å〜２０
００Åである。また改質ＭｇＯ粉末とは、表面がフッ化
物層にて被覆されたＭｇＯ粉末であり、このフッ化物層
はＭｇＯとガス状フッ素化剤との反応によって得ること
ができ、ガス状フッ素化剤としては反応性の高さや汎用
性の観点からフッ素ガス又はフッ化水素を用いることが
好ましい。
【００１３】アルコールを主成分とする溶媒としては、
メタノール、エタノール、プロパノール、α−テルピネ
オール等が挙げられ、エチレングリコール誘導体として
は、ジエタノールアミン、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、１−メトキシ−２−プロパノール、１
−エトキシ−２−プロパノール、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、イソプロピルグリコール、ブチルセロ
ソルブ等が挙げられる。またアルコールとエチレングリ
コール誘導体との混合溶媒としては、例えばメタノール
とイソプロピルグリコールを所定の割合（例えば２０：
８０の重量割合）で混合した混合溶媒等が挙げられる。
エチレングリコール誘導体を主成分とする分散剤として
は、上記エチレングリコール誘導体自体、即ちジエタノ
ールアミン、ジエチレングリコール等が挙げられる。
メタノール、エタノール、プロパノール、α−テルピネ
オール等が挙げられ、エチレングリコール誘導体として
は、ジエタノールアミン、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、１−メトキシ−２−プロパノール、１
−エトキシ−２−プロパノール、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、イソプロピルグリコール、ブチルセロ
ソルブ等が挙げられる。またアルコールとエチレングリ
コール誘導体との混合溶媒としては、例えばメタノール
とイソプロピルグリコールを所定の割合（例えば２０：
８０の重量割合）で混合した混合溶媒等が挙げられる。
エチレングリコール誘導体を主成分とする分散剤として
は、上記エチレングリコール誘導体自体、即ちジエタノ
ールアミン、ジエチレングリコール等が挙げられる。
【００１４】バインダとしてはマグネシウムアルコキシ
ド又はマグネシウムアセチルアセトネートを主成分とす
るバインダが用いられ、バインダ用溶媒としては上記粉
末用溶媒と同様にアルコールを主成分とする溶媒又はア
ルコールとエチレングリコール誘導体との混合溶媒が用
いられ、添加剤としては上記分散剤と同様にエチレング
リコール誘導体を主成分とする添加剤が用いられ、これ
らを混合してバインダ溶液が調製される。マグネシウム
アルコキシドを主成分とするバインダとしては、マグネ
シウムジメトキシド、マグネシウムジエトキシド、マグ
ネシウム−１−メトキシ−２−プロピレート、マグネシ
ウムジプロポキシド等が挙げられ、マグネシウムアセチ
ルアセトネートを主成分とするバインダとしては、マグ
ネシウムのアセチルアセトン，ベンゾイルアセトン，ジ
ベンゾイルメタン等のβ−ジケトンと、アセト酢酸エチ
ル，ベンゾイル酢酸エチルなどのケト酸エステルとのキ
レート化合物等が挙げられる。
ド又はマグネシウムアセチルアセトネートを主成分とす
るバインダが用いられ、バインダ用溶媒としては上記粉
末用溶媒と同様にアルコールを主成分とする溶媒又はア
ルコールとエチレングリコール誘導体との混合溶媒が用
いられ、添加剤としては上記分散剤と同様にエチレング
リコール誘導体を主成分とする添加剤が用いられ、これ
らを混合してバインダ溶液が調製される。マグネシウム
アルコキシドを主成分とするバインダとしては、マグネ
シウムジメトキシド、マグネシウムジエトキシド、マグ
ネシウム−１−メトキシ−２−プロピレート、マグネシ
ウムジプロポキシド等が挙げられ、マグネシウムアセチ
ルアセトネートを主成分とするバインダとしては、マグ
ネシウムのアセチルアセトン，ベンゾイルアセトン，ジ
ベンゾイルメタン等のβ−ジケトンと、アセト酢酸エチ
ル，ベンゾイル酢酸エチルなどのケト酸エステルとのキ
レート化合物等が挙げられる。
【００１５】このように構成されたコーティング液の調
製方法を説明する。先ず粉末と粉末用溶媒と分散剤とを
所定の割合で混合して粉末分散液を調製する。一方、バ
インダとバインダ用溶媒と添加剤とを所定の割合で混合
してバインダ溶液を調製する。次に上記粉末分散液とバ
インダ溶液とを所定の割合で混合することにより、コー
ティング液が得られる。上記各液を混合する装置として
はペイントシェーカーやロールミル（例えば、３本ロー
ルミル）等が用いられる。
製方法を説明する。先ず粉末と粉末用溶媒と分散剤とを
所定の割合で混合して粉末分散液を調製する。一方、バ
インダとバインダ用溶媒と添加剤とを所定の割合で混合
してバインダ溶液を調製する。次に上記粉末分散液とバ
インダ溶液とを所定の割合で混合することにより、コー
ティング液が得られる。上記各液を混合する装置として
はペイントシェーカーやロールミル（例えば、３本ロー
ルミル）等が用いられる。
【００１６】粉末と粉末用溶媒と分散剤との混合割合
（重量％）は（０．１〜３０）：（６０〜９８）：
（０．０１〜１０）、好ましくは（５〜２５）：（７０
〜９５）：（０．５〜２．５）であり、バインダとバイ
ンダ用溶媒と添加剤との混合割合（重量％）は（０．１
〜４０）：（４０〜９５）：（０．１〜５０）、好まし
くは（２〜２５）：（５０〜９０）：（５〜４０）であ
る。上記混合割合は粉末分散液とバインダ溶液とを混合
してコーティング液を作製したときのコーティング液を
１００重量％としたときの各成分（粉末、粉末用溶媒、
分散剤、バインダ、バインダ用溶媒及び添加剤）の混合
割合を示す。上記粉末分散液中の分散剤は粉末を粉末分
