JP2000127020A - ウェハーボート - Google Patents
ウェハーボートInfo
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- JP2000127020A JP2000127020A JP10305540A JP30554098A JP2000127020A JP 2000127020 A JP2000127020 A JP 2000127020A JP 10305540 A JP10305540 A JP 10305540A JP 30554098 A JP30554098 A JP 30554098A JP 2000127020 A JP2000127020 A JP 2000127020A
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- Japan
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- quartz glass
- brush
- polishing
- glass rod
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】研磨面の面荒れがなく、機械研磨によって切断
加工溝面を鏡面にすることができ、かつダイヤモンドブ
レードで切断溝加工した後に残留する金属不純物が残存
せず、その上低廉なコストで製作できるようにした溝付
き石英ガラスロッドによって構成されたウェハーボート
を提供する。 【解決手段】石英ガラス製の相対向する一対の板材と、
該板材の間に所定の間隔で組み込まれた複数本の溝付き
石英ガラスロッドとからなるウェハーボートであって、
無垢の石英ガラスロッドをダイヤモンドブレードによる
切断溝加工によって溝付き石英ガラスロッドとし、この
石英ガラスロッドの溝部分を研磨用ブラシ手段によって
鏡面研磨し、上記溝付き石英ガラスロッドとして該鏡面
研磨した溝付き石英ガラスロッドを用いるようにした。
加工溝面を鏡面にすることができ、かつダイヤモンドブ
レードで切断溝加工した後に残留する金属不純物が残存
せず、その上低廉なコストで製作できるようにした溝付
き石英ガラスロッドによって構成されたウェハーボート
を提供する。 【解決手段】石英ガラス製の相対向する一対の板材と、
該板材の間に所定の間隔で組み込まれた複数本の溝付き
石英ガラスロッドとからなるウェハーボートであって、
無垢の石英ガラスロッドをダイヤモンドブレードによる
切断溝加工によって溝付き石英ガラスロッドとし、この
石英ガラスロッドの溝部分を研磨用ブラシ手段によって
鏡面研磨し、上記溝付き石英ガラスロッドとして該鏡面
研磨した溝付き石英ガラスロッドを用いるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣや超ＬＳＩ等
を製造するためのシリコンウェハーの熱処理に使用され
る石英製のウェハーボートに関する。
を製造するためのシリコンウェハーの熱処理に使用され
る石英製のウェハーボートに関する。
【０００２】
【関連技術】シリコンウェハーの (シリコン基板ともい
われる) の各種熱処理工程（例えば熱拡散、熱酸化工程
等）には、現在多くの場合、通常「ウェハーボート」と
称する高純度石英ガラス製のウェハー支持具が用いられ
ている。
われる) の各種熱処理工程（例えば熱拡散、熱酸化工程
等）には、現在多くの場合、通常「ウェハーボート」と
称する高純度石英ガラス製のウェハー支持具が用いられ
ている。
【０００３】図６に示すごとく、このウェハーボート２
は、天板４と底板５の間に複数本（図示の例では４本）
の溝付き石英ガラスロッド６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが設
計された間隔で組み込まれており、それらの溝付き石英
ガラスロッド６ａ〜６ｄには数十枚にも及ぶウェハーＷ
を載置係止するための多数の溝８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ
が形成されている。
は、天板４と底板５の間に複数本（図示の例では４本）
の溝付き石英ガラスロッド６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが設
計された間隔で組み込まれており、それらの溝付き石英
ガラスロッド６ａ〜６ｄには数十枚にも及ぶウェハーＷ
を載置係止するための多数の溝８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ
が形成されている。
【０００４】ウェハーＷは４本の溝付き石英ガラスロッ
ド６ａ〜６ｄの同一高さの溝８ａ〜８ｄによってほぼ水
平に係止される構成であるため、溝付き石英ガラスロッ
ド６ａ〜６ｄの各々に設けられる数十もの溝８ａ〜８ｄ
は４本の溝付き石英ガラスロッド６ａ〜６ｄに共通して
寸法精度の高いものでなければならない。さらに、これ
に加えて、それら４本の溝付き石英ガラスロッド６ａ〜
６ｄが石英ガラス製の天板４及び底板５に極めて正確な
向きでかつ高精度で溶接固定される必要がある。
ド６ａ〜６ｄの同一高さの溝８ａ〜８ｄによってほぼ水
平に係止される構成であるため、溝付き石英ガラスロッ
ド６ａ〜６ｄの各々に設けられる数十もの溝８ａ〜８ｄ
は４本の溝付き石英ガラスロッド６ａ〜６ｄに共通して
寸法精度の高いものでなければならない。さらに、これ
に加えて、それら４本の溝付き石英ガラスロッド６ａ〜
６ｄが石英ガラス製の天板４及び底板５に極めて正確な
向きでかつ高精度で溶接固定される必要がある。
【０００５】図６の場合は、タテ型のウェハーボート２
について図示したが、ヨコ型のウェハーボート２ａも知
られており、その場合は、図７に示すごとく、相対向す
る一対の側板４ａ，５ａの間に多数の溝８ａ〜８ｄを刻
設した複数本（図示例では４本）の溝付き石英ガラスロ
ッド６ａ〜６ｄを組み込むこととなる。
について図示したが、ヨコ型のウェハーボート２ａも知
られており、その場合は、図７に示すごとく、相対向す
る一対の側板４ａ，５ａの間に多数の溝８ａ〜８ｄを刻
設した複数本（図示例では４本）の溝付き石英ガラスロ
ッド６ａ〜６ｄを組み込むこととなる。