散液中に十分にかつ均一に分散させるために添加され、
上記バインダ液中の添加剤はバインダの重合を抑制して
安定化させる安定化剤として作用する。この結果、粉末
分散液の調製時、即ち粉末の分散時には、重合性を有す
るバインダが存在しないので、粉末の分散により熱が発
生しても、或いは粉末の表面に吸着水が存在しても、上
記バインダの重合が進行することはない。またこの粉末
分散液をバインダ溶液と混合しても、バインダは既に添
加剤により安定化しているので、バインダの重合が進行
することはなく、粉末が均一に分散された安定なコーテ
ィング液を得ることができる。
（重量％）は（０．１〜３０）：（６０〜９８）：
（０．０１〜１０）、好ましくは（５〜２５）：（７０
〜９５）：（０．５〜２．５）であり、バインダとバイ
ンダ用溶媒と添加剤との混合割合（重量％）は（０．１
〜４０）：（４０〜９５）：（０．１〜５０）、好まし
くは（２〜２５）：（５０〜９０）：（５〜４０）であ
る。上記混合割合は粉末分散液とバインダ溶液とを混合
してコーティング液を作製したときのコーティング液を
１００重量％としたときの各成分（粉末、粉末用溶媒、
分散剤、バインダ、バインダ用溶媒及び添加剤）の混合
割合を示す。上記粉末分散液中の分散剤は粉末を粉末分
散液中に十分にかつ均一に分散させるために添加され、
上記バインダ液中の添加剤はバインダの重合を抑制して
安定化させる安定化剤として作用する。この結果、粉末
分散液の調製時、即ち粉末の分散時には、重合性を有す
るバインダが存在しないので、粉末の分散により熱が発
生しても、或いは粉末の表面に吸着水が存在しても、上
記バインダの重合が進行することはない。またこの粉末
分散液をバインダ溶液と混合しても、バインダは既に添
加剤により安定化しているので、バインダの重合が進行
することはなく、粉末が均一に分散された安定なコーテ
ィング液を得ることができる。
【００１７】このように調製されたコーティング液を基
板上に成膜し、５０〜２００℃の温度で乾燥した後、大
気中３００〜６５０℃の温度で焼成することにより、基
板上に保護膜が形成される。コーティング液の成膜方法
としては、スピンコート法、スクリーン印刷法、スプレ
ーコート法、ディップコート法、ドクタブレード法等が
挙げられる。この保護膜はコーティング液中に均一に分
散した粉末が焼結によりバインダ中のマグネシアにて結
合されるため、強度が良好で、かつ結晶性及び基板への
密着性の高い保護膜を得ることができる。また保護膜に
放射すじや膜割れや干渉むら等の欠陥がなく、保護膜の
外観は良好であり、保護膜の透明性も良好である。従っ
て、この保護膜を図１に示すようなＡＣ型のＰＤＰの保
護膜として用いると、ＰＤＰの特性を向上できる。即ち
ＰＤＰの放電開始電圧や駆動電圧を低減できる。
板上に成膜し、５０〜２００℃の温度で乾燥した後、大
気中３００〜６５０℃の温度で焼成することにより、基
板上に保護膜が形成される。コーティング液の成膜方法
としては、スピンコート法、スクリーン印刷法、スプレ
ーコート法、ディップコート法、ドクタブレード法等が
挙げられる。この保護膜はコーティング液中に均一に分
散した粉末が焼結によりバインダ中のマグネシアにて結
合されるため、強度が良好で、かつ結晶性及び基板への
密着性の高い保護膜を得ることができる。また保護膜に
放射すじや膜割れや干渉むら等の欠陥がなく、保護膜の
外観は良好であり、保護膜の透明性も良好である。従っ
て、この保護膜を図１に示すようなＡＣ型のＰＤＰの保
護膜として用いると、ＰＤＰの特性を向上できる。即ち
ＰＤＰの放電開始電圧や駆動電圧を低減できる。
【００１８】なお、ＰＤＰは図１に示すように、背面ガ
ラス基板１１上に所定の間隔をあけて形成された隔壁１
２を介して前面ガラス基板１３を被せることにより構成
される。前面ガラス基板１３の両面のうち背面ガラス基
板１１に対向する面には表示電極１６及び透明誘電体層
１７を介して上記保護膜１４が形成される。背面ガラス
基板１１と前面ガラス基板１３と隔壁１２とにより多数
の放電セル１８が区画形成され、背面ガラス基板１１上
には放電セル１８内に位置しかつ上記表示電極１６に対
向するようにアドレス電極１９が形成される。また図１
の符号２１は放電セル１８内には隔壁１２の側面から背
面ガラス基板１１の上面にかけて形成された蛍光体層で
ある。なお、この実施の形態では、ＦＰＤとしてＰＤＰ
を挙げたが、ＰＡＬＣ等でもよい。
ラス基板１１上に所定の間隔をあけて形成された隔壁１
２を介して前面ガラス基板１３を被せることにより構成
される。前面ガラス基板１３の両面のうち背面ガラス基
板１１に対向する面には表示電極１６及び透明誘電体層
１７を介して上記保護膜１４が形成される。背面ガラス
基板１１と前面ガラス基板１３と隔壁１２とにより多数
の放電セル１８が区画形成され、背面ガラス基板１１上
には放電セル１８内に位置しかつ上記表示電極１６に対
向するようにアドレス電極１９が形成される。また図１
の符号２１は放電セル１８内には隔壁１２の側面から背
面ガラス基板１１の上面にかけて形成された蛍光体層で
ある。なお、この実施の形態では、ＦＰＤとしてＰＤＰ
を挙げたが、ＰＡＬＣ等でもよい。
【００１９】
【実施例】次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく
説明する。 ＜実施例１＞粉末として気相法により作製したＭｇＯ粉
末（宇部マテリアルズ製、平均粒径５００Å）［以下、
ＭｇＯ粉末１という］を３．０重量％と、溶媒としてメ
タノールとイソプロピルグリコールを２０：８０の重量
割合で混合した混合溶媒［以下、メタノールとイソプロ
ピルグリコールの混合溶媒という］を４６．７重量％
と、分散剤としてジエタノールアミンを０．３重量％と
をペイントシェーカーにて混合分散して粉末分散液を調