【０００６】従来の石英ガラス製ウェハーボート２の溝
付き石英ガラスロッド６ａ〜６ｄは、溝部分がダイヤモ
ンドブレード等で切断溝加工されていた。そのため、ダ
イヤモンドブレードによる切断時に、ブレードに含まれ
る微量な金属不純物が石英ガラスロッド６ａ〜６ｄの溝
部分８ａ〜８ｄに残留してしまい、ウェハーＷの熱処理
中に、ウェハーを汚染してしまうという欠点を有してい
た。
付き石英ガラスロッド６ａ〜６ｄは、溝部分がダイヤモ
ンドブレード等で切断溝加工されていた。そのため、ダ
イヤモンドブレードによる切断時に、ブレードに含まれ
る微量な金属不純物が石英ガラスロッド６ａ〜６ｄの溝
部分８ａ〜８ｄに残留してしまい、ウェハーＷの熱処理
中に、ウェハーを汚染してしまうという欠点を有してい
た。
【０００７】又、ダイヤモンドブレードによる切断面が
そのままの状態で使用されると、ウェハーＷの熱処理中
に、溝部分８ａ〜８ｄからパーティクルが発生し、ウェ
ハーＷに悪影響を及ぼしていた。
そのままの状態で使用されると、ウェハーＷの熱処理中
に、溝部分８ａ〜８ｄからパーティクルが発生し、ウェ
ハーＷに悪影響を及ぼしていた。
【０００８】それらの欠点を防止するために、まず第一
の手段としては、ダイヤモンドブレードで切断溝加工さ
れた石英ガラスロッドの洗浄を強化し、金属不純物を除
去した石英ガラスロッドを使用して、ウェハーボートを
製作していた。
の手段としては、ダイヤモンドブレードで切断溝加工さ
れた石英ガラスロッドの洗浄を強化し、金属不純物を除
去した石英ガラスロッドを使用して、ウェハーボートを
製作していた。
【０００９】第二の手段としては、溝部分からのパーテ
ィクル発生防止のためには、溝部分を火炎研磨した石英
ガラスロッドを使用して、ウェハーボートを製作してい
た。
ィクル発生防止のためには、溝部分を火炎研磨した石英
ガラスロッドを使用して、ウェハーボートを製作してい
た。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ダイヤ
モンドブレードからの金属不純物を除去するために、洗
浄を強化された石英ガラスロッドを使用する場合、洗浄
液にフッ酸液が使用されるが、フッ酸による洗浄を強化
すると、切断面の面荒れがひどくなってしまい、その後
に、火炎研磨を行っても、溝部の面状態が悪化してしま
うという欠点があった。又、洗浄に要する時間が長くな
ってしまい、石英ガラスロッドのコストが高くなる欠点
もあった。
モンドブレードからの金属不純物を除去するために、洗
浄を強化された石英ガラスロッドを使用する場合、洗浄
液にフッ酸液が使用されるが、フッ酸による洗浄を強化
すると、切断面の面荒れがひどくなってしまい、その後
に、火炎研磨を行っても、溝部の面状態が悪化してしま
うという欠点があった。又、洗浄に要する時間が長くな
ってしまい、石英ガラスロッドのコストが高くなる欠点
もあった。
【００１１】第二の溝部分を火炎研磨した石英ガラスロ
ッドを使用する場合には、溝加工が施された石英ガラス
ロッドの洗浄が不十分な場合、残留した金属不純物が、
火炎によってガラス中に焼き込まれる危険性があった。
更に、溝加工が施された石英ガラスロッドが火炎研磨中
に曲がってしまうという不具合や火炎研磨の程度にばら
つきが生じる（例えば、溝底部が十分に火炎研磨されな
い、又は、溝部上部付近が火炎研磨によって、面ダレを
起こしてしまう）という不具合が生じてしまうものであ
った。
ッドを使用する場合には、溝加工が施された石英ガラス
ロッドの洗浄が不十分な場合、残留した金属不純物が、
火炎によってガラス中に焼き込まれる危険性があった。
更に、溝加工が施された石英ガラスロッドが火炎研磨中
に曲がってしまうという不具合や火炎研磨の程度にばら
つきが生じる（例えば、溝底部が十分に火炎研磨されな
い、又は、溝部上部付近が火炎研磨によって、面ダレを
起こしてしまう）という不具合が生じてしまうものであ
った。
【００１２】又、火炎研磨による石英ガラスロッドの曲
がりを防ぐ為に、火炎を弱くし時間をかけて行う必要が
あった。更に、火炎研磨で生じた曲がりを修正する為
に、アニール処理を行うなど、作業時間が大幅に長くな
り、ウェハーボート用材料の石英ガラスロッドの製作コ
ストが高くなってしまっている。
がりを防ぐ為に、火炎を弱くし時間をかけて行う必要が
あった。更に、火炎研磨で生じた曲がりを修正する為
に、アニール処理を行うなど、作業時間が大幅に長くな
り、ウェハーボート用材料の石英ガラスロッドの製作コ
ストが高くなってしまっている。
【００１３】しかも、幅が狭く、深さのある溝を機械研
磨することは、ほとんど不可能であり、もし可能であっ
たとしても、溝の幅、深さ、ピッチに合う特殊な研磨治
具を作成しなければならず、その上、ウェハーボートの
形状に合わせた治具を何種類も準備しなければならない
ため、治具作成のコストが大きくなってしまっていた。
磨することは、ほとんど不可能であり、もし可能であっ
たとしても、溝の幅、深さ、ピッチに合う特殊な研磨治
具を作成しなければならず、その上、ウェハーボートの
形状に合わせた治具を何種類も準備しなければならない
ため、治具作成のコストが大きくなってしまっていた。
【００１４】本発明は、上記した問題点に鑑みなされた
もので、研磨面の面荒れがなく、機械研磨によって切断
加工溝面を鏡面にすることができ、かつダイヤモンドブ
レードで切断溝加工した後に残留する金属不純物が残存
せず、その上低廉なコストで製作できるようにした溝付
き石英ガラスロッドによって構成されたウェハーボート
を提供することを目的とする。
もので、研磨面の面荒れがなく、機械研磨によって切断
加工溝面を鏡面にすることができ、かつダイヤモンドブ
レードで切断溝加工した後に残留する金属不純物が残存
せず、その上低廉なコストで製作できるようにした溝付
き石英ガラスロッドによって構成されたウェハーボート
を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のウェハーボートは石英ガラス製の相対向す
る一対の板材と、該板材の間に所定の間隔で組み込まれ
た複数本の溝付き石英ガラスロッドからなるウェハーボ
ートであって、無垢の石英ガラスロッドをダイヤモンド
ブレードによる切断溝加工によって溝付き石英ガラスロ
ッドとし、この石英ガラスロッドの溝部分を研磨用ブラ
シ手段によって鏡面研磨し、上記溝付き石英ガラスロッ
ドとして該鏡面研磨した溝付き石英ガラスロッドを用い
ることを特徴とする。
に、本発明のウェハーボートは石英ガラス製の相対向す
る一対の板材と、該板材の間に所定の間隔で組み込まれ
た複数本の溝付き石英ガラスロッドからなるウェハーボ
ートであって、無垢の石英ガラスロッドをダイヤモンド
ブレードによる切断溝加工によって溝付き石英ガラスロ
ッドとし、この石英ガラスロッドの溝部分を研磨用ブラ
シ手段によって鏡面研磨し、上記溝付き石英ガラスロッ
ドとして該鏡面研磨した溝付き石英ガラスロッドを用い
ることを特徴とする。
【００１６】上記石英ガラスロッドと前記研磨用ブラシ
手段との角度を１５°〜４５°の範囲に設定することに
よって、石英ガラスロッドの溝部分に対して研磨ブラシ
手段が角度を持って研磨処理を行い、溝の側面部分の研
磨が良好に行われる。なお、石英ガラスロッドと研磨ブ
ラシ手段が平行であると、石英ガラスロッドの溝部分の
底面部分は研磨されるが、側面部分が研磨されにくいと
いう不具合がある。
手段との角度を１５°〜４５°の範囲に設定することに
よって、石英ガラスロッドの溝部分に対して研磨ブラシ
手段が角度を持って研磨処理を行い、溝の側面部分の研
磨が良好に行われる。なお、石英ガラスロッドと研磨ブ
ラシ手段が平行であると、石英ガラスロッドの溝部分の
底面部分は研磨されるが、側面部分が研磨されにくいと
いう不具合がある。
【００１７】石英ガラスロッドと研磨ブラシ手段との角
度が１５°未満であると、石英ガラスロッドの溝部分の
底面部分は研磨されるが、側面部分は充分に研磨されな
い。また、石英ガラスロッドと研磨ブラシ手段との角度
が４５°を超えると、研磨ブラシ手段が溝部分の底面部
分まで入らなくなり、溝底部の研磨が困難となるという
不利がある。
度が１５°未満であると、石英ガラスロッドの溝部分の
底面部分は研磨されるが、側面部分は充分に研磨されな
い。また、石英ガラスロッドと研磨ブラシ手段との角度
が４５°を超えると、研磨ブラシ手段が溝部分の底面部
分まで入らなくなり、溝底部の研磨が困難となるという
不利がある。
【００１８】上記研磨用ブラシ手段によって上記石英ガ
ラスロッドの溝部分を研磨する際に研磨剤、例えば酸化
セリウムやコロイダルシリカ等を用いれば、より良好な
研磨が行われる。
ラスロッドの溝部分を研磨する際に研磨剤、例えば酸化
セリウムやコロイダルシリカ等を用いれば、より良好な
研磨が行われる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下に本発明のウェハーボートに
用いられる溝付き石英ガラスロッドの溝部分の研磨に好
適に用いられる溝研磨装置の１例を図１〜図３を用いて
説明するが、本発明のウェハーボートの溝付き石英ガラ
スロッドの溝研磨装置が図示例に限定されるものでない
ことはいうまでもない。
用いられる溝付き石英ガラスロッドの溝部分の研磨に好
適に用いられる溝研磨装置の１例を図１〜図３を用いて
説明するが、本発明のウェハーボートの溝付き石英ガラ
スロッドの溝研磨装置が図示例に限定されるものでない
ことはいうまでもない。
【００２０】図１は本発明方法を実施するために用いら
れる研磨装置の１例を示す平面図である。図２は研磨用
ブラシによって石英ガラスロッドの溝部分を研磨してい
る状態を示す摘示説明図である。図３は研磨用ブラシの
摘示側面説明図である。
れる研磨装置の１例を示す平面図である。図２は研磨用
ブラシによって石英ガラスロッドの溝部分を研磨してい
る状態を示す摘示説明図である。図３は研磨用ブラシの
摘示側面説明図である。
【００２１】図中、１２は石英ガラスロッドの溝研磨装
置で、ベースプレート１４を有している。該ベースプレ
ート１４の左右両側端部にはブラシ移動用レール１６
ａ，１６ｂが支持脚１７ａ，１７ｂを介して相対して設
けられている。該支持脚１７ａは該ベースプレート１４
には固着されておらず、移動可能とされている。該支持
脚１７ｂは該ベースプレート１４に固着されている。
置で、ベースプレート１４を有している。該ベースプレ
ート１４の左右両側端部にはブラシ移動用レール１６
ａ，１６ｂが支持脚１７ａ，１７ｂを介して相対して設
けられている。該支持脚１７ａは該ベースプレート１４
には固着されておらず、移動可能とされている。該支持
脚１７ｂは該ベースプレート１４に固着されている。
【００２２】該ブラシ移動用レール１６ａ，１６ｂには
移動プレート１９ａ，１９ｂが摺動自在に取り付けられ
ている。該移動プレート１９ａ，１９ｂの上面には移動
ブロック１８ａ，１８ｂが回転可能に設けられている。
固定手段４４ａ，４４ｂを用いて該移動ブロック１８
ａ，１８ｂを該移動プレート１９ａ，１９ｂに所定の回
動状態で固定することができる。
移動プレート１９ａ，１９ｂが摺動自在に取り付けられ
ている。該移動プレート１９ａ，１９ｂの上面には移動
ブロック１８ａ，１８ｂが回転可能に設けられている。
固定手段４４ａ，４４ｂを用いて該移動ブロック１８
ａ，１８ｂを該移動プレート１９ａ，１９ｂに所定の回
動状態で固定することができる。
【００２３】２０はブラシ用シャフトで、その両端部は
該移動ブロック１８ａ，１８ｂの内面側に回転自在に挿
着されている。該ブラシ用シャフト２０の外周面にはブ
ラシ毛２２ａが植設されている。２２は研磨用回転ブラ
シ手段である研磨用ブラシであり、該ブラシ用シャフト
２０及びブラシ毛２２ａから構成されている。２４は該
移動ブロック１８ａの外面側に取りつけられたブラシ回
転用モータで、上記したブラシ用シャフト２０に接続さ
れている。該ブラシ回転用モータ２４のオン・オフによ
って該ブラシ用シャフト２０及び研磨用ブラシ２２の回
転（正回転又は逆回転）・停止が行われる。
該移動ブロック１８ａ，１８ｂの内面側に回転自在に挿
着されている。該ブラシ用シャフト２０の外周面にはブ
ラシ毛２２ａが植設されている。２２は研磨用回転ブラ
シ手段である研磨用ブラシであり、該ブラシ用シャフト
２０及びブラシ毛２２ａから構成されている。２４は該
移動ブロック１８ａの外面側に取りつけられたブラシ回
転用モータで、上記したブラシ用シャフト２０に接続さ
れている。該ブラシ回転用モータ２４のオン・オフによ