製した。一方、バインダとしてマグネシウムジエトキシ
ドを２．０重量％と、溶媒としてメタノールとイソプロ
ピルグリコールの混合溶媒を４４．０重量％と、添加剤
としてジエタノールアミンを４．０重量％とを混合して
バインダ溶液を調製した。上記のようにして得られた粉
末分散液とバインダ溶液とを混合してコーティング液を
得た。このコーティング液をガラス基板上にスピンコー
ト法により成膜し、６０℃で乾燥した後、大気中５８０
℃で焼成した。この保護膜を実施例１とした。
説明する。 ＜実施例１＞粉末として気相法により作製したＭｇＯ粉
末（宇部マテリアルズ製、平均粒径５００Å）［以下、
ＭｇＯ粉末１という］を３．０重量％と、溶媒としてメ
タノールとイソプロピルグリコールを２０：８０の重量
割合で混合した混合溶媒［以下、メタノールとイソプロ
ピルグリコールの混合溶媒という］を４６．７重量％
と、分散剤としてジエタノールアミンを０．３重量％と
をペイントシェーカーにて混合分散して粉末分散液を調
製した。一方、バインダとしてマグネシウムジエトキシ
ドを２．０重量％と、溶媒としてメタノールとイソプロ
ピルグリコールの混合溶媒を４４．０重量％と、添加剤
としてジエタノールアミンを４．０重量％とを混合して
バインダ溶液を調製した。上記のようにして得られた粉
末分散液とバインダ溶液とを混合してコーティング液を
得た。このコーティング液をガラス基板上にスピンコー
ト法により成膜し、６０℃で乾燥した後、大気中５８０
℃で焼成した。この保護膜を実施例１とした。
【００２０】＜実施例２＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として１０．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒
として３９．０重量％のエチルセロソルブと、分散剤と
して１．０重量％のジエタノールアミンとを用いた。ま
たバインダ溶液を調製するために、バインダとして２．
０重量％のマグネシウムジエトキシドと、溶媒として４
４．０重量％のエチルセロソルブと、添加剤として４．
０重量％のジエタノールアミンとを用いた。上記以外は
実施例１と同様にしてガラス基板上に保護膜を形成し
た。この保護膜を実施例２とした。
に、粉末として１０．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒
として３９．０重量％のエチルセロソルブと、分散剤と
して１．０重量％のジエタノールアミンとを用いた。ま
たバインダ溶液を調製するために、バインダとして２．
０重量％のマグネシウムジエトキシドと、溶媒として４
４．０重量％のエチルセロソルブと、添加剤として４．
０重量％のジエタノールアミンとを用いた。上記以外は
実施例１と同様にしてガラス基板上に保護膜を形成し
た。この保護膜を実施例２とした。
【００２１】＜実施例３＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として３．０重量％の表面をフッ素で改質した
ＭｇＯ粉末（原料ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平
均粒径５００Å）［以下、改質ＭｇＯ粉末１という］
と、溶媒として４６．７重量％のメタノールとイソプロ
ピルグリコールの混合溶媒と、分散剤として０．３重量
％のジエタノールアミンとを用いた。またバインダ溶液
を調製するために、バインダとして２．０重量％のマグ
ネシウムジエトキシドと、溶媒として４４．０重量％の
メタノールとイソプロピルグリコールの混合溶媒と、添
加剤として４．０重量％のジエタノールアミンとを用い
た。上記以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保
護膜を形成した。この保護膜を実施例３とした。
に、粉末として３．０重量％の表面をフッ素で改質した
ＭｇＯ粉末（原料ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平
均粒径５００Å）［以下、改質ＭｇＯ粉末１という］
と、溶媒として４６．７重量％のメタノールとイソプロ
ピルグリコールの混合溶媒と、分散剤として０．３重量
％のジエタノールアミンとを用いた。またバインダ溶液
を調製するために、バインダとして２．０重量％のマグ
ネシウムジエトキシドと、溶媒として４４．０重量％の
メタノールとイソプロピルグリコールの混合溶媒と、添
加剤として４．０重量％のジエタノールアミンとを用い
た。上記以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保
護膜を形成した。この保護膜を実施例３とした。
【００２２】＜実施例４＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として１０．０重量％の改質ＭｇＯ粉末１と、
溶媒として３９．０重量％のエチルセロソルブと、分散
剤として１．０重量％のジエタノールアミンとを用い
た。またバインダ溶液を調製するために、バインダとし
て２．０重量％のマグネシウムジエトキシドと、溶媒と
して４４．０重量％のエチルセロソルブと、添加剤とし
て４．０重量％のジエタノールアミンとを用いた。上記
以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保護膜を形
成した。この保護膜を実施例４とした。
に、粉末として１０．０重量％の改質ＭｇＯ粉末１と、
溶媒として３９．０重量％のエチルセロソルブと、分散
剤として１．０重量％のジエタノールアミンとを用い
た。またバインダ溶液を調製するために、バインダとし
て２．０重量％のマグネシウムジエトキシドと、溶媒と
して４４．０重量％のエチルセロソルブと、添加剤とし