って該ブラシ用シャフト２０及び研磨用ブラシ２２の回
転（正回転又は逆回転）・停止が行われる。
【００２４】２６はボールネジで、該ブラシ移動用レー
ル１６ｂの外側に並設されている。該ボールネジ２６
は、移動ブロック１８ｂの外面側に設けられたボールネ
ジ受け部２８に螺動自在に挿着されている。該ボールネ
ジ２６の一端部はギアボックス２９を介してブラシ移動
用モータ３０に接続されている。
ル１６ｂの外側に並設されている。該ボールネジ２６
は、移動ブロック１８ｂの外面側に設けられたボールネ
ジ受け部２８に螺動自在に挿着されている。該ボールネ
ジ２６の一端部はギアボックス２９を介してブラシ移動
用モータ３０に接続されている。
【００２５】該ブラシ移動用モータ３０をオンとする
と、ギアボックス２８を介して該ボールネジ２６が回転
し、この回転によってボールネジ受け部２８が該ボール
ネジ２６上を移動し、それとともに移動ブロック１８ｂ
がブラシ移動用レール１６ｂ上を移動し、同時に移動ブ
ロック１８ａがブラシ移動用レール１６ａ上を移動す
る。
と、ギアボックス２８を介して該ボールネジ２６が回転
し、この回転によってボールネジ受け部２８が該ボール
ネジ２６上を移動し、それとともに移動ブロック１８ｂ
がブラシ移動用レール１６ｂ上を移動し、同時に移動ブ
ロック１８ａがブラシ移動用レール１６ａ上を移動す
る。
【００２６】これによって、ブラシ用シャフト２０及び
研磨用ブラシ２２が移動する。３２ａ，３２ｂは該ブラ
シ移動用レール１６ｂに設けられた上下のストッパー
で、該ブラシ移動用レール１６ｂ上を移動する移動ブロ
ック１８ｂの移動範囲を制限する働きを行う。
研磨用ブラシ２２が移動する。３２ａ，３２ｂは該ブラ
シ移動用レール１６ｂに設けられた上下のストッパー
で、該ブラシ移動用レール１６ｂ上を移動する移動ブロ
ック１８ｂの移動範囲を制限する働きを行う。
【００２７】３４はベースプレート１４の中央上面に取
り付けられた石英ガラスロッド固定台で、複数の溝付き
石英ガラスロッド６を載置固定する。
り付けられた石英ガラスロッド固定台で、複数の溝付き
石英ガラスロッド６を載置固定する。
【００２８】４０ａ，４０ｂはブラシ移動用レール１６
ａ，１６ｂに直交するように該ベースプレート１４の上
面でかつ該ブラシ移動用レール１６ａ，１６ｂの上下端
部の下側に設けられたレール移動用レールである。該レ
ール移動用レール４０ａ，４０ｂの両端部は支持脚１７
ｃ，１７ｄを介してベースプレート１４の上面に固定さ
れている。
ａ，１６ｂに直交するように該ベースプレート１４の上
面でかつ該ブラシ移動用レール１６ａ，１６ｂの上下端
部の下側に設けられたレール移動用レールである。該レ
ール移動用レール４０ａ，４０ｂの両端部は支持脚１７
ｃ，１７ｄを介してベースプレート１４の上面に固定さ
れている。
【００２９】該ブラシ移動用レール１６ａの両端部の下
面にはガイドプレート４２ａ，４２ｂが固着されてい
る。該ガイドプレート４２ａ，４２ｂは該レール移動用
レール４０ａ，４０ｂに摺動自在に取りつけられてい
る。したがって、該ブラシ移動用レール１６ａは、該レ
ール移動用レール４０ａ，４０ｂ上を該ガイドプレート
４２ａ，４２ｂを介して移動可能とされ、該ブラシ移動
用レール１６ａを移動させることによって該石英ガラス
ロッド固定台３４に対する研磨用ブラシ２２の傾斜角度
θを自在に設定することができる。
面にはガイドプレート４２ａ，４２ｂが固着されてい
る。該ガイドプレート４２ａ，４２ｂは該レール移動用
レール４０ａ，４０ｂに摺動自在に取りつけられてい
る。したがって、該ブラシ移動用レール１６ａは、該レ
ール移動用レール４０ａ，４０ｂ上を該ガイドプレート
４２ａ，４２ｂを介して移動可能とされ、該ブラシ移動
用レール１６ａを移動させることによって該石英ガラス
ロッド固定台３４に対する研磨用ブラシ２２の傾斜角度
θを自在に設定することができる。
【００３０】この傾斜角度θは１５°〜４５°の範囲に
設定するのが好適である。このように、石英ガラスロッ
ド３６の溝部分３６ａに対して研磨ブラシ２２が傾斜し
た状態で研磨処理を行うと、溝３６ａの底部分ならびに
側面部分の研磨がともに良好に行われる。
設定するのが好適である。このように、石英ガラスロッ
ド３６の溝部分３６ａに対して研磨ブラシ２２が傾斜し
た状態で研磨処理を行うと、溝３６ａの底部分ならびに
側面部分の研磨がともに良好に行われる。
【００３１】この傾斜角度θが１５°未満であると、石
英ガラスロッド３６の溝部分３６ａの底面部分は研磨さ
れるにしても、側面部分は充分には研磨されない。ま
た、この傾斜角度θが４５°を超えると、研磨ブラシ２
２が溝部分３６ａの底面部分まで入らなくなり、溝底部
の研磨が困難となるという不利がある。
英ガラスロッド３６の溝部分３６ａの底面部分は研磨さ
れるにしても、側面部分は充分には研磨されない。ま
た、この傾斜角度θが４５°を超えると、研磨ブラシ２
２が溝部分３６ａの底面部分まで入らなくなり、溝底部
の研磨が困難となるという不利がある。
【００３２】４４ａ，４４ｂは移動ブロック１８ａ，１
８ｂを移動プレート１９ａ，１９ｂに固定するための固
定手段であり、研磨用ブラシ２２の傾斜角度θが所定の
角度となった場合に、該固定手段４４ａ，４４ｂを用い
て該移動ブロック１８ａ，１８ｂを該移動プレート１９
ａ，１９ｂに固定することによって、その所定の傾斜角
度θを維持することが可能となる。
８ｂを移動プレート１９ａ，１９ｂに固定するための固
定手段であり、研磨用ブラシ２２の傾斜角度θが所定の
角度となった場合に、該固定手段４４ａ，４４ｂを用い
て該移動ブロック１８ａ，１８ｂを該移動プレート１９
ａ，１９ｂに固定することによって、その所定の傾斜角
度θを維持することが可能となる。
【００３３】なお、石英ガラスロッド３６の溝部分３６
ａを実際に研磨するにあたっては、研磨剤として酸化セ
リウムやコロイダルシリカ等を添加して研磨するのが好
適である。図１において、４６は研磨剤供給管であり、
酸化セリウムやコロイダルシリカを水に溶いて液状とし
た研磨剤４８を研磨剤供給管４６の先端スプレー部４６
ａから噴霧して溝研磨される石英ガラスロッド３６上に
供給する。
ａを実際に研磨するにあたっては、研磨剤として酸化セ
リウムやコロイダルシリカ等を添加して研磨するのが好
適である。図１において、４６は研磨剤供給管であり、
酸化セリウムやコロイダルシリカを水に溶いて液状とし
た研磨剤４８を研磨剤供給管４６の先端スプレー部４６
ａから噴霧して溝研磨される石英ガラスロッド３６上に
供給する。
【００３４】この構成によれば、まずブラシ移動用レー
ル１６ａをレール移動用レール４０ａ，４０ｂ上を移動
させることによって石英ガラスロッド固定台３４に対す
る研磨用ブラシ２２の傾斜角度θを所望角度に設定し、
固定手段４４ａ，４４ｂを用いて移動ブロック１８ａ，
１８ｂを移動プレート１９ａ，１９ｂに固定して当該傾
斜角度θを固定維持せしめる。石英ガラスロッド固定台
３４に研磨すべき溝付き石英ガラスロッド６を載置固定
する。
ル１６ａをレール移動用レール４０ａ，４０ｂ上を移動
させることによって石英ガラスロッド固定台３４に対す
る研磨用ブラシ２２の傾斜角度θを所望角度に設定し、
固定手段４４ａ，４４ｂを用いて移動ブロック１８ａ，
１８ｂを移動プレート１９ａ，１９ｂに固定して当該傾
斜角度θを固定維持せしめる。石英ガラスロッド固定台
３４に研磨すべき溝付き石英ガラスロッド６を載置固定
する。
【００３５】次に、ブラシ回転用モータ２４及びブラシ
移動用モータ３０を正回転させて研磨ブラシ２２を正回
転させるとともにブラシ移動用レール１６ａ，１６ｂ上
の移動（図６の状態から下方へ）を開始させる。研磨用
ブラシ２２が石英ガラスロッド固定台３４に載置固定さ
れた石英ガラスロッド６と接すると、研磨用ブラシ２２
の先端ブラシ部分が石英ガラスロッド６の溝部分６ａ内
に侵入して溝部分６ａの隅々まで研磨する。
移動用モータ３０を正回転させて研磨ブラシ２２を正回
転させるとともにブラシ移動用レール１６ａ，１６ｂ上
の移動（図６の状態から下方へ）を開始させる。研磨用
ブラシ２２が石英ガラスロッド固定台３４に載置固定さ
れた石英ガラスロッド６と接すると、研磨用ブラシ２２
の先端ブラシ部分が石英ガラスロッド６の溝部分６ａ内
に侵入して溝部分６ａの隅々まで研磨する。
【００３６】研磨用ブラシ２２の下方への移動が下部ス
トッパー３２ｂに達して停止すると、続いてブラシ回転
用モータ２４及びブラシ移動用モータ３０を逆回転させ
て、研磨用ブラシ２２を逆回転させるとともにブラシ移
動用レール１６ａ，１６ｂ上の上方への移動を開始させ
る。同様に、研磨用ブラシ２２が石英ガラスロッド固定
台３４上の石英ガラスロッド６に接すると、研磨用ブラ
シ２２の先端ブラシ部分が石英ガラスロッド６の溝部分
６ａ内に侵入して溝部分６ａを隅々まで研磨する。
トッパー３２ｂに達して停止すると、続いてブラシ回転
用モータ２４及びブラシ移動用モータ３０を逆回転させ
て、研磨用ブラシ２２を逆回転させるとともにブラシ移
動用レール１６ａ，１６ｂ上の上方への移動を開始させ
る。同様に、研磨用ブラシ２２が石英ガラスロッド固定
台３４上の石英ガラスロッド６に接すると、研磨用ブラ
シ２２の先端ブラシ部分が石英ガラスロッド６の溝部分
６ａ内に侵入して溝部分６ａを隅々まで研磨する。
【００３７】研磨用ブラシ２２の上方への移動が上部ス
トッパー３２ａに達して停止すると、続いてブラシ回転
用モータ２４及びブラシ移動用モータ３０を再び正回転
させて、研磨用ブラシ２２を正回転させるとともにブラ
シ移動用レール１６ａ，１６ｂ上の下方への移動を再び
行って、石英ガラスロッド６の溝部分６ａの研磨を行
う。このように、研磨用ブラシ２２の上下動を繰り返す
ことによって石英ガラスロッド６の溝部分６ａの研磨を
行い、石英ガラスロッド６の溝部分６ａが所定の研磨状
態に達した段階で、ブラシ回転用モータ２４及びブラシ
移動用モータ３０を停止させる。
トッパー３２ａに達して停止すると、続いてブラシ回転
用モータ２４及びブラシ移動用モータ３０を再び正回転
させて、研磨用ブラシ２２を正回転させるとともにブラ
シ移動用レール１６ａ，１６ｂ上の下方への移動を再び
行って、石英ガラスロッド６の溝部分６ａの研磨を行
う。このように、研磨用ブラシ２２の上下動を繰り返す
ことによって石英ガラスロッド６の溝部分６ａの研磨を
行い、石英ガラスロッド６の溝部分６ａが所定の研磨状
態に達した段階で、ブラシ回転用モータ２４及びブラシ
移動用モータ３０を停止させる。
【００３８】図１の例では、石英ガラスロッド固定台３
４をベースプレート１４上に固定した場合を示したが、
該石英ガラスロッド固定台３４を角度調整機構を介して
取り付けることも可能である。この場合は、石英ガラス
固定台３４及び研磨用ブラシ２２のそれぞれの角度を調
節することによって種々の研磨態様を採用することがで
きる。
４をベースプレート１４上に固定した場合を示したが、
該石英ガラスロッド固定台３４を角度調整機構を介して
取り付けることも可能である。この場合は、石英ガラス
固定台３４及び研磨用ブラシ２２のそれぞれの角度を調
節することによって種々の研磨態様を採用することがで
きる。
【００３９】
【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が
可能であることは勿論である。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が
可能であることは勿論である。
【００４０】（実施例１）外径が１６ｍｍ、長さ１００
０ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅３．
５ｍｍ、溝深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７０
の溝をダイヤモンドブレードで切断加工した。切断加工
された石英ガラスロッド４本を溝部分を上に向けて並
べ、ロッドの両端を図１に示した研磨装置に固定した。
０ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅３．
５ｍｍ、溝深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７０
の溝をダイヤモンドブレードで切断加工した。切断加工
された石英ガラスロッド４本を溝部分を上に向けて並
べ、ロッドの両端を図１に示した研磨装置に固定した。
【００４１】毛の太さ０．２ｍｍ、毛足２０ｍｍのナイ
ロンブラシを直径３０ｍｍ、長さ１５００ｍｍの金属製