て４．０重量％のジエタノールアミンとを用いた。上記
以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保護膜を形
成した。この保護膜を実施例４とした。
【００２３】＜実施例５＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒と
して４６．７重量％のメタノールとイソプロピルグリコ
ールの混合溶媒と、分散剤として０．３重量％のジエタ
ノールアミンとを用いた。またバインダ溶液を調製する
ために、バインダとして１０．０重量％のマグネシウム
ジエトキシドと、溶媒として２５．０重量％のメタノー
ルとイソプロピルグリコールの混合溶媒と、添加剤とし
て１５．０重量％のジエタノールアミンとを用いた。上
記以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保護膜を
形成した。この保護膜を実施例５とした。
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒と
して４６．７重量％のメタノールとイソプロピルグリコ
ールの混合溶媒と、分散剤として０．３重量％のジエタ
ノールアミンとを用いた。またバインダ溶液を調製する
ために、バインダとして１０．０重量％のマグネシウム
ジエトキシドと、溶媒として２５．０重量％のメタノー
ルとイソプロピルグリコールの混合溶媒と、添加剤とし
て１５．０重量％のジエタノールアミンとを用いた。上
記以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保護膜を
形成した。この保護膜を実施例５とした。
【００２４】＜実施例６＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒と
して４６．７重量％のメタノールとイソプロピルグリコ
ールの混合溶媒と、分散剤として０．３重量％のジエタ
ノールアミンとを用いた。またバインダ溶液を調製する
ために、バインダとして２．０重量％のマグネシウム−
１−メトキシ−２−プロピレート［Ｄ］と、溶媒として
４４．０重量％のメタノールとイソプロピルグリコール
の混合溶媒と、添加剤として４．０重量％のジエタノー
ルアミンとを用いた。上記以外は実施例１と同様にして
ガラス基板上に保護膜を形成した。この保護膜を実施例
６とした。
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒と
して４６．７重量％のメタノールとイソプロピルグリコ
ールの混合溶媒と、分散剤として０．３重量％のジエタ
ノールアミンとを用いた。またバインダ溶液を調製する
ために、バインダとして２．０重量％のマグネシウム−
１−メトキシ−２−プロピレート［Ｄ］と、溶媒として
４４．０重量％のメタノールとイソプロピルグリコール
の混合溶媒と、添加剤として４．０重量％のジエタノー
ルアミンとを用いた。上記以外は実施例１と同様にして
ガラス基板上に保護膜を形成した。この保護膜を実施例
６とした。
【００２５】＜実施例７＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒と
して４６．７重量％のエチルセロソルブと、分散剤とし
て０．３重量％のジエチレングリコールとを用いた。ま
たバインダ溶液を調製するために、バインダとして２．
０重量％のマグネシウムベンゾイルアセトネートと、溶
媒として４４．０重量％のエチルセロソルブと、添加剤
として４．０重量％のジエチレングリコールとを用い
た。上記以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保
護膜を形成した。この保護膜を実施例７とした。
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒と
して４６．７重量％のエチルセロソルブと、分散剤とし
て０．３重量％のジエチレングリコールとを用いた。ま
たバインダ溶液を調製するために、バインダとして２．
０重量％のマグネシウムベンゾイルアセトネートと、溶
媒として４４．０重量％のエチルセロソルブと、添加剤
として４．０重量％のジエチレングリコールとを用い
た。上記以外は実施例１と同様にしてガラス基板上に保
護膜を形成した。この保護膜を実施例７とした。
【００２６】＜実施例８＞粉末として気相法により作製
したＭｇＯ粉末（宇部マテリアルズ製、平均粒径１００
Å）［以下、ＭｇＯ粉末２という］を３．０重量％と、
溶媒としてα−テルピネオールを１６．７重量％と、分
散剤としてジエタノールアミンを０．３重量％とを３本
ロールミルにて混合分散して粉末分散液を調製した。一
方、バインダとしてマグネシウムジエトキシドを２０．
０重量％と、溶媒としてα−テルピネオールを４０．０
重量％と、添加剤としてジエタノールアミンを２０．０
重量％とを混合してバインダ溶液を調製した。上記のよ
うにして得られた粉末分散液とバインダ溶液とを混合し
てコーティング液を得た。このコーティング液をガラス
基板上にスクリーン印刷法により成膜し、１５０℃で乾
燥した後、大気中５８０℃で焼成した。この保護膜を実
施例８とした。
したＭｇＯ粉末（宇部マテリアルズ製、平均粒径１００
Å）［以下、ＭｇＯ粉末２という］を３．０重量％と、
溶媒としてα−テルピネオールを１６．７重量％と、分
散剤としてジエタノールアミンを０．３重量％とを３本
ロールミルにて混合分散して粉末分散液を調製した。一
方、バインダとしてマグネシウムジエトキシドを２０．
０重量％と、溶媒としてα−テルピネオールを４０．０
重量％と、添加剤としてジエタノールアミンを２０．０
重量％とを混合してバインダ溶液を調製した。上記のよ
うにして得られた粉末分散液とバインダ溶液とを混合し
てコーティング液を得た。このコーティング液をガラス
基板上にスクリーン印刷法により成膜し、１５０℃で乾
燥した後、大気中５８０℃で焼成した。この保護膜を実
施例８とした。
【００２７】＜実施例９＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として３．０重量％の表面をフッ素で改質した
ＭｇＯ粉末（原料ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平
均粒径１００Å）［以下、改質ＭｇＯ粉末２という］
と、溶媒として１６．７重量％のα−テルピネオール
と、分散剤として０．３重量％のジエタノールアミンと
を用いた。またバインダ溶液を調製するために、バイン
ダとして２０．０重量％のマグネシウムジエトキシド
と、溶媒として４０．０重量％のα−テルピネオール
と、添加剤として２０．０重量％のジエタノールアミン
とを用いた。上記以外は実施例８と同様にしてガラス基
板上に保護膜を形成した。この保護膜を実施例９とし
た。
に、粉末として３．０重量％の表面をフッ素で改質した
ＭｇＯ粉末（原料ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平
均粒径１００Å）［以下、改質ＭｇＯ粉末２という］
と、溶媒として１６．７重量％のα−テルピネオール
と、分散剤として０．３重量％のジエタノールアミンと
を用いた。またバインダ溶液を調製するために、バイン
ダとして２０．０重量％のマグネシウムジエトキシド
と、溶媒として４０．０重量％のα−テルピネオール
と、添加剤として２０．０重量％のジエタノールアミン
とを用いた。上記以外は実施例８と同様にしてガラス基
板上に保護膜を形成した。この保護膜を実施例９とし
た。
【００２８】＜実施例１０＞粉末分散液を調製するため
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末２と、溶媒と
して１６．７重量％のα−テルピネオールと、分散剤と
して０．３重量％のジエチレングリコールとを用いた。
またバインダ溶液を調製するために、バインダとして１
５．０重量％のマグネシウムベンゾイルアセトネート
と、溶媒として４５．０重量％のα−テルピネオール
と、添加剤として２０．０重量％のジエチレングリコー
ルとを用いた。上記以外は実施例８と同様にしてガラス
基板上に保護膜を形成した。この保護膜を実施例１０と
した。
に、粉末として３．０重量％のＭｇＯ粉末２と、溶媒と
して１６．７重量％のα−テルピネオールと、分散剤と
して０．３重量％のジエチレングリコールとを用いた。
またバインダ溶液を調製するために、バインダとして１
５．０重量％のマグネシウムベンゾイルアセトネート
と、溶媒として４５．０重量％のα−テルピネオール
と、添加剤として２０．０重量％のジエチレングリコー
ルとを用いた。上記以外は実施例８と同様にしてガラス
基板上に保護膜を形成した。この保護膜を実施例１０と
した。
【００２９】＜比較例１＞最初から粉末として３．０重
量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒として９０．７重量％のメ
タノールとイソプロピルグリコールの混合溶媒と、分散
剤として４．３重量％のジエタノールアミンと、バイン
ダとして２．０重量％のマグネシウムジエトキシドとを
ペイントシェーカーにて混合した。上記以外は実施例１
と同様にしてガラス基板上に保護膜を形成した。この保
護膜を比較例１とした。
量％のＭｇＯ粉末１と、溶媒として９０．７重量％のメ
タノールとイソプロピルグリコールの混合溶媒と、分散
剤として４．３重量％のジエタノールアミンと、バイン
ダとして２．０重量％のマグネシウムジエトキシドとを
ペイントシェーカーにて混合した。上記以外は実施例１
と同様にしてガラス基板上に保護膜を形成した。この保
護膜を比較例１とした。
【００３０】＜比較例２＞最初から粉末として３．０重
量％のＭｇＯ粉末２と、溶媒として５６．７重量％のα
−テルピネオールと、分散剤として２０．３重量％のジ
エタノールアミンと、バインダとして２０．０重量％の
マグネシウムジエトキシドとを３本ロールミルにて混合
した。上記以外は実施例８と同様にしてガラス基板上に
保護膜を形成した。この保護膜を比較例２とした。
量％のＭｇＯ粉末２と、溶媒として５６．７重量％のα
−テルピネオールと、分散剤として２０．３重量％のジ
エタノールアミンと、バインダとして２０．０重量％の
マグネシウムジエトキシドとを３本ロールミルにて混合
した。上記以外は実施例８と同様にしてガラス基板上に
保護膜を形成した。この保護膜を比較例２とした。
【００３１】＜比較試験１及び評価＞実施例１〜７及び
比較例１の保護膜（スピンコート法）を形成するための
コーティング液の各成分を表１に示す。また実施例１〜
７及び比較例１の保護膜の外観、可視光透過率及び鉛筆
硬度をそれぞれつぎのようにして測定した。保護膜の外
観は目視により観察し、放射すじ・膜割れ・干渉むら等
の欠陥の有無により評価した。具体的には、保護膜に欠
陥がなく良好なものを○とし、欠陥が僅かに確認できた
ものを△とし、欠陥が比較的多く確認できたものを×と
した。可視光透過率は所定の波長の可視光（波長：５５
０ｎｍ）を保護膜に照射したときの透過率で表した。鉛
筆硬度はＪＩＳ Ｋ ５４００に準じて評価した。即ち、
所定の硬度（Ｂ〜６Ｂ）を有する鉛筆を用意し、軟らか
い鉛筆（６Ｂ）から硬い鉛筆（５Ｂ〜Ｂ）で順に所定の
力で保護膜を引っ掻き、初めて保護膜に引っ掻き傷が生
じた鉛筆の硬度を保護膜の鉛筆硬度として求めた。これ
らの結果を表１に示す。
比較例１の保護膜（スピンコート法）を形成するための
コーティング液の各成分を表１に示す。また実施例１〜