シャフトに巻き付けたロール状のブラシを図１に示した
研磨装置に装着した。ブラシとロッドの角度を３０°に
調整した後、回転数１２００ｒｐｍでブラシを回転させ
て、移動速度５ｍｍ／sec.の往復運動をさせて、研磨剤
として酸化セリウムを水に溶いて溝部分にかけながら、
溝部分の研磨を行った。３０分経過した後、ブラシの角
度を反対側に３０°に設定し直し、３０分研磨をした。
ロンブラシを直径３０ｍｍ、長さ１５００ｍｍの金属製
シャフトに巻き付けたロール状のブラシを図１に示した
研磨装置に装着した。ブラシとロッドの角度を３０°に
調整した後、回転数１２００ｒｐｍでブラシを回転させ
て、移動速度５ｍｍ／sec.の往復運動をさせて、研磨剤
として酸化セリウムを水に溶いて溝部分にかけながら、
溝部分の研磨を行った。３０分経過した後、ブラシの角
度を反対側に３０°に設定し直し、３０分研磨をした。
【００４２】研磨の終了したロッドを超音波洗浄槽内で
純水で洗浄した後、溝部分を目視で観察した。各溝はば
らつきなく、鏡面に研磨されていた。その後、走査電子
顕微鏡で溝部分を観察したが、ダイヤモンドブレードか
ら混入する金属不純物は、観察されなかった。
純水で洗浄した後、溝部分を目視で観察した。各溝はば
らつきなく、鏡面に研磨されていた。その後、走査電子
顕微鏡で溝部分を観察したが、ダイヤモンドブレードか
ら混入する金属不純物は、観察されなかった。
【００４３】それら４本の石英ガラスロッドを５％フッ
酸液で１０分洗浄した後、所定形状のボートを組立て
た。そのボートを用いて、シリコンウェハーを所定の処
理をした後、ウェハーを調べたところ、９８％以上の歩
留まりであった。
酸液で１０分洗浄した後、所定形状のボートを組立て
た。そのボートを用いて、シリコンウェハーを所定の処
理をした後、ウェハーを調べたところ、９８％以上の歩
留まりであった。
【００４４】処理後のボートを観察したところ、溝部も
鏡面状態を保っており、パーティクルが発生した形跡は
なかった。
鏡面状態を保っており、パーティクルが発生した形跡は
なかった。
【００４５】（実施例２）外径が１６ｍｍ、長さ１００
０ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅３．
５ｍｍ、溝深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７０
の溝をダイヤモンドブレードで切断溝加工した。切断溝
加工された石英ガラスロッド４本を溝部分を上に向けて
並べ、ロッドの両端を図１に示した研磨装置に固定し
た。
０ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅３．
５ｍｍ、溝深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７０
の溝をダイヤモンドブレードで切断溝加工した。切断溝
加工された石英ガラスロッド４本を溝部分を上に向けて
並べ、ロッドの両端を図１に示した研磨装置に固定し
た。
【００４６】毛の太さ０．２ｍｍ、毛足２０ｍｍのナイ
ロンブラシを直径３０ｍｍ、長さ１５００ｍｍの金属製
シャフトに巻き付けたロール状のブラシを図１に示した
研磨装置に装着した。ブラシとロッドの角度を４５°に
調整した後、回転数１２００ｒｐｍでブラシを回転させ
て、移動速度５ｍｍ／sec.の往復運動をさせて、研磨剤
として酸化セリウムを水に溶いて溝部分にかけながら、
溝部分の研磨を行った。２５分経過後、ブラシの角度を
反対側に４５°に設定し直し、２５分研磨した。
ロンブラシを直径３０ｍｍ、長さ１５００ｍｍの金属製
シャフトに巻き付けたロール状のブラシを図１に示した
研磨装置に装着した。ブラシとロッドの角度を４５°に
調整した後、回転数１２００ｒｐｍでブラシを回転させ
て、移動速度５ｍｍ／sec.の往復運動をさせて、研磨剤
として酸化セリウムを水に溶いて溝部分にかけながら、
溝部分の研磨を行った。２５分経過後、ブラシの角度を
反対側に４５°に設定し直し、２５分研磨した。
【００４７】研磨の終了した溝付き石英ガラスロッドを
超音波洗浄槽内で純水で洗浄した後、溝部分を目視で観
察したところ、各溝はばらつきなく、鏡面に研磨されて
いた。その後、得られたロッドの溝部分を走査電子顕微
鏡で観察したが、ダイヤモンドブレードから混入する金
属不純物は、実施例１の場合と同様、観察されなかっ
た。
超音波洗浄槽内で純水で洗浄した後、溝部分を目視で観
察したところ、各溝はばらつきなく、鏡面に研磨されて
いた。その後、得られたロッドの溝部分を走査電子顕微
鏡で観察したが、ダイヤモンドブレードから混入する金
属不純物は、実施例１の場合と同様、観察されなかっ
た。
【００４８】それら４本の石英ガラスロッドを５％フッ
酸液で１０分洗浄した後、所定形状のボートを組立て
た。そのボートを用いて、シリコンウェハーを所定の処
理をした後、ウェハーを調べたところ、９８％以上の歩
留まりであった。
酸液で１０分洗浄した後、所定形状のボートを組立て
た。そのボートを用いて、シリコンウェハーを所定の処
理をした後、ウェハーを調べたところ、９８％以上の歩
留まりであった。
【００４９】（実施例３）外径が１６ｍｍ、長さ１００
０ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅３．
５ｍｍ、溝深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７０
の溝をダイヤモンドブレードで切断溝加工した。切断溝
加工された石英ガラスロッド４本を溝部分を上に向けて
並べ、ロッドの両端を図１に示した研磨装置に固定し
た。
０ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅３．
５ｍｍ、溝深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７０
の溝をダイヤモンドブレードで切断溝加工した。切断溝
加工された石英ガラスロッド４本を溝部分を上に向けて
並べ、ロッドの両端を図１に示した研磨装置に固定し
た。
【００５０】毛の太さ０．２ｍｍ、毛足２０ｍｍのナイ
ロンブラシを直径３０ｍｍ、長さ１３００ｍｍの金属製