７及び比較例１の保護膜の外観、可視光透過率及び鉛筆
硬度をそれぞれつぎのようにして測定した。保護膜の外
観は目視により観察し、放射すじ・膜割れ・干渉むら等
の欠陥の有無により評価した。具体的には、保護膜に欠
陥がなく良好なものを○とし、欠陥が僅かに確認できた
ものを△とし、欠陥が比較的多く確認できたものを×と
した。可視光透過率は所定の波長の可視光（波長：５５
０ｎｍ）を保護膜に照射したときの透過率で表した。鉛
筆硬度はＪＩＳ Ｋ ５４００に準じて評価した。即ち、
所定の硬度（Ｂ〜６Ｂ）を有する鉛筆を用意し、軟らか
い鉛筆（６Ｂ）から硬い鉛筆（５Ｂ〜Ｂ）で順に所定の
力で保護膜を引っ掻き、初めて保護膜に引っ掻き傷が生
じた鉛筆の硬度を保護膜の鉛筆硬度として求めた。これ
らの結果を表１に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】なお、上記表１において、 Ａは粉末：ＭｇＯ粉末（宇部マテリアルズ製、平均粒径
５００Å）、 Ｂは粉末：表面がフッ素で改質されたＭｇＯ粉末（原料
ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平均粒径５００
Å）、 Ｃはバインダ：マグネシウムジエトキシド［Ｍｇ(ＯＥ
ｔ)2］、 Ｄはバインダ：マグネシウム−１−メトキシ−２−プロ
ピレート［Ｍｇ(ＯＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2ＯＣＨ3)2］、 Ｅはバインダ：マグネシウムベンゾイルアセトネート
［Ｍｇ(ｂｚａｃ)2］、 Ｆは溶媒：メタノールとイソプロピルグリコールを２
０：８０の重量割合で混合した混合溶媒、 Ｇは溶媒：エチルセロソルブ、 Ｈは分散剤及び添加剤：ジエタノールアミン、 Ｉは分散剤及び添加剤：ジエチレングリコールをそれぞ
れ示す。
５００Å）、 Ｂは粉末：表面がフッ素で改質されたＭｇＯ粉末（原料
ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平均粒径５００
Å）、 Ｃはバインダ：マグネシウムジエトキシド［Ｍｇ(ＯＥ
ｔ)2］、 Ｄはバインダ：マグネシウム−１−メトキシ−２−プロ
ピレート［Ｍｇ(ＯＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2ＯＣＨ3)2］、 Ｅはバインダ：マグネシウムベンゾイルアセトネート
［Ｍｇ(ｂｚａｃ)2］、 Ｆは溶媒：メタノールとイソプロピルグリコールを２
０：８０の重量割合で混合した混合溶媒、 Ｇは溶媒：エチルセロソルブ、 Ｈは分散剤及び添加剤：ジエタノールアミン、 Ｉは分散剤及び添加剤：ジエチレングリコールをそれぞ
れ示す。
【００３４】表１から明らかなように、保護膜の外観は
実施例１〜７では放射すじ・膜割れ・干渉むらが殆どな
く良好であったのに対し、比較例１では放射すじ・膜割
れ・干渉むらが比較的多かった。また保護膜の可視光透
過率は実施例１〜７では８７．８％〜９６．６％と極め
て高かったのに対し、比較例１では６２．７％と低かっ
た。更に保護膜の鉛筆硬度は実施例１〜７では３Ｂ〜５
Ｂと比較的硬かったのに対し、比較例１では６Ｂ以下と
軟らかかった。
実施例１〜７では放射すじ・膜割れ・干渉むらが殆どな
く良好であったのに対し、比較例１では放射すじ・膜割
れ・干渉むらが比較的多かった。また保護膜の可視光透
過率は実施例１〜７では８７．８％〜９６．６％と極め
て高かったのに対し、比較例１では６２．７％と低かっ
た。更に保護膜の鉛筆硬度は実施例１〜７では３Ｂ〜５
Ｂと比較的硬かったのに対し、比較例１では６Ｂ以下と
軟らかかった。
【００３５】＜比較試験２及び評価＞実施例８〜１０及
び比較例２の保護膜（スクリーン印刷法）を形成するた
めのコーティング液の各成分を表２に示す。また実施例
８〜９及び比較例２の保護膜の外観、可視光透過率及び
鉛筆硬度を上記比較試験１と同様にそれぞれ測定した。
これらの結果を表２に示す。
び比較例２の保護膜（スクリーン印刷法）を形成するた
めのコーティング液の各成分を表２に示す。また実施例
８〜９及び比較例２の保護膜の外観、可視光透過率及び
鉛筆硬度を上記比較試験１と同様にそれぞれ測定した。
これらの結果を表２に示す。
【００３６】
【表２】
【００３７】なお、上記表２において、 Ａは粉末：ＭｇＯ粉末（宇部マテリアルズ製、平均粒径
１００Å）、 Ｂは粉末：表面がフッ素で改質されたＭｇＯ粉末（原料
ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平均粒径１００
Å）、 Ｃはバインダ：マグネシウムジエトキシド［Ｍｇ(ＯＥ
ｔ)2］、 Ｄはバインダ：マグネシウムベンゾイルアセトネート
［Ｍｇ(ｂｚａｃ)2］、 Ｅは溶媒：α−テルピネオール、 Ｆは分散剤及び添加剤：ジエタノールアミン、 Ｇは分散剤及び添加剤：ジエチレングリコールをそれぞ
れ示す。
１００Å）、 Ｂは粉末：表面がフッ素で改質されたＭｇＯ粉末（原料
ＭｇＯ粉末：宇部マテリアルズ製、平均粒径１００
Å）、 Ｃはバインダ：マグネシウムジエトキシド［Ｍｇ(ＯＥ
ｔ)2］、 Ｄはバインダ：マグネシウムベンゾイルアセトネート
［Ｍｇ(ｂｚａｃ)2］、 Ｅは溶媒：α−テルピネオール、 Ｆは分散剤及び添加剤：ジエタノールアミン、 Ｇは分散剤及び添加剤：ジエチレングリコールをそれぞ
れ示す。
【００３８】表２から明らかなように、保護膜の外観は
実施例８〜１０では放射すじ・膜割れ・干渉むらが殆ど
なく良好であったのに対し、比較例２では放射すじ・膜
割れ・干渉むらが比較的多かった。また保護膜の可視光
透過率は実施例８〜１０では８７．８％〜９２．２％と
極めて高かったのに対し、比較例２では４６．３％と低
かった。更に保護膜の鉛筆硬度は実施例８〜１０では４
Ｂ〜５Ｂと比較的硬かったのに対し、比較例２では６Ｂ
以下と軟らかかった。
実施例８〜１０では放射すじ・膜割れ・干渉むらが殆ど
なく良好であったのに対し、比較例２では放射すじ・膜
割れ・干渉むらが比較的多かった。また保護膜の可視光
透過率は実施例８〜１０では８７．８％〜９２．２％と
極めて高かったのに対し、比較例２では４６．３％と低
かった。更に保護膜の鉛筆硬度は実施例８〜１０では４
Ｂ〜５Ｂと比較的硬かったのに対し、比較例２では６Ｂ
以下と軟らかかった。
【００３９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、コ
ーティング液が分散剤によりＭｇＯ粉末等を粉末分散液
中に十分にかつ均一に分散させて調製された粉末分散液
と、添加剤によりバインダを安定化させて調製されたバ
インダ溶液との二液の混合物であるので、バインダの重
合を抑制でき、ＭｇＯ粉末等が均一に分散され、かつ安
定したコーティング液を得ることができる。即ち、粉末
分散液の調製時に重合性を有するバインダが存在しない
ので、ＭｇＯ粉末等の分散による発熱やＭｇＯ粉末等の
表面における吸着水の存在によっても、上記バインダの
重合が進行することはない。またこの粉末分散液をバイ
ンダ溶液と混合しても、バインダは既に添加剤により安
定化しているので、バインダの重合が進行することはな
く、ＭｇＯ粉末等が均一に分散された安定なコーティン
グ液を得ることができる。
ーティング液が分散剤によりＭｇＯ粉末等を粉末分散液
中に十分にかつ均一に分散させて調製された粉末分散液
と、添加剤によりバインダを安定化させて調製されたバ
インダ溶液との二液の混合物であるので、バインダの重
合を抑制でき、ＭｇＯ粉末等が均一に分散され、かつ安
定したコーティング液を得ることができる。即ち、粉末
分散液の調製時に重合性を有するバインダが存在しない
ので、ＭｇＯ粉末等の分散による発熱やＭｇＯ粉末等の
表面における吸着水の存在によっても、上記バインダの
重合が進行することはない。またこの粉末分散液をバイ
ンダ溶液と混合しても、バインダは既に添加剤により安
定化しているので、バインダの重合が進行することはな
く、ＭｇＯ粉末等が均一に分散された安定なコーティン
グ液を得ることができる。
【００４０】またエチレングリコール誘導体としてジエ
タノールアミンを用いれば、ＭｇＯ粉末等を粉末分散液
中に十分にかつ均一に分散できる。またＭｇＯ粉末等と
粉末用溶媒と分散剤とを混合して粉末分散液を調製し、
バインダとバインダ用溶媒と添加剤とを混合してバイン
ダ溶液を調製した後に、上記粉末分散液と上記バインダ
溶液を混合してコーティング液を調製すれば、大掛かり
な装置を必要とする電子ビーム蒸着法やスパッタリング
法と比較して、本発明では大掛かりな装置は不要とな
り、比較的容易にかつ短時間でコーティング液を調製す
ることができる。
タノールアミンを用いれば、ＭｇＯ粉末等を粉末分散液
中に十分にかつ均一に分散できる。またＭｇＯ粉末等と
粉末用溶媒と分散剤とを混合して粉末分散液を調製し、
バインダとバインダ用溶媒と添加剤とを混合してバイン
ダ溶液を調製した後に、上記粉末分散液と上記バインダ
溶液を混合してコーティング液を調製すれば、大掛かり
な装置を必要とする電子ビーム蒸着法やスパッタリング
法と比較して、本発明では大掛かりな装置は不要とな
り、比較的容易にかつ短時間でコーティング液を調製す
ることができる。
【００４１】またＦＰＤ保護膜を上記コーティング液を
用いて作製すれば、コーティング液中に均一に分散した
粉末が焼結によりバインダ中のマグネシアにて結合され
て保護膜が形成されるため、強度が良好で、かつ結晶性
及び基板への密着性の高い保護膜を得ることができる。
また保護膜に放射すじや膜割れや干渉むら等の欠陥が発
生せず、保護膜の外観は良好であり、保護膜の透明性も
向上できる。更にＦＰＤ保護膜を有するＦＰＤを上記コ
ーティング液を用いて作製すれば、ＦＰＤの特性を向上
できる。特にＰＤＰ保護膜を有するＰＤＰを上記コーテ
ィング液を用いて作製すれば、ＰＤＰの放電開始電圧や
駆動電圧を低減でき、ＰＤＰの特性を向上できる。
用いて作製すれば、コーティング液中に均一に分散した
粉末が焼結によりバインダ中のマグネシアにて結合され
て保護膜が形成されるため、強度が良好で、かつ結晶性
及び基板への密着性の高い保護膜を得ることができる。
また保護膜に放射すじや膜割れや干渉むら等の欠陥が発
生せず、保護膜の外観は良好であり、保護膜の透明性も
向上できる。更にＦＰＤ保護膜を有するＦＰＤを上記コ
ーティング液を用いて作製すれば、ＦＰＤの特性を向上
できる。特にＰＤＰ保護膜を有するＰＤＰを上記コーテ
ィング液を用いて作製すれば、ＰＤＰの放電開始電圧や
駆動電圧を低減でき、ＰＤＰの特性を向上できる。
【図１】本発明実施形態のコーティング液を用いて作製
された保護膜を有するＰＤＰの要部断面図。
された保護膜を有するＰＤＰの要部断面図。
１４ 保護膜（ＦＰＤ保護膜）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G059 AA08 AB09 AC16 AC18 EA01 EB05 EB07 FA28 FA29 FB05 4J038 AA011 HA196 JA19 JA20 JA23 JA26 JA46 JB09 JC38 KA06 KA15 KA20 LA06 MA02 MA07 MA09 MA10 NA01 NA24 PA19 PB08 PC01 5C040 FA01 GB03 GB14 GE07 JA02 JA22 KA14 KA17 KB04 KB19 LA17 MA23
Claims (5)
- 【請求項１】 粉末分散液とバインダ溶液の二液を混合