シャフトに巻き付けたロール状のブラシを図１に示した
研磨装置に装着した。ブラシとロッドの角度を１５°に
調整した後、回転数１２００ｒｐｍでブラシを回転させ
て、移動速度５ｍｍ／sec.の往復運動をさせて、研磨剤
として酸化セリウムを水に溶いて溝部分にかけながら、
溝部分の研磨を行った。３５分経過後、ブラシの角度を
反対側に１５°に設定し直し、３５分研磨した。
ロンブラシを直径３０ｍｍ、長さ１３００ｍｍの金属製
シャフトに巻き付けたロール状のブラシを図１に示した
研磨装置に装着した。ブラシとロッドの角度を１５°に
調整した後、回転数１２００ｒｐｍでブラシを回転させ
て、移動速度５ｍｍ／sec.の往復運動をさせて、研磨剤
として酸化セリウムを水に溶いて溝部分にかけながら、
溝部分の研磨を行った。３５分経過後、ブラシの角度を
反対側に１５°に設定し直し、３５分研磨した。
【００５１】研磨の終了した溝付き石英ガラスロッドを
超音波洗浄槽内で純水で洗浄した後、溝部分を目視で観
察したところ、各溝はばらつきなく、鏡面に研磨されて
いた。その後、得られたロッドの溝部分を走査電子顕微
鏡で観察したが、ダイヤモンドブレードから混入する金
属不純物は、実施例１の場合と同様、観察されなかっ
た。
超音波洗浄槽内で純水で洗浄した後、溝部分を目視で観
察したところ、各溝はばらつきなく、鏡面に研磨されて
いた。その後、得られたロッドの溝部分を走査電子顕微
鏡で観察したが、ダイヤモンドブレードから混入する金
属不純物は、実施例１の場合と同様、観察されなかっ
た。
【００５２】それら４本の石英ガラスロッドを５％フッ
酸液で１０分洗浄した後、所定形状のボートを組立て
た。そのボートを用いて、シリコンウェハーを所定の処
理をした後、ウェハーを調べたところ、９８％以上の歩
留まりであった。
酸液で１０分洗浄した後、所定形状のボートを組立て
た。そのボートを用いて、シリコンウェハーを所定の処
理をした後、ウェハーを調べたところ、９８％以上の歩
留まりであった。
【００５３】（比較例１）溝外径が１６ｍｍ、長さ１０
００ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅
３．５ｍｍ、深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７
０の溝をダイヤモンドブレードで切断溝加工した。
００ｍｍの石英ガラスロッドの端部３０ｍｍから溝幅
３．５ｍｍ、深さ８ｍｍ、ピッチ５．５ｍｍで溝数１７
０の溝をダイヤモンドブレードで切断溝加工した。
【００５４】５％フッ酸液で１０分洗浄した後、走査電
子顕微鏡で溝部分を観察したところ、ダイヤモンドブレ
ードから混入する金属不純物が観察された。
子顕微鏡で溝部分を観察したところ、ダイヤモンドブレ
ードから混入する金属不純物が観察された。
【００５５】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明のウェハーボ
ートは、研磨面の面荒れがなく、機械研磨によって切断
加工溝面を鏡面にすることができ、かつダイヤモンドブ
レードで切断溝加工した後に残留する金属不純物が残存
せず、その上低廉なコストで製作できるという効果を奏
する。
ートは、研磨面の面荒れがなく、機械研磨によって切断
加工溝面を鏡面にすることができ、かつダイヤモンドブ
レードで切断溝加工した後に残留する金属不純物が残存
せず、その上低廉なコストで製作できるという効果を奏
する。
【図１】 本発明方法を実施するために用いられる研磨
装置の１例を示す平面図である。
装置の１例を示す平面図である。
【図２】 研磨用ブラシによって石英ガラスロッドの溝
部分を研磨している状態を示す摘示説明図である。
部分を研磨している状態を示す摘示説明図である。
【図３】 研磨用ブラシの摘示側面説明図である。
【図４】 タテ型のウェハーボートの１例を示す斜視図
である。
である。
【図５】 ヨコ型のウェハーボートの１例を示す斜視図
である。
である。
６，６ａ〜６ｄ：石英ガラスロッド、８，８ａ〜８ｄ：
溝部分、１２：石英ガラスロッドの溝研磨装置、１４：
ベースプレート、１６ａ，１６ｂ：ブラシ移動用レー
ル、１７ａ，１７ｂ：支持脚、１８ａ，１８ｂ：移動ブ
ロック、１９ａ，１９ｂ：移動プレート、２０：ブラシ
用シャフト、２２：研磨用ブラシ、２４：ブラシ回転用
モータ、２６：ボールネジ、２８：ボールネジ受け部、
２９：ギアボックス、３０：ブラシ移動用モータ、３２
ａ，３２ｂ：ストッパー、３４：石英ガラスロッド固定
台、４０ａ，４０ｂ：レール移動用レール、４２ａ，４
２ｂ：ガイドプレート、４４ａ，４４ｂ：固定手段、４
６：研磨剤供給管、４８：研磨剤。
溝部分、１２：石英ガラスロッドの溝研磨装置、１４：
ベースプレート、１６ａ，１６ｂ：ブラシ移動用レー
ル、１７ａ，１７ｂ：支持脚、１８ａ，１８ｂ：移動ブ
ロック、１９ａ，１９ｂ：移動プレート、２０：ブラシ
用シャフト、２２：研磨用ブラシ、２４：ブラシ回転用
モータ、２６：ボールネジ、２８：ボールネジ受け部、
２９：ギアボックス、３０：ブラシ移動用モータ、３２
ａ，３２ｂ：ストッパー、３４：石英ガラスロッド固定
台、４０ａ，４０ｂ：レール移動用レール、４２ａ，４
２ｂ：ガイドプレート、４４ａ，４４ｂ：固定手段、４
６：研磨剤供給管、４８：研磨剤。
フロントページの続き (72)発明者 須釜 明彦 福島県郡山市田村町金屋字川久保88番地 信越石英株式会社郡山工場内 (72)発明者 松谷 利勝 山形県天童市大字清地字藤段1357番地３ 株式会社山形信越石英内 (72)発明者 水野 徹 福島県岩瀬郡鏡石町大字鏡田字鏡173 株 式会社アトック福島工場内 Ｆターム(参考） 3C049 AA06 AA07 AA14 AA16 AC04 BA07 CA01 CB01 CB05 CB10 3C058 AA06 AA07 AA14 AA16 AC04 BA07 CA01 CB01 CB05 CB10 DA02 4G014 AH00 5F031 HA62 HA63 HA65
Claims (4)
- 【請求項１】 石英ガラス製の相対向する一対の板材
と、該板材の間に所定の間隔で組み込まれた複数本の溝
付き石英ガラスロッドとからなるウェハーボートであっ
て、無垢の石英ガラスロッドをダイヤモンドブレードに