してなるＦＰＤ保護膜用コーティング液であって、 前記粉末分散液がＭｇＯ粉末又は表面がフッ素改質され
たＭｇＯ粉末と、アルコールを主成分とする溶媒又はア
ルコールとエチレングリコール誘導体との混合溶媒と、
エチレングリコール誘導体を主成分とする分散剤とを混
合して調製され、 前記バインダ溶液がマグネシウムアルコキシド又はマグ
ネシウムアセチルアセトネートを主成分とするバインダ
と、アルコールを主成分とする溶媒又はアルコールとエ
チレングリコール誘導体との混合溶媒と、エチレングリ
コール誘導体を主成分とする添加剤とを混合して調製さ
れたことを特徴とするＦＰＤ保護膜用コーティング液。 - 【請求項２】 エチレングリコール誘導体がジエタノー
ルアミンである請求項１記載のＦＰＤ保護膜用コーティ
ング液。 - 【請求項３】 ＭｇＯ粉末又は表面がフッ素改質された
ＭｇＯ粉末と、アルコールを主成分とする溶媒又はアル
コールとエチレングリコール誘導体との混合溶媒と、エ
チレングリコール誘導体を主成分とする分散剤とを混合
して粉末分散液を調製し、 マグネシウムアルコキシド又はマグネシウムアセチルア
セトネートを主成分とするバインダと、アルコールを主
成分とする溶媒又はアルコールとエチレングリコール誘
導体との混合溶媒と、エチレングリコール誘導体を主成
分とする添加剤とを混合してバインダ溶液を調製し、 前記粉末分散液と前記バインダ溶液を混合するＦＰＤ保
護膜用コーティング液の調製方法。 - 【請求項４】 請求項１又は２記載のＦＰＤ保護膜用コ
ーティング液を用いて作製されたＦＰＤ保護膜。 - 【請求項５】 請求項１又は２記載のＦＰＤ保護膜用コ
ーティング液を用いて作製されたＦＰＤ保護膜を有する
ＦＰＤ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29976298A JP3267247B2 (ja) | 1998-10-21 | 1998-10-21 | Ｆｐｄ保護膜用コーティング液及びその調製方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29976298A JP3267247B2 (ja) | 1998-10-21 | 1998-10-21 | Ｆｐｄ保護膜用コーティング液及びその調製方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000129161A true JP2000129161A (ja) | 2000-05-09 |
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|---|---|---|---|
| JP29976298A Expired - Fee Related JP3267247B2 (ja) | 1998-10-21 | 1998-10-21 | Ｆｐｄ保護膜用コーティング液及びその調製方法 |
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004049375A1 (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマディスプレイパネルとその製造方法 |
| JP2006140000A (ja) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 保護膜形成用塗布液 |
| EP1671935A1 (en) * | 2004-12-16 | 2006-06-21 | LG Electronics Inc. | Dispersing liquid and manufacturing method for dispersing liquid |
| JP2006225240A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Ube Material Industries Ltd | 酸化マグネシウム微粒子分散液 |
| JP2006244784A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Ube Material Industries Ltd | 交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体層保護膜形成用の酸化マグネシウム微粒子分散液 |
| JP2007109597A (ja) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Ube Material Industries Ltd | 酸化マグネシウム薄膜及びその製造方法 |
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| JP2008270195A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-11-06 | Ube Material Industries Ltd | 酸化マグネシウム薄膜およびその製造方法 |
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| JP2015010025A (ja) * | 2013-07-01 | 2015-01-19 | 宇部マテリアルズ株式会社 | アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-10-21 JP JP29976298A patent/JP3267247B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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