よる切断溝加工によって溝付き石英ガラスロッドとし、
この石英ガラスロッドの溝部分を研磨用ブラシ手段によ
って鏡面研磨し、上記溝付き石英ガラスロッドとして該
鏡面研磨した溝付き石英ガラスロッドを用いることを特
徴とするウェハーボート。 - 【請求項２】 前記石英ガラスロッドと前記研磨ブラシ
手段との角度を１５°〜４５°の範囲に設定して該溝付
き石英ガラスロッドの溝部分の研磨を行うことによって
溝部分の側面の鏡面研磨を行ったことを特徴とする請求
項１記載のウェハーボート。 - 【請求項３】 前記研磨ブラシ手段によって前記石英ガ
ラスロッドの溝部分を研磨する際に研磨剤を用いること
を特徴とする請求項１又は２記載のウェハーボート。 - 【請求項４】 前記研磨剤が酸化セリウム又はコロイダ
ルシリカであることを特徴とする請求項３記載のウェハ
ーボート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30554098A JP3805539B2 (ja) | 1998-10-27 | 1998-10-27 | ウェハーボート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30554098A JP3805539B2 (ja) | 1998-10-27 | 1998-10-27 | ウェハーボート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000127020A true JP2000127020A (ja) | 2000-05-09 |
| JP3805539B2 JP3805539B2 (ja) | 2006-08-02 |
Family
ID=17946399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30554098A Expired - Lifetime JP3805539B2 (ja) | 1998-10-27 | 1998-10-27 | ウェハーボート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3805539B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6355577B1 (en) * | 2000-05-30 | 2002-03-12 | Lsi Logice Corporation | System to reduce particulate contamination |
| US7033168B1 (en) | 2005-01-24 | 2006-04-25 | Memc Electronic Materials, Inc. | Semiconductor wafer boat for a vertical furnace |
| US7997956B2 (en) | 2005-06-16 | 2011-08-16 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Quartz glass tool for heat treatment of silicon wafer and process for producing the same |
| CN112658891A (zh) * | 2020-12-18 | 2021-04-16 | 江苏双兴工贸有限公司 | 一种利用气囊自动夹紧的玻璃容器打磨装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0714793A (ja) * | 1993-06-21 | 1995-01-17 | Yamagata Shinetsu Sekiei:Kk | 半導体熱処理用石英ガラス製品の製造方法 |
| JPH11126755A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 半導体熱処理用ボートの製造方法 |
-
1998
- 1998-10-27 JP JP30554098A patent/JP3805539B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0714793A (ja) * | 1993-06-21 | 1995-01-17 | Yamagata Shinetsu Sekiei:Kk | 半導体熱処理用石英ガラス製品の製造方法 |
| JPH11126755A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 半導体熱処理用ボートの製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6355577B1 (en) * | 2000-05-30 | 2002-03-12 | Lsi Logice Corporation | System to reduce particulate contamination |
| US7033168B1 (en) | 2005-01-24 | 2006-04-25 | Memc Electronic Materials, Inc. | Semiconductor wafer boat for a vertical furnace |
| US7997956B2 (en) | 2005-06-16 | 2011-08-16 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Quartz glass tool for heat treatment of silicon wafer and process for producing the same |
| CN112658891A (zh) * | 2020-12-18 | 2021-04-16 | 江苏双兴工贸有限公司 | 一种利用气囊自动夹紧的玻璃容器打磨装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3805539B2 (ja) | 2006-08-02 |
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